JP2006045182A - 毛髪化粧料 - Google Patents
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Abstract
Description
特許文献1には、特定のエーテル型4級アンモニウム塩を含む、良好な柔軟性及びすべり性を有する毛髪化粧料が記載され、特許文献2には、特定のエーテル型4級アンモニウム塩と陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤又は両性界面活性剤とを含有する洗浄剤組成物が記載され、また特許文献3には、特定のジアルキルイミダゾリン型陽イオン界面活性剤を含む毛髪化粧料が記載されているが、これらの毛髪化粧料は充分な柔軟性、すべり性及びコート感を兼ね備えたものではなかった。
(A)一般式(1)
R2及びR4は、炭素数1〜6のアルキル基又は-(AO)nH(Aは炭素数2〜4のアルキレン基を示し、nは1〜6の数を示し、n個のAは同一でも異なってもよく、その配列は任意である。)を示し、
R3は、炭素数1〜6のアルキル基、ベンジル基又は-(A'O)mH(A'は炭素数2〜4のアルキレン基を示し、mは1〜6の数を示し、m個のA'は同一でも異なってもよく、その配列は任意である。)を示し、
X-は、陰イオンを示す。〕
で表されるエーテル型陽イオン性界面活性剤
(B)一般式(2)
R12及びR13は、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示し、
Xa-は、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、フッ素イオン、硫酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンベンジルスルホン酸イオン、リン酸イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオン、カルボン酸イオンから選ばれる1種以上の陰イオンを示す。aはXのイオン電荷である。〕
で表されるイミダゾリン型陽イオン性界面活性剤
を含有する毛髪化粧料を提供するものである。
上記一般式(1)において、R1としては、炭素数12〜22、特に16〜18のものが好ましく、また直鎖のアルキル基が好ましい。
R2及びR4としては、炭素数1〜6のアルキル基及び−(CH2CH2O)nHが好ましく、nは1〜3、特に1が好ましく、更にメチル基及びエチル基が好ましく、メチル基が最も好ましい。
R3としては、メチル基、エチル基及びベンジル基が好ましく、更にはメチル基及びエチル基、特にメチル基が好ましい。
X-としては、ハロゲンイオン、例えばフッ素イオン、塩素イオン、臭素イオン又はヨウ素イオン、又は有機アニオン、例えば酢酸イオン、クエン酸イオン、乳酸イオン、グリコレート、リン酸イオン、硝酸イオン、スルホン酸イオン、硫酸イオン、並びにメチル硫酸イオン及びエチル硫酸イオン等のアルキル硫酸イオン等が挙げられ、ハロゲンイオン又はアルキル硫酸イオンが好ましく、特に塩素イオン、メチル硫酸イオン又はエチル硫酸イオンが好ましい。
上記一般式(2)において、R11 及びR14としては、炭素数16〜24のアルキル基、特に、炭素数17〜22のアルキル基が好ましい。R12 及びR13としては、水素原子又はメチル基が好ましい。Xa-は、塩素イオン、メチル硫酸イオン及びエチル硫酸イオンから選ばれる陰イオン又は陰イオン混合物が好ましい。
これら他の界面活性剤としては、成分(A)及び(B)以外の陽イオン性界面活性剤、陰イオン性界面活性剤、非イオン性界面活性剤、両性界面活性剤の1種以上が挙げられる。これらの中で成分(A)及び(B)以外の陽イオン性界面活性剤が好ましい。
成分(A)及び(B)以外の陽イオン性界面活性剤の特に好ましいものとして、特開2000-178146号公報に記載の、下記一般式(3)
で表わされる第4級アンモニウム塩が挙げられる。
R9O(CH2CH2O)pSO3M (4)
R10OSO3M (5)
〔式中、R9は炭素数10〜18のアルキル基又はアルケニル基を示し、R10は炭素数10〜18のアルキル基を示し、Mはアルカリ金属、アルカリ土類金属、アンモニウム、アルカノールアミン又は塩基性アミノ酸を示し、pはエチレンオキサイド平均付加モル数で1〜5の数を示す。〕
成分(B)と成分(A)及び(B)以外の陽イオン性界面活性剤との使用比率は、柔軟性、すべり性、およびコート感の観点から、「成分(B)/他の陽イオン性界面活性剤」(重量比)が1/4以上であるのが好ましく、更には1/2〜10/1、特に1/1〜4/1であるのが好ましい。
成分(A)及び(B)以外の陽イオン性界面活性剤の含有量は、0〜20重量%が好ましく、0〜10重量%がより好ましく、特に0〜5重量%が好ましい。
成分(A)と成分(B)と成分(A)及び(B)以外の陽イオン性界面活性剤の合計含有量は、0.1〜20重量%が好ましく、0.2〜10重量%がより好ましく、特に0.5〜5重量%が好ましい。
油性成分としては、高級アルコール、シリコーン、及びエステル油、炭化水素類、グリセリド類等が挙げられ、高級アルコール、エステル油及び/又はシリコーンが好ましく、高級アルコール及び/又はシリコーンが特に好ましい。
実施例1
表1に示すエーテル型陽イオン性界面活性剤1〜4と、表2に示すイミダゾリン型陽イオン性界面活性剤1〜3、および他の陽イオン性界面活性剤を用い、表3に示す組成のヘアコンディショナー(本発明品1〜6及び比較品1〜5)を常法により製造した。これらのヘアコンディショナーについて、下記の方法により柔軟性を官能評価した。なお、表2中の数値は「重量%」である。
あらかじめパーマ処理を施した日本人女性の毛髪20g(長さ20cm)を束ね、陰イオン性界面活性剤を主体とする市販ヘアシャンプーを用いて洗浄後、ヘアコンディショナー1.0gにて処理を行なった。その際のすべり性、柔軟性、およびコート感について、10名の専門パネラーにより、下記の基準に従って評価した。
4:非常に良好,3:良好,2:どちらともいえない,1:悪い
10名の評価の平均点を求め、3.6以上を◎、2.6〜3.5を○、1.6〜2.5を△、1.5以下を×とし、表3に示す。
下記組成のヘアトリートメント剤を製造した。
(重量%)
エーテル型陽イオン性界面活性剤1 2.5
イミダゾリン型陽イオン性界面活性剤1 0.8
セタノール* 4.0
ヒドロキシエチルセルロース 0.3
ジプロピレングリコール 2.0
香料、メチルパラベン 適量
精製水 バランス
計 100.0
*:セチルアルコール/ステアリルアルコールの重量比7/3の混合物。以下同様。
下記組成のヘアリンス剤を製造した。
(重量%)
エーテル型陽イオン性界面活性剤3 1.2
イミダゾリン型陽イオン性界面活性剤4* 1.0
ステアリルアルコール 3.0
ポリオキシエチレン・ポリオキシプロピレン
ステアリルエーテル** 0.5
高重合メチルポリシロキサンエマルジョン*** 2.0
ヒドロキシエチルセルロース 0.3
プロピレングリコール 1.0
香料、メチルパラベン 適量
精製水 バランス
計 100.0
*:クロダゾソフトDBQ(クローダジャパン製)〔一般式(2)において、R8、R11:ベヘニル基;R9:メチル基;R10:水素;Xa-:メチル硫酸イオンを示す〕
**:カオーポリエーテルSP-2010(花王(株)製)
***:シリコーンKM904(信越化学(株)製)
実施例2及び3のヘアリンス剤およびヘアトリートメント剤は、すべり性が良好で、油っぽいべたつきがなく、しっとりサラサラした感触で毛髪のまとまり性に優れていた。
下記組成の毛髪洗浄剤を製造した。
(重量%)
エーテル型陽イオン性界面活性剤3 0.4
イミダゾリン型陽イオン性界面活性剤4* 0.6
ポリオキシエチレン(2)ラウリルエーテル硫酸ナトリウム 17.0
ヤシ油脂肪酸メチルエタノールアミド 3.0
ジプロピレングリコール 2.0
クエン酸 適量
香料、メチルパラベン 適量
精製水 バランス
計 100.0
*:クロダゾソフトDBQ(クローダジャパン製)〔一般式(2)において、R11、R12:ベヘニル基;R13:メチル基;R14:水素;Xa-:メチル硫酸イオンを示す〕
この毛髪洗浄剤は、洗浄時のすべり性に優れ、乾燥後は、毛髪のすべり性、柔軟性、およびしっとりとしたコート感に優れていた。
Claims (4)
- 次の成分(A)及び(B)
(A)一般式(1)
R2及びR4は、炭素数1〜6のアルキル基又は-(AO)nH(Aは炭素数2〜4のアルキレン基を示し、nは1〜6の数を示し、n個のAは同一でも異なってもよく、その配列は任意である。)を示し、
R3は、炭素数1〜6のアルキル基、ベンジル基又は-(A'O)mH(A'は炭素数2〜4のアルキレン基を示し、mは1〜6の数を示し、m個のA'は同一でも異なってもよく、その配列は任意である。)を示し、
X-は、陰イオンを示す。〕
で表されるエーテル型陽イオン性界面活性剤
(B)一般式(2)
R12及びR13は、水素原子又は炭素数1〜3のアルキル基を示し、
Xa-は、塩素イオン、臭素イオン、ヨウ素イオン、フッ素イオン、硫酸イオン、メチル硫酸イオン、エチル硫酸イオン、メタンベンジルスルホン酸イオン、リン酸イオン、亜硝酸イオン、硝酸イオン、及びカルボン酸イオンから選ばれる1種以上の陰イオンを示す。aはXのイオン電荷である。〕
で表されるイミダゾリン型陽イオン性界面活性剤
を含有する毛髪化粧料。 - 更に、成分(A)及び(B)以外の界面活性剤を含有する請求項1記載の毛髪化粧料。
- 成分(A)及び(B)以外の界面活性剤が、陽イオン性界面活性剤である請求項2記載の毛髪化粧料。
- 更に油性成分を含有する請求項1〜3の何れか1項記載の毛髪化粧料。
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JP2004272784A JP2006045182A (ja) | 2004-07-02 | 2004-09-21 | 毛髪化粧料 |
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JP2006045182A true JP2006045182A (ja) | 2006-02-16 |
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2008214322A (ja) * | 2007-03-08 | 2008-09-18 | Sanyo Chem Ind Ltd | 毛髪処理剤組成物 |
-
2004
- 2004-09-21 JP JP2004272784A patent/JP2006045182A/ja active Pending
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