JP2006016299A - 光ファイバの製造方法 - Google Patents
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Abstract
MCVDプロセス、PCVDプロセス、あるいはOVDプロセスによって作られる光ファイバ・プリフォームを縮径する高温段階で形成されるゲルマニウムの酸素欠乏欠陥(GeO)、およびシリコンの酸素欠乏欠陥(SiO)に対処する方法を提供することにより従来技術の不都合を克服すること。
【解決手段】
縮径の前に最後の堆積層としてドープされないか、少しドープされた石英の緩衝層を形成し、ガラス中の酸素の化学量論の変化を妨げるか、あるいは変化を遅くする拡散障壁を形成することにより、縮径の間に自由表面を通過してコア層から出て行くドーパント、酸素がほとんどなくなって、欠陥が減少あるいは除去され、ファイバの減衰が低くなる。
【選択図】 図8
Description
開示する発明において、(縮径過程における過剰酸素の逸失による)GeO欠陥の多い領域がGeの逸失によるプロファイル中央部のくぼみがある領域を越えて広がっているということは重要である。
図1は、2種類のプリフォームのステップ・インデックス型プロファイルを示す。ファイバ中央部のステップ・インデックスコアを符号1で示す。尖った部分は、ある層の外径部の高い屈折率から内径部の低い屈折率へと変化するMCVDの特徴的な変化を見せる個々のMCVD層を示す。これは、各層が焼結されるときに堆積した粒子の表面からゲルマニウムが蒸発することによる。
コアはプリフォームの中心軸から半径方向の変化が次の式で表される正規化された屈折率差、Δr、である半径aまで延びる屈折率が立ち上がっている領域からなる。
Δr=Δ(1−(r/a)α)−Δdip((b−r)/b)γ (1)
ここで
r:半径方向の位置
Δ:Δdip=0であれば、軸上の正規化された屈折率差
a:コアの半径
α:形状パラメータ
Δdip:中央部のくぼみの深さ
パラメータΔdip、b、およびγ、つまり中央部のくぼみの深さ、中央部のくぼみの幅、および中央部のくぼみの形状は、それぞれMCVD製法の結果である。
所望の伝送特性を有するファイバを作る上記パラメータの公称数値は以下である。
Δ=0.50%、a=3.51μm、α=12、Δdip=0.35%、b=1.0μm、γ=3.0
一般にこれらのパラメータの値の範囲は以下であってよい。
Δ=0.30〜0.70%
a=2.0〜4.5μm
α=1〜15
溝の公称パラメータ値は以下である。
Δ=−0.21%、幅=2.51μm
一般にこれらのパラメータの変化の範囲は以下であってよい。
Δ=−0.25〜―0.10%
a=4.0〜8.0μm
リングの公称パラメータ値は以下である。
Δ=0.18%、幅=2.0μm
一般にこれらのパラメータの変化の範囲は以下であってよい。
Δ=−0.10〜―0.60%
a=7.0〜10.0μm
本発明の実施は容易であり、単にGeCl4の流れを止める、あるいは堆積処理の終点に向けて流量を減ずることであるということは当業者には明らかであろう。
前記のようにMCVD法は火炎トーチと酸素と水素の混合燃料を使用するが、このような加工工程にプラズマ・トーチ、あるいは電気加熱炉が使われてもよい。また、酸素―水素トーチ以外のガス・トーチが使われてもよい。
12 管の内側表面
13 GeO欠陥
14 表面に到達したGeO欠陥
15 昇華したGe
16 Geドーパントの減少部
17 逸失酸素
21 出発管
22 酸水素炎トーチ
23 ガラス前駆物質の導入口
24 スート堆積層
31 コア領域
32 溝領域
33 リング領域
34 クラッド領域
35 くぼみ
45 緩衝層
51 クラッド層
52 リング層
53 溝層
54 コア層
55 緩衝層
91 管
92 棒
93、101 プリフォーム
94 コア棒
102 サセプタ(susceptor)
103 線引きされたファイバ
104 被覆チャンバ
106 プレポリマ
111 出口ダイ
114 被覆されたファイバ
115 UVランプ
117 巻取りリール
Claims (19)
- 光ファイバ・プリフォームを準備し、前記プリフォームを軟化温度まで加熱して、前記プリフォームを光ファイバに線引きすることを含む光ファイバの製造方法であって、前記プリフォームは、出発管の内側にドーピング・レベルがLであるドープされたコア層を形成し、前記ドープされたコア層の上にL’<Lであるドーピング・レベルL’で堆積された緩衝層を形成し、その後、前記管を縮径して中空でないガラスの円筒体を作ることによって作製されることを特徴とする光ファイバの製造方法。
- 前記ドーピング・レベルL’がおおよそ0であることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記緩衝層のドーピング・レベルが逆勾配であることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記L’がLの50%よりも小さいことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記L’がデルタ(Δ)<0.05%であることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- LP01電場が前記光ファイバの中心線上で最大値となることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 中空でないガラスの円筒体が棒であって、さらに前記棒をクラッド管に挿入し、前記棒の上に前記管を縮径して前記プリフォームを形成することからなることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記中空でないガラスの円筒体が棒であって、さらに前記棒の上にガラスを堆積することによって前記棒に被覆を重ねることを含むことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記緩衝層の厚さが1μmよりも大きいことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記緩衝層の厚さが2−100μmの範囲にあることを特徴とする請求項9に記載の光ファイバ製造の方法。
- 最終製品のファイバに前記緩衝層があることによって波長1550nmにおける分散、分散勾配、有効断面積、およびモードフィールド径の各光伝送特性の変化が10%より少ないことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記プリフォームがMCVD法によって作られることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記プリフォームがPCVD法によって作られることを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 前記管を縮径する前に前記緩衝層をエッチングする追加の工程を含むことを特徴とする請求項1に記載の光ファイバの製造方法。
- 出発管の内側にドーピング・レベルがLであるドープされたコア層を形成し、前記ドープされたコア層の上にL’<Lであるドーピング・レベルL’で堆積された緩衝層を形成し、その後、前記管を縮径して中空でないガラスの円筒体を作ることを特徴とする光ファイバ・プリフォームの製造方法。
- 前記ドーピング・レベルL’がおおよそ0であることを特徴とする請求項15に記載の光ファイバ・プリフォームの製造方法。
- 前記L’がLの50%よりも小さいことを特徴とする請求項15に記載の光ファイバ・プリフォームの製造方法。
- 前記緩衝層の厚さが2−100μmの範囲にあることを特徴とする請求項15に記載の光ファイバ・プリフォームの製造方法。
- OVD法により光ファイバ・プリフォームを準備し、前記プリフォームを軟化温度まで加熱して、前記プリフォームを光ファイバに線引きすることを含む光ファイバの製造方法であって、芯棒の上にドーピング・レベルがL’であるドープされた緩衝層を形成し、前記緩衝層の上にL>L’であるドーピングレベルLで堆積されたコア層を形成し、その後、前記コア層から前記芯棒を取り去って管を残し、前記管を縮径して中空でないガラスの円筒体を作ることを特徴とする光ファイバ・プリフォームの製造方法。
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