JP2006022356A - サーメット溶射皮膜形成部材およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】サーメット粉末72を溶射装置60で溶射して母材30の表面にサーメット溶射皮膜を形成する際に、サーメット粉末72にはタングステンカーバイドニッケル系サーメットの焼結粉砕粉を用い、溶射装置60には、燃焼を複数段43,62に分けて行う高速ガスフレーム溶射法のものを使用し、サーメット粉末72をWCサーメットの軟化温度31より低い温度で射出して、サーメット溶射皮膜を母材30表面上に形成する。
【選択図】 図1
Description
本発明のサーメット溶射皮膜形成部材の典型例は、圧延鋼帯などの金属板に処理液やその蒸気との接触を伴う湿式の処理を連続して施す設備に用いられるデスケールラインのテンションレベレラー用ロール等のロール類(特許文献1参照)や,土壌を掘削する際に石油ガス等に曝されるピストンロッド,止水ゲートを開閉する際に海水に曝されるシャフトなどの、耐摩耗性に加えて耐食性も要求される部材である。
溶射材としては、サーメット粉末のうち耐摩耗性に富むWC(タングステンカーバイド)サーメット粉末を用いる。
常用されているWCサーメット粉末には、造粒焼結法により製造された造粒焼結粉と、焼結粉砕法により製造された焼結粉砕粉とがある。
何れの粉末も、各々の粒子が、微細な一次粒子を多数結合させた二次粒子からなる。一次粒子の典型的なサイズは、1〜3μm程度であり、二次粒子の典型的なサイズは、5〜50μm程度である。
二次粒子の見かけ密度(二次粒子の質量を二次粒子の体積で割った密度。g/cm3値)で云えば、造粒焼結粉の見かけ密度は、多数の気孔の内在により、焼結粉砕粉の50〜80%程度となっている。
この溶射装置40は、一言で言えば1段燃焼型溶射装置であり、要するに、後方1箇所のみに(一次)燃焼室を持つ構造をとり、この場所で得られた熱エネルギーだけでこの後で投入される溶射粉末の粒子温度を軟化点以上に昇温させ、続けて起こる降温状態を過ぎても尚母材表面では粒子軟化温度を維持するといった形態をとる。
しかしながら、耐食性強化手段として上掲したようなことは、いずれも以下の理由により不完全な処理もしくは非常に手間やコストの掛かる作業として位置づけられてきたものである。
又、ニッケルメッキにあってはコストが膨大になることは勿論、施工そのものに特別な装置や設備が必要となり、寸法上の制約がある等、全てのものに適用出来るという訳にはいかず、限られたもののみに施工が行われてきた次第である。
なお、溶射皮膜をフュージング(再溶融)して皮膜を稠密にする手法は、コスト増の他、フュージング処理のための加熱(通常のフュージブル合金では1000〜1100℃程度)で、母材に施されている焼入れがなまされて母材の硬度が下がってしまう(フュージング処理においては、フュージブル合金の熱衝撃割れを避けるために、溶融→凝固後の急冷が行えないので、急冷による母材の再焼入れが不可)といった問題もあって、WCサーメットには採用し難い。因に、WCサーメットは極く硬質で脆いため、土台となる母材にも相応の硬度を確保して皮膜を壊れにくくする必要がある。特に前述のテンションレベレラー用のワークロールのように大きな法線応力の加わる部材において然りである。
そして、これらのことを考慮して、上述したような従来の1段燃焼型溶射装置(図4参照)の使用下で生じるWCサーメット粉末の異常昇温を防止しながら良質の皮膜を溶射単一の処理で作製するために、2段燃焼機能を持つ溶射装置に注目し、従来使用していた1段燃焼のみによる溶射装置の使用は止めて、2段燃焼とした溶射装置を用いて、溶射単一の処理で良質の皮膜を作製する途を追求した。そして、その一環として、2段燃焼型溶射装置の使用により、溶射されるWCサーメット粉末の粒子の温度維持が可能となって、粒子を必要以上に昇温する必要が無くなったことに期待をかけて敢えて焼結粉砕粉を用いることで、溶射単一の処理でも良質の皮膜を作製しうることの可能性を探ってみたのである。
このように火炎溶射法には複数段燃焼の高速ガスフレーム溶射法を採用するとともに、溶射材料のサーメット粉末にはタングステンカーバイドニッケル系サーメットの焼結粉砕粉を採用したうえで、そのWCサーメット粉末がその軟化温度より低い温度で射出されるようにしたことにより、初段の加熱が時間を掛けてゆっくり行われるので焼結粉砕粉でも粒子が内部まで加熱され、後段の加熱で更なる加熱と十分な加速が行われるので、サーメット粉末が火炎と共に飛行している間は粒子温度が軟化温度より低くても、サーメット粉末の各粒子が母材表面に衝突したときには粒子の運動エネルギーが熱エネルギーに変換されその熱が加わるため、衝突時の一瞬においてはサーメット粉末の温度が軟化温度より高く確保されて緻密な成膜に至るのである。
したがって、この発明によれば、溶射単一の処理で良質な皮膜のサーメット溶射皮膜形成部材を作製することができる。
このように棒材を軸回転させることで、溶射部位を速やかに相対移動させることが容易に行え、そのようにすることにより、母材表面衝突後のWCサーメット粉末は、速やかに、ガス炎や後続粒子から離れて、軟化温度の上から下へ降温する。そのため、酸化等によるWCサーメット溶射皮膜の劣化が最小限に抑制される。
したがって、この発明によれば、溶射単一の処理で一層良質な皮膜のサーメット溶射皮膜形成部材を作製することができる。
そして、母材30が湿式用途に供されるロール等の円柱状棒材であっても、その棒材の外周面にメッキ等はせずに精整処理を施しただけで、母材30を例えば周速度2m/s程度で軸回転させながら、溶射位置を軸方向にゆっくり例えば1回転につき2mm程度の速度で相対移動させる、といった移動式連続施工によって、重なりの生じる螺旋軌跡を以て溶射成膜を進めて、母材30の外周面上ほぼ全域に亘って切れ目のないエンドレスなニッケル系WCサーメットの無孔質の溶射皮膜が形成される。
こうして、サーメット溶射皮膜形成部材が出来上がるが、そのサーメット溶射皮膜中の気孔率は400倍検鏡写真判定では気孔が検出されない言わば零レベルである。また、サーメット溶射皮膜の酸素含有率と、その溶射原料であるサーメット粉末の酸素含有率とを測定すると、溶射による増分は0.1mass%以下に留まっている。
図3は、その結果を示す表である。
サーメット粉末72には、WC‐Cr3C2‐Niの造粒焼結粉と焼結粉砕粉を用いた。造粒焼結粉の粒子サイズは10〜50μmであり、焼結粉砕粉の粒子サイズは5〜30μmである。粒子(二次粒子)の見かけ密度では、造粒焼結粉が3.8g/cm3で、焼結粉砕粉が5.5g/cm3である。
その結果、ニッケルメッキ無しの試験片を従来型溶射法で処理したものは、約120時間経過時に腐食が発現していた(図3の右端の列を参照)。これに対し、ニッケルメッキ有りの試験片を従来型溶射法で処理したもの、及びニッケルメッキ無しの試験片を本発明の溶射法で処理したものは、十倍の1200時間が経過しても、腐食は発現しなかった(図3の右から2,3列目を参照)。
なお、これらは腐食の促進試験であり、従って従来の1段燃焼型溶射装置による溶射だけで形成された皮膜などは僅か120時間経過時点で既に腐食の兆候が認められているが、実際には、この方法で溶射された皮膜でも、通常の雰囲気下であれば、実機で使用開始後2,3年程度の使用は十分に可能である。このことからも、本発明のサーメット溶射皮膜形成部材製造方法によって形成された皮膜は、格段に優れた耐食性を維持できると推察できる。
なお、表などの提示は割愛したが、WCサーメット粉末にニッケル系でなくコバルト系(WC‐10Co‐4Cr)の造粒焼結粉を用いて同様の試作および塩水噴霧腐食試験を行ったところ、24時間経過後に腐食部が出現したので、本願ではコバルトを含まないタングステンカーバイドニッケル系のサーメットだけに限定する。
また、図示は割愛したが、溶射装置60のノズル61や一次燃焼室43は必要に応じて適宜空冷等がなされるようになっている。
40…溶射装置、40a…溶射装置、
41…ノズル、42…溶射粉末投入口、43…一次燃焼室、
44…一次燃料注入口、45…点火プラグ、46…一次エアー供給口、
51…ガス炎、52…サーメット粉末、54…一次燃料、56…一次エアー、
60…溶射装置、
61…ノズル、62…二次燃焼室、63…二次燃料等注入口、
64…ハニカム隔板、65…混合室、72…サーメット粉末、73…二次燃料等、
A…粒子加速範囲、B…一次部、C…二次部
Claims (3)
- サーメット粉末を原料として火炎溶射法で溶射して母材の表面にサーメット溶射皮膜を形成する工程を含むサーメット溶射皮膜形成部材製造方法において、前記サーメット粉末が、タングステンカーバイドニッケル系サーメットの焼結粉砕粉であり、前記火炎溶射法が、燃焼を複数段に分けて行う高速ガスフレーム溶射法であって前記サーメット粉末をその軟化温度より低い温度で前記母材に投射して溶射皮膜を形成する、ことを特徴とするサーメット溶射皮膜形成部材製造方法。
- 前記母材が円柱状の棒材であり、前記火炎溶射法による溶射を、前記棒材を軸回転させながら行う、ことを特徴とする請求項1記載のサーメット溶射皮膜形成部材製造方法。
- 円柱状の棒材を母材としてその外周面にサーメット溶射皮膜を形成したままのサーメット溶射皮膜形成部材において、前記サーメット溶射皮膜が、タングステンカーバイドニッケル系サーメットからなり、前記サーメット溶射皮膜中の気孔率が400倍検鏡写真判定で検出されない零レベルであるとともに前記サーメット溶射皮膜の酸素含有率のmass%値が前記溶射原料とするサーメット粉末の酸素含有率に0.1mass%を加えた値以下の低い値に抑えられている、ことを特徴とするサーメット溶射皮膜形成部材。
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