JPH04188105A - Manufacture of liquid crystal device - Google Patents

Manufacture of liquid crystal device

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Publication number
JPH04188105A
JPH04188105A JP31602390A JP31602390A JPH04188105A JP H04188105 A JPH04188105 A JP H04188105A JP 31602390 A JP31602390 A JP 31602390A JP 31602390 A JP31602390 A JP 31602390A JP H04188105 A JPH04188105 A JP H04188105A
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JP
Japan
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liquid crystal
crystal device
ultraviolet
ultraviolet rays
manufacturing
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Pending
Application number
JP31602390A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takeshi Kuriyama
毅 栗山
Noburu Fujisawa
宣 藤沢
Hiroshi Ogawa
洋 小川
Kazunori Maruyama
和則 丸山
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DIC Corp
Original Assignee
Dainippon Ink and Chemicals Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04188105A publication Critical patent/JPH04188105A/en
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Abstract

PURPOSE:To improve resistant value of a dimming layer and obtain a liquid crystal device having little flicker of image plane and high contrast by using ultraviolet rays intercepting short wave ultraviolet territory for manufacture. CONSTITUTION:As ultraviolet rays to polymerize a photopolymerizing composite and form transparent high polymer substance of three dimensional network in a continuous phase of liquid crystal, the ultraviolet rays intercepting short wave ultraviolet territory are used. Ultraviolet rays in short wave territory cause photo-deterioration of liquid crystal material or photo-reaction, lowers resistant value of a liquid crystal device, and hence these are intercepted by the use of an ultraviolet cut filter and the like to perform ultraviolet ray hardening. Hereby, a fall of the resistant value of a liquid crystal material is restrained and a liquid crystal device having low drive voltage, excellent steepness, and high contrast can be obtained.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は、大面積になし得る液晶デバイスの製造方法に
関するもので、更に詳しくは、視野の遮断、開放及び明
りもしくは照明光の透過制限、遮断、透過を電気的又は
熱的に操作し得るものであって、建物の窓やショーウィ
ンドウなどで視野遮断のスクリーンや、採光コントロー
ルのカーテンに利用されると共に、文字や図形を表示し
、高速応答性を以って電気的に表示を切り換えることに
よって、OA機器のデイスプレィ等のハイインフォーメ
ーション表示体や広告板、案内板、装飾表足板等として
利用される液晶デバイスの製造方法に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing a liquid crystal device that can be manufactured in a large area. It is a device that can electrically or thermally control blocking and transmitting information, and is used for view blocking screens in building windows and show windows, as well as for lighting control curtains. The present invention relates to a method of manufacturing a liquid crystal device that is used as a high information display such as a display of office automation equipment, an advertising board, a guide board, a decorative front board, etc. by electrically switching the display with responsiveness.

[従来の技術] 電極層を有していてもよい透明な2枚の基板の間に支持
された調光層を有し、前記液晶材料が連続相を形成し前
記透明性固体物質が前記液晶材料の連続相中に3次元ネ
ットワーク状に存在している液晶デバイス(以下、液晶
デバイスという。)の製造方法において、液晶材料、光
重合性組成物、光重合開始剤及びその他任意成分よりな
る調光層構成材料に紫外線を照射する場合、紫外線を直
接、調光層構成材料に照射する方法が用いられていた。
[Prior Art] A light control layer supported between two transparent substrates which may have an electrode layer, wherein the liquid crystal material forms a continuous phase and the transparent solid material covers the liquid crystal. In a method for manufacturing a liquid crystal device that exists in a three-dimensional network in a continuous phase of a material (hereinafter referred to as a liquid crystal device), a preparation consisting of a liquid crystal material, a photopolymerizable composition, a photopolymerization initiator, and other optional components is used. When irradiating the light layer constituent material with ultraviolet rays, a method has been used in which the light control layer constituent material is directly irradiated with ultraviolet rays.

[発明が解決しようとする課題] このようにして作成された液晶デバイスは、低電圧駆動
性、高コントラスト、時分割駆動性及び明るい画質等に
優れているが、得られた液晶デバイスの抵抗が低く、消
費電力の増大、寿命の低下、そして電圧保持率の低下に
よる表示画面にちらつきを起こすという問題点を有して
いた。
[Problems to be Solved by the Invention] The liquid crystal device produced in this way has excellent low voltage drive performance, high contrast, time division drive performance, bright image quality, etc., but the resistance of the obtained liquid crystal device is However, there were problems such as increased power consumption, decreased lifespan, and flickering on the display screen due to decreased voltage holding rate.

本発明が解決しようとする課題は、低電圧駆動性、高フ
ントラスト、時分割駆動性及び明るい画質等に優れ、し
かも抵抗が大きく、電圧保持率か高い液晶デバイスの製
造方法を提供することにある。
The problem to be solved by the present invention is to provide a method for manufacturing a liquid crystal device that is excellent in low voltage drivability, high load stability, time division drivability, bright image quality, etc., has large resistance, and has a high voltage holding ratio. be.

[課題を解決するための手段] 本発明者らは、液晶デバイスの作製時における紫外線が
、予想以上に液晶材料の光劣化の原因となり、液晶デバ
イスの抵抗及び電圧保持率の低下につながっている見い
出し、上記課題を解決するに至った。
[Means for Solving the Problems] The present inventors have discovered that ultraviolet rays during the production of liquid crystal devices cause photodeterioration of liquid crystal materials more than expected, leading to a decrease in the resistance and voltage holding rate of liquid crystal devices. The above problem has been solved.

即ち、本発明は、上記課題を解決するために、電極層を
有していてもよい少なくとも一方か透明な2枚の基板間
に液晶材料、光重合性組成物及び光重合開始剤を含有す
る調光層構成材料を介在させた後、紫外線を照射し、光
重合性組成物を重合させることにより液晶連続相中に3
次元ネットワーク状の透明性高分子物質を形成させる液
晶デバイスの製造方法において、紫外線として短波長紫
外領域を遮断した紫外線を用いることを特徴とする液晶
デバイスの製造方法を提供する。
That is, in order to solve the above problems, the present invention contains a liquid crystal material, a photopolymerizable composition, and a photopolymerization initiator between two transparent substrates, at least one of which may have an electrode layer. After interposing the material constituting the light control layer, ultraviolet rays are irradiated to polymerize the photopolymerizable composition, thereby adding 3% to the liquid crystal continuous phase.
The present invention provides a method for manufacturing a liquid crystal device in which a transparent polymer substance in the form of a dimensional network is formed, which is characterized in that ultraviolet light with a short wavelength ultraviolet region blocked is used as the ultraviolet light.

本発明で使用する基板は、堅固な材料、例えば、ガラス
、金属等であっても良く、柔軟性を有する材料、例えば
、プラスチックフィルムの如きものであっても良い。そ
して、基板は、2枚が対向して適当な間隔を隔て得るも
のである。また、その少なくとも一方は、透明性を有し
、その2枚の間に挟持される調光層を外界から視覚させ
るものでなければならない。但し、完全な透明性を必須
とするものではない。もし、この液晶デバイスが、デバ
イスの一方の側から他方の側へ通過する光に対して作用
させるために使用される場合は、2枚の基板は、共に適
宜な透明性が与えられる。この基板には、目的に応じて
透明、不透明の適宜な電極が、その全面又は部分的に配
置されても良い。
The substrate used in the present invention may be made of a rigid material, such as glass or metal, or may be made of a flexible material, such as a plastic film. Two substrates can be placed facing each other with an appropriate distance between them. Furthermore, at least one of the two must be transparent so that the light control layer sandwiched between the two can be seen from the outside world. However, complete transparency is not required. If the liquid crystal device is used to act on light passing from one side of the device to the other, both substrates are provided with suitable transparency. Appropriate transparent or opaque electrodes may be disposed on the entire surface or part of the substrate depending on the purpose.

但し、プラスチックフィルムの如き柔軟性を有する材料
の場合は、堅固な材料、例えば、ガラス、金属等に固定
したうえで、本発明の製造方法に用いることができる。
However, in the case of a flexible material such as a plastic film, it can be used in the manufacturing method of the present invention after being fixed to a rigid material such as glass or metal.

、2枚の基板間には、液晶材料及び透明性高分子物質か
ら成る調光層が介在される。尚、2枚の基板間には、通
常、周知の液晶デバイスと同様、間隔保持用のスペーサ
ーを介在させるのが望ましい。
A light control layer made of a liquid crystal material and a transparent polymer material is interposed between the two substrates. Note that it is usually desirable to interpose a spacer between the two substrates for maintaining the distance, similarly to well-known liquid crystal devices.

スペーサーとしては、例えば、マイラー、アルミナ、ポ
リマービーズ等種々の液晶セル用のものを用いることが
できる。
As the spacer, for example, those for various liquid crystal cells such as mylar, alumina, and polymer beads can be used.

基板間隔の均一性を得るためにはスペーサーが基板面に
均一に分布させることが重要であり、そのために■スペ
ーサーを前記調光層構成材料中に懸濁、分散させ、スペ
ーサーが分離又は沈降しない間に、その懸濁又は分散液
を基板の全面に押し広げる方法、又は■あらかじめスペ
ーサーを基板上に均一に散布又は基板上にスペーサー用
突起物を設けておく方法がある。あらかじめ散布してお
く方法としては、例えば、スペーサーを低沸点溶媒に懸
濁させ、その懸濁液を基板上に塗布した後、溶媒を乾燥
させる方法があり、印刷等の方法で基板面にスペーサー
用突起物を設ける方法も効果的である。
In order to obtain uniform spacing between the substrates, it is important that the spacers are evenly distributed on the substrate surface, and for this purpose: (1) Suspend and disperse the spacers in the material constituting the light control layer so that the spacers do not separate or settle. In between, there is a method in which the suspension or dispersion is spread over the entire surface of the substrate, or (2) a method in which spacers are uniformly spread over the substrate or protrusions for spacers are provided on the substrate in advance. An example of a method for spraying the spacers in advance is to suspend the spacers in a low boiling point solvent, apply the suspension onto the substrate, and then dry the solvent. A method of providing a projection for use is also effective.

本発明で使用する液晶材料は、単一の液晶性化合物であ
ることを要しないのは勿論で、2種以上の液晶化合物や
液晶化合物以外の物質も含んだ混合物であっても良く、
通常この技術分野で液晶材料として認識されるものであ
れば良く、そのうちの正の誘電率異方性を有するものが
好ましい。用いられる液晶としては、ネマチック液晶、
スメクチック液晶、コレステリック液晶が好ましく、ネ
マチック液晶が特に好ましい。その性能を改善するため
に、コレステリック液晶、カイラルネマチック液晶、カ
イラルスメクチック液晶等、カイラル化合物や2色性染
料等が適宜含まれていてもよい。
The liquid crystal material used in the present invention does not necessarily need to be a single liquid crystal compound, but may be a mixture containing two or more types of liquid crystal compounds or substances other than liquid crystal compounds,
Any material that is generally recognized as a liquid crystal material in this technical field may be used, and among these materials, those having positive dielectric anisotropy are preferred. The liquid crystals used are nematic liquid crystal,
Smectic liquid crystals and cholesteric liquid crystals are preferred, and nematic liquid crystals are particularly preferred. In order to improve the performance, chiral compounds such as cholesteric liquid crystal, chiral nematic liquid crystal, chiral smectic liquid crystal, dichroic dye, etc. may be included as appropriate.

ネマチック液晶としては、正の誘電率異方性(Δε)を
示し、△εが8以上であり、複屈折率(△n)の大きさ
が0.1以上であればよい。
The nematic liquid crystal only needs to exhibit positive dielectric anisotropy (Δε), have Δε of 8 or more, and have a birefringence (Δn) of 0.1 or more.

液晶分散型の液晶デバイスにおいて問題となる液晶とポ
リマーの屈折率の差に関しては、本発明においては液晶
成分が多量であるため、あまり気にすることなく広範囲
の液晶及び重合体の組合せが可能となる。
Regarding the difference in refractive index between liquid crystal and polymer, which is a problem in liquid crystal dispersion type liquid crystal devices, in the present invention, since the liquid crystal component is large, it is possible to combine a wide range of liquid crystals and polymers without worrying too much. Become.

本発明で使用できる液晶材料は、下記一般式で示した化
合物群より構成される配合組成物であり、液晶材料の特
性、即ち、等方性液体と液晶の相転移温度、融点、粘度
、Δn、Δε及び光重合性組成物等との溶解性等を改善
することを目的として適宜選択、配合して用いることが
できる。
The liquid crystal material that can be used in the present invention is a compound composition composed of a compound group represented by the following general formula, and the characteristics of the liquid crystal material, such as the phase transition temperature of isotropic liquid and liquid crystal, melting point, viscosity, Δn , Δε, solubility with the photopolymerizable composition, etc., and can be appropriately selected and blended for use.

を表わし、−Q−は、−C=C−又は−COO−を表わ
し、Xは、CN、R’ 、R’ O又はNCSを表わし
、Yは、HS F又はC1を表わし、R及びR′は、各
々独立的に炭素原子数1〜6のアルキル基を表わし、m
は、1又は2を表わし、nは、0又はlを表わす。
, -Q- represents -C=C- or -COO-, X represents CN, R', R'O or NCS, Y represents HSF or C1, R and R' each independently represents an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms, m
represents 1 or 2, and n represents 0 or l.

調光層中に占める液晶材料の比率は、60〜95重量%
の範囲が好ましく、70〜90重量%の範囲が特に好ま
しい。(以下、「%」は、「重量%」を意味する。) 光重合性組成物としては、高分子形成性モノマー若しく
はオリゴマーが挙げられ、硬化によって液晶材料の連続
相中に3次元ネットワーク構造を形成するものであれば
、堅固なものに限らず、目的に応じ得る限り可撓性、柔
軟性、弾性を有するものであっても良い。
The proportion of liquid crystal material in the light control layer is 60 to 95% by weight.
A range of 70 to 90% by weight is particularly preferred. (Hereinafter, "%" means "wt%.") Examples of the photopolymerizable composition include polymer-forming monomers or oligomers, which create a three-dimensional network structure in the continuous phase of the liquid crystal material by curing. As long as it is formed, it is not limited to a rigid one, and may be flexible, pliable, and elastic as long as it meets the purpose.

そのような高分子形成性モノマーとしては、例えば、ス
チレン、クロロスチレン、α−メチルスチレン、ジビニ
ルベンゼン;置換基として、メチル、エチル、プロピル
、ブチル、アミル、2−エチルヘキシル、オクチル、ノ
ニル、ドデシル、ヘキサデシル、オクタデシル、シクロ
ヘキシル、ベンジル、メトキシエチル、ブト牛ジエチル
、フェノキシエチル、アルリル、メタリル、グリシジル
、2−ヒドロキシエチル、2−ヒドロキシプロピル、3
−クロロ−2−ヒドロキシプロピル、ジメチルアミ/エ
チル、ジエチルアミンエチルの如き基を有するアクリレ
ート、メタクリレート又はフマレート;エチレングリコ
ール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール
、ポリプロピレングリコール、1.3−ブチレンゲリコ
ール、テトラメチレングリコール、ヘキサメチレングリ
コール、ネオペンチルグリコール、トリメチロールプロ
パン、グリセリン及びペンタエリスリトール等のポリ(
メタ)アクリレート又はポリ (メタ)アクリレート;
酢酸ビニル、酢酸ビニル又は安息香酸ビニル、アクリロ
ニトリル、七チルビニルエーテル、リモネン、シクロヘ
キセン、ジアリルフタレート、2−13−又は4−ビニ
ルピリジン、アクリル酸、メタクリル酸、アクリルアミ
ド、メタクリルアミド、N−ヒドロキシメチルアクリル
アミド又はN−ヒドロキシエチルメタクリルアミド及び
それらのア/l/ 4 ルエーテル化lf;)ダメチロ
ールプロ821モルに3モル以上のエチレンオ牛すイド
若しくはプロピレンオキサイドを付加して得たトリオー
ルノシ又はトリ(メタ)アクリレート;ネオペンチルグ
リコール1モルに2モル以上のエチレンオ牛すイド若し
くはプロピレンオキサイドを付加して得たジオールのジ
(メタ)アクリレート;2−ヒドロ牛ジエチル(メタ)
アクリレート1モルとフェニルイソシアネート若しくは
n−ブチルイソシフ* −) 1 %ル、!:の反応生
成物;ジペンタエリスリトールのポリ(メタ)アクリレ
ート;トリス−(ヒドロキシエチル)−イソシアヌル酸
のポリ(メタ)アクリレート;トリス−(ヒドロキシエ
チル)−リン酸のポリ (メタ)アクリレート;ジー(
ヒドロキシエチル)−ジシクロペンタジェンのモノ(メ
タ)アクリレート又はジ(メタ)アクリレート;ピバリ
ン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート;
カプロラクトン変性ヒドロ牛シピパリン酸エステルネオ
ペンチルグリコールシアクリレート;直鎖脂肪族ジアク
リレート;ポリオレフィン変性ネオペンチルグリコール
ジアクリレート等を挙げることができる。
Examples of such polymer-forming monomers include styrene, chlorostyrene, α-methylstyrene, divinylbenzene; substituents include methyl, ethyl, propyl, butyl, amyl, 2-ethylhexyl, octyl, nonyl, dodecyl, Hexadecyl, octadecyl, cyclohexyl, benzyl, methoxyethyl, butoxdiethyl, phenoxyethyl, allyl, methallyl, glycidyl, 2-hydroxyethyl, 2-hydroxypropyl, 3
- acrylates, methacrylates or fumarates with groups such as chloro-2-hydroxypropyl, dimethylamino/ethyl, diethylamine ethyl; ethylene glycol, polyethylene glycol, propylene glycol, polypropylene glycol, 1,3-butylene gellicol, tetramethylene glycol, hexa Poly(
meth)acrylate or poly(meth)acrylate;
Vinyl acetate, vinyl acetate or vinyl benzoate, acrylonitrile, heptyl vinyl ether, limonene, cyclohexene, diallyl phthalate, 2-13- or 4-vinylpyridine, acrylic acid, methacrylic acid, acrylamide, methacrylamide, N-hydroxymethylacrylamide or N-Hydroxyethyl methacrylamide and their a/l/4 etherification lf;) triol or tri(meth)acrylate obtained by adding 3 moles or more of ethylene oxide or propylene oxide to 821 moles of dametylolpro Di(meth)acrylate of diol obtained by adding 2 moles or more of ethylene oxide or propylene oxide to 1 mol of neopentyl glycol; 2-hydrobodiethyl (meth)
1 mole of acrylate and phenyl isocyanate or n-butyl isocyanate* -) 1%! : Reaction product of; poly(meth)acrylate of dipentaerythritol; poly(meth)acrylate of tris-(hydroxyethyl)-isocyanuric acid; poly(meth)acrylate of tris-(hydroxyethyl)-phosphoric acid;
(hydroxyethyl)-dicyclopentadiene mono(meth)acrylate or di(meth)acrylate; pivalic acid ester neopentyl glycol diacrylate;
Examples include caprolactone-modified hydrobovine cypiparic acid ester neopentyl glycol cyacrylate; linear aliphatic diacrylate; polyolefin-modified neopentyl glycol diacrylate.

高分子形成性オリゴマーとしては、例えば、(1) ビ
スフェノールA型エポキシ樹脂に(メタ)アクリル酸、
更に場合によりヤシ油脂肪酸等の長鎖脂肪酸をエステル
化させて得たエポキシ(メタ)アクリレートあるいはそ
の長鎖脂肪酸変性物、水酸基を有するエポキシ(メタ)
アクリレートに二塩基酸無水物、四塩基酸ジ無水物、無
水トリメリット酸を付加して得たカルボ牛シル基を有す
るエポキシ(メタ)アクリレートの如きエポキシ(メタ
)アクリレート及びその変性物。
Examples of polymer-forming oligomers include (1) bisphenol A epoxy resin, (meth)acrylic acid,
Furthermore, in some cases, epoxy (meth)acrylate obtained by esterifying a long chain fatty acid such as coconut oil fatty acid, or a modified long chain fatty acid thereof, or an epoxy (meth)acrylate having a hydroxyl group.
Epoxy (meth)acrylates and modified products thereof, such as epoxy (meth)acrylates having carboxyl groups obtained by adding dibasic acid anhydrides, tetrabasic acid dianhydrides, and trimellitic anhydride to acrylates.

(2)英国特許第1.147.732号明細書(特開昭
51−37193号公報及び特開昭51−138797
号公報)に記載されているようなジイソシアナート化合
物とポリオールとを予め反応させて得られる末端インシ
アナート化合物に更にβ−ヒドロキシアルキルアクリレ
ート及び/又はメタクリレートを反応せしめることによ
って得られる分子内に2個以上のアクリロイロキシ基及
び/又はメタクリロイロキシ基をもった付加重合性化合
物。
(2) Specification of British Patent No. 1.147.732 (JP-A-51-37193 and JP-A-51-138797)
2 in the molecule obtained by further reacting β-hydroxyalkyl acrylate and/or methacrylate to a terminal incyanate compound obtained by reacting a diisocyanate compound and a polyol in advance as described in An addition polymerizable compound having the above acryloyloxy group and/or methacryloyloxy group.

(3)特公昭47−3262号公報に記載されているよ
うな無水フタル酸、テトラヒドロ無水フタル酸、へ牛す
ヒドロ無水フタル酸、テトラクロロ無水フタル酸、ある
いは無水ヘッド酸のような二塩基酸無水物とグリシジル
アクリレート及び/又はグリシジルメタクリレートを開
環重合して得られるアクリロイロキシ基及び/又はメタ
クリロイロキシ基を多数ペンダントにもった直線状ポリ
エステル化合物。
(3) Dibasic acids such as phthalic anhydride, tetrahydrophthalic anhydride, hydrophthalic anhydride, tetrachlorophthalic anhydride, or head acid anhydride as described in Japanese Patent Publication No. 47-3262 A linear polyester compound having a large number of pendant acryloyloxy groups and/or methacryloyloxy groups obtained by ring-opening polymerization of an anhydride and glycidyl acrylate and/or glycidyl methacrylate.

(4)特公昭47−23661号公報に記載されている
ような隣接炭素原子に少なくとも3個のエステル化可能
なヒドロキシル基を有する多価アルコールと、アクリル
酸及び/又はメタクリル酸と、ジカルボン酸及びその無
水物からなる群から選択されたジカルボン酸類との共エ
ステル化によって製造された重合可能なエステル類。
(4) A polyhydric alcohol having at least three esterifiable hydroxyl groups on adjacent carbon atoms, acrylic acid and/or methacrylic acid, dicarboxylic acid and Polymerizable esters prepared by coesterification with dicarboxylic acids selected from the group consisting of their anhydrides.

(5)英国特許第628.150号明細書、米国特許第
3、020.255号明細書及び月刊誌「マクロモレ牛
二−ルズ」第4巻、第5号、第630〜632頁(19
71年)に記載されている如きメラミン又はベンゾグア
ナミンにホルムアルデヒド、メチルアルコール及びβ−
ヒドロキシアルキルアクリレート(又はメタクリレート
)等を反応せしめて得られるポリアクリル(又はポリメ
タクリル)変性トリアジン系樹脂。
(5) British Patent No. 628.150, US Pat.
Formaldehyde, methyl alcohol and β-
A polyacrylic (or polymethacrylic) modified triazine resin obtained by reacting hydroxyalkyl acrylate (or methacrylate), etc.

(6)米国特許第3.377、406号明細書に記載さ
れているようなポリヒドロ牛シ化合物のグリシジルエー
テル化物にアクリル酸又はメタクリル酸ヲ反応させて得
られる不飽和ポリエステル樹脂。
(6) An unsaturated polyester resin obtained by reacting a glycidyl ether of a polyhydrobutylene compound with acrylic acid or methacrylic acid as described in US Pat. No. 3,377,406.

(7)米国特許第3.455.801号明細書及び米国
特許第3.455.802号明細書に記載されている一
般式(式中、Rは炭素原子数2〜lOの2価の飽和又は
不飽和脂肪族炭化水素基を表わし、R′は炭素原子数2
〜lOの2価の飽和脂肪族炭化水素基を表わし、R”は
水素原子又はメチル基を表わし、nは1〜14の整数を
表わす。) で表わされる両末端にアクリロイロキシ基又はメタクリ
ロイロキシ基を有するポリエステル化合物。
(7) The general formula described in U.S. Patent No. 3.455.801 and U.S. Patent No. 3.455.802 (wherein R is a divalent saturated or represents an unsaturated aliphatic hydrocarbon group, and R' has 2 carbon atoms.
-1O represents a divalent saturated aliphatic hydrocarbon group, R'' represents a hydrogen atom or a methyl group, and n represents an integer from 1 to 14. A polyester compound having

(8)米国特許第3.483.104号明細書及び米国
特許第3.470.079号明細書に記載されている一
般式%式% (式中、Aは一〇−又は−NH−を表わし、1分子中に
少なくとも2個は−NH−であるものとし、Rは二価の
飽和脂肪族又は不飽和脂肪族炭化水素基を示し、R”は
二価の飽和又は不飽和の脂肪族あるいは環状炭化水素を
表わし、R′は水素原子又はアルキル基を表わし、nは
1〜14の整数を表わす。) テ表ワサレるジアクリル変性(又はジメタクリル変性)
ポリアミド化合物。
(8) General formula % described in U.S. Patent No. 3.483.104 and U.S. Patent No. 3.470.079 (wherein A represents 10- or -NH-) At least two groups in one molecule are -NH-, R represents a divalent saturated aliphatic or unsaturated aliphatic hydrocarbon group, and R'' represents a divalent saturated or unsaturated aliphatic hydrocarbon group. Alternatively, it represents a cyclic hydrocarbon, R' represents a hydrogen atom or an alkyl group, and n represents an integer from 1 to 14.) diacrylic modification (or dimethacrylic modification)
Polyamide compound.

(9)4tr公昭48−37246号明細書に記載され
ている一般式 (式中、Xは水素原子又はアシル基を示し、Rは二価の
飽和又は不飽和の脂肪族又は環状炭化水素基を表わし、
R1は二価の脂肪族炭化水素基を表わし、R3は水素原
子又はアルキル基を表わし、Aは一〇−又は−NH−を
表わし、1分子中で少なくとも2個は−NH−であるも
のとし、nは1〜14の整数を表わす。) で表わされるジアクリル変性(又はジメタクリル変性)
ポリアミド化合物。
(9) The general formula described in 4tr Publication No. 48-37246 (wherein, X represents a hydrogen atom or an acyl group, and R represents a divalent saturated or unsaturated aliphatic or cyclic hydrocarbon group) Representation,
R1 represents a divalent aliphatic hydrocarbon group, R3 represents a hydrogen atom or an alkyl group, A represents 10- or -NH-, and at least two in one molecule are -NH-. , n represents an integer from 1 to 14. ) Diacrylic modified (or dimethacrylic modified) represented by
Polyamide compound.

(10)米国特許第3.485.732号明細書に記載
されているような飽和又は不飽和の二塩基酸又はその無
水物、あるいは必要に応じてそれらとジオールとを反応
させて得られる両末端にカルボキシル基を有する化合物
に更にグリシジルアクリレート又はグリシジルメタクリ
レートを反応せしめることにより得られるジアクリル変
性(又はジメタクリ変性)ポリエステル化合物。
(10) Saturated or unsaturated dibasic acids or their anhydrides, as described in U.S. Pat. A diacrylic-modified (or dimethacrylic-modified) polyester compound obtained by further reacting a compound having a carboxyl group at the terminal with glycidyl acrylate or glycidyl methacrylate.

(11)特公昭48−12075号明細書に記載されて
いるごとき分子中に一般式、 −CH,−C−R COOCH,CHCH,0COC=CH。
(11) General formula -CH, -C-R COOCH, CHCH, 0COC=CH in the molecule as described in Japanese Patent Publication No. 48-12075.

(式中、Xはアシル基又はウレタン基を表わし、Rは、
水素原子、塩素原子、メチル基又はシアン基を表わす。
(In the formula, X represents an acyl group or a urethane group, and R is
Represents a hydrogen atom, a chlorine atom, a methyl group, or a cyan group.

) で表わされるくり返し単位を有する側鎖に不飽和酸エス
テル結合を有する(メタ)アクリル共重合体に基づく化
合物等を挙げることができる。
) Compounds based on a (meth)acrylic copolymer having an unsaturated acid ester bond in a side chain having a repeating unit represented by the following can be mentioned.

光重合開始剤としては、例えば、2.4.6− トリメ
チルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド(BAS
F社製[ルシツンTPOJ )、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(メルク社製
[ダロ牛ニアl173J)、1−ヒドロキシシクロへキ
シルフェニルケトン(チバ・カイギー社製「イルガキュ
ア184j )、1−(4−イソプロピルフェニル)−
2−ヒドロキン−2−メチルプロパン−1−オン(メル
ク社製「タロキ、 71116J ”) 、ベンジルジ
メチルケタール(チバ・ガイギー社製「イルガキュア6
51J )、2−メチル−1−(4−(メチルチオ)フ
ェニル〕−2−モルホリノプロパ/ン−1(チバ・ガイ
ギー社製「イルガキュア907J ) 、2.4−ジエ
チルチオキサントン(日本化薬社製[カヤキーアDET
XJ )とp−ジメチルアミノ安息香酸エチル(日本化
薬社製[カヤキュアEPAJ )との混合物、イソプロ
ピルチオキサントン(ワードプレキンソツプ社製「カン
タ牛ニアー夏丁X」)とp−ジメチルアミノ安息香酸エ
チルとの混合物等が挙げられるが、より長波長領域で吸
収域を持つ2,4.6− トリメチルベンゾイルジフェ
ニルホスフィンオキシドが広い短波長紫外線領域を遮断
し得るため、特に好ましい。
As a photopolymerization initiator, for example, 2.4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide (BAS
Manufactured by Company F [Lushitun TPOJ), 2-hydroxy-2-
Methyl-1-phenylpropan-1-one (manufactured by Merck & Co., Ltd. [Daro Ushinia 1173J)], 1-hydroxycyclohexylphenyl ketone (manufactured by Ciba Kaigy, “Irgacure 184j”), 1-(4-isopropylphenyl)-
2-Hydroquine-2-methylpropan-1-one (Taroki 71116J, manufactured by Merck & Co.), benzyl dimethyl ketal (Irgacure 6, manufactured by Ciba Geigy)
51J), 2-methyl-1-(4-(methylthio)phenyl]-2-morpholinopropan-1 (Irgacure 907J, manufactured by Ciba Geigy), 2,4-diethylthioxanthone (manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd. [ Kayakia DET
XJ) and ethyl p-dimethylaminobenzoate (Kayacure EPAJ manufactured by Nippon Kayaku Co., Ltd.), isopropylthioxanthone (Kanta Gyu Near Natsute Examples include a mixture with ethyl, but 2,4.6-trimethylbenzoyldiphenylphosphine oxide, which has an absorption range in a longer wavelength range, is particularly preferred because it can block a wide range of short wavelength ultraviolet rays.

光重合開始剤の使用割合は、光重合性組成物の0.1〜
5.0%の範囲が好ましい。
The usage ratio of the photopolymerization initiator is 0.1 to 0.1% of the photopolymerizable composition.
A range of 5.0% is preferred.

調光層構成材料に、任意成分として、連鎖移動剤、光増
感剤、染料、架橋剤等を前記モノマー、オリゴマー等の
種類や所望の液晶デバイスの性能に合わせて適宜併用す
ることができる。
A chain transfer agent, a photosensitizer, a dye, a crosslinking agent, etc. can be appropriately used in combination with the material constituting the light control layer as an optional component depending on the type of the monomer, oligomer, etc. and the performance of the desired liquid crystal device.

特に、連鎖移動剤の併用は、モノマー又はオリゴマーの
種類によっては極めて効果的で、樹脂の架橋度が高くな
り過ぎるのを防止し、それによって、液晶材料が電界に
応じて応答し易くされ、低電圧駆動性が発揮される。連
鎖移動剤の好例は、ブタンジオールテトラキス(β−チ
オプロピオネート)、トリエチレングリコールジメルカ
プタン等である。連鎖移動剤の添加量は、使用するモノ
マー又はオリゴマ〜の種類によっても異なるが、あまり
に少ないと効果が薄く、多過ぎるとデバイスの不透明度
が低下して表示のコントラストが悪くなる傾向にあるの
で好ましくない。その有効量は、モノマー又はオリゴマ
ーに対して0.05〜30重量%と考えられるが、0.
 1〜20重置%が好適である。
In particular, the combined use of a chain transfer agent can be extremely effective depending on the type of monomer or oligomer, preventing the degree of crosslinking of the resin from becoming too high, thereby making the liquid crystal material more responsive to electric fields, and reducing the Demonstrates voltage drive performance. Good examples of chain transfer agents are butanedioltetrakis (β-thiopropionate), triethylene glycol dimercaptan, and the like. The amount of chain transfer agent added varies depending on the type of monomer or oligomer used, but if it is too small, the effect will be weak, and if it is too large, the opacity of the device will decrease and the contrast of the display will tend to deteriorate, so it is preferable. do not have. The effective amount is believed to be 0.05 to 30% by weight of the monomer or oligomer, but 0.05% to 30% by weight of the monomer or oligomer.
A weight ratio of 1 to 20% is suitable.

紫外線硬化方法において、■硬化温度を前記調光層構成
材料の液晶相−等方性液体相の相転移温度より高温に設
定し、■前ffc!調光層構成材料中の液晶材料の紫外
線吸収波長領域を遮断する紫外線カットフィルター等を
間に介して、基板間隔の厚みにより重合性に差が生じな
い程度の強さの紫外線を照射することにより、基板間に
挟持され液晶材料の連続相中に生成する透明性高分子物
質の3次元ネットワークの網目の大きさを均−化及び大
−きざのコントロールをし、もって、明瞭なしきい値電
圧、急峻性そして高抵抗値を有する液晶表示素子、即ち
、時分割駆動表示が可能な液晶デバイスを製造すること
ができる。
In the ultraviolet curing method, (1) the curing temperature is set higher than the phase transition temperature between the liquid crystal phase and the isotropic liquid phase of the material constituting the light control layer, and (1) before ffc! By irradiating ultraviolet rays of such intensity that there is no difference in polymerization depending on the thickness of the substrate gap, through an ultraviolet cut filter that blocks the ultraviolet absorption wavelength region of the liquid crystal material in the light control layer constituent material. By equalizing and controlling the mesh size of the three-dimensional network of transparent polymer material formed in the continuous phase of the liquid crystal material sandwiched between the substrates, a clear threshold voltage, A liquid crystal display element having steepness and high resistance value, that is, a liquid crystal device capable of time-division drive display can be manufactured.

直接紫外線を照射する場合、その短波長領域の紫外線は
予想以上に液晶材料の光劣化、若しくは光反応を引き起
こし、液晶デバイスの抵抗値の低下の原因となってくる
When directly irradiated with ultraviolet rays, the ultraviolet rays in the short wavelength region cause photodeterioration or photoreaction of the liquid crystal material more than expected, causing a decrease in the resistance value of the liquid crystal device.

この点より、紫外線カットフィルター等を用いて液晶材
料の紫外線吸収領域を遮断し、紫外線硬化を行なうこと
で液晶材料の抵抗値の低下を抑え、その結果として、駆
動電圧が低く、急峻性に優れ、コントラストの高い液晶
デバイス、即ち、時分割駆動特性の優れた液晶デバイス
を製造することができる。
From this point of view, by blocking the ultraviolet absorption region of the liquid crystal material using an ultraviolet cut filter, etc., and performing ultraviolet curing, the decrease in the resistance value of the liquid crystal material is suppressed, and as a result, the driving voltage is low and the sharpness is excellent. , it is possible to manufacture a liquid crystal device with high contrast, that is, a liquid crystal device with excellent time division drive characteristics.

ここで用いる紫外線カットフィルターは、ガラスの如き
堅固な材料であってもよく、プラスチックフィルムの如
き柔軟性を有する材料であってもい。また、液体状のも
のを容器に封入したものや透明性の板に塗布したもので
もよい。
The ultraviolet cut filter used here may be made of a hard material such as glass, or may be made of a flexible material such as a plastic film. Alternatively, a liquid may be sealed in a container or coated on a transparent plate.

多くの液晶材料は、1BOn+n〜360nmに吸収帯
を持つため、この領域の紫外線を遮断することが好まし
い。しかし、光重合開始剤の吸収領域の紫外線が遮断さ
れると重合が進行しないため、市販の光重合開始剤の吸
収領域を勘案すると390%m以下の紫外線を遮断する
紫外線カットフィルターが特に好ましい。
Since many liquid crystal materials have an absorption band in the range of 1BOn+n to 360 nm, it is preferable to block ultraviolet rays in this region. However, if the ultraviolet rays in the absorption range of the photopolymerization initiator are blocked, polymerization will not proceed, so taking into account the absorption range of commercially available photopolymerization initiators, an ultraviolet cut filter that blocks ultraviolet rays of 390% m or less is particularly preferable.

紫外線カットフィルターの市販品としては、r UV−
35J、rUV−37J、r 5L−IAJ、rL−3
9J、rL−42J  (東芝社製)等のガラス製フィ
ルター;r LLCI−82J、rSC−39J  (
富士写真フィルム社製)r ZR−350−NEJ  
(住友セメント社製)、 「ハイニスAフィルムヨ (
日本カーノイイド社製)、r NR2525SMJ  
(サンンエード社製)等のフィルム製フィルターなどが
挙げられる。
Commercially available ultraviolet cut filters include r UV-
35J, rUV-37J, r5L-IAJ, rL-3
Glass filters such as 9J, rL-42J (manufactured by Toshiba Corporation); r LLCI-82J, rSC-39J (
Fuji Photo Film Co., Ltd.) r ZR-350-NEJ
(Manufactured by Sumitomo Cement Co., Ltd.), “Hinis A Film Yo (
(manufactured by Nippon Carnooid Co., Ltd.), r NR2525SMJ
(manufactured by SUNNAED Co., Ltd.) and other film filters.

[実施例] 以下、本発明の実施例を示し、本発明を更に具体的に説
明する。しかしながら、本発明はこれらの実施例に限定
されるものではない。
[Examples] Hereinafter, examples of the present invention will be shown to explain the present invention more specifically. However, the present invention is not limited to these examples.

以下、実施例において「%」は「重量%」を表わし、評
価特性の各々は以下の記号及び内容を意味する。
In the following examples, "%" represents "wt%", and each of the evaluation characteristics means the following symbols and contents.

To :白濁度;印加電圧0の時の光透過率(%)TI
Oo:透明度;印加電圧を増加させていき光透過率がほ
とんど増加しなくなった時 の光透過率(%) V+o:L、きい値;Toを0%、T、。。を100%
としたとき光透過率が10%となる印加電圧(Vr+n
s) ■、。:飽和電圧;同上光透過率が90%となる印加電
圧(Vrms) CR:コントラスト=TIG。/T0 又、紫外線の照度はウシオII機社製の受光器UVD−
365PD付きユニメータを用いて測定した。
To: White turbidity; light transmittance (%) TI when applied voltage is 0
Oo: Transparency; light transmittance (%) when the light transmittance hardly increases as the applied voltage increases; V+o: L; threshold; To: 0%; T; . 100%
The applied voltage (Vr+n
s) ■,. : Saturation voltage; Applied voltage (Vrms) at which the light transmittance becomes 90% as above CR: Contrast = TIG. /T0 Also, the illuminance of ultraviolet rays is determined by the UVD- receiver manufactured by Ushio II
Measurement was performed using a Unimeter equipped with a 365PD.

実施例1 液晶材料としてrPN−001J  (ロブイック社製
)80.0%、重合性オリゴマーとしテr KAYAR
AD−HX−620J  (日本化薬社製カプロラクト
ン変性ヒドロキシピバリン酸エステルネオペンチルグリ
コールシアクリレート) 19.8%及び「ルシリンT
PO,J(BASF社製光重合開始剤2,4.6−1!
、lメチルベンゾイルジフェニルホスフィンオキシド’
)  0.2%から成る調光層構成材料をO,Oミクロ
ンのガラスファイバー製スペーサーが塗布された2枚の
ITO電極ガラス基板にはさみ込み、基板全体を38.
Example 1 80.0% rPN-001J (manufactured by Robic) as a liquid crystal material, and ter KAYAR as a polymerizable oligomer.
AD-HX-620J (Nippon Kayaku Co., Ltd. caprolactone-modified hydroxypivalic acid ester neopentyl glycol cyacrylate) 19.8% and "Lucirin T"
PO, J (BASF Photopolymerization Initiator 2, 4.6-1!
, l methylbenzoyldiphenylphosphine oxide'
) A light control layer constituent material consisting of 0.2% was sandwiched between two ITO electrode glass substrates coated with O, O micron glass fiber spacers, and the entire substrate was heated for 38.
.

°Cに保ちながら、基板と紫外線照射ランプの間にガラ
ス製紫外線カットフィルターrL−39J  (東芝社
製)を介して、25mW/cm”の強度の紫外線を60
秒間照射し、基板全面に均一に白濁した液晶デバイスを
得た。
While maintaining the temperature at
The liquid crystal device was irradiated for seconds, and a liquid crystal device whose entire surface was uniformly cloudy was obtained.

rPN−001Jの物性 転移温度     68.5℃ <−25℃ 屈折率     n、・1.7137 n、=  1.533 Δn= 0.254 しきい値電圧(V th)  1.15V誘電率異方性
  Δε= 26.9 得られた液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測
定すると、T、=2.4%、T、。。= 88.4%、
CR=36.8、V ro= 5.6V r−1V e
o= 14.6V r−。
Physical property transition temperature of rPN-001J 68.5℃ <-25℃ Refractive index n, ・1.7137 n, = 1.533 Δn= 0.254 Threshold voltage (V th) 1.15V Dielectric constant anisotropy Δε=26.9 When the relationship between the applied voltage and the light transmittance of the obtained liquid crystal device was measured, T,=2.4%, T,. . = 88.4%,
CR=36.8, Vro=5.6V r-1V e
o=14.6V r-.

であった。Met.

また、比抵抗値は、1. OX 10”Ω・CI++で
あった。
Moreover, the specific resistance value is 1. It was OX 10”Ω・CI++.

比較例1 実施例1で使用した調光層構成材料に対し、紫外線カッ
トフィルターrL−39Jを使用せずに紫外線照射を行
った以外は実施例1と同様にして液晶デバイスを作製し
た。
Comparative Example 1 A liquid crystal device was produced in the same manner as in Example 1, except that the light control layer constituent material used in Example 1 was irradiated with ultraviolet light without using the ultraviolet cut filter rL-39J.

得られた液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測
定すると、T、=5.2%、T1゜。= 88.3%、
CR=17.0、V +o= 9. IV 、、、、V
 eo= 20. IV 、、。
When the relationship between the applied voltage and the light transmittance of the obtained liquid crystal device was measured, T = 5.2%, T1°. = 88.3%,
CR=17.0, V+o=9. IV,,,,V
eo=20. IV.

であり、比抵抗値は、2.0X10’Ω・cmと、かな
り低いものであった。
The specific resistance value was 2.0×10′Ω·cm, which was quite low.

実施例2 液晶材料としてr PN−008J  (ロブイック社
製)80.0%、重合性モノマーとしT rKAYAR
AD−HX620Jとステアリルアクリレートの7:3
の混合物19.9%及び「ルシリンTPOJ O,1%
から成る調光層構成材料ヲ11.0ミクロンのガラスフ
ァイバー製スペーサーが塗布された2枚のITO1li
極ガラス基板ガラス基板み、基板全体を38.3°Cに
保ちながら、基板と紫外線照射ランプの間にフィルム製
紫外線カットフィルターrSC−39J  (富士写真
フィルム社製)を介して、25mW/cm’の紫外線を
60秒間照射し、基板全面に均一に白濁した液晶デバイ
スを得た。
Example 2 80.0% rPN-008J (manufactured by Robic) as a liquid crystal material, T rKAYAR as a polymerizable monomer
AD-HX620J and stearyl acrylate 7:3
A mixture of 19.9% and ``Lucirin TPOJ O, 1%
The light control layer constituent material consists of two sheets of ITO1li coated with an 11.0 micron glass fiber spacer.
Glass substrate: While maintaining the entire substrate at 38.3°C, a film ultraviolet cut filter rSC-39J (manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd.) was inserted between the substrate and the ultraviolet irradiation lamp at 25 mW/cm'. The substrate was irradiated with ultraviolet rays for 60 seconds to obtain a liquid crystal device in which the entire surface of the substrate was uniformly cloudy.

r PN−0083の物性 転移温度     70.2℃ 〈−25℃ 屈折率     n、 =1.721 n、  = 1.512 Δn=  0.209 しきい値電圧(Vth)  1.32V誘電率異方性 
 Δε= 18.0 得られた液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測
定すると、”ro=4.o%、T1゜。= 90.5%
、CR= 22.6、V lo= 3.8V rma、
V 、。= g、 sv 、、、であり、比抵抗値は、
2.5XIO”Ω・cmであった。
r Physical property transition temperature of PN-0083 70.2℃ <-25℃ Refractive index n, = 1.721 n, = 1.512 Δn = 0.209 Threshold voltage (Vth) 1.32V Dielectric constant anisotropy
Δε = 18.0 When the relationship between the applied voltage and the light transmittance of the obtained liquid crystal device was measured, "ro = 4.o%, T1゜. = 90.5%
, CR=22.6, Vlo=3.8V rma,
V. = g, sv,,, and the specific resistance value is
It was 2.5XIO”Ω·cm.

比較例2 実施例2で使用した調光層構成材料に対して、紫外線カ
ットフィルターrSC−39Jを使用せずに、紫外線照
射を行った以外は実施例2と同様にして液晶デバイスを
作製した。
Comparative Example 2 A liquid crystal device was produced in the same manner as in Example 2, except that the light control layer constituent material used in Example 2 was irradiated with ultraviolet light without using the ultraviolet cut filter rSC-39J.

得られた液晶デバイスの印加電圧と光透過率の関係を測
定すると、T、=4.4%、T、、。= 90.6%、
CR=20.8、V ro= 4.4V 、、、、、V
 −o= 9.9V 、、、であり、比抵抗値は、3.
0X10’Ω・cmと低いものであった。
When the relationship between the applied voltage and the light transmittance of the obtained liquid crystal device was measured, T,=4.4%, T,. = 90.6%,
CR=20.8, Vro=4.4V, ,,,,V
-o=9.9V,,, and the specific resistance value is 3.
It was as low as 0x10'Ω·cm.

[発明の効果] 本発明の液晶デバイスの製造方法によれば、従来の光散
乱型液晶デバイスにおいて問題となったデバイス作製時
における調光層の抵抗値を大きく改良することができ、
このことにより、電圧保持率を向上させ、画面のちらつ
きをなくした高コントラストな液晶デバイスを提供する
ことができる。
[Effects of the Invention] According to the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention, it is possible to greatly improve the resistance value of the light control layer during device manufacture, which has been a problem in conventional light-scattering liquid crystal devices.
This makes it possible to provide a high-contrast liquid crystal device that improves voltage holding ratio and eliminates screen flickering.

従って、本発明の液晶デバイスの製造方法は、コンピュ
ータ一端末の表示素子、プロジェクション表示装置等の
製造方法として有用である。
Therefore, the method for manufacturing a liquid crystal device of the present invention is useful as a method for manufacturing display elements for computer terminals, projection display devices, and the like.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、電極層を有していてもよい少なくとも一方が透明な
2枚の基板間に液晶材料、光重合性組成物及び光重合開
始剤を含有する調光層構成材料を介在させた後、紫外線
を照射し、光重合性組成物を重合させることにより液晶
連続相中に3次元ネットワーク状の透明性高分子物質を
形成させる液晶デバイスの製造方法において、紫外線と
して短波長紫外領域を遮断した紫外線を用いることを特
徴とする液晶デバイスの製造方法。 2、紫外線カットフィルターを用いて短波長紫外領域を
遮断した紫外線を用いることを特徴とする請求項1記載
の液晶デバイスの製造方法。 3、液晶材料の吸収領域の紫外線を遮断した紫外線を用
いることを特徴とする請求項1又は2記載の液晶デバイ
スの製造方法。 4、遮断する紫外線領域以外に吸収域を持つ光重合開始
剤を用いることを特徴とする請求項1、2又は3記載の
液晶デバイスの製造方法。 5、正の誘電異方性を示す液晶材料を用いることを特徴
とする請求項1、2、3又は4記載の液晶デバイスの製
造方法。 6、液晶材料が調光層構成材料の60重量%以上を占め
る請求項1、2、3、4又は5記載の液晶デバイスの製
造方法。
[Claims] 1. A light control layer constituting material containing a liquid crystal material, a photopolymerizable composition, and a photopolymerization initiator is placed between two substrates, at least one of which is transparent and which may have an electrode layer. In a method for manufacturing a liquid crystal device in which a three-dimensional network-like transparent polymer substance is formed in a liquid crystal continuous phase by irradiating ultraviolet rays and polymerizing the photopolymerizable composition after interposition, short wavelength ultraviolet rays are used as the ultraviolet rays. A method for manufacturing a liquid crystal device characterized by using ultraviolet rays in which a region is blocked. 2. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, characterized in that ultraviolet light whose short wavelength ultraviolet region is blocked using an ultraviolet cut filter is used. 3. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1 or 2, characterized in that ultraviolet rays are used in which ultraviolet rays in an absorption region of the liquid crystal material are blocked. 4. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, 2 or 3, characterized in that a photopolymerization initiator having an absorption range other than the UV range to be blocked is used. 5. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, 2, 3 or 4, characterized in that a liquid crystal material exhibiting positive dielectric anisotropy is used. 6. The method for manufacturing a liquid crystal device according to claim 1, 2, 3, 4 or 5, wherein the liquid crystal material accounts for 60% by weight or more of the light control layer constituting material.
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