JP2006011270A - 画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 - Google Patents
画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006011270A JP2006011270A JP2004191563A JP2004191563A JP2006011270A JP 2006011270 A JP2006011270 A JP 2006011270A JP 2004191563 A JP2004191563 A JP 2004191563A JP 2004191563 A JP2004191563 A JP 2004191563A JP 2006011270 A JP2006011270 A JP 2006011270A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- image
- pattern
- correction
- correction processing
- filter
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000012937 correction Methods 0.000 title claims abstract description 221
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 205
- 238000007689 inspection Methods 0.000 title claims description 56
- 238000004088 simulation Methods 0.000 title 1
- 238000012545 processing Methods 0.000 claims abstract description 235
- 238000013461 design Methods 0.000 claims abstract description 152
- 238000005316 response function Methods 0.000 claims abstract description 97
- 238000003702 image correction Methods 0.000 claims abstract description 41
- 230000006870 function Effects 0.000 claims description 41
- 238000006731 degradation reaction Methods 0.000 claims description 22
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 claims description 15
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 230000007547 defect Effects 0.000 claims description 5
- 238000003754 machining Methods 0.000 description 50
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 description 38
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 26
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 18
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 18
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 8
- 238000013528 artificial neural network Methods 0.000 description 4
- 230000005540 biological transmission Effects 0.000 description 4
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 4
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 4
- 238000001514 detection method Methods 0.000 description 3
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 3
- 238000011156 evaluation Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 3
- 238000001311 chemical methods and process Methods 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 238000001914 filtration Methods 0.000 description 2
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 2
- 238000002939 conjugate gradient method Methods 0.000 description 1
- 230000004069 differentiation Effects 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000002068 genetic effect Effects 0.000 description 1
- 230000001678 irradiating effect Effects 0.000 description 1
- 238000012886 linear function Methods 0.000 description 1
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 1
- 238000005329 nanolithography Methods 0.000 description 1
- 238000013139 quantization Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
- 230000001131 transforming effect Effects 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Materials By The Use Of Optical Means Adapted For Particular Applications (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
- Image Processing (AREA)
- Image Analysis (AREA)
Abstract
【解決手段】本発明の画像パターン補正方法を実施する装置には、設計データ入力手段からの設計画像に対して設計画像補正処理フィルタ係数計算手段で算出された加工過程特性フィルタと加工過程応答関数とを用いてパターンの補正処理を行うための設計画像補正実行手段5が備えられ、その細部構成は連続量の補正処理フィルタ係数で制御されてフィルタ処理を設計画像に施す加工過程特性フィルタ処理実行手段11と、連続量の補正処理応答関数パラメータ(何れの補正処理パラメータも公知の統計的学習則により算出される)で制御されてその出力結果を加工過程応答関数に入力して出力値を計算することで補正処理後の設計画像として出力する加工過程応答関数計算手段12とから成る。
【選択図】図3
Description
2 設計データ入力手段
3 設計画像補正処理フィルタ係数計算手段
4 画像劣化再現フィルタ係数計算手段
5,5′ 設計画像補正処理実行手段
6 画像劣化再現フィルタ処理実行手段
7 画像比較手段
8 検査結果出力手段
11,111〜11n 加工過程特性フィルタ処理実行手段
12,121〜12m 加工過程応答関数計算手段
13 加工過程応答関数出力値統合手段
20 フィルタ統合手段
21 統合フィルタ処理実行手段
Claims (15)
- 設計画像中のパターンを補正するための画像パターン補正方法において、前記パターンの補正を連続量の補正処理パラメータによって制御して行うことを特徴とする画像パターン補正方法。
- 請求項1記載の画像パターン補正方法において、前記補正処理パラメータは、統計的学習則によって算出されることを特徴とする画像パターン補正方法。
- 設計画像を入力して該設計画像中のパターン補正処理を行った出力画像に対して画像劣化処理を行うことにより模擬画像を生成する模擬画像生成方法において、前記パターン補正処理として、請求項1又は2記載の画像パターン補正方法を採用したことを特徴とする模擬画像生成方法。
- 加工済パターンをビーム走査して電気信号に変換して得られる実画像、並びに該加工済パターンに対応した設計画像からパターン加工過程と該実画像の取得時の光学系による画像劣化過程とを考慮して得られる参照画像を入力して該実画像及び該参照画像を比較することにより該加工済パターン中の欠陥の有無の判定結果を出力するパターン外観検査方法において、前記設計画像中のパターンに対するパターン補正処理として請求項1又は2記載の画像パターン補正方法を適用したことを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項4記載のパターン外観検査方法において、前記パターン補正処理は、請求項2記載の画像パターン補正方法が適用され、前記補正処理パラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則によって算出されることを可能とするパターン外観検査方法。
- 請求項4記載のパターン外観検査方法において、前記パターン補正処理は、連続量の補正処理フィルタパラメータにより制御されるフィルタの1個のものによる処理、及び該フィルタの処理の結果を入力して連続量の補正処理応答関数パラメータで制御される応答関数の1個のものにより行われることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項6記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理フィルタパラメータ及び前記補正処理応答関数パラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則により算出されることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項6記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理フィルタパラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則により算出されることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項6記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理応答関数パラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則により算出されることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項6記載のパターン外観検査方法において、前記パターン補正処理は、前記補正処理フィルタパラメータにより制御される前記フィルタの複数個による処理と該フィルタの複数個のものの処理結果を入力として前記補正処理応答関数パラメータで制御される前記応答関数の複数個による出力値とを統合することによって行われることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項10記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理フィルタパラメータ及び前記補正処理応答関数パラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則により算出されることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項10記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理フィルタパラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則により算出されることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項10記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理応答関数パラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則により算出されることを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項6記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理フィルタパラメータで表現されるフィルタと前記画像劣化過程を再現するためのフィルタとを統合することにより生成された統合フィルタを用いて参照画像を生成することを特徴とするパターン外観検査方法。
- 請求項14記載のパターン外観検査方法において、前記補正処理フィルタパラメータ及び前記補正処理応答関数パラメータは、前記実画像を教師信号とした統計的学習則により算出されることを特徴とするパターン外観検査方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004191563A JP4193760B2 (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004191563A JP4193760B2 (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006011270A true JP2006011270A (ja) | 2006-01-12 |
JP4193760B2 JP4193760B2 (ja) | 2008-12-10 |
Family
ID=35778583
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004191563A Expired - Fee Related JP4193760B2 (ja) | 2004-06-29 | 2004-06-29 | 画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4193760B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009531784A (ja) * | 2006-03-29 | 2009-09-03 | コグネックス・コーポレイション | マシンビジョンツールパラメータの自動決定 |
KR100963797B1 (ko) | 2008-02-27 | 2010-06-17 | 아주대학교산학협력단 | 복잡성이 감소된 고분광 프로세싱에 기반을 둔 실시간 타겟검출 방법 |
JP2010257257A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Nikon Corp | 遺伝的処理装置、遺伝的処理方法およびプログラム |
JP2010262407A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Nikon Corp | 遺伝的処理装置、遺伝的処理方法およびプログラム |
US9188554B2 (en) | 2012-05-28 | 2015-11-17 | Hitachi High-Technologies Corporation | Pattern inspection device and pattern inspection method |
WO2019216303A1 (ja) * | 2018-05-09 | 2019-11-14 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、検査方法、学習方法、及びプログラム |
WO2020121739A1 (ja) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | Tasmit株式会社 | 画像マッチング方法、および画像マッチング処理を実行するための演算システム |
Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH05205046A (ja) * | 1992-01-28 | 1993-08-13 | Nikon Corp | 画像二値化方法及び装置 |
JPH05346405A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Fujitsu Ltd | パターン形状を検査する方法 |
JPH0683792A (ja) * | 1991-06-12 | 1994-03-25 | Hitachi Ltd | ニューラルネットワークの学習装置およびニューラルネットワークの学習パターン呈示方法 |
JPH0697057A (ja) * | 1990-02-22 | 1994-04-08 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 製品の製造方法 |
JPH0876359A (ja) * | 1994-07-13 | 1996-03-22 | Kla Instr Corp | 自動フォトマスク検査装置及び方法 |
JPH08320792A (ja) * | 1988-05-20 | 1996-12-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 推論規則決定装置及び推論規則決定方法 |
JPH10187649A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-21 | Toyo Electric Mfg Co Ltd | ニューラルネットワーク |
JPH11304453A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-05 | Nec Corp | 多階調丸め補正処理方法およびパターン検査装置 |
JP2000106336A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-11 | Toshiba Corp | パターン検査装置、パターン検査方法およびパターン検査プログラムを格納した記録媒体 |
JP2000172662A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-23 | Yoshiyasu Mutou | ニューラルネットワークの学習方法 |
JP2001101418A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-13 | Nec Corp | パターン識別のための特徴抽出装置 |
JP2001209628A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-08-03 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | パターンマッチング方法 |
JP2001338304A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-12-07 | Nano Geometry Kenkyusho:Kk | パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体 |
JP2002042107A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-08 | Fuji Electric Co Ltd | ニューラルネットワークの学習方法 |
JP2003043663A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクパターン形状自動計測方法及びその装置及びそのプログラム及びフォトマスク製造方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2003044827A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-14 | Haruo Ishikawa | 特性推定方法 |
JP2003076976A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | パターンマッチング方法 |
JP2003107669A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Toshiba Corp | パターン欠陥検査装置 |
JP2003175480A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-06-24 | Sony Corp | ロボット装置及びその行動制御方法、連想記憶装置及び連想記憶方法 |
JP2004118658A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Advanced Telecommunication Research Institute International | 物理系の制御方法および装置ならびに物理系の制御のためのコンピュータプログラム |
JP2004127296A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | United Technol Corp <Utc> | 物理的ニューラルネットワーク |
JP2004157757A (ja) * | 2002-11-06 | 2004-06-03 | Canon Inc | アナログ演算回路 |
-
2004
- 2004-06-29 JP JP2004191563A patent/JP4193760B2/ja not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH08320792A (ja) * | 1988-05-20 | 1996-12-03 | Matsushita Electric Ind Co Ltd | 推論規則決定装置及び推論規則決定方法 |
JPH0697057A (ja) * | 1990-02-22 | 1994-04-08 | American Teleph & Telegr Co <Att> | 製品の製造方法 |
JPH0683792A (ja) * | 1991-06-12 | 1994-03-25 | Hitachi Ltd | ニューラルネットワークの学習装置およびニューラルネットワークの学習パターン呈示方法 |
JPH05205046A (ja) * | 1992-01-28 | 1993-08-13 | Nikon Corp | 画像二値化方法及び装置 |
JPH05346405A (ja) * | 1992-06-15 | 1993-12-27 | Fujitsu Ltd | パターン形状を検査する方法 |
JPH0876359A (ja) * | 1994-07-13 | 1996-03-22 | Kla Instr Corp | 自動フォトマスク検査装置及び方法 |
JPH10187649A (ja) * | 1996-12-27 | 1998-07-21 | Toyo Electric Mfg Co Ltd | ニューラルネットワーク |
JPH11304453A (ja) * | 1998-04-17 | 1999-11-05 | Nec Corp | 多階調丸め補正処理方法およびパターン検査装置 |
JP2000106336A (ja) * | 1998-09-28 | 2000-04-11 | Toshiba Corp | パターン検査装置、パターン検査方法およびパターン検査プログラムを格納した記録媒体 |
JP2000172662A (ja) * | 1998-12-08 | 2000-06-23 | Yoshiyasu Mutou | ニューラルネットワークの学習方法 |
JP2001338304A (ja) * | 1999-08-26 | 2001-12-07 | Nano Geometry Kenkyusho:Kk | パターン検査装置、パターン検査方法および記録媒体 |
JP2001101418A (ja) * | 1999-10-04 | 2001-04-13 | Nec Corp | パターン識別のための特徴抽出装置 |
JP2001209628A (ja) * | 2000-01-27 | 2001-08-03 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | パターンマッチング方法 |
JP2002042107A (ja) * | 2000-07-31 | 2002-02-08 | Fuji Electric Co Ltd | ニューラルネットワークの学習方法 |
JP2003044827A (ja) * | 2001-07-30 | 2003-02-14 | Haruo Ishikawa | 特性推定方法 |
JP2003043663A (ja) * | 2001-08-01 | 2003-02-13 | Toppan Printing Co Ltd | フォトマスクパターン形状自動計測方法及びその装置及びそのプログラム及びフォトマスク製造方法及び半導体装置の製造方法 |
JP2003076976A (ja) * | 2001-08-31 | 2003-03-14 | Mitsui Eng & Shipbuild Co Ltd | パターンマッチング方法 |
JP2003107669A (ja) * | 2001-09-26 | 2003-04-09 | Toshiba Corp | パターン欠陥検査装置 |
JP2003175480A (ja) * | 2001-12-13 | 2003-06-24 | Sony Corp | ロボット装置及びその行動制御方法、連想記憶装置及び連想記憶方法 |
JP2004118658A (ja) * | 2002-09-27 | 2004-04-15 | Advanced Telecommunication Research Institute International | 物理系の制御方法および装置ならびに物理系の制御のためのコンピュータプログラム |
JP2004127296A (ja) * | 2002-09-30 | 2004-04-22 | United Technol Corp <Utc> | 物理的ニューラルネットワーク |
JP2004157757A (ja) * | 2002-11-06 | 2004-06-03 | Canon Inc | アナログ演算回路 |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8126253B2 (en) | 2005-11-12 | 2012-02-28 | Cognex Technology And Investment Corporation | Automatically determining machine vision tool parameters |
JP2009531784A (ja) * | 2006-03-29 | 2009-09-03 | コグネックス・コーポレイション | マシンビジョンツールパラメータの自動決定 |
JP4886844B2 (ja) * | 2006-03-29 | 2012-02-29 | コグネックス・コーポレイション | マシンビジョンツールパラメータの自動決定 |
KR100963797B1 (ko) | 2008-02-27 | 2010-06-17 | 아주대학교산학협력단 | 복잡성이 감소된 고분광 프로세싱에 기반을 둔 실시간 타겟검출 방법 |
JP2010257257A (ja) * | 2009-04-24 | 2010-11-11 | Nikon Corp | 遺伝的処理装置、遺伝的処理方法およびプログラム |
JP2010262407A (ja) * | 2009-04-30 | 2010-11-18 | Nikon Corp | 遺伝的処理装置、遺伝的処理方法およびプログラム |
US9188554B2 (en) | 2012-05-28 | 2015-11-17 | Hitachi High-Technologies Corporation | Pattern inspection device and pattern inspection method |
WO2019216303A1 (ja) * | 2018-05-09 | 2019-11-14 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、検査方法、学習方法、及びプログラム |
JPWO2019216303A1 (ja) * | 2018-05-09 | 2021-03-25 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、検査方法、学習方法、及びプログラム |
JP7058324B2 (ja) | 2018-05-09 | 2022-04-21 | レーザーテック株式会社 | 検査装置、検査方法、学習方法、及びプログラム |
WO2020121739A1 (ja) * | 2018-12-11 | 2020-06-18 | Tasmit株式会社 | 画像マッチング方法、および画像マッチング処理を実行するための演算システム |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4193760B2 (ja) | 2008-12-10 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
TWI706485B (zh) | 光學晶粒對資料庫檢查 | |
JP6328063B2 (ja) | 処理済像を使用するレチクル検査時の選択的感度のための細線の検出 | |
JP3028945B2 (ja) | 多階調丸め補正処理方法およびパターン検査装置 | |
US10012599B2 (en) | Optical die to database inspection | |
US6040911A (en) | Reference image forming method and pattern inspection apparatus | |
US7530049B2 (en) | Mask manufacturing system, mask data creating method and manufacturing method of semiconductor device | |
US8233698B2 (en) | Pattern inspection apparatus, corrected image generation method, and computer-readable recording medium storing program | |
US7860675B2 (en) | Pattern inspection apparatus, pattern inspection method, and pattern inspection program | |
US7558419B1 (en) | System and method for detecting integrated circuit pattern defects | |
TWI757585B (zh) | 檢查裝置、檢查方法及檢查程式 | |
US20040208395A1 (en) | Image processing method, image processing apparatus, and image processing program | |
JP2008089574A (ja) | 画像処理装置、データ処理装置、パラメータ調整方法、およびプログラム | |
US7359546B2 (en) | Defect inspection apparatus and defect inspection method | |
JP7170605B2 (ja) | 欠陥検査装置、欠陥検査方法、およびプログラム | |
JP4193760B2 (ja) | 画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 | |
WO2006073155A1 (ja) | パターン欠陥検査のための装置、その方法及びそのプログラムを記録したコンピュータ読取り可能な記録媒体 | |
JP4159512B2 (ja) | 画像パターン補正方法、及びそれを適用した模擬画像生成方法、並びにパターン外観検査方法 | |
JP2011085536A (ja) | レビュー装置および検査装置システム | |
TW201743140A (zh) | 帶電粒子束描繪裝置、帶電粒子束描繪系統及描繪資料生成方法 | |
JP2009523241A (ja) | 光学系での人為的分解能(artificialresolution)向上のための装置、方法、及びコンピュータ・プログラム | |
TW202029270A (zh) | 描繪資料生成方法及多帶電粒子束描繪裝置 | |
US11587223B2 (en) | Inspection apparatus that detects defect in image and inspection method and storage medium thereof | |
JP7237872B2 (ja) | 検査装置、検査方法、及びプログラム | |
Watkins et al. | msemalign: a pipeline for serial section multibeam scanning electron microscopy volume alignment | |
JP2024043072A (ja) | 検査装置、方法およびプログラム |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060601 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071024 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20071220 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080305 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20080404 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20080404 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080507 |
|
A911 | Transfer to examiner for re-examination before appeal (zenchi) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A911 Effective date: 20080512 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080527 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20080604 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080728 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20080902 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20080915 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 4193760 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20111003 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20121003 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20131003 Year of fee payment: 5 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |