JP2006019551A - 半導体装置およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【課題】 ゲート絶縁膜としてhigh−k膜を適用し、ゲート電極としてポリシリコン膜を適用したトランジスタのしきい値電圧の上昇を抑制し、所望の駆動能力が得られる半導体装置と、その製造方法を提供する。
【解決手段】 トランジスタTのゲート電極5aは、シリコンを含有するポリシリコン膜から形成されている。トランジスタTのゲート絶縁膜4は、HfSiO膜2aとそのHfSiO膜上に形成されたシリコン酸化膜3aから形成されている。シリコン酸化膜3aは、ゲート電極5aが含有するシリコンと金属シリサイド化反応が起こらないように金属元素を含有していない。シリコン酸化膜3aは、HfSiO膜2aが含有するHfとゲート電極5aが含有するシリコンとの反応を阻止する保護膜としての機能を有している。
【選択図】 図1
【解決手段】 トランジスタTのゲート電極5aは、シリコンを含有するポリシリコン膜から形成されている。トランジスタTのゲート絶縁膜4は、HfSiO膜2aとそのHfSiO膜上に形成されたシリコン酸化膜3aから形成されている。シリコン酸化膜3aは、ゲート電極5aが含有するシリコンと金属シリサイド化反応が起こらないように金属元素を含有していない。シリコン酸化膜3aは、HfSiO膜2aが含有するHfとゲート電極5aが含有するシリコンとの反応を阻止する保護膜としての機能を有している。
【選択図】 図1
Description
本発明は半導体装置およびその製造方法に関し、特に、比較的高い誘電率のゲート絶縁膜を有するトランジスタを備えた半導体装置と、その製造方法に関するものである。
集積回路等の半導体装置におけるトランジスタのゲート絶縁膜には、従来からシリコン基板を熱酸化することによって形成されるシリコン酸化膜(SiO2)が用いられてきた。そのシリコン酸化膜には、半導体装置の微細化に対応するために薄膜化が求められている。
ところが、デザインルール65nm世代の半導体装置では、ゲート絶縁膜に求められる厚さは2nmを下回っている。そのため、リーク電流の観点からはシリコン酸化膜によるゲート絶縁膜の薄膜化が困難な状況になっている。
そこで、特許文献1〜3では、たとえば酸化ハフニウム(HfO2)などの誘電率(比誘電率)がシリコン酸化膜の誘電率に比べて高い材料からなる絶縁膜をゲート絶縁膜に適用して、そのゲート絶縁膜の薄膜化が検討されている。このようなシリコン酸化膜に比べて誘電率の高い絶縁膜は、high−k膜と呼ばれている。
一般に、そのhigh−k膜はシリコン酸化膜の場合と比較すると結晶化温度が低いことが知られている。そのため、温度1000℃以上の高温の熱処理が必要とされる従来のポリシリコン膜をゲート電極とするCMOS(Complementary Mental Oxide Semiconductor)型の半導体装置には使用が困難である。そこで、非特許文献1では、耐熱性を確保するために酸化ハフニウム(HfO2)膜中にSiまたはSiとNを添加した、HfSiOまたはHfSiONのハフニウムシリケート膜の適用が提案されている。
特開2002−343965号公報
特開2002−314072号公報
USP5,963,810
K.Sekine,:"Nitrogen Profile Control by Plasma Nitridation Technique for Poly-Si Gate HfSiON CMOSFET with Excellent Interface Property and Ultra-low Leakage Current", Symp. VLSI Tech. 2003.
C.Hobbs,et.al.,:"Fermi Level Pinning at the PolySi/Metal Oxide Interface", Symp. VLSI Tech. 2003.
ゲート絶縁膜としてハフニウム(Hf)を含むhigh−k膜を適用し、ゲート電極としてポリシリコン膜を適用したトランジスタでは、非特許文献2に報告されているように、high−k膜とポリシリコン膜中のSiとの結合に起因して、HfSiO膜の禁制帯中に準位が発生し、ポリシリコン膜のフェルミレベルが発生した準位にピンニングされることがあった。そのため、トランジスタのしきい値電圧(Vth)が高くなり、トランジスタの駆動能力が上がらないという問題があった。
本発明は上記問題点を解決するためになされたものであり、一つの目的は、ゲート絶縁膜としてhigh−k膜を適用し、ゲート電極としてポリシリコン膜を適用したトランジスタのしきい値電圧の上昇を抑制し、所望の駆動能力が得られる半導体装置を提供することであり、他の目的は、そのような半導体装置の製造方法を提供することである。
本発明に係る半導体装置は、ゲート絶縁膜とゲート電極と所定導電型の1対の不純物領域とを有している。ゲート絶縁膜は半導体基板の主表面に形成されている。ゲート電極はゲート絶縁膜上に形成され、シリコンを含有している。所定導電型の1対の不純物領域は、ゲート電極を挟んで位置する半導体基板の一方と他方の領域に形成されている。そのゲート絶縁膜は下層部と上層部とを備えている。下層部は半導体基板の表面上に形成され、所定の元素を含有し比誘電率が10以上20未満に設定されている。上層部は下層部とゲート電極との間にそれぞれに直接接するように形成されている。
また、本発明に係る半導体装置の製造方法は、以下の工程を備えている。半導体基板の主表面上に、所定の元素を含み比誘電率が10以上20未満の材料からなる第1の層を形成する。その第1の層上に第1の層に直接接するように第2の層を形成する。その第2の層上に第2の層に直接するようにゲート電極となるシリコンを含有する導電層を形成する。導電層、第2の層および第1の層に所定のエッチングを施すことにより、ゲート電極部を形成する。
本発明に係る半導体装置によれば、ゲート電極、ゲート絶縁膜および1対の不純物領域を有するトランジスタが構成され、そのトランジスタでは、ゲート絶縁膜におけるhigh−k膜としての下層部とシリコンを含有するゲート電極との間に上層部が形成されていることで、下層部中に所定の元素とSiとの結合に起因する準位が発生することがなくなって、トランジスタのしきい値電圧が上昇するのが抑制されて、トランジスタの所望の駆動能力を得ることができる。
本発明に係る半導体装置の製造方法によれば、上述したトランジスタのしきい値電圧が上昇するのが抑制されて、トランジスタの所望の駆動能力を得る半導体装置を比較的容易に形成することができる。
実施の形態1
本発明の実施の形態1に係る半導体装置について説明する。図1に示すように、半導体基板1の主表面上にゲート絶縁膜4が形成されている。そのゲート絶縁膜4上にゲート電極5aが形成されている。ゲート電極5aを挟んで位置する半導体基板1の一方と他方の領域にはソース領域またはドレイン領域となる1対の不純物領域6a、6bが形成されている。トランジスタTは、ゲート絶縁膜4、ゲート電極5aおよび1対の不純物領域を有して構成される。
本発明の実施の形態1に係る半導体装置について説明する。図1に示すように、半導体基板1の主表面上にゲート絶縁膜4が形成されている。そのゲート絶縁膜4上にゲート電極5aが形成されている。ゲート電極5aを挟んで位置する半導体基板1の一方と他方の領域にはソース領域またはドレイン領域となる1対の不純物領域6a、6bが形成されている。トランジスタTは、ゲート絶縁膜4、ゲート電極5aおよび1対の不純物領域を有して構成される。
そのトランジスタTのゲート電極5aは、シリコンを含有するポリシリコン膜から形成されている。トランジスタTのゲート絶縁膜4は、下層部としてのHfSiO膜2aとそのHfSiO膜上に形成された上層部としてのシリコン酸化膜3aから形成されている。シリコン酸化膜3aは、ゲート電極5aが含有するシリコンと金属シリサイド化反応が起こらないように金属元素を含有していない。
しかも、シリコン酸化膜3aは、下層部としてのHfSiO膜2aが含有するハフニウム(Hf)とゲート電極5aが含有するシリコンとの反応を阻止する保護膜としての機能を有している。
ゲート絶縁膜4はトータルの膜厚が最終的にシリコン酸化膜換算膜厚で1〜2nmであることが必要とされる。そのため、上層部としてのシリコン酸化膜3aの膜厚が1nmよりも厚くなると、HfSiO膜2aのhigh−k膜としての機能を発揮することができなくなる。その観点からHfSiO膜2aの膜厚は1nm以下に設定されている。
一方、ゲート電極5aとHfSiO膜2aとを物理的に離して、ポリシリコン中のシリコンとHfSiO膜2a中のHfとの反応を効果的に阻止する観点から、シリコン酸化膜3aの膜厚は0.3nm以上に設定されることが望ましい。
そのHfSiO膜2aの比誘電率は、HfSiO膜2aが含有するSiの濃度に依存して、SiO2の比誘電率3.9からHfO2の比誘電率約25の範囲で比誘電率kの値は変化する。HfSiO膜の比誘電率が10より小さい場合には、その比誘電率はSiO2の比誘電率の高々約2.5倍であり、SiO2の場合と比較してリーク電流の十分な低減効果を得ることができない。
一方、比誘電率が20を越えると耐熱性が急激に低下し、温度約500〜800℃程度の熱処理によってHfSiO膜の結晶化が生じて、CMOS型の半導体装置に適用することが困難になる。したがって、リーク電流を所望のレベルにまで抑制して十分な耐熱性を確保するためには、比誘電率kの値の範囲は10≦k<20が望ましい。
次に、上述した半導体装置の製造方法の一例について説明する。まず、図2に示すように、半導体基板1上に膜厚約1.3〜7.7nmのHfSiO膜2が形成される。このとき、HfSiO膜2の形成方法として、たとえばPVD法(Physical Vapor Deposition:物理蒸着法)、MOCVD法(Metal Organic Chemical Vapor Deposition:金属有機化学気相成長法)、LPCVD法(Low Pressure Chemical Vapor Deposition:減圧化学気相成長法)等が適用される。
なお、最も薄いHfSiO膜2の膜厚は、HfSiO膜2の比誘電率を10、上部層としてのシリコン酸化膜3の膜厚を0.5nm、シリコン酸化膜3の比誘電率を3.9、ゲート絶縁膜4のシリコン酸化膜換算膜厚を1nmと想定した場合に見積もられる膜厚である。一方、最も厚いHfSiO膜2の膜厚は、HfSiO膜2の比誘電率を20、上部層としてのシリコン酸化膜3の膜厚を0.5nm、シリコン酸化膜3の比誘電率を3.9、ゲート絶縁膜4のシリコン酸化膜換算膜厚を2nmと想定した場合に見積もられる膜厚である。
次に、図3に示すように、HfSiO膜2上にシリコン酸化膜3が形成される。シリコン酸化膜3の形成方法として、たとえばPVD法またはCVD法が適用される。PVD法では、たとえば、圧力約10mPaのもとで酸素を含む雰囲気中においてシリコンのターゲットをスパッタリングすることによりシリコン酸化膜3を形成することができる。
また、CVD法では、たとえばTEOS(Tetra Ethyl Ortho Silicate)を原料として減圧CVD法によりシリコン酸化膜を形成することができる。また、減圧CVD法によりSiH4とN2Oを用いてもシリコン酸化膜3を形成することができる。
次に、減圧CVD法により温度500〜700℃のもとでSiH4ガスを供給することにより、図4に示すように、シリコン酸化膜3上にたとえば膜厚約50nm〜200nmのアモルファスシリコン膜またはポリシリコン膜5が形成される。
次に、図5に示すように、そのポリシリコン膜5上にゲート電極をパターニングするためのレジストパターン21が形成される。そのレジストパターン21をマスクとして、ポリシリコン膜5、シリコン酸化膜3およびHfSiO膜2に異方性エッチングを施すことにより、図6に示すように、ゲート電極5aとHfSiO膜2aおよびシリコン酸化膜3aからなるゲート絶縁膜4が形成される。
そのゲート電極5aをマスクとして半導体基板1の表面に所定導電型の不純物イオンを注入することにより、1対の不純物領域6a,6bが形成される。このようにして、図1に示すトランジスタTの主要部分が形成される。
上述した半導体装置では、high−k膜としてのHfSiO膜2aとポリシリコン膜からなるゲート電極5aとの間にシリコン酸化膜3aが形成されていることで、HfSiO膜2a中のHfとゲート電極5a中のシリコンとが反応を起こすのを阻止することができる。また、シリコン酸化膜3aが金属を含有しないことで、そのような金属とゲート電極5a中のシリコンとが反応して金属シリサイドが形成されることがない。
これにより、HfSiO膜2a中にHfとSiとの結合に起因する準位が発生することがなくなって、ポリシリコン膜のフェルミレベルがピンニングされることがなくなる。その結果、図7に示すように、上層部がないトランジスタの場合と比べて、トランジスタTのしきい値電圧Vth2からしきい値電圧Vth1にまで下がり、トランジスタの所望の駆動能力を得ることができる。
なお、上述した半導体装置では、ゲート絶縁膜4の上層部としてシリコン酸化膜3aを例に挙げた。上層部としては、シリコン酸化膜(SiO2)の他に、たとえばシリコン窒化膜(Si3N4)やシリコン酸窒化膜(SiON)を適用することができる。
シリコン窒化膜をPVD法によって形成する場合には、たとえば、圧力約10mPaのもとで窒素を含む雰囲気中においてシリコンのターゲットをスパッタリングすることによって形成することができる。また、シリコン窒化膜を減圧CVD法によって形成する場合には、たとえば温度約500〜700℃のもとでSiH4とNH3とを反応させることによって形成することができる。
シリコン酸窒化膜をPVD法によって形成する場合には、たとえば、圧力約10mPaのもとで酸素と窒素を含む雰囲気中においてシリコンのターゲットをスパッタリングすることによって形成することができる。また、シリコン酸窒化膜を減圧CVD法によって形成する場合には、たとえば温度約600〜800℃のもとでSiH4、NH3およびN2Oを反応させることによって形成することができる。
さらに、シリコン酸窒化膜をシリコン酸化膜に熱窒化処理またはプラズマ窒化処理を施すことによって形成してもよい。熱窒化処理の場合には、たとえば温度600〜800℃、NH3、NOまたはN2O雰囲気のもとでシリコン酸化膜に窒化処理を行なうことでシリコン酸窒化膜を形成することができる。熱窒化の場合には、シリコン酸化膜全体あるいはHfSiO膜側に位置するシリコン酸化膜の部分が窒化される傾向にある。
また、プラズマ処理の場合には、マイクロ波またはRF(Radio Frequency)により励起したN2プラズマの雰囲気にシリコン酸化膜を晒すことによってシリコン酸窒化膜を形成することができる。プラズマ処理の場合には、シリコン酸化膜の表面が窒化される傾向にある。
また、上述した半導体装置ではゲート絶縁膜の下層部としてHfSiO膜2aを例に挙げた。下層部としては、HfSiO膜の他に、たとえばHfSiON膜、ZrSiO膜あるいはAl2O3膜なども適用することができ、比誘電率が10以上で20を超えず、トランジスタのリーク電流を所望のレベルにまで抑制して十分な耐熱性を確保することができる材料を適用することができる。
実施の形態2
ここでは、トランジスタのゲート絶縁膜の上層部としてシリコン酸化膜を適用する場合の他の製造方法について説明する。まず、前述した図2に示す工程と同様にして、図8に示すように、半導体基板1上にHfSiO膜2が形成される。
ここでは、トランジスタのゲート絶縁膜の上層部としてシリコン酸化膜を適用する場合の他の製造方法について説明する。まず、前述した図2に示す工程と同様にして、図8に示すように、半導体基板1上にHfSiO膜2が形成される。
次に、図9に示すように、減圧CVD法により、温度約500〜700℃のもとでSiH4を供給することにより膜厚約8nm程度の比較的薄いシリコン膜7が形成される。次に、図10に示すように、大気中に放置することによりシリコン膜7の表面に膜厚約1nm程度の自然酸化膜のシリコン酸化膜8が形成される。なお、シリコン酸化膜8を自然酸化膜として形成する他に、希釈した酸素雰囲気中で温度約600℃のもとで熱酸化処理を施すことでシリコン酸化膜8を形成してもよい。
そのシリコン酸化膜8上に、図4に示す工程と同様にして、図11に示すようにポリシリコン膜5が形成される。次に、窒素雰囲気中、温度750〜850℃のもとで約30秒のアニール処理を施すことにより、シリコン酸化膜8中の酸素が薄いシリコン膜7を拡散してHfSiO膜2の上部(表面)に移動し、図12に示すように、HfSiO膜2とポリシリコン膜5との間に膜厚約1nm程度のシリコン酸化膜9が形成される。このとき、シリコン酸化膜8中の酸素が移動することで、薄いシリコン膜7とポリシリコン膜5との区別がつかなくなる。その後、前述した図5、図6に示す工程と同様の工程を経て、半導体装置のトランジスタの主要部分が形成される。
上述した方法では、HfSiO膜2とポリシリコン膜5との間に、自然酸化膜等を利用して膜厚約1nm程度の比較的薄いシリコン酸化膜9を精度よく形成することができる。このようにして形成されたトランジスタにおいても、前述したトランジスタと同様に、HfSiO膜2とポリシリコン膜5との間にシリコン酸化膜9が介在していることでトランジスタTのしきい値電圧の上昇を抑えて、トランジスタの所望の駆動能力を得ることができる。
なお、このようにして形成されたシリコン酸化膜9に対して、上述したように熱窒化またはプラズマ窒化処理を施すことによってシリコン酸窒化膜を形成してもよい。
今回開示された実施の形態はすべての点で例示であって制限的なものではない。本発明は上記で説明した範囲ではなく、特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲でのすべての変更が含まれることが意図される。
1 半導体基板、2,2a HfSiO膜、3,3a シリコン酸化膜、4 ゲート絶縁膜、5 ポリシリコン膜、5a ゲート電極、6a,6b 不純物領域、7 シリコン膜、8 自然酸化膜、9 シリコン酸化膜、21 レジストパターン、T トランジスタ。
Claims (13)
- 半導体基板の主表面上に形成されたゲート絶縁膜と、
前記ゲート絶縁膜上に形成され、シリコンを含有するゲート電極と
前記ゲート電極を挟んで位置する前記半導体基板の一方と他方の領域に形成された所定導電型の1対の不純物領域と
を有し、
前記ゲート絶縁膜は、
前記半導体基板の表面上に形成され、所定の元素を含有し比誘電率が10以上20未満に設定された下層部と、
前記下層部と前記ゲート電極との間にそれぞれに直接接するように形成された上層部と
を備えた、半導体装置。 - 前記上層部は、前記ゲート電極が含有するシリコンと金属シリサイド化反応が起こらないように金属元素を含有せず、かつ、前記下層部が含有する前記所定の元素と前記ゲート電極が含有するシリコンとの反応を阻止する機能を有する、請求項1記載の半導体装置。
- 前記下層部は所定の元素としてハフニウム(Hf)を含む、請求項1または2に記載の半導体装置。
- 前記上層部は厚さは0.3nm以上1nm以下に設定された、請求項1〜3のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記上層部はシリコン酸化(SiO2)膜を含む、請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記上層部はシリコン酸窒化(SiON)膜を含む、請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記上層部はシリコン窒化(Si3N4)膜を含む、請求項1〜4のいずれかに記載の半導体装置。
- 前記半導体基板の主表面上に、所定の元素を含み比誘電率が10以上20未満の材料からなる第1の層を形成する工程と、
前記第1の層上に前記第1の層に直接接するように第2の層を形成する工程と、
前記第2の層上に前記第2の層に直接接するようにゲート電極となるシリコンを含有する導電層を形成する工程と、
前記導電層、前記第2の層および前記第1の層に所定のエッチングを施すことにより、ゲート電極部を形成する工程と
を備えた、半導体装置の製造方法。 - 前記第2の層を形成する工程では、前記第2の層として、前記導電層が形成された後に前記導電層が含有するシリコンと金属シリサイドか反応が起こらないように金属元素を含有せず、前記第1の層が含有する所定の元素と前記導電層が含有するシリコンとの反応を阻止する膜が形成される、請求項8記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の層を形成する工程では、前記第2の層は物理蒸着法によって形成される、請求項8または9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の層を形成する工程では、前記第2の層は化学気相成長法によって形成される、請求項8または9に記載の半導体装置の製造方法。
- 前記第2の層を形成する工程は、
前記第1の層上に所定の厚さのシリコン膜を形成する工程と、
前記シリコン膜上に自然酸化膜を形成する工程と
を含み、
前記導電膜を形成する工程の後、不活性ガスの雰囲気のもとでアニール処理を施すことにより、前記第1の層と前記導電層との間に、前記第2の層としてシリコン酸化膜を形成する工程を備えた、請求項8〜11のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。 - 前記第2の層を形成する工程は、
あらかじめシリコン酸化膜を形成する工程と、
前記シリコン酸化膜に熱窒化およびプラズマ窒化のいずれかの処理を施すことにより、前記第2の層としてシリコン酸窒化膜を形成する工程を含む、請求項8〜12のいずれかに記載の半導体装置の製造方法。
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JP2006032948A (ja) * | 2004-07-10 | 2006-02-02 | Samsung Electronics Co Ltd | 複合誘電膜の形成方法、及びこれを用いる半導体装置の製造方法 |
JP2006086272A (ja) * | 2004-09-15 | 2006-03-30 | Fujitsu Ltd | 半導体装置 |
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-
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