JP2006041017A - Electronic component and manufacturing method thereof - Google Patents

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Susumu Nakajo
晋 中條
Hiromitsu Takahashi
弘光 高橋
Kanji Machida
寛治 町田
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an electronic component assuring low resistance, heavier current and less variations in characteristics. <P>SOLUTION: A first groove 52 is formed to a first green sheet 42 by irradiating the upper surface 42a of the first green sheet 42 with the laser beam. A second groove 54 is formed to a second green sheet 46 by irradiating an upper surface 46a of the second green sheet 46 with the laser beam. A first electrode 24 is formed by filling the first groove 52 of the first green sheet 42 with a conductive paste, and a second electrode 26 is formed by filling the second groove 54 of the second green sheet 46 with the conductive paste. A laminate 62 is manufactured by providing in opposition the upper surface 42a of the first green sheet 42 and the upper surface 46a of the second green sheet 46, and then providing the third green sheet 50 between the first and second green sheets 42, 46. The laminate 62 is baked to manufacture an electronic component. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、誘電体基板と、該誘電体基板内に誘電体を間に挟んで対向する第1の電極及び第2の電極を有する電子部品及び電子部品の製造方法に関する。   The present invention relates to a dielectric substrate, an electronic component having a first electrode and a second electrode facing each other with a dielectric sandwiched in the dielectric substrate, and a method for manufacturing the electronic component.

近時、小型、大電流の電子部品(特に、カプラ、バラン等)の市場要求が強まってきた。   Recently, market demand for small-sized, high-current electronic components (particularly, couplers, baluns, etc.) has increased.

小型、大電流の電子部品を製造するためには、導体抵抗を小さくする必要がある。導体抵抗を下げるには、(1)低導電率材料の適用と、(2)導体断面積の拡大(導体厚みの増大等)がある。この中で、(1)の低導体材料(超伝導材料等)の開発には時間がかかるため、(2)の導体断面積の拡大、例えば導体厚みの増大で対応するのが一般的である。   In order to manufacture a small, high-current electronic component, it is necessary to reduce the conductor resistance. To lower the conductor resistance, there are (1) application of a low conductivity material and (2) enlargement of the conductor cross-sectional area (increase in conductor thickness, etc.). Among these, since it takes time to develop the low conductor material (such as superconducting material) of (1), it is common to cope with the expansion of the conductor sectional area of (2), for example, the increase of the conductor thickness. .

ところで、導体が形成された誘電体層を積層して構成される電子部品において、誘電体層に導体を形成する方法として、スクリーン印刷法及び溝加工穴埋め法がある。   By the way, in an electronic component configured by laminating dielectric layers on which conductors are formed, there are a screen printing method and a grooving hole filling method as methods for forming conductors on the dielectric layer.

まず、スクリーン印刷法は、まず、セラミックグリーンシートを作製し、該セラミックグリーンシート上に導体ペーストをスクリーン印刷法にて形成する。その後、複数のセラミックグリーンシートを積層、圧着して積層体を作製し、該積層体を焼成することで電子部品とする。   First, in the screen printing method, first, a ceramic green sheet is produced, and a conductor paste is formed on the ceramic green sheet by a screen printing method. Thereafter, a plurality of ceramic green sheets are laminated and pressure-bonded to produce a laminate, and the laminate is fired to obtain an electronic component.

一方、溝加工穴埋め法は、まず、セラミックグリーンシートを作製する。その後、セラミックグリーンシートに例えばレーザ光を照射して溝を形成し、セラミックグリーンシートに形成された溝内に導体ペーストを充填する。そして、複数のセラミックグリーンシートを積層、圧着して積層体を作製し、該積層体を焼成することで電子部品とする(例えば特許文献1〜3参照)。   On the other hand, in the grooving hole filling method, first, a ceramic green sheet is produced. Thereafter, the ceramic green sheet is irradiated with, for example, laser light to form a groove, and the groove formed in the ceramic green sheet is filled with a conductive paste. And a some ceramic green sheet is laminated | stacked and crimped | bonded, a laminated body is produced, and it is set as an electronic component by baking this laminated body (for example, refer patent documents 1-3).

特開平11−58343号公報Japanese Patent Laid-Open No. 11-58343 特開平10−41138号公報Japanese Patent Laid-Open No. 10-41138 特開平6−275453号公報JP-A-6-275453

しかしながら、スクリーン印刷法においては、形成する導体の厚みが大きくなると、例えば下層の誘電体層が平坦であるにも拘わらず、上層の誘電体層が導体によって盛り上がって形成されてしまい、誘電体層の積層形状が上下方向で非対称となる。そのため、誘電体層の積層、圧着時に内部応力が発生し、(1)積層方向をZ軸方向としたとき、積層、圧着時にX軸及びY軸を含む面方向で積層ずれが発生する、(2)積層体の焼成時にデラミ(層間剥離)が発生する、という問題がある。   However, in the screen printing method, when the thickness of the conductor to be formed is increased, for example, the upper dielectric layer is raised by the conductor even though the lower dielectric layer is flat. The laminated shape becomes asymmetric in the vertical direction. Therefore, internal stress is generated when the dielectric layer is laminated and pressure-bonded. (1) When the stacking direction is the Z-axis direction, stacking displacement occurs in the plane direction including the X-axis and the Y-axis when stacking and pressure-bonding. 2) There is a problem that delamination (delamination) occurs during firing of the laminate.

一方、溝加工穴埋め法は、セラミックグリーンシートのほぼ中央上に、通常、ガルバノスキャンミラーを設置し、レーザ光をガルバノスキャンミラーで走査させて溝加工を行うようにしている。例えば図19に示すように、キャリアフィルム100にて保持されたセラミックグリーンシート102の上面102aにレーザ光104を二次元的に走査してセラミックグリーンシート102に溝106を形成するのが一般的である。レーザ光104によってセラミックグリーンシート102に溝106を形成すると、溝106の形状は、深さ方向に向かって幅が少しずつ狭くなる傾向にある。つまり、断面ほぼ台形状となる。   On the other hand, in the grooving hole filling method, a galvano scan mirror is usually installed almost at the center of the ceramic green sheet, and laser light is scanned by the galvano scan mirror to perform grooving. For example, as shown in FIG. 19, a laser beam 104 is two-dimensionally scanned on the upper surface 102a of the ceramic green sheet 102 held by the carrier film 100 to form grooves 106 in the ceramic green sheet 102. is there. When the groove 106 is formed in the ceramic green sheet 102 by the laser beam 104, the shape of the groove 106 tends to be narrowed gradually in the depth direction. That is, the cross section is substantially trapezoidal.

そして、従来の電子部品の製造方法は、まず、図20に示すように、第1のセラミックグリーンシート110の上面110aに対してレーザ光を照射して、該上面110aに溝112を形成し、その後、該溝112に導電ペーストを充填して第1の電極114とする。一方、図21に示すように、第2のセラミックグリーンシート116の上面116aに対してレーザ光を照射して、該上面116aに溝118を形成し、その後、該溝118に導電ペーストを充填して第2の電極120とする。   Then, in the conventional method for manufacturing an electronic component, first, as shown in FIG. 20, the upper surface 110a of the first ceramic green sheet 110 is irradiated with a laser beam to form a groove 112 on the upper surface 110a, Thereafter, the groove 112 is filled with a conductive paste to form the first electrode 114. On the other hand, as shown in FIG. 21, the upper surface 116a of the second ceramic green sheet 116 is irradiated with laser light to form a groove 118 in the upper surface 116a, and then the groove 118 is filled with a conductive paste. Thus, the second electrode 120 is obtained.

次いで、図22に示すように、第2のセラミックグリーンシート116の上面116aに第1のセラミックグリーンシート110の下面110bを第2のセラミックグリーンシート116に対向させた状態で積層し、さらに、第1のセラミックグリーンシート110上と第2のセラミックグリーンシート116下にそれぞれ何層かのセラミックグリーンシート(図示せず)を積層して積層体を作製し、該積層体を焼成することによって、電子部品を作製する。   Next, as shown in FIG. 22, the lower surface 110b of the first ceramic green sheet 110 is laminated on the upper surface 116a of the second ceramic green sheet 116 so as to face the second ceramic green sheet 116, and By stacking several ceramic green sheets (not shown) on each of the first ceramic green sheet 110 and the second ceramic green sheet 116, a multilayer body is produced, and the multilayer body is fired to produce an electronic structure. Make a part.

しかし、例えば図19に示すように、ガルバノスキャンミラーで反射させたレーザ光104をセラミックグリーンシート102に照射させる場合、セラミックグリーンシート102の中央部分では、前記レーザ光104は、セラミックグリーンシート102の上面102a(被溝加工面)に対してほぼ垂直に入射するが、セラミックグリーンシート102の周辺部分では、ある角度θをもって入射することになる。   However, for example, as shown in FIG. 19, when the ceramic green sheet 102 is irradiated with the laser light 104 reflected by the galvano scan mirror, the laser light 104 is emitted from the ceramic green sheet 102 at the central portion of the ceramic green sheet 102. Although the light is incident substantially perpendicular to the upper surface 102a (grooved surface), the light is incident at a certain angle θ in the peripheral portion of the ceramic green sheet 102.

セラミックグリーンシート102の上面102aに対するレーザ光104の入射角θが異なると、レーザ光104によって形成される溝106の形状(断面形状)も異なってくる。   When the incident angle θ of the laser beam 104 with respect to the upper surface 102 a of the ceramic green sheet 102 is different, the shape (cross-sectional shape) of the groove 106 formed by the laser beam 104 is also different.

溝106の形状は、レーザ光104の入射角θのほか、レーザ光104のエネルギー、セラミックグリーンシート102中のセラミック粒子の密度、セラミック粒子の粒径などによって、例えば図23に示すように、設計上の溝130の形状に対して、破線132及び134に示すように、溝130の底部の幅が広くなったり、狭くなったり、また、溝130の深さが、規定の深さよりも浅くなったり、深くなったりする。特に、レーザ光104の入射角θによる溝130の形状変化は、溝130の深さにおいて顕著となる。   The shape of the groove 106 depends on the incident angle θ of the laser beam 104, the energy of the laser beam 104, the density of the ceramic particles in the ceramic green sheet 102, the particle size of the ceramic particles, and the like, for example, as shown in FIG. With respect to the shape of the upper groove 130, as indicated by broken lines 132 and 134, the width of the bottom of the groove 130 becomes wider or narrower, and the depth of the groove 130 becomes shallower than a prescribed depth. Or deepen. In particular, the change in the shape of the groove 130 due to the incident angle θ of the laser beam 104 becomes significant in the depth of the groove 130.

積層型誘電体の電子部品、例えばカプラの電気的特性は、電極間の電磁結合によって決まるが、上述した従来の製造方法で作製した電子部品においては、図22に示すように、例えば中央部分の第1の電極114と第2の電極120間の距離d1と、周辺部分の第1の電極114と第2の電極120間の距離d2は、それぞれ溝112及び118の形状によって変化することから、レーザ光によって形成される溝の形状の変化がそのまま電気的特性の変動として現れてしまう。   The electrical characteristics of a multilayer dielectric electronic component, such as a coupler, is determined by the electromagnetic coupling between the electrodes. However, in an electronic component manufactured by the conventional manufacturing method described above, as shown in FIG. Since the distance d1 between the first electrode 114 and the second electrode 120 and the distance d2 between the first electrode 114 and the second electrode 120 in the peripheral portion change depending on the shapes of the grooves 112 and 118, respectively. A change in the shape of the groove formed by the laser beam appears as a change in electrical characteristics as it is.

このように、従来の溝加工埋め込み法は、上下導体間の距離が、セラミックグリーンシートの中央部分と周辺部分とで異なり、カプラのような電磁気結合度を重視する電子部品では、セラミックグリーンシートの位置(中央部分/周辺部分)で結合度が異なり、製品歩留まりに影響を及ぼすという問題がある。   As described above, in the conventional groove processing embedding method, the distance between the upper and lower conductors differs between the central portion and the peripheral portion of the ceramic green sheet, and in an electronic component that places importance on the degree of electromagnetic coupling such as a coupler, There is a problem in that the degree of coupling differs depending on the position (center portion / peripheral portion), which affects the product yield.

また、従来の溝加工埋め込み法は、上下方向の内部応力が緩和されることから、上述したすクリーン印刷法による問題点、すなわち、積層、圧着時の面方向の積層ずれやデラミは発生しないが、積層時の初期的なセラミックグリーンシートのずれに対しては、製品完成後、上下導体間の結合度に影響を及ぼすという問題がある。   In addition, since the conventional groove processing embedding method relieves internal stress in the vertical direction, the problems caused by the above-described clean printing method, that is, laminating displacement and delamination in the surface direction during laminating and pressing are not generated. The initial deviation of the ceramic green sheet at the time of lamination has a problem of affecting the degree of coupling between the upper and lower conductors after the product is completed.

従って、従来においては、低抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品を構成する手段がなかった。   Therefore, conventionally, there has been no means for constructing an electronic component that is low resistance, capable of handling a large current, and has little characteristic fluctuation.

本発明はこのような課題を考慮してなされたものであり、低導体抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品を提供することを目的とする。   The present invention has been made in view of such problems, and an object of the present invention is to provide an electronic component that has low conductor resistance, can handle a large current, and has little characteristic fluctuation.

また、本発明の他の目的は、低導体抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品を簡単に製造することができる電子部品の製造方法を提供することにある。   Another object of the present invention is to provide a method of manufacturing an electronic component that can easily manufacture an electronic component that is low in conductor resistance, can handle a large current, and has little characteristic fluctuation.

本発明に係る電子部品は、誘電体基板と、該誘電体基板内に一定厚みの誘電体を間に挟んで対向する第1の電極及び第2の電極とを有し、前記第1の電極のうち、前記誘電体と接する面の幅をWa、前記第1の電極のうち、前記誘電体と接する面と反対の面の幅をWbとし、前記第2の電極のうち、前記誘電体と接する面の幅をWc、前記第2の電極のうち、前記誘電体と接する面と反対の面の幅をWdとしたとき、3/7≦Wb/Wa<1、かつ、3/7≦Wd/Wc<1を満足することを特徴とする。   An electronic component according to the present invention includes a dielectric substrate, and a first electrode and a second electrode that are opposed to each other with a dielectric having a predetermined thickness interposed therebetween. The width of the surface in contact with the dielectric is Wa, the width of the first electrode opposite to the surface in contact with the dielectric is Wb, and the width of the second electrode in the second electrode is 3/7 ≦ Wb / Wa <1 and 3/7 ≦ Wd, where Wc is the width of the surface in contact and Wd is the width of the second electrode opposite to the surface in contact with the dielectric. / Wc <1 is satisfied.

まず、第1の電極と第2の電極間に一定厚みの誘電体が介在することから、第1の電極と第2の電極との距離は誘電体の厚みに支配され、この場合、一定厚みとなる。   First, since a dielectric with a constant thickness is interposed between the first electrode and the second electrode, the distance between the first electrode and the second electrode is governed by the thickness of the dielectric, and in this case, the constant thickness It becomes.

また、第1の電極と第2の電極は、互いに幅の大きい面が対向することになる台形状であることから、例えば第1の電極の側面から第2の電極の上面もしくは、第2の電極の側面に走る電気力線は、第1の電極と第2の電極の対向する大きい上面間の電気力線の強さに比較してネグリジブルな量となる。よって、第1の電極と第2の電極との電気信号の結合度は第1電極と第2電極の互いに幅の大きい面の面積と、前記誘電体の厚みのみ決定されることになる。   In addition, since the first electrode and the second electrode have a trapezoidal shape in which the surfaces having a large width face each other, for example, from the side surface of the first electrode to the upper surface of the second electrode or the second electrode The electric lines of force that run on the side surfaces of the electrodes are negligible compared to the strength of the electric lines of force between the large upper surfaces of the first electrode and the second electrode facing each other. Therefore, the electrical signal coupling degree between the first electrode and the second electrode is determined only by the areas of the first electrode and the second electrode having a large width and the thickness of the dielectric.

このように、第1及び第2の電極間の距離は、溝の形状に左右されなくなり、電子部品の電気的特性の変動を少なくすることができ、低導体抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品とすることができる。   Thus, the distance between the first and second electrodes is not affected by the shape of the groove, can reduce the variation in the electrical characteristics of the electronic component, is low conductor resistance, can handle a large current, And it can be set as an electronic component with few characteristic fluctuations.

そして、前記構成において、7/15≦Wc/Wa<1、又は7/15≦Wa/Wc<1を満足するようにしてもよい。この場合、第1の電極の誘電体と接する面の幅を第2の電極の誘電体と接する面の幅よりも大きく、あるいは、小さくすることで、第1及び第2のグリーンシートの積層ずれによる電気的特性の変動を小さくすることができる。   And in the said structure, you may make it satisfy 7/15 <= Wc / Wa <1 or 7/15 <= Wa / Wc <1. In this case, the width of the surface of the first electrode in contact with the dielectric is larger or smaller than the width of the surface of the second electrode in contact with the dielectric. It is possible to reduce the fluctuation of the electrical characteristics due to.

次に、本発明に係る電子部品に製造方法は、誘電体基板と、該誘電体基板内に誘電体を間に挟んで対向する第1の電極及び第2の電極を有する電子部品の製造方法において、溝部を有する第1のグリーンシートの前記溝部に、前記第1の電極を形成する第1の導電ペーストを充填する工程と、溝部を有する第2のグリーンシートの前記溝部に、前記第2の電極を形成する第2の導電ペーストを充填する工程と、前記第1のグリーンシートの被溝加工面と、前記第2のグリーンシートの被溝加工面とを対向させ、これら第1及び第2のグリーンシートの間に別のグリーンシートを挟んで積層体を作製する工程と、前記積層体を焼成する工程とを有することを特徴とする。   Next, a method for manufacturing an electronic component according to the present invention is a method for manufacturing an electronic component having a dielectric substrate, and a first electrode and a second electrode facing each other with the dielectric interposed in the dielectric substrate. The step of filling the groove portion of the first green sheet having the groove portion with the first conductive paste for forming the first electrode, and the step of filling the groove portion of the second green sheet having the groove portion with the second And filling the second conductive paste for forming the electrode, the grooved surface of the first green sheet, and the grooved surface of the second green sheet so as to face each other. And a step of producing a laminate by sandwiching another green sheet between the two green sheets, and a step of firing the laminate.

これにより、まず、第1のグリーンシートと第2のグリーンシートとの間に別のグリーンシートが介在されることになるため、その後の焼成によって、第1のグリーンシートの溝内に充填された導電ペーストが第1の電極となり、第2のグリーンシートの溝内に充填された導電ペーストが第2の電極となった後において、第1の電極と第2の電極間に一定厚みの誘電体が介在することとなる。   As a result, first, another green sheet is interposed between the first green sheet and the second green sheet, so that the grooves in the first green sheet were filled by subsequent firing. After the conductive paste becomes the first electrode and the conductive paste filled in the grooves of the second green sheet becomes the second electrode, a dielectric having a constant thickness is formed between the first electrode and the second electrode. Will intervene.

また、第1のグリーンシートの被溝加工面を別のグリーンシートに対向し、第2のグリーンシートの被溝加工面を前記別のグリーンシートに対向するようにしていることから、第1の電極と第2の電極は、互いに幅の大きい面が対向することになる。   In addition, since the grooved surface of the first green sheet is opposed to another green sheet, and the grooved surface of the second green sheet is opposed to the other green sheet, The electrode and the second electrode face each other with a large width.

このように、本発明に係る製造方法においては、低抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品を簡単に製造することができる。   As described above, in the manufacturing method according to the present invention, it is possible to easily manufacture an electronic component that is low resistance, can handle a large current, and has little characteristic variation.

つまり、本発明による製造方法は、溝加工埋め込み法による欠点を改善するものであるため、スクリーン印刷法での欠点は発生しない。   That is, the manufacturing method according to the present invention improves the defects caused by the groove processing embedding method, and therefore does not cause the defects in the screen printing method.

グリーンシートの溝部を例えばレーザ光を照射して形成する場合を想定したとき、レーザ光照射による溝部の形状がグリーンシートの中央部分と周辺部分とで異なったとしても、上下電極間の距離を一定に保つことができるため、上下電極間の結合度を一定にすることができる。その結果、製品歩留まりの大幅な改善が可能となる。   Assuming that the groove part of the green sheet is formed by irradiating laser light, for example, the distance between the upper and lower electrodes is constant even if the shape of the groove part by laser light irradiation differs between the central part and the peripheral part of the green sheet. Therefore, the degree of coupling between the upper and lower electrodes can be made constant. As a result, the product yield can be greatly improved.

上述したように、レーザ光照射による溝部の形状がグリーンシートの中央部分と周辺部分とで異なったとしても、上下電極間の距離を一定に保つことができることから、グリーンシートの一単位のサイズを大きくすることが可能となり、生産効率も大幅に向上させることができる。   As described above, the distance between the upper and lower electrodes can be kept constant even if the shape of the groove by laser light irradiation differs between the central part and the peripheral part of the green sheet. The size can be increased, and the production efficiency can be greatly improved.

そして、前記製造方法において、前記第1のグリーンシートの前記溝部を、該第1のグリーンシートを貫通して形成し、前記第2のグリーンシートの前記溝部を、該第2のグリーンシートを貫通して形成するうようにしてもよい。   In the manufacturing method, the groove portion of the first green sheet is formed through the first green sheet, and the groove portion of the second green sheet is penetrated through the second green sheet. You may make it form.

あるいは、前記第1のグリーンシートの前記溝部を、その深さが、前記第1のグリーンシートの厚みよりも小さくなるように設定して形成し、前記第2のグリーンシートの前記溝部を、その深さが、前記第2のグリーンシートの厚みよりも小さくなるように設定して形成するようにしてもよい。   Alternatively, the groove portion of the first green sheet is formed so that the depth is smaller than the thickness of the first green sheet, and the groove portion of the second green sheet is The depth may be set to be smaller than the thickness of the second green sheet.

あるいは、前記第1のグリーンシートの前記溝部を、該第1のグリーンシートを貫通して形成し、前記第2のグリーンシートの前記溝部を、その深さが、前記第1のグリーンシートの厚みよりも小さくなるように設定して形成するようにしてもよい。   Alternatively, the groove portion of the first green sheet is formed through the first green sheet, and the depth of the groove portion of the second green sheet is determined by the thickness of the first green sheet. You may make it set so that it may become smaller than this.

あるいは、前記第1のグリーンシートの前記溝部を、その深さが、前記第1のグリーンシートの厚みよりも小さくなるように設定して形成し、前記第2のグリーンシートの前記溝部を、該第2のグリーンシートを貫通して形成するようにしてもよい。   Alternatively, the groove portion of the first green sheet is formed such that the depth thereof is smaller than the thickness of the first green sheet, and the groove portion of the second green sheet is You may make it form penetrating the 2nd green sheet.

また、前記製造方法において、前記第1のグリーンシートの前記溝部の前記被溝加工面における幅をWaとし、前記第2のグリーンシートの前記溝部の前記被溝加工面における幅をWcとしたとき、Wa>Wc、又はWa<Wcとなるように前記溝部を形成してもよい。   Moreover, in the said manufacturing method, when the width in the said grooved surface of the said groove part of the said 1st green sheet is set to Wa, and the width in the said grooved surface of the said groove part of the said 2nd green sheet is set to Wc , Wa> Wc, or Wa <Wc, the groove may be formed.

これにより、グリーンシートの初期的な積層ずれに対しても、結合度をほぼ一定に保つことができ、製品歩留まりをさらに向上させることができる。   As a result, the degree of coupling can be kept substantially constant even with respect to the initial stacking deviation of the green sheets, and the product yield can be further improved.

なお、前記溝部は、前記被溝加工面へのレーザ光の照射によって形成するようにしてもよい。   In addition, you may make it form the said groove part by irradiation of the laser beam to the said grooved surface.

以上説明したように、本発明に係る電子部品によれば、低導体抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品とすることができる。   As described above, according to the electronic component according to the present invention, it is possible to provide an electronic component that has low conductor resistance and a large current and that has little characteristic variation.

また、本発明に係る電子部品の製造方法によれば、低導体抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品を簡単に製造することができる。   In addition, according to the method for manufacturing an electronic component according to the present invention, it is possible to easily manufacture an electronic component that has a low conductor resistance and a large current and that has little characteristic variation.

以下、本発明に係る電子部品及び電子部品の製造方法を例えばカプラに適用した実施の形態例を図1〜図18を参照しながら説明する。   Hereinafter, an embodiment in which an electronic component and a method for manufacturing the electronic component according to the present invention are applied to, for example, a coupler will be described with reference to FIGS.

本実施の形態に係る電子部品10は、図1に示すように、複数の誘電体層が積層、焼成一体化された誘電体基板12を有する。誘電体基板12の4つの側面のうち、第1の側面14aには、入力端子16とアイソレーティド端子18が形成され、第1の側面14aと対向する第2の側面14bには、出力端子20とカップルド端子22が形成されている。   As shown in FIG. 1, an electronic component 10 according to the present embodiment has a dielectric substrate 12 in which a plurality of dielectric layers are laminated and integrated by firing. Among the four side surfaces of the dielectric substrate 12, the input terminal 16 and the isolated terminal 18 are formed on the first side surface 14a, and the output terminal is disposed on the second side surface 14b opposite to the first side surface 14a. 20 and a coupled terminal 22 are formed.

誘電体基板12内には、図2に示すように、2つの電極(第1の電極24及び第2の電極26)が形成されている。第1の電極24は、1つの形成面において、一端28から他端30にかけて蛇行して形成され、前記一端28が入力端子16(図1参照)に接続され、前記他端30が出力端子20(図1参照)に接続されている。第2の電極26は、他の形成面において、一端32から他端34にかけて蛇行して形成され、前記一端32がアイソレーティド端子18(図1参照)に接続され、前記他端34がカップルド端子22(図1参照)に接続されている。   In the dielectric substrate 12, as shown in FIG. 2, two electrodes (first electrode 24 and second electrode 26) are formed. The first electrode 24 is formed to meander from one end 28 to the other end 30 on one forming surface, the one end 28 is connected to the input terminal 16 (see FIG. 1), and the other end 30 is connected to the output terminal 20. (See FIG. 1). The second electrode 26 is formed to meander from one end 32 to the other end 34 on the other formation surface, the one end 32 is connected to the isolated terminal 18 (see FIG. 1), and the other end 34 is coupled to the other end 34. Terminal 22 (see FIG. 1).

そして、この実施の形態においては、第1の電極24の形成面と第2の電極26の形成面との間に一定厚みを有する誘電体36が介在されている。   In this embodiment, a dielectric 36 having a constant thickness is interposed between the formation surface of the first electrode 24 and the formation surface of the second electrode 26.

ここで、本実施の形態に係る電子部品10の製造方法について図3〜図7を参照しながら説明する。   Here, a method for manufacturing the electronic component 10 according to the present embodiment will be described with reference to FIGS.

最初に、第1の製造方法は、まず、図3Aに示すように、第1のキャリアフィルム40上に保持された第1のセラミックグリーンシート42と、図3Bに示すように、第2のキャリアフィルム44上に保持された第2のセラミックグリーンシート46と、図3Cに示すように、第3のキャリアフィルム48上に保持された第3のセラミックグリーンシート50を用意する。なお、第1〜第3のキャリアフィルム40、44及び48は、例えばPET(ポリエチレン・テレフタレート材)にて形成されている。   First, in the first manufacturing method, first, as shown in FIG. 3A, the first ceramic green sheet 42 held on the first carrier film 40 and the second carrier as shown in FIG. 3B are used. A second ceramic green sheet 46 held on the film 44 and a third ceramic green sheet 50 held on the third carrier film 48 are prepared as shown in FIG. 3C. The first to third carrier films 40, 44 and 48 are made of, for example, PET (polyethylene terephthalate material).

その後、図4Aに示すように、図示しないガルバノスキャンミラーにて反射したレーザ光(図示せず)を第1のセラミックグリーンシート42の上面42a(被溝加工面)に照射して、該第1のセラミックグリーンシート42を貫通する第1の溝52を形成する。   Thereafter, as shown in FIG. 4A, a laser beam (not shown) reflected by a galvano scan mirror (not shown) is irradiated on the upper surface 42a (grooved surface) of the first ceramic green sheet 42, and the first A first groove 52 penetrating the ceramic green sheet 42 is formed.

一方、図4Bに示すように、図示しないガルバノスキャンミラーにて反射したレーザ光(図示せず)を第2のセラミックグリーンシート46の上面46a(被溝加工面)に照射して、該第2のセラミックグリーンシート46を貫通する第2の溝54を形成する。   On the other hand, as shown in FIG. 4B, a laser beam (not shown) reflected by a galvano scan mirror (not shown) is applied to the upper surface 46a (grooved surface) of the second ceramic green sheet 46, and the second A second groove 54 penetrating the ceramic green sheet 46 is formed.

第1の溝52及び第2の溝54は、レーザ光によって形成されることから、それぞれ深さ方向に向かって幅が少しずつ狭くなる傾向にあり、断面ほぼ台形状となる。なお、この実施の形態では、第1の溝52の最大幅W1(上面42aの延長線上での幅)を第2の溝54の最大幅W2(上面46aの延長線上での幅)よりも小に設定しているが、幅W1と幅W2をほぼ同じにしてもよいし、幅W1を幅W2よりも大きくしてもよい。   Since the first groove 52 and the second groove 54 are formed by laser light, the width tends to be gradually reduced in the depth direction, and the cross section is substantially trapezoidal. In this embodiment, the maximum width W1 of the first groove 52 (width on the extension line of the upper surface 42a) is smaller than the maximum width W2 of the second groove 54 (width on the extension line of the upper surface 46a). However, the width W1 and the width W2 may be substantially the same, or the width W1 may be larger than the width W2.

その後、図5Aに示すように、第1のセラミックグリーンシート42の上面42aに形成された第1の溝52内に導電ペーストを充填して第1の電極24とする。第1の溝52内への導電ペーストの充填は、例えば印刷によって容易に行うことができる。一方、図5Bに示すように、第2のセラミックグリーンシート46の上面46aに形成された第2の溝54内に導電ペーストを例えば印刷によって充填して第2の電極26とする。   Thereafter, as shown in FIG. 5A, the first groove 52 formed in the upper surface 42 a of the first ceramic green sheet 42 is filled with a conductive paste to form the first electrode 24. Filling the first groove 52 with the conductive paste can be easily performed, for example, by printing. On the other hand, as shown in FIG. 5B, a conductive paste is filled into the second groove 54 formed on the upper surface 46a of the second ceramic green sheet 46 by, for example, printing to form the second electrode 26.

その後、図6に示すように、第1のセラミックグリーンシート42の上面42aと、第2のセラミックグリーンシート46の上面46aを対向させ、その間に、第3のセラミックグリーンシート50を介在させる。例えば、第1のセラミックグリーンシート42の上面42aと第3のキャリアフィルム48の端面48aとを対向させ、第2のセラミックグリーンシート46の上面46aと第3のセラミックグリーンシート50の上面50aとを対向させる。   Thereafter, as shown in FIG. 6, the upper surface 42a of the first ceramic green sheet 42 and the upper surface 46a of the second ceramic green sheet 46 are opposed to each other, and the third ceramic green sheet 50 is interposed therebetween. For example, the upper surface 42a of the first ceramic green sheet 42 and the end surface 48a of the third carrier film 48 are opposed to each other, and the upper surface 46a of the second ceramic green sheet 46 and the upper surface 50a of the third ceramic green sheet 50 are Make them face each other.

その後、これら第1〜第3のセラミックグリーンシート42、46及び50を積層させるが、積層前に第1〜第3のセラミックグリーンシートから第1〜第3のキャリアフィルムを除去、あるいは積層しながら第1〜第3のキャリアフィルムを除去する。   Thereafter, the first to third ceramic green sheets 42, 46 and 50 are laminated, while the first to third carrier films are removed or laminated from the first to third ceramic green sheets before lamination. The first to third carrier films are removed.

そして、図7に示すように、第1〜第3のセラミックグリーンシート42、46及び50を積層し、さらに、第1のセラミックグリーンシート42上に第4のセラミックグリーンシート58を積層し、第2のセラミックグリーンシート46下に第5のセラミックグリーンシート60を積層して積層体62を作製する。このとき、第1の電極24のうち、幅の大きい面が第3のセラミックグリーンシート50の上面50aに接触し、第2の電極26のうち、幅の大きい面が第3のセラミックグリーンシート50の下面50bに接触することとなる。その後、積層体62を焼成することにより、図1及び図2に示す電子部品10が完成する。   Then, as shown in FIG. 7, the first to third ceramic green sheets 42, 46 and 50 are laminated, and further, the fourth ceramic green sheet 58 is laminated on the first ceramic green sheet 42. A fifth ceramic green sheet 60 is laminated under the second ceramic green sheet 46 to produce a laminate 62. At this time, the surface with the large width of the first electrode 24 contacts the upper surface 50a of the third ceramic green sheet 50, and the surface with the large width of the second electrode 26 is the third ceramic green sheet 50. Will come into contact with the lower surface 50b. Thereafter, the laminated body 62 is fired to complete the electronic component 10 shown in FIGS. 1 and 2.

このように、本実施の形態に係る電子部品10においては、第1のセラミックグリーンシート42と第2のセラミックグリーンシート46との間に第3のセラミックグリーンシート50が介在されることになるため、その後の焼成によって、誘電体基板12が作製された段階において、図2に示すように、第1の電極24と第2の電極26間に一定厚みの誘電体36が介在することとなる。これにより、第1の電極24と第2の電極26との距離は誘電体36の厚みに支配され、この場合、一定厚みとなる。   As described above, in the electronic component 10 according to the present embodiment, the third ceramic green sheet 50 is interposed between the first ceramic green sheet 42 and the second ceramic green sheet 46. Then, at a stage where the dielectric substrate 12 is fabricated by subsequent firing, a dielectric 36 having a constant thickness is interposed between the first electrode 24 and the second electrode 26 as shown in FIG. Thus, the distance between the first electrode 24 and the second electrode 26 is governed by the thickness of the dielectric 36, and in this case, the thickness is constant.

また、第1のセラミックグリーンシート42の上面42a(被溝加工面)を第3のセラミックグリーンシート50に対向させ、第2のセラミックグリーンシート46の上面46a(被溝加工面)を第3のセラミックグリーンシート50に対向させるようにしている。この場合、第1の電極24と第2の電極26は、互いに幅の大きい面が対向することになる台形状であることから、例えば第1の電極24の側面から第2の電極26の上面もしくは、第2の電極26の側面に走る電気力線は、第1の電極24と第2の電極26の対向する大きい上面間の電気力線の強さに比較してネグリジブルな量となる。よって、第1の電極24と第2の電極26との電気信号の結合度は第1電極24と第2電極26の互いに幅の大きい面の面積と、誘電体36の厚みのみ決定されることになる。   Further, the upper surface 42a (grooved surface) of the first ceramic green sheet 42 is opposed to the third ceramic green sheet 50, and the upper surface 46a (grooved surface) of the second ceramic green sheet 46 is made third. The ceramic green sheet 50 is opposed to the ceramic green sheet 50. In this case, since the first electrode 24 and the second electrode 26 have a trapezoidal shape whose surfaces having a large width face each other, for example, from the side surface of the first electrode 24 to the upper surface of the second electrode 26. Alternatively, the electric lines of force that run on the side surfaces of the second electrode 26 are negligible compared to the strength of the electric lines of force between the large upper surfaces of the first electrode 24 and the second electrode 26 facing each other. Therefore, the degree of electrical signal coupling between the first electrode 24 and the second electrode 26 is determined only by the area of the first electrode 24 and the second electrode 26 having a large width and the thickness of the dielectric 36. become.

従って、第1の電極24と第2の電極26間の距離は、第1の溝52や第2の溝54の形状に左右されなくなり、低導体抵抗、大電流対応であって、かつ、特性変動の少ない電子部品10とすることができる。   Accordingly, the distance between the first electrode 24 and the second electrode 26 does not depend on the shape of the first groove 52 or the second groove 54, and is low in conductor resistance, capable of handling a large current, and has characteristics. It can be set as the electronic component 10 with few fluctuations.

上述の例では、第1のセラミックグリーンシート42を貫通する第1の溝52内に導電ペーストを充填して第1の電極24を形成するようにしたが、その他、図8に示すように、第1のセラミックグリーンシート42に対して、深さh1が該第1のセラミックグリーンシート42の厚みt1よりも小さい溝52aを形成し、該溝52a内に導電ペーストを充填して第1の電極24を形成するようにしてもよい。   In the above example, the first electrode 24 is formed by filling the first groove 52 penetrating the first ceramic green sheet 42 to form the first electrode 24. However, as shown in FIG. A groove 52a having a depth h1 smaller than the thickness t1 of the first ceramic green sheet 42 is formed in the first ceramic green sheet 42, and a conductive paste is filled in the groove 52a to form the first electrode. 24 may be formed.

同様に、図9に示すように、第2のセラミックグリーンシート46に対して、深さh2が該第2のセラミックグリーンシート46の厚みt2よりも小さい溝54aを形成し、該溝54a内に導電ペーストを充填して第2の電極26を形成するようにしてもよい。   Similarly, as shown in FIG. 9, a groove 54a having a depth h2 smaller than the thickness t2 of the second ceramic green sheet 46 is formed in the second ceramic green sheet 46, and the groove 54a is formed in the groove 54a. The second electrode 26 may be formed by filling a conductive paste.

そして、図10の第1の変形例に係る電子部品10aに示すように、貫通した第1の溝52内に第1の電極24が形成された第1のセラミックグリーンシート42と、深さの浅い溝54a内に第2の電極26が形成された第2のセラミックグリーンシート46とを第3のセラミックグリーンシート50を間に挟んで積層するようにしてもよい。   Then, as shown in the electronic component 10a according to the first modification of FIG. 10, the first ceramic green sheet 42 in which the first electrode 24 is formed in the first groove 52 penetrating, and the depth The second ceramic green sheet 46 in which the second electrode 26 is formed in the shallow groove 54a may be laminated with the third ceramic green sheet 50 interposed therebetween.

あるいは、図11の第2の変形例に係る電子部品10bに示すように、深さの浅い溝52a内に第1の電極24が形成された第1のセラミックグリーンシート42と、貫通した第2の溝54内に第2の電極26が形成された第2のセラミックグリーンシート46とを第3のセラミックグリーンシート50を間に挟んで積層するようにしてもよい。   Alternatively, as shown in the electronic component 10b according to the second modified example of FIG. 11, the first ceramic green sheet 42 in which the first electrode 24 is formed in the shallow groove 52a and the penetrating second The second ceramic green sheet 46 in which the second electrode 26 is formed in the groove 54 may be laminated with the third ceramic green sheet 50 interposed therebetween.

あるいは、図12の第3の変形例に係る電子部品10cに示すように、深さの浅い溝52a内に第1の電極24が形成された第1のセラミックグリーンシート42と深さの浅い溝54a内に第2の電極26が形成された第2のセラミックグリーンシート46とを第3のセラミックグリーンシート50を間に挟んで積層するようにしてもよい。   Alternatively, as shown in the electronic component 10c according to the third modified example of FIG. 12, the first ceramic green sheet 42 in which the first electrode 24 is formed in the shallow groove 52a and the shallow groove. The second ceramic green sheet 46 in which the second electrode 26 is formed in 54 a may be laminated with the third ceramic green sheet 50 interposed therebetween.

これら第1〜第3の変形例においても、第1の電極24と第2の電極26が、第3のセラミックグリーンシート50を間に挟んで対向していることから、溝52、52a、54及び54aの深さがそれぞれ異なっていたとしても、第1の電極24と第2の電極26間の距離dを一定に保つことができる。   Also in these first to third modifications, since the first electrode 24 and the second electrode 26 face each other with the third ceramic green sheet 50 interposed therebetween, the grooves 52, 52 a, 54 are provided. Even if the depths 54a and 54a are different from each other, the distance d between the first electrode 24 and the second electrode 26 can be kept constant.

次に、代表的に第2の電極26の断面形状によって電気的特性、特に、周波数2.4GHzの信号に対する結合度がどのように変化するかを見た2つの実験例(第1及び第2の実験例)について図13〜図18を参照しながら説明する。   Next, two experimental examples (first and second examples) showing how the electrical characteristics, particularly, the degree of coupling with respect to a signal with a frequency of 2.4 GHz change depending on the cross-sectional shape of the second electrode 26. Will be described with reference to FIGS. 13 to 18.

まず、第1の実験例は、第2の電極26の幅のみを変えた場合の結合度の変化を見たものである(実施例1〜5)。図13に示すように、第1の電極24は、第2の電極26と対向する面の幅Waを150μm、その反対側の面の幅Wbを110μmとし、厚みt1を80μmとした。また、第1の電極24と第2の電極26間の距離dを100μmとした。   First, the first experimental example is a change in the degree of coupling when only the width of the second electrode 26 is changed (Examples 1 to 5). As shown in FIG. 13, in the first electrode 24, the width Wa of the surface facing the second electrode 26 is 150 μm, the width Wb of the opposite surface is 110 μm, and the thickness t1 is 80 μm. Further, the distance d between the first electrode 24 and the second electrode 26 was set to 100 μm.

実施例1〜5の内訳を説明すると、実施例1は、第2の電極26における第1の電極24と対向する面の幅Wcを230μmとし、その反対側の面の幅Wdを190μmとした。実施例2は、幅Wcを190μmとし、幅Wdを150μmとした。実施例3は、幅Wcを150μmとし、幅Wdを110μmとした。実施例4は、幅Wcを110μmとし、幅Wdを70μmとした。実施例5は、幅Wcを70μmとし、幅Wdを30μmとした。なお、第2の電極26の厚みt2は、実施例1〜5のいずれも80μmとした。   The breakdown of Examples 1 to 5 will be described. In Example 1, the width Wc of the surface of the second electrode 26 facing the first electrode 24 is 230 μm, and the width Wd of the opposite surface is 190 μm. . In Example 2, the width Wc was 190 μm and the width Wd was 150 μm. In Example 3, the width Wc was 150 μm and the width Wd was 110 μm. In Example 4, the width Wc was 110 μm and the width Wd was 70 μm. In Example 5, the width Wc was 70 μm and the width Wd was 30 μm. Note that the thickness t2 of the second electrode 26 was set to 80 μm in all of Examples 1 to 5.

この第1の実験例の結果を図14及び図15に示す。実施例1〜5の結合度は、実施例1が3.14、実施例2が3.25、実施例3が3.35、実施例4が3.41、実施例5が3.80であった。   The results of this first experimental example are shown in FIGS. The binding degrees of Examples 1 to 5 are 3.14 in Example 1, 3.25 in Example 2, 3.35 in Example 3, 3.41 in Example 4, and 3.80 in Example 5. there were.

このことから、第2の電極26における第1の電極24と対向する面の幅Wc(及びその反対側の面の幅Wd)を変えることによって、結合度がほぼ線形的に変化していることがわかる。従って、設計仕様にて要求される結合度に合わせて、第2の電極26の幅Wc及びWdを適宜選定すればよく、結合度の調整が容易になる。これは、第1の電極24においても同様である。   From this, the degree of coupling changes almost linearly by changing the width Wc of the surface of the second electrode 26 facing the first electrode 24 (and the width Wd of the surface on the opposite side). I understand. Therefore, the widths Wc and Wd of the second electrode 26 may be appropriately selected according to the degree of coupling required by the design specifications, and the degree of coupling can be easily adjusted. The same applies to the first electrode 24.

第2の電極26における第1の電極24と対向する面の幅Wcと、その反対側の面の幅Wdとの比(Wd/Wc)は、実施例1では190/230(=19/23)、実施例2では150/190(=15/19)、実施例3では110/150(=11/15)、実施例4では70/110(=7/11)、実施例5では30/70(=3/7)である。   The ratio (Wd / Wc) between the width Wc of the surface of the second electrode 26 facing the first electrode 24 and the width Wd of the opposite surface is 190/230 (= 19/23) in the first embodiment. ), 150/190 (= 15/19) in Example 2, 110/150 (= 11/15) in Example 3, 70/110 (= 7/11) in Example 4, 30 / in Example 5 70 (= 3/7).

従って、前記比(Wd/Wc)は、3/7≦Wd/Wc<1を満足すればよいことがわかる。これは、第1の電極24においても同様であり、第1の電極24における第2の電極26と対向する面の幅Waと、その反対側の面の幅Wbとの比(Wb/Wa)は、3/7≦Wb/Wa<1を満足すればよい。   Therefore, it is understood that the ratio (Wd / Wc) only needs to satisfy 3/7 ≦ Wd / Wc <1. The same applies to the first electrode 24, and the ratio (Wb / Wa) between the width Wa of the surface of the first electrode 24 facing the second electrode 26 and the width Wb of the opposite surface. May satisfy 3/7 ≦ Wb / Wa <1.

次に、第2の実験例は、積層ずれによる結合度の変化が、第1の電極24における第2の電極26と対向する面の幅Waと、第2の電極26における第1の電極24と対向する面の幅Wcとの比によってどのように変わるかを見たものである(実施例6〜8)。積層ずれ量δは、図16に示すように、第1の電極24の幅方向中央と第2の電極26の幅方向中央の位置のずれを測定した。   Next, in the second experimental example, the change in the degree of coupling due to the stacking deviation is such that the width Wa of the surface of the first electrode 24 facing the second electrode 26 and the first electrode 24 in the second electrode 26. It is seen how it changes depending on the ratio with the width Wc of the surface facing each other (Examples 6 to 8). As shown in FIG. 16, the stacking deviation amount δ was measured by measuring the positional shift between the center in the width direction of the first electrode 24 and the center in the width direction of the second electrode 26.

幅WaとWcの比(Wa/Wc)は、実施例6が150/230(=15/23)、実施例7が150/150(=1)、実施例8が150/70(=15/7)である。積層ずれ量δは、0μm、20μm及び40μmの3種類とした。   The ratio of the widths Wa and Wc (Wa / Wc) is 150/230 (= 15/23) in Example 6, 150/150 (= 1) in Example 7, and 150/70 (= 15/15) in Example 8. 7). The stacking deviation amount δ was set to three types of 0 μm, 20 μm, and 40 μm.

この第2の実験例の結果を図17及び図18に示す。実施例6〜8において、積層ずれ量δによる結合度の変動は、以下の通りである。なお、積層ずれ量δが0μmのときの結合度を基準とする。   The results of this second experimental example are shown in FIGS. In Examples 6 to 8, the variation in the degree of coupling due to the stacking deviation amount δ is as follows. Note that the degree of coupling when the stacking deviation amount δ is 0 μm is used as a reference.

実施例6は、積層ずれ量δが20μmのとき、3%程度の変動であって、積層ずれ量δが40μmのとき、4%程度の変動であった。実施例7は、積層ずれ量δが20μmのとき、1%程度の変動であって、積層ずれ量δが40μmのとき、2%程度の変動であった。実施例8は、積層ずれ量δが20μmのとき、0.8%程度の変動であって、積層ずれ量δが40μmのとき、1%程度の変動であった。   In Example 6, when the stacking deviation amount δ was 20 μm, the fluctuation was about 3%, and when the stacking deviation amount δ was 40 μm, the fluctuation was about 4%. In Example 7, when the stacking deviation amount δ was 20 μm, the fluctuation was about 1%, and when the stacking deviation amount δ was 40 μm, the fluctuation was about 2%. In Example 8, when the stacking deviation amount δ was 20 μm, the fluctuation was about 0.8%, and when the stacking deviation amount δ was 40 μm, the fluctuation was about 1%.

このように、幅Waと幅Wcとの比(Wa/Wc)が1よりも大あるいは小の方が積層ずれ量δによる結合度の変動が小さいことがわかる。しかし、幅Waと幅Wcとの比(Wa/Wc)が1であっても、積層ずれ量δによる結合度の変動は大きくて4%程度であり、実用レベルである。   Thus, it can be seen that when the ratio (Wa / Wc) of the width Wa to the width Wc is larger or smaller than 1, the variation in the coupling degree due to the stacking deviation amount δ is small. However, even if the ratio of the width Wa to the width Wc (Wa / Wc) is 1, the fluctuation of the coupling degree due to the stacking deviation amount δ is about 4%, which is a practical level.

従って、幅Wc<幅Waのとき、7/15≦Wc/Wa<1を満足する、あるいは幅Wa<幅Wcのとき、7/15≦Wa/Wc<1を満足すればよい。   Therefore, 7/15 ≦ Wc / Wa <1 is satisfied when the width Wc <width Wa, or 7/15 ≦ Wa / Wc <1 when the width Wa <width Wc.

このように、第1及び第2の実験例から、本実施の形態に係る電子部品10は、第1の電極24における第2の電極26と対向する面の幅Waとその反対側の面の幅Wb間の差異、第2の電極26における第1の電極24と対向する面の幅Wcとその反対側の面の幅Wd間の差異、第1の電極24の前記幅Waと第2の電極26の前記幅Wc間の差異、第1の電極24に対する第2の電極26の積層ずれ、第1の電極24と第2の電極26間の距離dにほとんど左右されず、ほぼ一定の結合度を得ることができる。   As described above, from the first and second experimental examples, the electronic component 10 according to the present embodiment has the width Wa of the surface facing the second electrode 26 in the first electrode 24 and the surface on the opposite side thereof. The difference between the widths Wb, the difference between the width Wc of the surface of the second electrode 26 facing the first electrode 24 and the width Wd of the opposite surface, the width Wa of the first electrode 24 and the second width Wd Almost constant coupling regardless of the difference between the widths Wc of the electrodes 26, the misalignment of the second electrode 26 with respect to the first electrode 24, and the distance d between the first electrode 24 and the second electrode 26. You can get a degree.

つまり、本実施の形態に係る製造方法は、溝加工埋め込み法による欠点を改善するものであるため、スクリーン印刷法での欠点は発生しない。   That is, since the manufacturing method according to the present embodiment improves the defects due to the groove processing embedding method, the defects in the screen printing method do not occur.

レーザ光照射による溝52の形状がセラミックグリーンシートの中央部分と周辺部分とで異なったとしても、第1の電極24と第2の電極26間の距離dを一定に保つことができるため、第1の電極24と第2の電極26間の結合度を一定にすることができる。その結果、製品歩留まりの大幅な改善が可能となる。   Since the distance d between the first electrode 24 and the second electrode 26 can be kept constant even if the shape of the groove 52 by laser light irradiation differs between the central portion and the peripheral portion of the ceramic green sheet, The degree of coupling between the first electrode 24 and the second electrode 26 can be made constant. As a result, the product yield can be greatly improved.

上述したように、レーザ光照射による溝52の形状がセラミックグリーンシートの中央部分と周辺部分とで異なったとしても、第1の電極24と第2の電極26間の距離dを一定に保つことができることから、セラミックグリーンシートの一単位のサイズを大きくすることが可能となり、生産効率も大幅に向上させることができる。   As described above, the distance d between the first electrode 24 and the second electrode 26 is kept constant even when the shape of the groove 52 by laser light irradiation differs between the central portion and the peripheral portion of the ceramic green sheet. Therefore, the size of one unit of the ceramic green sheet can be increased, and the production efficiency can be greatly improved.

このように、本実施の形態に係る電子部品10は、低導体抵抗、大電流に十分に対応でき、しかも、歩留まりの向上をも図ることができ、生産性の向上、製品コストの低廉化も実現することができる。   As described above, the electronic component 10 according to the present embodiment can sufficiently cope with the low conductor resistance and the large current, and can also improve the yield, improve the productivity, and reduce the product cost. Can be realized.

上述の例では、電子部品として、カプラに適用した場合を示したが、その他、バランにも適用できるほか、カプラやバランを含む各種受動部品にも適用することができる。   In the above-described example, the case where the electronic component is applied to a coupler is shown. However, the present invention can be applied to a balun, and can also be applied to various passive components including a coupler and a balun.

なお、本発明に係る電子部品及び電子部品の製造方法は、上述の実施の形態に限らず、本発明の要旨を逸脱することなく、種々の構成を採り得ることはもちろんである。   It should be noted that the electronic component and the method for manufacturing the electronic component according to the present invention are not limited to the above-described embodiments, and various configurations can be adopted without departing from the gist of the present invention.

本実施の形態に係る電子部品を示す斜視図である。It is a perspective view which shows the electronic component which concerns on this Embodiment. 本実施の形態に係る電子部品を示す透視斜視図である。It is a see-through | perspective perspective view which shows the electronic component which concerns on this Embodiment. 図3Aは第1のキャリアフィルムに保持された第1のセラミックグリーンシートを示す断面図であり、図3Bは第2のキャリアフィルムに保持された第2のセラミックグリーンシートを示す断面図であり、図3Cは第3のキャリアフィルムに保持された第3のセラミックグリーンシートを示す断面図である。3A is a cross-sectional view showing the first ceramic green sheet held on the first carrier film, FIG. 3B is a cross-sectional view showing the second ceramic green sheet held on the second carrier film, FIG. 3C is a cross-sectional view showing a third ceramic green sheet held on a third carrier film. 図4Aは第1のセラミックグリーンシートにレーザ光を照射して第1の溝を形成した状態を示す断面図であり、図4Bは第2のセラミックグリーンシートにレーザ光を照射して第2の溝を形成した状態を示す断面図である。FIG. 4A is a cross-sectional view showing a state in which the first groove is formed by irradiating the first ceramic green sheet with laser light, and FIG. 4B shows the second state by irradiating the second ceramic green sheet with laser light. It is sectional drawing which shows the state in which the groove | channel was formed. 図5Aは第1のセラミックグリーンシートに形成された第1の溝内に導電ペーストを充填して第1の電極とした状態を示す断面図であり、図5Bは第2のセラミックグリーンシートに形成された第2の溝内に導電ペーストを充填して第2の電極とした状態を示す断面図である。FIG. 5A is a cross-sectional view showing a state where the first groove formed in the first ceramic green sheet is filled with a conductive paste to form a first electrode, and FIG. 5B is formed on the second ceramic green sheet. It is sectional drawing which shows the state which filled the electrically conductive paste in the made 2nd groove | channel, and was set as the 2nd electrode. 第1の製造方法によって作製された積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body produced by the 1st manufacturing method. 第2の製造方法によって作製された積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body produced by the 2nd manufacturing method. 第1のセラミックグリーンシートに深さの浅い溝を形成し、該溝内に導電ペーストを充填して第1の電極とした例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example which formed the groove | channel where shallow depth was formed in the 1st ceramic green sheet, and was filled with the electrically conductive paste in this groove | channel, and was set as the 1st electrode. 第2のセラミックグリーンシートに深さの浅い溝を形成し、該溝内に導電ペーストを充填して第2の電極とした例を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the example which formed the groove | channel where the depth was shallow in the 2nd ceramic green sheet, and was filled with the electrically conductive paste in this groove | channel, and was set as the 2nd electrode. 第1の変形例を示す電子部品の積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body of the electronic component which shows a 1st modification. 第2の変形例を示す電子部品の積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body of the electronic component which shows a 2nd modification. 第3の変形例を示す電子部品の積層体を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the laminated body of the electronic component which shows a 3rd modification. 第1の実験例で使用される実施例1〜5の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of Examples 1-5 used in a 1st experiment example. 第1の実験例を示す表図である。It is a table | surface figure which shows the 1st experiment example. 第1の実験例を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 1st experiment example. 第2の実験例で使用される実施例6〜8の構成を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the structure of Examples 6-8 used by the 2nd experiment example. 第2の実験例を示す表図である。It is a table | surface figure which shows the 2nd experiment example. 第2の実験例を示す特性図である。It is a characteristic view which shows the 2nd experiment example. ガルバノスキャンミラーから反射されるレーザ光でセラミックグリーンシートに溝を形成した状態を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the state which formed the groove | channel in the ceramic green sheet with the laser beam reflected from a galvano scan mirror. 第1のセラミックグリーンシートにレーザ光を照射することによって形成された第1の溝内に導電ペーストを充填して第1の電極とした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which filled with the electrically conductive paste in the 1st groove | channel formed by irradiating a 1st ceramic green sheet with a laser beam, and was set as the 1st electrode. 第2のセラミックグリーンシートにレーザ光を照射することによって形成された第2の溝内に導電ペーストを充填して第2の電極とした状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which filled with the electrically conductive paste in the 2nd groove | channel formed by irradiating a 2nd ceramic green sheet with a laser beam, and was set as the 2nd electrode. 第1及び第2のセラミックグリーンシートを積層した状態を示す断面図である。It is sectional drawing which shows the state which laminated | stacked the 1st and 2nd ceramic green sheet. 種々の要因による溝の形状の変化の具合を示す説明図である。It is explanatory drawing which shows the condition of the change of the shape of a groove | channel by various factors.

符号の説明Explanation of symbols

10…電子部品 12…誘電体基板
24…第1の電極 26…第2の電極
42…第1のセラミックグリーンシート 42a…上面(被溝加工面)
46…第2のセラミックグリーンシート 46a…上面(被溝加工面)
50…第3のセラミックグリーンシート 52…第1の溝
54…第2の溝
58…第4のセラミックグリーンシート
60…第5のセラミックグリーンシート
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 ... Electronic component 12 ... Dielectric board | substrate 24 ... 1st electrode 26 ... 2nd electrode 42 ... 1st ceramic green sheet 42a ... Upper surface (grooved surface)
46: Second ceramic green sheet 46a: Upper surface (grooved surface)
50 ... 3rd ceramic green sheet 52 ... 1st groove | channel 54 ... 2nd groove | channel 58 ... 4th ceramic green sheet 60 ... 5th ceramic green sheet

Claims (9)

誘電体基板と、
前記誘電体基板内に一定厚みの誘電体を間に挟んで対向する第1の電極及び第2の電極とを有し、
前記第1の電極のうち、前記誘電体と接する面の幅をWa、前記第1の電極のうち、前記誘電体と接する面と反対の面の幅をWbとし、
前記第2の電極のうち、前記誘電体と接する面の幅をWc、前記第2の電極のうち、前記誘電体と接する面と反対の面の幅をWdとしたとき、
3/7≦Wb/Wa<1、かつ、
3/7≦Wd/Wc<1
を満足することを特徴とする電子部品。
A dielectric substrate;
The dielectric substrate has a first electrode and a second electrode facing each other with a dielectric having a constant thickness in between,
Of the first electrode, the width of the surface in contact with the dielectric is Wa, and in the first electrode, the width of the surface opposite to the surface in contact with the dielectric is Wb,
When the width of the surface in contact with the dielectric of the second electrode is Wc, and the width of the surface of the second electrode opposite to the surface in contact with the dielectric is Wd,
3/7 ≦ Wb / Wa <1, and
3/7 ≦ Wd / Wc <1
An electronic component characterized by satisfying
請求項1記載の電子部品において、
Wc<Waのとき、7/15≦Wc/Wa<1
を満足する、あるいは
Wa<Wcのとき、7/15≦Wa/Wc<1
を満足することを特徴とする電子部品。
The electronic component according to claim 1,
When Wc <Wa, 7/15 ≦ Wc / Wa <1
Or when Wa <Wc, 7/15 ≦ Wa / Wc <1
An electronic component characterized by satisfying
誘電体基板と、該誘電体基板内に誘電体を間に挟んで対向する第1の電極及び第2の電極を有する電子部品の製造方法において、
溝部を有する第1のグリーンシートの前記溝部に、前記第1の電極を形成する第1の導電ペーストを充填する工程と、
溝部を有する第2のグリーンシートの前記溝部に、前記第2の電極を形成する第2の導電ペーストを充填する工程と、
前記第1のグリーンシートの被溝加工面と、前記第2のグリーンシートの被溝加工面とを対向させ、これら第1及び第2のグリーンシートの間に別のグリーンシートを挟んで積層体を作製する工程と、
前記積層体を焼成する工程とを有することを特徴とする電子部品の製造方法。
In a method of manufacturing an electronic component having a dielectric substrate and a first electrode and a second electrode facing each other with the dielectric sandwiched in the dielectric substrate,
Filling the groove portion of the first green sheet having the groove portion with a first conductive paste for forming the first electrode;
Filling the groove portion of the second green sheet having the groove portion with a second conductive paste for forming the second electrode;
A laminated body in which the grooved surface of the first green sheet and the grooved surface of the second green sheet are opposed to each other, and another green sheet is sandwiched between the first and second green sheets. A step of producing
And a step of firing the laminated body.
請求項3記載の電子部品の製造方法において、
前記第1のグリーンシートの前記溝部は、該第1のグリーンシートを貫通して形成され、
前記第2のグリーンシートの前記溝部は、該第2のグリーンシートを貫通して形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 3,
The groove portion of the first green sheet is formed through the first green sheet,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the groove portion of the second green sheet is formed so as to penetrate the second green sheet.
請求項3記載の電子部品の製造方法において、
前記第1のグリーンシートの前記溝部は、その深さが、前記第1のグリーンシートの厚みよりも小さく設定されて形成され、
前記第2のグリーンシートの前記溝部は、その深さが、前記第2のグリーンシートの厚みよりも小さく設定されて形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 3,
The groove portion of the first green sheet is formed with a depth set smaller than the thickness of the first green sheet,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the groove portion of the second green sheet is formed with a depth smaller than a thickness of the second green sheet.
請求項3記載の電子部品の製造方法において、
前記第1のグリーンシートの前記溝部は、該第1のグリーンシートを貫通して形成され、
前記第2のグリーンシートの前記溝部は、その深さが、前記第2のグリーンシートの厚みよりも小さく設定されて形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 3,
The groove portion of the first green sheet is formed through the first green sheet,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the groove portion of the second green sheet is formed with a depth smaller than a thickness of the second green sheet.
請求項3記載の電子部品の製造方法において、
前記第1のグリーンシートの前記溝部は、その深さが、前記第1のグリーンシートの厚みよりも小さく設定されて形成され、
前記第2のグリーンシートの前記溝部は、該第2のグリーンシートを貫通して形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of Claim 3,
The groove portion of the first green sheet is formed with a depth set smaller than the thickness of the first green sheet,
The method of manufacturing an electronic component, wherein the groove portion of the second green sheet is formed so as to penetrate the second green sheet.
請求項3〜7のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法において、
前記第1のグリーンシートの前記溝部の前記被溝加工面における幅をWaとし、前記第2のグリーンシートの前記溝部の前記被溝加工面における幅をWcとしたとき、
Wa>Wc、又は
Wa<Wc
となるように前記溝部が形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of any one of Claims 3-7,
When the width of the grooved surface of the groove portion of the first green sheet is Wa and the width of the grooved surface of the groove portion of the second green sheet is Wc,
Wa> Wc, or Wa <Wc
The method of manufacturing an electronic component is characterized in that the groove is formed so as to be
請求項3〜8のいずれか1項に記載の電子部品の製造方法において、
前記溝部は、前記被溝加工面へのレーザ光の照射によって形成されていることを特徴とする電子部品の製造方法。
In the manufacturing method of the electronic component of any one of Claims 3-8,
The groove part is formed by irradiating the grooved surface with a laser beam.
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