JP2006010565A - バイオチップおよびその製造方法、ならびにポリホルミルパラキシリレン膜およびその製造方法 - Google Patents
バイオチップおよびその製造方法、ならびにポリホルミルパラキシリレン膜およびその製造方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2006010565A JP2006010565A JP2004189740A JP2004189740A JP2006010565A JP 2006010565 A JP2006010565 A JP 2006010565A JP 2004189740 A JP2004189740 A JP 2004189740A JP 2004189740 A JP2004189740 A JP 2004189740A JP 2006010565 A JP2006010565 A JP 2006010565A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- formula
- polymer
- represented
- integer
- biochip
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- MUIDGIASWLFQEZ-UHFFFAOYSA-N C(C1)C(CC2)=CC=C1CCc1ccc2cc1 Chemical compound C(C1)C(CC2)=CC=C1CCc1ccc2cc1 MUIDGIASWLFQEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Images
Abstract
【解決手段】 基板上に固定化基質として作用する結着層を有し、前記結着層が、所定構造のホルミル[2.2]パラシクロファンの化学蒸着物(ポリパラホルミルキシリレン)に、モノマー単位に少なくとも1個のシッフ塩基を形成する能力のあるアミノ基(−NH2)を含む重合体を反応させて得られたアミノ基を有する重合体を含有するバイオチップ。
【選択図】 なし
Description
(1) 基板上に固定化基質として作用する結着層を有し、前記結着層が、式(I)で表されるホルミル[2.2]パラシクロファンの化学蒸着により形成された式(II)で表される重合体に、モノマー単位に少なくとも1個のシッフ塩基を形成する能力のあるアミノ基(−NH2)を含む重合体を反応させて得られたアミノ基を有する重合体を含有するバイオチップ。
式(II)中、nおよびmはそれぞれ重合度を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、n+mは2以上である。]
(2) 結着層が含有するアミノ基を有する重合体が式(III)で表される上記(1)のバイオチップ。
(3) 結着層が含有するアミノ基を有する重合体が式(IV)で表される上記(1)のバイオチップ。
(4) 式(III)または式(IV)におけるX中の重合体主鎖がポリエチレン、ポリエチレンイミン、またはポリメチレンアミドである上記(2)または(3)のバイオチップ。
(5) 式(III)または式(IV)において、Xが−CH2に対して炭素または窒素により結合する上記(2)〜(4)のいずれかのバイオチップ。
(6) クロロ置換[2.2]パラシクロファンの化学蒸着物を下地として、式(I)で表されるホルミル[2.2]パラシクロファンの化学蒸着により式(II)で表される重合体を形成した上記(1)〜(5)のいずれかのバイオチップ。
(7) 固定化基質として作用する結着層にプローブ物質を結合した上記(1)〜(6)のいずれかのバイオチップ。
(8) 基板上に、式(I)で表されるホルミル[2.2]パラシクロファンを化学蒸着して式(II)で表される重合体の膜を得、この式(II)で表される重合体の膜に、モノマー単位に少なくとも1個のシッフ塩基を形成する能力のあるアミノ基(−NH2)を含む重合体を反応させて式(III)で表される重合体の膜を得、この重合体膜を固定化基質として作用する結着層としたバイオチップの製造方法。
式(II)中、nおよびmはそれぞれ重合度を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、m+nは2以上である。
式(III)中、nおよびmはそれぞれ重合度を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、m+nは2以上である。Xは、重合体主鎖の炭素に直接、または炭素もしくは窒素に炭素数1〜4のアルキレン基を介してアミノ基が結合した第1級アミンを有する基を表す。]
(9) 上記(8)において得られた式(III)で表される重合体をさらに還元して、式(IV)で表される重合体の膜を得、この重合体膜を固定化基質として作用する結着層としたバイオチップの製造方法。
(10) 固定化基質として作用する結着層にプローブ物質を結合させる際にUV照射を行う上記(8)または(9)のバイオチップの製造方法。
(11) 式(II)で表されるポリホルミルパラキシリレン膜。
(12) 式(I)で表されるホルミル[2.2]パラシクロファンを化学蒸着して式(II)で表されるポリホルミルパラキシリレン膜を得るポリホルミルパラキシリレン膜の製造方法。
式(II)中、nおよびmはそれぞれ重合度を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、n+mは2以上である。]
本発明のバイオチップは、基板上に固定化基質として作用する結着層を有するものであり、この結着層は、式(I)で表されるホルミル[2.2]パラシクロファンの化学蒸着により形成された式(II)で表される重合体に、モノマー単位に少なくとも1個のシッフ塩基を形成する能力のあるアミノ基(−NH2)を含む重合体(アミノ基含有重合体)を反応させて得られたアミノ基を有する重合体を含有する。
式(II)中、nおよびmはそれぞれ重合度を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、n+mは2以上である。
(1)重合体膜の形成
図1に示すような蒸着装置を使用して重合体膜の形成を行った。図示例の蒸着装置において蒸発部に式(I)の構造を有する固体状の蒸着材料ホルミル[2.2]パラシクロファン3.0gを導入した。蒸発部を、10〜50mTorr(1.33〜6.65Pa)の真空度に保ち、140〜180℃に加熱すると、蒸着材料が気化してダイマーガスとなり、原料ガスが生成した。次いで、原料ガスは700℃に加熱してある分解部に導入した。この分解部では、前記のスキームに示されるように、導入された原料ガスは熱分解によりモノマーガスとなる。次に、得られたモノマーガスを蒸着部に導入した。蒸着部内は、最大50mTorr (6.65Pa)の真空度に保持されている。そして導入されたモノマーガスは蒸着部内に設置されたガラス基板の表面で重合し、前記のスキームに示されるような重合体の膜を形成した。この時、形成された重合体の膜の膜厚は0.35μmであった。また、重合体の膜形成における一連の作業は、蒸着材料中や重合体の膜中におけるホルミル基の酸化を防ぐために窒素雰囲気下で行った。
20%(質量百分率)ポリアリルアミン水溶液(日東紡製Polyallylamine-L(20%))40gを真空度40〜60mmHg(5.32〜7.98kPa)、温度約100℃ミンのエタノール溶液を得た。この溶液に上記のようにして製造したガラス基板を浸し、加熱を行い、還流状態を2時間保持した。その後、ガラス基板を取り出し、真空度2〜3mmHg(266〜399Pa)、温度約85℃で減圧乾燥を一昼夜行った。このようにしてガラス基板上にホルミルパラシクロファンのポリアリルアミンシッフ塩基を生成した(前記スキーム参照)。その後、ガラス基板は未反応のポリアリルアミンを除去するために十分に水洗いし、内温約60℃のオーブンで乾燥させた。
プローブDNAの濃度が0.5〜1μg/μLとなるように、標準液の2倍希釈のSSC(NaCl-Na3C6H5O7)溶液を加えてDNAを溶解してスポット溶液とし、実施例2の基板サンプルNo.1を用い、DNAマイクロアレイ作製装置を設定し、DNAスポッターにより基板サンプルNo.1上にスポットし、スポット完了後ラックにたてて、70〜80℃で1時間ベーキングした。その後、室温に戻した。なお、このスポットにより、前述のシッフ塩基の生成が確認できた。
作製したDNAバイオチップNo.1の1個につき、ターゲット(標的)DNA溶液40μLを用意した。溶液量はガバーグラスのサイズにより調整する。
b)染色スライド枠に立てた。
c)2倍希釈のSSC溶液-0.2%(質量百分率)SDS溶液で常温で揺動3分の条件で3回洗浄した(新液に順に3回漬けた)。
d)0.2倍希釈のSSC溶液-0.2%(質量百分率)SDS溶液で常温で揺動3分の条件で3回洗浄した。
e)0.2倍希釈のSSC溶液-0.2%(質量百分率)SDS溶液で60℃で揺動10分の条件で2回洗浄した。
f)0.2倍希釈のSSC溶液-0.2%(質量百分率)SDS溶液で常温で揺動3分の条件で2回洗浄した。
g)SDS除去のため、0.2倍希釈のSSC溶液で常温で数秒の条件で3回リンスした。
h)エタノール中で20回揺動した。
i)さらに、エタノール中20回揺動後、800rpm2分間遠心機にかけたあと、室温で乾燥させた。
前処理溶液である無水コハク酸溶液は使用直前に調製した。この溶液は、2.5gの無水コハク酸を157mLの1−メチル−2−ピロリジンに溶解し、使用直前に17.5mLのホウ酸ナトリウム(pH8.0)溶液を加えたものである。
a) 純水にラックごと漬け、10回静かに揺動した。
b) さらに、純水にラックごと漬け10回静かに揺動した。
12 分解部
13 蒸着部
14 トラップ
15 真空ポンプ
21 DNA
22 マイクロプレート
23 基板
24 結合剤含有層(結着層)
Claims (12)
- 式(III)または式(IV)におけるX中の重合体主鎖がポリエチレン、ポリエチレンイミン、またはポリメチレンアミドである請求項2または3のバイオチップ。
- 式(III)または式(IV)において、Xが−CH2に対して炭素または窒素により結合する請求項2〜4のいずれかのバイオチップ。
- クロロ置換[2.2]パラシクロファンの化学蒸着物を下地として、式(I)で表されるホルミル[2.2]パラシクロファンの化学蒸着により式(II)で表される重合体を形成した請求項1〜5のいずれかのバイオチップ。
- 固定化基質として作用する結着層にプローブ物質を結合した請求項1〜6のいずれかのバイオチップ。
- 基板上に、式(I)で表されるホルミル[2.2]パラシクロファンを化学蒸着して式(II)で表される重合体の膜を得、この式(II)で表される重合体の膜に、モノマー単位に少なくとも1個のシッフ塩基を形成する能力のあるアミノ基(−NH2)を含む重合体を反応させて式(III)で表される重合体の膜を得、この重合体膜を固定化基質として作用する結着層としたバイオチップの製造方法。
式(II)中、nおよびmはそれぞれ重合度を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、m+nは2以上である。
式(III)中、nおよびmはそれぞれ重合度を表し、nは0以上の整数であり、mは1以上の整数であり、m+nは2以上である。Xは、重合体主鎖の炭素に直接、または炭素もしくは窒素に炭素数1〜4のアルキレン基を介してアミノ基が結合した第1級アミンを有する基を表す。] - 固定化基質として作用する結着層にプローブ物質を結合させる際にUV照射を行う請求項8または9のバイオチップの製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004189740A JP2006010565A (ja) | 2004-06-28 | 2004-06-28 | バイオチップおよびその製造方法、ならびにポリホルミルパラキシリレン膜およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004189740A JP2006010565A (ja) | 2004-06-28 | 2004-06-28 | バイオチップおよびその製造方法、ならびにポリホルミルパラキシリレン膜およびその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2006010565A true JP2006010565A (ja) | 2006-01-12 |
Family
ID=35777979
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004189740A Pending JP2006010565A (ja) | 2004-06-28 | 2004-06-28 | バイオチップおよびその製造方法、ならびにポリホルミルパラキシリレン膜およびその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2006010565A (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008012921A1 (fr) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Daisankasei Co., Ltd. | Appareil et procédé de dépôt chimique en phase vapeur |
JP2008035806A (ja) * | 2006-08-08 | 2008-02-21 | Kisco Ltd | 細胞培養用基材およびその製造方法 |
CN101643321B (zh) * | 2009-09-01 | 2012-07-18 | 博奥生物有限公司 | 高分子聚合物三维氨基基片及其制备方法与应用 |
Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1095759A (ja) * | 1996-05-29 | 1998-04-14 | Basf Ag | 面性キラル又は軸性キラル末端基を有する樹枝状窒素含有有機化合物、その製造法及び使用法 |
JP2002153272A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-05-28 | Inst Of Physical & Chemical Res | 生体分子マイクロアレイ |
JP2002340916A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Kishimoto Sangyo Co Ltd | Dnaチップ用結合剤、dnaチップ、およびdnaチップの製造方法 |
JP2003505109A (ja) * | 1999-07-29 | 2003-02-12 | エポック・バイオサイエンシーズ・インコーポレイテッド | 核酸の捕獲及び検出の為の、シッフ塩基型結合による固体担体へのオリゴヌクレオチドの付着 |
JP2003212974A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Kishimoto Sangyo Co Ltd | 高分子薄膜、高分子薄膜の製造方法、およびバイオチップ |
JP2004028992A (ja) * | 2002-03-15 | 2004-01-29 | Sony Corp | バイオアッセイ用基板とバイオアッセイ装置及び読み取り装置 |
-
2004
- 2004-06-28 JP JP2004189740A patent/JP2006010565A/ja active Pending
Patent Citations (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH1095759A (ja) * | 1996-05-29 | 1998-04-14 | Basf Ag | 面性キラル又は軸性キラル末端基を有する樹枝状窒素含有有機化合物、その製造法及び使用法 |
JP2003505109A (ja) * | 1999-07-29 | 2003-02-12 | エポック・バイオサイエンシーズ・インコーポレイテッド | 核酸の捕獲及び検出の為の、シッフ塩基型結合による固体担体へのオリゴヌクレオチドの付着 |
JP2002153272A (ja) * | 2000-11-24 | 2002-05-28 | Inst Of Physical & Chemical Res | 生体分子マイクロアレイ |
JP2002340916A (ja) * | 2001-05-16 | 2002-11-27 | Kishimoto Sangyo Co Ltd | Dnaチップ用結合剤、dnaチップ、およびdnaチップの製造方法 |
JP2003212974A (ja) * | 2002-01-21 | 2003-07-30 | Kishimoto Sangyo Co Ltd | 高分子薄膜、高分子薄膜の製造方法、およびバイオチップ |
JP2004028992A (ja) * | 2002-03-15 | 2004-01-29 | Sony Corp | バイオアッセイ用基板とバイオアッセイ装置及び読み取り装置 |
Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2008012921A1 (fr) * | 2006-07-28 | 2008-01-31 | Daisankasei Co., Ltd. | Appareil et procédé de dépôt chimique en phase vapeur |
JP2008035806A (ja) * | 2006-08-08 | 2008-02-21 | Kisco Ltd | 細胞培養用基材およびその製造方法 |
US8383409B2 (en) | 2006-08-08 | 2013-02-26 | Kisco Ltd. | Cell culture substrate and its production method |
CN101643321B (zh) * | 2009-09-01 | 2012-07-18 | 博奥生物有限公司 | 高分子聚合物三维氨基基片及其制备方法与应用 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
EP1230395B1 (en) | Long oligonucleotide arrays | |
US20030124525A1 (en) | Use and evaluation of a [2+2] photocycloaddition in immobilization of oligonucleotides on a three-dimensional hydrogel matrix | |
WO1998053103A1 (en) | Nucleic acid arrays | |
WO2002012566A2 (en) | The use and evaluation of a [2+2] photocycloaddition in immobilization of oligonucleotides on a three-dimensional hydrogel matrix | |
WO2003020902A2 (en) | Methods for blocking nonspecific hybridizations of nucleic acid sequences | |
WO2004102194A1 (ja) | 選択結合性物質固定化担体 | |
WO2000079006A1 (en) | Oligonucleotide arrays for high resolution hla typing | |
US20050153290A1 (en) | Normalisation of microarray data based on hybridisation with an internal reference | |
JP3398366B2 (ja) | Dna分析用マイクロアレイの製造方法 | |
JP2001108683A (ja) | Dna断片固定固相担体、dna断片の固定方法および核酸断片の検出方法 | |
JP2003504595A (ja) | 固体支持体への核酸固定化用担体 | |
JP2006010565A (ja) | バイオチップおよびその製造方法、ならびにポリホルミルパラキシリレン膜およびその製造方法 | |
JP4106215B2 (ja) | 高分子薄膜、高分子薄膜の製造方法、およびバイオチップ | |
US6855419B2 (en) | Polymer thin film, its production method, binder for bio chip, bio chip, and its production method | |
JP4534818B2 (ja) | バイオマテリアル用高分子化合物およびそれを用いた高分子溶液 | |
JP4554110B2 (ja) | Dnaチップ用結合剤、dnaチップ、およびdnaチップの製造方法 | |
JP3975042B2 (ja) | 固相担体表面へのdna断片の固定方法及びdnaチップ | |
JP2002517257A (ja) | ポリ核酸類の並行同定および転写プロファイリングのための支持体 | |
JP3857075B2 (ja) | 反応性固相担体及びdna断片検出用具 | |
JP4290355B2 (ja) | 核酸の検出法 | |
WO2019229792A1 (ja) | 標的核酸断片を検出する方法 | |
JP2006078197A (ja) | 選択結合性物質固定化担体 | |
JP4259343B2 (ja) | 選択結合性物質の固定化方法 | |
JP2005055285A (ja) | Dnaチップ及びその製造方法 | |
WO2012173015A1 (ja) | プローブセット及びその利用 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070531 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070611 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070709 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20100601 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100802 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20110118 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20111025 |