JP2006032750A5 - - Google Patents

Claims (20)

1. 光源からの光でレチクルを照明する照明光学系と、
   前記レチクルのパターンを基板上に投影する投影光学系と、
   前記投影光学系の最も前記基板近くに配置された光学素子の表面に液浸剤を供給する液浸剤供給部とを有し、前記パターンを前記基板に前記液浸剤を介して露光する露光装置であって、
   前記液浸剤とは異なる液体を前記光学素子の表面に供給する液体供給部をさらに有することを特徴とする露光装置。
2. 前記液浸剤供給部と前記液体供給部とが別々に設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
3. 前記液浸剤供給部の供給路と前記液体供給部の供給路とが少なくとも部分的に共用されていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
4. 前記共用された供給路から前記液浸剤と前記液体とのいずれを供給するかを選択可能な選択機構をさらに有することを特徴とする請求項３に記載の露光装置。
5. 前記液浸剤を排出する液浸剤排出部と前記液体を排出する液体排出部とがさらに設けられていることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
6. 前記液浸剤排出部の排出路と前記液体排出部の排出路とが少なくとも部分的に共用されていることを特徴とする請求項５に記載の露光装置。
7. 前記液体が、前記光学素子の表面を洗浄するための洗浄剤であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
8. 前記表面を洗浄するための洗浄槽をさらに有し、前記洗浄剤が該洗浄槽に供給されるようになっていることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
9. 前記洗浄槽は、前記基板駆動系とともに移動可能とされていることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
10. 前記洗浄槽に、超音波発生器が設けられていることを特徴とする請求項７に記載の露光装置。
11. 前記液体が、洗浄後の前記光学素子の表面をすすぐためのすすぎ液であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
12. 前記液浸剤が水であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
13. 前記液体が、前記液浸剤とは異なる特性を有する他の液浸剤であることを特徴とする請求項１に記載の露光装置。
14. 前記特性が、屈折率又は透過率の少なくともいずれか一方であることを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
15. 前記特性が、前記基板上に形成されたレジストに対する溶出度であることを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
16. 前記基板上に形成されたレジストの種類又は前記パターンの投影寸法のうち少なくともいずれか一方に基づいて、前記液浸剤又は前記他の液浸剤のうちいずれを使用するかを判断する判断手段をさらに有することを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
17. 前記液浸剤と前記他の液浸剤とを混合する混合機構をさらに有することを特徴とする請求項１３に記載の露光装置。
18. 前記基板上に形成されたレジストの種類又は前記パターンの投影寸法のうち少なくともいずれか一方に基づいて、前記液浸剤と前記他の液浸剤との混合比を決定する混合比決定手段を有することを特徴とする請求項１７に記載の露光装置。
19. 光源からの光でレチクルを照明し、該レチクルのパターンを投影光学系によって基板上に投影する露光装置であって、該投影光学系の最も前記基板近くに配置された光学素子の表面に供給された液浸剤を介して前記基板に前記パターンを露光する露光装置の前記光学素子の表面を洗浄する方法であって、
    前記光学素子の表面に前記液浸剤とは異なる洗浄剤を供給する洗浄ステップを有することを特徴とする表面の洗浄方法。
20. 請求項１から請求項１８のうちいずれか１項に記載の露光装置によって基板を露光する工程と、
    露光された前記基板に所定のプロセスを行う工程とを有するデバイスの製造方法。