JP2006022392A - 回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置 - Google Patents
回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006022392A JP2006022392A JP2004203421A JP2004203421A JP2006022392A JP 2006022392 A JP2006022392 A JP 2006022392A JP 2004203421 A JP2004203421 A JP 2004203421A JP 2004203421 A JP2004203421 A JP 2004203421A JP 2006022392 A JP2006022392 A JP 2006022392A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- rotating electrode
- workpiece
- axis
- gas
- electrode
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- ing And Chemical Polishing (AREA)
- Plasma Technology (AREA)
- Chemical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】 反応ガス及び不活性ガスを含むガス雰囲気中に回転電極200とワーク201とを配設し、ワークと回転電極をXY軸方向へ相対的に走査するとともに、Z軸方向の回転軸202を有する回転電極とワークとの間に所定のギャップ203を形成するように回転電極とワークをZ軸方向へ相対的に変位させ、回転電極を回転させてギャップ近傍に渦流を形成するとともに、回転電極に高周波電圧を印加してギャップでプラズマを発生し、反応ガスに基づいて生成した中性ラジカルを用いてワーク表面を加工又はワーク表面に成膜する。
【選択図】 図1
Description
202 回転軸 203 ギャップ
204 ワーク保持台 205 単位加工痕
1 ベース体 2 チャンバー
3 Z軸支持台 4 X軸駆動機構
5 Y軸駆動機構 6 Z軸駆動機構
7 ワーク保持台 8 ヘッド取付部
9 処理ヘッド 10 半同軸型空洞共振器
11 Y軸案内部材 12 Y軸駆動部材
13 側壁 14 X軸保持体
15 Y軸駆動体 16 X軸案内部材
17 X軸駆動部材 18 X軸移動体
19 X軸駆動体 20 連動部材
21 ベローズ 22 チャンバー胴体
23 チャンバーカバー 24 Z軸導入部
25 脚杆 26 Z軸ベース体
27 排気ポート 28 ポート
29 ハッチ 30 観察窓
31 観察ポート 32 支持脚
33 ガイド部材 34 導出ポート
35 ブロック台 36 貫通孔
37 リニアブッシュ 38 フランジ板
39 スライダー 40 駆動シャフト
41 支持軸 42 支持パイプ
43 Y軸駆動モータ 45 ボールナット
46 縮径部 47 ねじ部
48 アンギュラベアリング 49 スペーサ
50 スペーサ 51 固定ナット
52 拡径孔部 53 固定リング
54 軸孔 55 保持リング
58 継手 59 ブロック体
59 円筒体 60 円筒体
61 フランジ板 62 支持棒
63 リニアブッシュ 64 固定パイプ
65 シャフト 66 固定孔
67 スリーブ 68 リニアブッシュ
69 フランジ板 70 駆動シャフト
71 支持軸 72 支持パイプ
73 X軸駆動モータ 75 ボールナット
76 ブロック体 76 ボールナット
77 円筒体 78 フランジ板
79 支持棒 80 リニアブッシュ
81 吊支部材 82 連結部材
83 補強板 84 板ばね
85 カバー 86 保護パイプ
87 導出ポート 88 ベローズ
89 フランジ板 90 通気孔
91 気密カバー 92 ジャッキボルト
93 固定部 94 可動部
95 ベローズ 96 取付孔
97 固定スリーブ 98 保高部
99 継手ボックス 100 Z軸駆動モータ
101 貫通孔 102 ボールスプライン外筒
103 Z軸駆動体 104 挿通孔
105 アンギュラベアリング 106 Z軸駆動部材
108 ボールナット 109 継手
110 ケーブル 111 保護パイプ
112 フランジ板 113 引張りコイルばね
114 ヘッド容器 115 シャフト
116 回転電極 117 電極駆動モータ
Claims (8)
- 反応ガス及び不活性ガスを含むガス雰囲気中に回転電極とワークとを配設し、該ワークと回転電極をXY軸方向へ相対的に走査するとともに、Z軸方向の回転軸を有する前記回転電極とワークとの間に所定のギャップを形成するように該回転電極とワークをZ軸方向へ相対的に変位させ、前記回転電極を回転させて前記ギャップ近傍に渦流を形成するとともに、該回転電極に高周波電圧を印加して前記ギャップでプラズマを発生し、反応ガスに基づいて生成した中性ラジカルを用いてワーク表面を加工又はワーク表面に成膜してなることを特徴とする回転電極を用いたプラズマ処理方法。
- 前記反応ガスに基づく中性ラジカルと前記ワークを構成する原子又は分子とのラジカル反応によって生成した揮発性物質を気化させて除去し且つ回転電極とワークとを相対的に変位させて加工を進行してなる請求項1記載の回転電極を用いたプラズマ処理方法。
- 前記反応ガスに基づく中性ラジカルを前記ワークの表面に堆積させて且つ回転電極とワークとを相対的に変位させて成膜してなる請求項1記載の回転電極を用いたプラズマ処理方法。
- 前記回転電極の表面に、前記ギャップの方向へのガス流を形成するためのスクリュー形状の凹溝若しくは突条を形成してなる請求項1〜3何れかに記載の回転電極を用いたプラズマ処理方法。
- 前記回転電極の上部に、前記ギャップの方向へのガス流を形成するためのプロペラを設けてなる請求項1〜3何れかに記載の回転電極を用いたプラズマ処理方法。
- 前記回転電極の上部に、前記ギャップの方向へのガス流を形成するためのガス供給ノズルを設けてなる請求項1〜3何れかに記載の回転電極を用いたプラズマ処理方法。
- 気密チャンバー内に配したワーク保持台をX軸駆動機構とY軸駆動機構とでXY軸方向へ駆動するとともに、前記ワーク保持台に保持したワークに対面して配したZ軸方向の回転軸を有する回転電極を、Z軸駆動機構で該ワーク保持台の移動面に直交したZ軸方向へ駆動して、前記回転電極とワークとの間に所定のギャップを形成し、前記チャンバー内に反応ガス及び不活性ガスを供給するガス供給手段を備えるとともに、前記回転電極に高周波電圧を印加する電力供給手段を備えたことを特徴とする回転電極を用いたプラズマ処理装置。
- 回転電極とワークとを内部に配設するとともに、反応ガス及び不活性ガスを含む雰囲気ガスを密封若しくは循環させ得るチャンバーと、
前記回転電極へ高周波電圧を印加する電力供給手段と、
前記回転電極とワークとの間に所定のギャップを形成するとともに、前記回転電極とワークとを相対的に変位させる駆動機構と、
前記回転電極を前記ワークの表面に略垂直な回転軸にて回転させる回転駆動機構と、
を少なくとも備え、前記回転電極に高周波電圧を印加して前記ギャップでプラズマを発生し、反応ガスに基づいて生成した中性ラジカルを用いてワーク表面を加工又はワーク表面に成膜してなることを特徴とする回転電極を用いたプラズマ処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004203421A JP4556518B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | 回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004203421A JP4556518B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | 回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006022392A true JP2006022392A (ja) | 2006-01-26 |
JP4556518B2 JP4556518B2 (ja) | 2010-10-06 |
Family
ID=35795879
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004203421A Expired - Lifetime JP4556518B2 (ja) | 2004-07-09 | 2004-07-09 | 回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4556518B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008181799A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Sharp Corp | プラズマ加工装置およびプラズマ加工方法 |
CN103227093A (zh) * | 2013-05-14 | 2013-07-31 | 哈尔滨工业大学 | 适用于大口径非球面光学零件的大气等离子体加工装置 |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09115692A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-05-02 | Mori Yuzo | 形状創成装置 |
JP2004052045A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Hitachi Zosen Corp | プラズマ加工装置及び方法 |
JP2004079611A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Hitachi Zosen Corp | プラズマ加工装置及び加工方法 |
-
2004
- 2004-07-09 JP JP2004203421A patent/JP4556518B2/ja not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09115692A (ja) * | 1995-10-13 | 1997-05-02 | Mori Yuzo | 形状創成装置 |
JP2004052045A (ja) * | 2002-07-19 | 2004-02-19 | Hitachi Zosen Corp | プラズマ加工装置及び方法 |
JP2004079611A (ja) * | 2002-08-12 | 2004-03-11 | Hitachi Zosen Corp | プラズマ加工装置及び加工方法 |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008181799A (ja) * | 2007-01-25 | 2008-08-07 | Sharp Corp | プラズマ加工装置およびプラズマ加工方法 |
CN103227093A (zh) * | 2013-05-14 | 2013-07-31 | 哈尔滨工业大学 | 适用于大口径非球面光学零件的大气等离子体加工装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4556518B2 (ja) | 2010-10-06 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
RU2086378C1 (ru) | Способ лазерной обработки и устройство для его осуществления | |
EP1810782B1 (en) | Machining apparatus | |
Mori et al. | The study of fabrication of the x-ray mirror by numerically controlled plasma chemical vaporization machining: development of the machine for the x-ray mirror fabrication | |
Huo | Micro-cutting: fundamentals and applications | |
CN107398783A (zh) | 一种金属材料表面纳米级形貌加工方法及装置 | |
CN105269102B (zh) | 五轴联动超声复合电火花微精加工数控机床 | |
US8165713B2 (en) | CNC abrasive fluid-jet milling | |
US7501049B2 (en) | ECM-machine | |
JP4553967B2 (ja) | 切削加工装置、加工方法、およびその加工方法で加工した金型 | |
Katahira et al. | Effect of atmospheric-pressure plasma jet on polycrystalline diamond micro-milling of silicon carbide | |
CN205183988U (zh) | 五轴联动超声复合电火花微精加工数控机床 | |
CN108907191A (zh) | 适用于高速风洞试验的30CrMnSiA金属模型增材制造方法 | |
JP4556518B2 (ja) | 回転電極を用いたプラズマ処理方法及びその装置 | |
RU2463246C1 (ru) | Установка для получения наноструктурированных слоев на поверхности сложнопрофильных деталей методом лазерно-плазменной обработки | |
EP2265408B1 (en) | Machine tools and methods of operation thereof | |
Serizawa et al. | Microthreading in whirling | |
JP4595413B2 (ja) | 超精密処理装置 | |
JP2012056036A (ja) | 放電加工装置 | |
JP3056146B2 (ja) | 放電加工方法及び放電加工装置 | |
Yagüe-Fabra et al. | Scalability of precision design principles for machines and instruments | |
Devi et al. | Influence of low-frequency vibration in die sinking EDM: a review | |
Howard et al. | On the development of an experimental testing platform for the vortex machining process | |
JP3265245B2 (ja) | 回転電極を用いた高密度ラジカル反応による高能率加工装置 | |
US6359400B1 (en) | Direct drive spindle for use in chemical vapor deposition | |
JPH04246184A (ja) | ラジカル反応による無歪精密数値制御加工方法及びその装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070607 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091215 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100120 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100629 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100712 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4556518 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130730 Year of fee payment: 3 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313114 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
S533 | Written request for registration of change of name |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313533 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
S531 | Written request for registration of change of domicile |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313531 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |