JP2006027912A - ガラス板表面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びフラットパネルディスプレイ - Google Patents
ガラス板表面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びフラットパネルディスプレイ Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006027912A JP2006027912A JP2004204138A JP2004204138A JP2006027912A JP 2006027912 A JP2006027912 A JP 2006027912A JP 2004204138 A JP2004204138 A JP 2004204138A JP 2004204138 A JP2004204138 A JP 2004204138A JP 2006027912 A JP2006027912 A JP 2006027912A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- polishing
- glass plate
- liquid
- polishing liquid
- glass
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
- Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
Abstract
【解決手段】 ガラス板表面の研磨方法は、ガラス板表面を機械的に研磨した後、ガラス板表面に連続的に流動している研磨液を接触させて更にガラス板表面を研磨することによって行われる。この方法においてガラス板表面に研磨液を接触させるには、気体と混合した研磨液が噴射されている研磨液中にガラス板を浸漬するか、又は、研磨液を直接ガラス板に吹き付けることが好適である。フラットパネルディスプレイ用ガラス基板は、前記研磨方法によって研磨したガラス基板である。フラットパネルディスプレイは、前記ガラス基板を使用したディスプレイである。
【選択図】 なし
Description
105 配管
201 研磨液噴射孔
204 気液混合室
205 気体導入孔
206 液体導入孔
207 オリフィス
402 研磨液噴射ノズル
Claims (7)
- ガラス板表面の研磨方法であって、ガラス板表面を機械的に研磨する機械研磨工程の後、前記ガラス板表面に連続的に流動している研磨液を接触させることによって前記ガラス板表面を更に研磨する化学研磨工程を備えることを特徴とするガラス板表面の研磨方法。
- 前記化学研磨工程は、前記ガラス板を内部に気泡が発生した前記研磨液に浸漬することによって行われ、前記気泡は、気体と研磨液が混合された後、該研磨液がノズルから噴射されることによって発生することを特徴とする請求項1に記載のガラス板表面の方法。
- 前記気体と研磨液の混合は、気体導入孔及び研磨液導入孔を設けたノズル内部で行われる請求項2に記載のガラス板表面の研磨方法。
- 前記ノズルには、研磨液を噴射する噴射孔と、前記噴射孔と連通する気液混合室と、前記気液混合室と前記液体導入孔の間に設けられたオリフィスを備え、前記気体導入孔は前記気液混合室に直通し、前記研磨液導入孔は前記オリフィスを介して前記気液混合室に連通している請求項3に記載のガラス板表面の研磨方法。
- 前記化学研磨工程は、前記研磨液を噴射し、前記ガラス板表面に前記研磨液を直接吹き付けることによって行われることを特徴とする請求項1に記載のガラス板表面の研磨方法。
- 請求項1〜5のいずれかに記載の方法によって研磨されたフラットパネルディスプレイ用ガラス基板。
- 請求項6に記載のガラス基板を使用したフラットパネルディスプレイ。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004204138A JP2006027912A (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | ガラス板表面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びフラットパネルディスプレイ |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004204138A JP2006027912A (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | ガラス板表面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びフラットパネルディスプレイ |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006027912A true JP2006027912A (ja) | 2006-02-02 |
Family
ID=35894708
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004204138A Pending JP2006027912A (ja) | 2004-07-12 | 2004-07-12 | ガラス板表面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びフラットパネルディスプレイ |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006027912A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007137397A1 (en) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Lightmachinery Inc. | Submerged fluid jet polishing |
JP2012056828A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの製造方法 |
Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5029620A (ja) * | 1973-07-03 | 1975-03-25 | ||
JPH11345797A (ja) * | 1998-06-02 | 1999-12-14 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 2流体噴出ノズル及びこれを使用した2流体噴流洗浄装置並びに2流体噴流洗浄方法 |
JP2000140778A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-23 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | ガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 |
JP2000241803A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
JP2001098298A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-04-10 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | アルミノシリケートガラス基板又はセラミックガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 |
JP2002362945A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-18 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2003014907A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-15 | Sony Corp | マイクロレンズ基板の製造方法およびマイクロレンズ基板、ならびに液晶パネルの製造方法および液晶パネル |
-
2004
- 2004-07-12 JP JP2004204138A patent/JP2006027912A/ja active Pending
Patent Citations (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5029620A (ja) * | 1973-07-03 | 1975-03-25 | ||
JPH11345797A (ja) * | 1998-06-02 | 1999-12-14 | Shimada Phys & Chem Ind Co Ltd | 2流体噴出ノズル及びこれを使用した2流体噴流洗浄装置並びに2流体噴流洗浄方法 |
JP2000140778A (ja) * | 1998-11-10 | 2000-05-23 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | ガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 |
JP2000241803A (ja) * | 1999-02-18 | 2000-09-08 | Toshiba Corp | 液晶表示素子の製造方法 |
JP2001098298A (ja) * | 1999-09-27 | 2001-04-10 | Hitachi Plant Eng & Constr Co Ltd | アルミノシリケートガラス基板又はセラミックガラス基板の洗浄液及び洗浄方法 |
JP2002362945A (ja) * | 2001-06-11 | 2002-12-18 | Sumitomo Precision Prod Co Ltd | 基板処理装置 |
JP2003014907A (ja) * | 2001-07-04 | 2003-01-15 | Sony Corp | マイクロレンズ基板の製造方法およびマイクロレンズ基板、ならびに液晶パネルの製造方法および液晶パネル |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2007137397A1 (en) * | 2006-05-25 | 2007-12-06 | Lightmachinery Inc. | Submerged fluid jet polishing |
JP2012056828A (ja) * | 2010-09-13 | 2012-03-22 | Asahi Glass Co Ltd | ガラスの製造方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4927884B2 (ja) | 硝子基板のエッチング装置と前記エッチング装置によって製造された硝子薄板 | |
TWI397120B (zh) | 用於蝕刻一基材的設備與方法 | |
KR101980764B1 (ko) | 아치 형태의 드럼 패드를 구비한 탈착기 및 이를 이용한 경량 박형의 액정표시장치 제조방법 | |
TWI447085B (zh) | Etching method and display element of alkali - free glass substrate | |
JP2007183540A (ja) | 液晶表示パネルの切断方法及びこれを用いた液晶表示パネルの製造方法 | |
US8017186B2 (en) | Film forming method, discharging droplet method and droplet discharging device | |
KR20020080215A (ko) | 액정유리기판의 화학연마 방법 및 화학연마장치 | |
JP2007264597A (ja) | ポリイミド膜塗布装置及びその方法 | |
CN101633563A (zh) | 一种光学玻璃蚀刻装置及方法 | |
JP2007055241A (ja) | ノズルプレート及びその製造方法、並びに液滴吐出ヘッド及びその製造方法 | |
CN101417862A (zh) | 瀑布式层流蚀刻装置 | |
JP2006027912A (ja) | ガラス板表面の研磨方法、フラットパネルディスプレイ用ガラス基板、及びフラットパネルディスプレイ | |
JP4865351B2 (ja) | 液晶ディスプレイ | |
US7279044B2 (en) | Apparatus and method of fabricating liquid crystal display panel | |
JP2006276579A (ja) | 電気光学装置の製造方法、電気光学装置、及び電子機器 | |
TWI316875B (en) | Functional droplet coating apparatus,display,and electronic device | |
JP2007217276A (ja) | ガラス基板の薄板化装置 | |
JP2004077640A (ja) | 液晶表示素子の製造方法およびその装置 | |
JP2007322693A (ja) | 表示装置の製造方法 | |
KR101397446B1 (ko) | 액정표시장치용 약액 공급시스템 및 약액 공급방법 | |
KR101141688B1 (ko) | 케미컬 습식 식각을 통한 기판 절단 방법 | |
JP2008145621A (ja) | 液晶表示装置及びその製造方法 | |
US20080088781A1 (en) | Method and apparatus for printing alignment layer of liquid crystal display | |
KR20060079069A (ko) | 액정 분사 장치 | |
JPH06208098A (ja) | 基板洗浄装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070615 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20090723 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090728 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090925 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100330 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100526 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20100629 |