JP2005529852A - ラモプラニン−様アミド誘導体の製造法 - Google Patents

ラモプラニン−様アミド誘導体の製造法 Download PDF

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Abstract

本発明は、式(I):RAMO−NC−CO−R(I)のラモプラニン−様誘導体の製造法に関し、式中、基Rは炭化水素基を示し、部分RAMO−NH−は脱アシル化されたラモプラニン、その因子のいずれか又はラモプラノースを示す。式(I)の化合物は、カルボン酸R−COOHを、オルニチンアミノ基上で保護された脱アシル化されたラモプラニン、その因子のいずれか又はラモプラノースと反応させることにより得られる。炭化水素基Rが、ラモプラニン及びラモプラノース天然産物及びそれらのテトラヒドロ−誘導体を特徴付けているものと異なる新規な化合物が特許請求される。新規な化合物は、ラモプラニンと同じかもしくはそれより高い抗感染活性、より低い溶血効果及びより優れた許容性の側面を有する。

Description

本発明の目的は、式(I)
RAMO−NH−CO−R (I)
[式中、Rは以下:
i)式:
Figure 2005529852
の炭化水素基であって、式中、R、R及びRはそれぞれ独立して水素又は炭素数が1〜4の低級アルキルを示し;Rは水素、メチル又はエチルを示し;Rは水素又は炭素数が1〜5の低級アルキルを示す炭化水素基;あるいは
ii)式−A−Rの基であって、式中、Aは基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる直鎖状もしくは分枝鎖状(C−C)アルキレン又は(C−C)アルキリデン基を示し、Rは:
−アルキル部分が直鎖状もしくは分枝鎖状であることができ、且つ場合により二重結合を含有していることができ、且つ1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4のアルコキシ基、
−場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオ、フェニル、フェニル−炭素数が1〜4の低級アルキル、フェノキシ、フェノキシ−炭素数が1〜4の低級アルキルから独立して選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基であって、ここでフェニルならびにフェニル−低級アルキル、フェノキシ及びフェノキシ−低級アルキル基のフェニル部分が場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
−場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、
−フェニル部分が場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェノキシ基、あるいは
−ナフチル部分が場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフトキシ基
を示し;
−但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rは非置換であるかもしくは場合により上記で規定した通りに置換されていることができる低級アルコキシ、フェノキシ又はナフトキシ基を示すことができない
−A−Rの基
の意味を有し、
基RAMO−NH−は式(f)
Figure 2005529852
のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、
式中、
Xは水素、アルファ−D−マンノピラノシル、2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
Yは水素又はアミノ官能基の保護基を示す]
のラモプラニン(ramoplanin)−様アミド誘導体ならびにその酸付加塩の製造法を提供することである。
本発明のさらに別の目的は、式(Ia)
RAMO−NH−CO−R (Ia)
[式中、Rは以下:
i)式:
Figure 2005529852
の炭化水素基であって、式中、R、R及びRはそれぞれ独立して水素又は炭素数が1〜4の低級アルキルを示し;Rは水素、メチル又はエチルを示し;Rは水素又は炭素数が1〜5の低級アルキルを示し、但しR、R、R及びRが同時に水素を示す式(a)の、あるいはR、R、R及びRが同時に水素を示し且つ二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する式(e)の炭化水素基をRが示す場合、Rはn−プロピル、イソブチル又はイソペンチル基を示すことができない炭化水素基;あるいは
ii)式−A−Rの基であって、式中、Aは基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる直鎖状もしくは分枝鎖状(C−C)アルキレン又は(C−C)アルキリデン基を示し、Rは:
−アルキル部分が直鎖状もしくは分枝鎖状であることができ、且つ場合により二重結合を含有していることができ、且つ1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4のアルコキシ基、
−場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオ、フェニル、フェニル−炭素数が1〜4の低級アルキル、フェノキシ、フェノキシ−炭素数が1〜4の低級アルキルから独立して選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基であって、ここでフェニルならびにフェニル低級−アルキル、フェノキシ及びフェノキシ−低級アルキル基のフェニル部分が場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
−場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、
−フェニル部分が場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェノキシ基、あるいは
−ナフチル部分が場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフトキシ基
を示し;
−但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rは非置換であるかもしくは場合により上記で規定した通りに置換されていることができる低級アルコキシ、フェノキシ又はナフトキシ基を示すことができない
式−A−Rの基
の意味を有し、
基RAMO−NH−は式(f)
Figure 2005529852
のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、
式中、
−Xは水素、アルファ−D−マンノピラノシル、2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
−Yは水素又はアミノ官能基の保護基を示す]
の新規なラモプラニン(ramoplanin)−様アミド誘導体及びその酸付加塩を提供することである。
上記のコア部分「RAMO−NH」は、ラモプラニン因子及びラモプラノースを含むラモプラニン抗生物質に由来する。
ラモプラニン(INN,非特許文献1及び非特許文献2を参照されたい)は、特許文献1及び特許文献2に記載されているグリコリポデプシペプチドとしてより正確に知られている環状ペプチド抗生物質の既知のメンバーである。最初それは抗生物質 A 16686と命名された。それは複雑な物質であり、その分離された因子A、A及びAが特許文献3に記載されている。
ラモプラニン因子A’、A’及びA’は特許文献4に記載されている。いずれの上記の因子のアグリコンも特許文献5に記載されている。単一の主成分A及びAの比率を選択的に増加させるための方法は、特許文献6に記載されている。
ラモプラニンならびにその因子及び誘導体の構造はいくつかの論文及び公開文献に記載されており、非特許文献3、非特許文献4、非特許文献5及び非特許文献6を参照されたい。
N.J.Skelton et al.は非特許文献7中で、この群の他のメンバーを記載しており、彼らはそれをラモプラノースと呼んでいる。
上記のラモプラニン抗生物質は次式(II):
Figure 2005529852
[式中、
R’は:−CO−CH=CH−CH=CH−CH−CH−CH
−CO−CH=CH−CH=CH−CH−CH(CH
−CO−CH=CH−CH=CH−CH−CH−CH(CH
を示し、
R”は:水素、アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルファ−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示すか、
あるいは
R”は:R’が−CO−CH−=CH−CH=CH−CH−CH(CHを示す場合、2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示す]
により示され得る。
R’の定義における上記で報告されている不飽和部分の二重結合の立体配置は、上記で報告された文献においてそれぞれ2(Z)もしくはシス及び4(E)もしくはトランスであることが見出されている。
以下の表は、上記の式(II)に関連してラモプラニンの単一の因子のR’及びR”に関する意味を規定する:
Figure 2005529852
アグリコンは、R”が水素を示す上記で報告されている式(II)の化合物に相当する。
ラモプラノースは、R”が2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示す「因子A」に相当すると報告されている。
上記の式(II)を介して示される天然の化合物の他に、それに関連する他の半合成誘導体が特許文献7に記載されている。該化合物は、上記のラモプラニン因子A、A、A、A’、A’及びA’のいずれかのテトラ水素化(R’部分における)誘導体に相当する。アグリコンのテトラ水素化誘導体は特許文献5に記載されている。
すべての上記の化合物は、本明細書及び特許請求の範囲において、集合的に「ラモプラニン群」と呼ばれる。
USP Dictionary of USAN International Drug Names,1995 米国特許第4,303,646号明細書 米国特許第4,328,316号明細書 米国特許第4,427,656号明細書 欧州特許第318680号明細書 欧州特許第0337203号明細書 欧州特許第0259780号明細書 R.Ciabatti et al.,J.Antib.1989,42,254−267 J.K.Kettenring et al.,J.Antib 1989,42,268−275 R.Ciabatti and B.Cavalleri,Bioactive Metabolites from Microorganisms,Elsevier Science Publishers,1989,205−219 M.Kurz and W.Guba,Biochemistry 1996,35,12570−12575 N,J,Skelton et al.,J.Am Chem.Soc.1991,113,7522−7530 米国特許第5,708,988号明細書
式(I)中の記号R及びRAMO NH−の、ならびに上記の式(II)中の記号R’及びR”の意味から容易に理解され得る通り、本発明の方法は、式(Ia)の新規な化合物の製造法を含む上に、ラモプラニン群の上記で挙げたメンバーのそれぞれの新規な製造法も提供する。
本出願及び特許請求の範囲の記述において、「炭素数が1〜4の低級アルキル」という用語は、メチル、エチル、プロピル、イソプロピル、n−ブチル、1−メチルプロピル、2−メチルプロピル又はtert−ブチル基を定義し;「ハロ」又は「ハロゲン原子」という用語は、ブロモ、クロロ又はフルオロ基を定義し;「場合により二重結合を含有していることができる直鎖状もしくは分枝鎖状(C−C)アルキレン又は(C−C)アルキリデン基」という用語は、以下の基:
Figure 2005529852
又は2個の隣接炭素原子の間に二重結合を含有する対応する基、例えば
Figure 2005529852
の1つを定義する。
「炭素数が1〜5の低級アルキル」という用語は、上記で例示したものの他に以下:
Figure 2005529852
も含む直鎖状もしくは分枝鎖状アルキル基を定義する。
式(I)及び(Ia)中の記号Rにより示される基が1個もしくはそれより多い不斉中心を含有するすべての場合、すべての可能な光学異性体及びそれらの混合物が本発明の目的内に含まれる。
他にことわらなければ、式(I)及び(Ia)中の記号Rにより示される基が単数もしくは複数の二重結合を含有するすべての場合、該単数もしくは複数の二重結合のシス(Z)又はトランス(E)立体配置を示す単一の異性体及びそれらの混合物の両方が本発明の範囲内に含まれる。
ほとんどの現在の習慣(the most current practice)において、ならびに本明細書において、一般的用語「ラモプラニン」を用い、上記の他の因子を伴って主要な量の因子A(一般に75%より多く)を含有する複雑な抗生物質が表される。
本出願及び特許請求の範囲の記述において、抗生物質コア部分RAMO−NHは、ラモプラニン群のいずれかのメンバー又はそれらの混合物の脱−アシル化から誘導される。脱−アシル化は、式(II)の基R’が水素により置き換えられていることを意味する。
上記の式(I)、(Ia)及び(II)の両方において、2個のオルニチンアミノ酸残基に属する環炭素原子上に4及び10の数が明示され、ラモプラニン環状ペプチドにおけるその位置は通常それぞれ4位及び10位と称される。
本発明の式(Ia)の新規な化合物は、ほとんどの場合にラモプラニン群に属する先行技術の化合物の活性と同じレベルの、そしていくつかの場合にはそれより高くさえある抗微生物活性を示す上に、治療的に有効な容量で試験動物に皮下もしくは静脈内に注入すると、該先行技術の化合物に関してより優れた許容性を示す。
本発明の式(Ia)の新規な化合物の中で、Rが:
i)上記の式(a)、(b)、(c)、(d)又は(e)の炭化水素基であって、式中、R、R及びRはそれぞれ独立して水素、メチル、エチル又はプロピルを示し、Rは水素、メチル又はエチルを示し、Rは水素又は炭素数が1〜4の低級アルキルを示し、但し該基(a)、(b)、(c)、(d)又は(e)の炭素原子の合計数は両端を含んで4〜8であり、且つさらに但しR、R、R及びRが同時に水素を示す式(a)の、あるいはR、R、R及びRが同時に水素を示し且つ二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する式(e)の炭化水素をRが示す場合、Rは炭素数が3又は4の低級アルキルを示すことができない炭化水素基、あるいは
ii)式−A−Rの基であって、式中、Aは基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる直鎖状もしくは分枝鎖状(C−C)アルキレン又は(C−C)アルキリデン基を示し、Rは:
−場合により、炭素数が1〜4の低級アルキル、トリフルオロメチル、炭素数が1〜4の低級アルコキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、ニトロ、シアノ及びフェニルから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
−場合により、炭素数が1〜4の低級アルキル、炭素数が1〜4の低級アルコキシ、クロロ、フルオロ、トリフルオロメチル及びトリフルオロメトキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、あるいは
−場合により炭素数が1〜4の低級アルキルで置換されていることができるフェノキシ基
を示し、
−但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rはフェノキシ又は場合により炭素数が1〜4の低級アルキルで置換されていることができるフェノキシを示すことができない
−A−Rの基
を示し、
−基RAMO−NH−が上記の式(f)のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、ここでXは水素、2−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;Yは水素又はアミノ官能基の保護基を示す
化合物及びその酸付加塩が好ましい。
特に、本発明の好ましい化合物の群は、
Rが:
i)Rが水素、メチル又はエチルを示し、R、R及びRが水素を示し、Rがメチル又はエチルを示す式(a)の炭化水素基、
−R、R、R及びRが水素を示し、Rが炭素数が1〜4の低級アルキルを示す式(b)の炭化水素基、
−R、R、R及びRが水素を示し、Rが炭素数が1〜4の低級アルキルを示し、両方の二重結合が(E)トランス立体配置を有する式(e)の炭化水素基、
−R、R、R及びRが水素を示し、Rがメチル又はエチルを示し、二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する式(e)の炭化水素基;あるいは
ii)Aが基Rをカルボニル基と直接連結する結合又はメチレン基を示し、Rが場合によりフェニル基で又はメチル、エチル、メトキシ及びエトキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェニル基あるいはナフチル基を示す式−A−Rの基
を示し;
基RAMO−NH−が上記の式(f)のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、式中、
Xは水素、2−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル、好ましくは2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
Yは水素又はアミノ官能基の保護基、好ましくは9−フルオレニルメトキシカルボニル(FMOC)又はベンジルオキシカルボニル(CBZ)を示す
式(Ia)の化合物及び製薬学的に許容され得るその塩を含む。
最も好ましい化合物は、Rが:
−Rがエチルを示し、R、R及びRが水素を示し、Rがメチルを示す上記の式(a)の炭化水素基、
−R、R、R及びRが水素を示し、Rがエチルを示し、二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する上記の式(e)の炭化水素基;
−R、R、R及びRが水素を示し、Rがエチルを示し、両方の二重結合がトランス(E)立体配置を有する上記の式(e)の炭化水素基;
−R、R、R及びRが水素を示し、Rがイソプロピルを示し、両方の二重結合がトランス(E)立体配置を有する上記の式(e)の炭化水素基;
−Aがメチレン基を示し、Rが2−メチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2−エチルフェニル又は1−ナフチルを示す基−A−R
を示し;
基RAMO−NH−が上記の式(f)の抗生物質コア部分を示し、式中、
Xは水素、−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル、好ましくは2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
Yは水素又はアミノ官能基の保護基、好ましくはFMOC又はCBZを示す
式(Ia)の化合物及び製薬学的に許容され得るその塩である。
Rが上記と同じ意味を有する本発明の式(I)及び(Ia)のラモプラニン−様アミド誘導体の製造法は、2段階法を含む。第1段階(下記では「段階a」)は、脂肪族アシル側鎖が除去され、4位及び10位における2個のオルニチン残基のアミノ基が適切に保護されたラモプラニン群のメンバー又はそれらの混合物のアミド化にある。
該脱−アシル化されたラモプラニン出発材料は、下記で「4,10−保護RAMO−NH」として同定され、次式(III)
Figure 2005529852
[式中、
Xは水素、アルファ−D−マンノピラノシル又はアルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
Y’はアミノ官能基の保護基を示す]
により示される。
上記の式(III)の化合物は新規な化合物であり、遊離の塩基の形態及びその酸付加塩の両方として本出願の範囲内に、一般式(I)及び(Ia)のラモプラニン−様アミド誘導体の製造のための有用な中間体として含まれる。
該第1段階に従い、Yがアミノ官能基の保護基を示す本発明の式(I)及び(Ia)の化合物が得られる。
方法の第2段階(下記では:段階「b」)は、Yが水素である式(I)及び(Ia)の化合物を得ることを可能にする。この段階は、上記の第1のアミド化段階を介して得られる化合物の4及び10オルニチン部分からの保護基の除去にある。しかしながら上記の通り、両方の型の化合物が本発明の範囲内に含まれている。下記に、2段階法の実施に適用される方法のより詳細な記述を示す。
段階a):アミド化
アミド化法は、記号X及びY’が上記と同じ意味を有する該上記の式(III)の出発材料を、記号Rが上記のそれぞれ式(I)及び(Ia)におけると同じ意味を有する式R−COOH(IV)の選ばれたカルボン酸と、縮合剤の存在下に、あるいは該カルボン酸の活性化エステルの形成を介して溶媒の存在下で縮合させることを含む。
縮合反応のために有用な不活性有機非プロトン性溶媒は、反応経路と好ましくなく抵触せず且つ式(III)の抗生物質出発材料を少なくとも部分的に可溶化できる溶媒である。
該溶媒の例は、有機アミド、グリコール及びポリオールのエーテル、ホスホルアミド誘導体、スルホキシドである。好ましい溶媒は:ジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、ヘキサメチルホスホロアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、N−メチルピロリドン及びそれらの混合物である。好ましくはジメチルホルムアミド(DMF)が用いられる。
本発明における縮合剤は、有機化合物における、そして特にペプチド合成におけるアミド結合の形成に適したものである。
縮合剤の代表的な例は、ジイソプロピルカルボジイミド(DIC)、ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)なしの又はその存在下におけるジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、N,N,N’,N’−テトラメチル−O−(ベンゾトリアゾール−1−イル)ウロニウムテトラフルオロボレート(TBTU)、N,N,N’,N’−テトラメチル−O−(7−オキサベンゾトリアゾール−1−イル)ウロニウムヘキサフルオロホスフェート(HATU)、ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(HBTU)、ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−(ピロリジノ)ホスホニウムヘキサフルオロ−ホスフェート(PyBOP)及び(C−C)アルキル、フェニル又は複素環式ホスホルアジデート、例えばジフェニル−ホスホルアジデート、ジモルホリル−ホスホルアジデートである。
好ましい縮合剤はPyBOPである。縮合剤は一般に、1.1〜1.5のようなわずかなモル過剰で用いられ;好ましくは縮合剤のモル過剰は、式(III)の抗生物質出発化合物のモル量の約1.2倍である。
本方法に従うと、カルボン酸(IV)は通常、式(III)の化合物に関してわずかにモル過剰で用いられる。一般に1〜3倍のモル過剰が用いられるが、1.2倍のモル過剰が好ましい。
反応混合物に塩−形成性塩基を、少なくとも等モル量で、そして好ましくは式(III)の出発材料に関して約1.2倍のモル過剰で加えるのが便利である。
該塩形成性塩基の例は、第3級有機脂肪族もしくは脂環式アミン類、例えばトリメチルアミン、トリエチルアミン(TEA)、N−メチルピロリジン又は複素環式塩基、例えばピコリンなど、アルカリ金属(例えばナトリウム及びカリウム)炭酸水素塩及び炭酸塩である。
反応温度は、特定の出発材料及び反応条件に依存してかなり変わるであろう。一般に0℃〜50℃の温度、好ましくは室温においてアミド化反応を行なうのが好ましい。
反応時間も他の反応パラメーターに依存してかなり変わり;一般に縮合は約2〜24時間内に完了する。
一般に、当該技術分野において既知の方法に従ってHPLCにより反応経過が監視される。このアッセイの結果に基づき、当該技術分野における熟練者は反応経過を評価し、いつ反応を停止させ且つそれ自体既知の方法に従って反応塊の仕上げを開始するかを決定することができ、それ自体既知の方法には例えば非溶剤の添加による沈殿、溶媒を用いる抽出が含まれ、それらは例えばカラムクロマトグラフィーによるさらに別の通常の分離操作及び精製と結び付けられる。
該式(III)の保護された出発材料を式(IV)のカルボン酸の活性化エステルと反応させることによっても、アミド化段階を達成することができる。「活性化エステル」という用語は、アシル化基のカルボキシル官能基を、式(III)の保護された出発材料のアミノ基とのカップリングに反応性とするエステルを意味する。そのような場合、アミドの形成のための反応は極性有機溶媒、例えばジメチルホルムアミド中で、約0℃〜約50℃の温度で、好ましくは室温で約2〜4時間行なわれる。
活性化エステルは、所望のアシル基の遊離の酸を活性化基、例えば4−ニトロフェノール、2,4−ジニトロフェノール、2,4,5−トリクロロフェノール、2−クロロ−4,6−ジメトキシトリアジン、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ペンタフルオロフェノール、1−ヒドロキシ−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾールを用いてエステル化することにより製造される。好ましい活性化エステル誘導体は、ペンタフルオロフェノール又は2,4,5−トリクロロフェノールとの酸R−COOH(IV)のエステルである。
アシル化反応のための出発材料として用いられる式(IV)のカルボン酸及びそれらの活性化誘導体は、既知の化合物であるか、又は当該技術分野において既知の方法により既知の化合物からそれらを製造することができる。好ましい方法に従うと、活性化エステルは、選ばれる式(IV)の酸の酸塩化物をDMFのような溶媒の存在下でペンタフルオロフェノールを用いて処理することにより、又は遊離の酸を、カップリング剤として用いられる1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミドの存在下で2,4,5−トリクロロフェノールを用いて処理することにより、又は好ましくは遊離の酸(IV)をピリジンの存在下でペンタフルオロフェノールトリフルオロ酢酸塩を用いて処理することにより簡便に製造される。ペンタフルオロフェニル又はトリクロロフェニルエステル誘導体を、必要なら、例えばシリカゲル上のカラムクロマトグラフィーによりトルエン、塩化メチレン、酢酸エチル−ヘキサン中で精製することができる。
段階b)保護基の除去
アミド化成生物からの保護基の除去のために続く方法は、用いられる保護基の型に依存する。
上記の式(III)の化合物のオルニチン部分の保護のために最も適した保護基は、それぞれ式(I)及び(Ia)の誘導体のRAMO−NH−部分の安定性に影響しない条件下で除去され得、且つさらに別の反応段階の条件、特に上記の式(II)中の記号R’により示されるラモプラニン側鎖の分解に必要な酸性条件と適合性である保護基である。従って該保護基は、穏やかな塩基触媒加溶媒分解、水素化分解又は還元的開裂により除去され得る基から選ばれる。4,10オルニチン部分のアミノ基の保護の最も適した方法を、ペプチド−合成におけるアミノ基の保護を扱っている通常既知の教本中に示されている指示に頼ることによっても、熟練者が選択することができる。例えばベンジルオキシカルボニル基を用いるカルバメートの形成によりアミノ基が保護される場合、接触水素化が保護基の除去のための最も好ましい方法を与えることができる。水素化は通常室温で、大気圧に相当する圧力又は大気圧より1〜2気圧高い圧力において、水素化触媒、例えば5%〜10%Pd/BaSO又は5%Pd/Cの存在下に、不活性有機溶媒、例えば低級アルカノール、ジメチルホルムアミド、ジオキサン、テトラヒドロフラン及びそれらの混合物ならびに酸、例えば氷酢酸又は希無機酸水溶液、例えば0.1N塩酸中で行なわれる。
オルニチン部分の保護基の除去をアミンの添加により達成できる場合、1容器法を用いることができる。例えば式(III)の出発材料が9−フルオレニルメトキシカルボニル(FMOC)基又は類似の保護基で保護される場合、縮合反応塊を仕上げることなく、脱保護段階を縮合反応混合物に直接行なうことができる。この場合、1〜50%(容量/容量)の適したアミンを反応溶液に加える。それぞれ式(I)及び(Ia)の保護された生成物を含有する溶液に加えられ得るアミンの例は、トリエチルアミン、N−メチルピロリン、ピペリジン、2,2,6,6−テトラメチルピペリジン及びN−メチルピペラジンである。
反応時間は、用いられるアミン及び他の反応パラメーター、例えば温度及び溶媒に依存してかなり変わるであろう。一般にこの段階は数分から約24時間の時間内に完了する。いずれの場合も、当該技術分野において既知の方法に従ってHPLCにより反応経過が監視される。これらのアッセイの結果に基づき、当該技術分野における熟練者は反応経過を評価し、いつ反応を停止させ且つそれ自体既知の方法に従って反応塊の仕上げを開始するかを決定することができ、それ自体既知の方法には例えば溶媒を用いる抽出、非溶剤の添加による沈殿が含まれ、それらは例えばカラムクロマトグラフィーによるさらに別の通常の分離操作及び精製と結び付けられる。
式(f)の基RAMO−NH−中の記号Yが水素を示し、記号Xがアルファ−D−マンノピラノシル、2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示す式(I)及び(Ia)の化合物を、欧州特許第0337203号におけるラモプラニンのアグリコンの製造に関して記載されている方法により、Xが水素を示す式(I)及び(Ia)の対応する化合物に転換することができる。この方法は、Xが水素を示す式(III)の化合物の直接アミド化に関する代替法に相当する。
適切に保護された式(III)の出発材料を得るための方法。
R’及びR”が上記の意味を有する上記の式(II)のラモプラニン抗生物質の1つの化合物又は現在実際に得られるラモプラニン複合体を含むそれらの混合物の不飽和脂肪族アシル側鎖の4段階における化学的分解により、適切に保護された式(III)の出発材料を得ることができる。
分解順序(degradation sequence)は、最初の式(II)のラモプラニン群の化合物又はそれらの混合物の4,10−オルニチン部分の保護及び続く還元的オゾン分解により形成される。得られるアルデヒド、「4,10−保護RAMO−NH−CO−CHO」を還元剤の存在下で第1級アミンを用いてアミノ化し、得られるRが第1級アミンの炭化水素部分を示すアミノアシル化合物「4,10−保護RAMO−NH−CO−CH−NH−R」をエドマン分解に供し、オルニチン部分上で適切に保護されたデアシルラモプラニン化合物(III)(「4,10−保護RAMO−NH」)を得る。
段階1:式(II)の化合物のアミン部分の保護
本発明の方法の間に適用される条件に抵抗性であり、且つラモプラニンコア部分の安定性に影響しない条件下で容易に除去され得るいずれの典型的なアミノ残基の保護基もここで用いられ得る。アミノ官能基の適した保護基は、例えば:T.W.Greene,“Protective Groups in Organic Synthesis”,J.Wiley,N.Y.,1981に記載されている基から選ばれることができる。
特にこの場合、アミノ部分のアシル化により形成される保護基が好ましい。本明細書に記載される方法において用いられる保護基は、一般にペプチド合成において用いられるものである。好ましくは、オルニチン部分のN−保護は、穏やかな塩基性条件下で、又は接触水素化を介して容易に除去可能な保護基、例えば
9−フルオレニルメトキシカルボニル(FMOC)、
9−(2−スルホ)フルオレニルメトキシカルボニル、
9−(2,7−ジブロモ)フルオレニルメトキシカルボニル、
2−クロロ−3−インデニルメトキシカルボニル、
ベンズ(f)インデン−3−イルメトキシカルボニル、
2,7−ジ−t−ブチル−[9−(10,10ジオキソ−10,10,10,10−テトラ−ヒドロチオキサンチル)]メトキシカルボニル、
1,1−ジメチル−2−シアノエトキシカルボニル、
アリルオキシカルボニル、
シンナミルオキシカルボニル、
N−ヒドロキシピペリジニルオキシカルボニル、
ベンジルオキシカルボニル(CBZ)、
p−ニトロベンジルオキシカルボニル、
3,4−ジメトキシ−6−ニトロベンジルオキシカルボニル、
2,4−ジクロロベンジルオキシカルボニル、
9−アンスリルメチルオキシカルボニル
及びジフェニルメトキシカルボニル
を用いて行なわれる。通常、該アシル化剤は、アルカノイルもしくはアロイル基又はカーボネート部分、例えば酸ハライド、無水物又は活性化エステルを与える反応物である。
しかしながら、基Rが水素化条件に敏感であり得る脂肪族二重結合部分を含有する上記の式(I)及び(Ia)の化合物が望まれている場合、接触水素化を介してのみ除去可能な保護基の使用は避けられる。
本発明の好ましい態様に従うと、アミノ基は第1段階で低級アルコキシカルボニル又はアリール−低級アルコキシカルボニル基、例えばフルオレニルメトキシカルボニル基の導入により保護される。この目的のために、式(II)のラモプラニン群の出発化合物又はそれらの混合物を、過剰の穏やかな塩基の存在下に、アミノ基上に該基を導入できる試薬、例えばベンジルクロロホルメート、ジベンジルカーボネート、N−(9−フルオレニルメトキシカルボニルオキシ)スクシネートと反応させる。オルニチン部分の最も好ましい保護基はFMOCである。反応は通常溶媒の存在下に、0〜50℃、好ましくは15〜25℃の温度で行なわれる。通常、保護基を与える試薬は、保護を必要としているラモプラニン群出発材料(II)のアミノ基の数に関して大体等モル量で、又はわずかに過剰に用いられる。通常の場合、保護を必要としている式(II)のラモプラニン群の出発材料のアミノ基は、4及び10位における2個のオルニチン部分のアミノ基なので、出発材料(II)の各等モル量に関して大体2等モル量(two equimolecular amounts)の保護基が用いられる。溶媒は通常アセトン、テトラヒドロフラン、ジオキサン、ジメチルスルホキシド、ジメチルホルムアミド及びそれらの混合物又は該溶媒のいずれかと水との混合物から選ばれる。
好適に用いられる穏やかな塩基は、アルカリ金属炭酸塩、アルカリ金属重炭酸塩(例えば炭酸カリウム及び重炭酸ナトリウム)、トリ−(低級アルキル)アミン(例えばトリエチルアミン)及びそれらの混合物から選ばれる。
段階2:還元的オゾン分解
反応は、上記の段階1に従ってオルニチン部分上で適切に保護された式(II)の出発材料をオゾンで処理することを含む。
還元的オゾン分解反応に有用な不活性有機溶媒は、反応経路と好ましくなく抵触せず且つ抗生物質出発材料を少なくとも部分的に可溶化できる溶媒である。
該溶媒の例は有機アミド、ハロゲン化低級脂肪族炭化水素、グリコール及びポリオールのエーテル、アルコール、ホスホルアミド誘導体、スルホキシドである。好ましい溶媒は:ジメチルホルムアミド、メタノール、ジクロロメタン、ジクロロエタン、ジメトキシエタン、ヘキサメチルホスホロアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン及びそれらの混合物である。最も好ましくは、メタノール:ジメチルホルムアミドの混合物が用いられる。
本方法に従うと、オゾンは通常モル過剰で溶液中に泡立てられる。一般に2〜8倍モル過剰が用いられるが、4倍モル過剰が好ましい。
反応温度は、特定の出発材料及び反応条件に依存してかなり変わるであろう。一般に、−90℃〜−20℃の温度、好ましくは−78℃において反応を行なうのが好ましい。
反応時間も他の反応パラメーターに依存してかなり変わる;一般にオゾン分解は約5分〜2時間内に完了する。
得られるオゾニドの対応するアルデヒドへの転換は、適した還元剤を用いて行なわれ得る。これらの還元剤の例は、ジメチルスルフィド、ビサルファイト、トリフェニルホスフィン、チオウレア及び水素化触媒の存在下における水素であり;好ましくはトリフェニルホスフィンが用いられる。
一般に、当該技術分野において既知の方法に従ってHPLCにより反応経過が監視される。このアッセイの結果に基づき、当該技術分野における熟練者は反応経過を評価し、いつ反応を停止させ且つそれ自体既知の方法に従って反応塊の仕上げを開始するかを決定することができ、それ自体既知の方法には例えば非溶剤の添加による沈殿、溶媒を用いる抽出が含まれ、それらは例えばカラムクロマトグラフィーによるさらに別の通常の分離操作及び精製と結び付けられる。
この段階2から生ずる生成物は、4,10−オルニチン部分の2個のアミノ基上で保護された、R’により示される不飽和アシル鎖が基−CO−CHOで置き換えられた式(II)のラモプラニン出発材料に相当する(4,10−保護RAMO−NHCOCHO)。
段階3:還元的アミノ化
還元的アミノ化法は、段階2に従って得られるアルデヒドを還元剤の存在下で適した第1級アミンと縮合させることを含む。
該第1級アミンの例はC−C低級アルキルアミン、ベンジルアミンである。
好ましくはベンジルアミンが用いられる。
還元的アミノ化反応に有用な不活性有機溶媒は、反応経路と好ましくなく抵触せず、且つアルデヒドを少なくとも部分的に可溶化できる溶媒である。
該溶媒の例はアルカノール、有機アミド、グリコール及びポリオールのエーテル、ホスホルアミド誘導体及びスルホキシドである。好ましい溶媒は:ジメチルホルムアミド、メタノール、ジメトキシエタン、ヘキサメチルホスホロアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン及びそれらの混合物である。好ましくはジメチルホルムアミド(DMF)が用いられる。
本方法に従うと、アミンは通常モル過剰で用いられる。一般に1〜7倍モル過剰が用いられるが、5倍モル過剰が好ましい。
アミン反応物は好ましくは塩化形態で、最も好ましくは強酸との塩として用いられ、特に好ましいのはハロゲン化水素酸であり、最も好ましいのは臭化水素酸及び塩酸である。
反応温度は特定の出発材料及び反応条件に依存してかなり変わるであろう。一般に0℃〜50℃の温度、好ましくは室温において反応を行なうのが好ましい。
反応時間も他の反応パラメーターに依存してかなり変わる;一般に縮合は約2〜24時間内に完了する。
本方法における還元剤は、有機化合物中のイミン結合の還元に適切に用いられるものである。そのような還元剤の代表的な例は、シアノホウ水素化ナトリウム、ホウ水素化ナトリウム、トリエトキシボロハイドライドである。好ましい還元剤は、シアノホウ水素化ナトリウムである。還元剤は一般に1.1〜1.8モル過剰のようなわずかなモル過剰で用いられる;好ましくは、還元剤のモル過剰はアルデヒド化合物の量の1.5倍である。
一般に、当該技術分野において既知の方法に従ってHPLCにより反応経過が監視される。このアッセイの結果に基づき、当該技術分野における熟練者は反応経過を評価し、いつ反応を停止させ且つそれ自体既知の方法に従って反応塊の仕上げを開始するかを決定することができ、それ自体既知の方法には例えば溶媒を用いる抽出、非溶剤の添加による沈殿が含まれ、それらは例えばカラムクロマトグラフィーによるさらに別の通常の分離操作及び精製と結び付けられる。
上記の縮合で用いられるアミンは、商業的に入手可能な化合物であるか、又はそれ自体既知の方法に従って製造される。
この段階3から生ずる生成物は、R’により示される不飽和アシル鎖が、Rが第1級アミン反応物の炭化水素部分を示す基−CO−CH−NHRにより置き換えられている式(II)のラモプラニン出発材料に相当する(4,10−保護RAMO−NH−COCHNH)。
段階4:エドマン分解
エドマン分解及びその連続的展開は、ペプチド鎖からN−末端アミノ酸を除去するためにペプチド化学において現在適用されている方法である(“The Merck Index”,13th Ed,ONR−29,Merck & Co Inc.,2001及びそこで引用されている参照文献を参照されたい)。
最初の方法のもっと最近の発展に従うと、エドマン分解は本質的に、末端アミノ残基を含有するペプチドを低級アルキルもしくはアリールイソチオシアナート(例えばメチルイソチオシアナート、フェニルイソチオシアナート、p−ニトロフェニルイソチオシアナート及びナフチルイソ−チオシアナート)と反応させてチオカルバミル−ペプチド誘導体を形成し、それを次いでチオヒダントイン誘導体への環化により末端チオカルバミルアミノ酸部分を切断することにある。
この最後の段階は、ペプチド鎖のN−末端アミノ酸の選択的脱離を生ずる。
この段階の好ましい態様に従うと、エドマン分解は段階3の還元的アミノ化から得られる化合物のN−末端アミノ酸に、上記の出発材料を化学量論的量より0.2〜0.5モル過剰のメチルイソチオシアナート又はフェニルイソチオシアナートと、8〜9のpH値において、水性溶媒混合物中で(例えばピリジン:水 1:1)、0〜35℃の温度で、好ましくは室温において反応させることにより行なわれる。得られるメチル(もしくはフェニル)チオカルバミル中間体を通常の方法に従って反応混合物から単離し、次いでさらなる精製なしで切断/環化に供することができる。
切断/環化法は、分子の他の必須の部分に影響しない酸性媒体中で上記の中間体を加熱することを含む。例えばチオカルボニル中間体をトリフルオロ酢酸(TFA)中に溶解し、反応の完了に十分な時間、この溶液を40〜60℃に保つことにより、この段階を適切に行なうことができる(HPLC制御(HPLC control)を適用することができる)。
ほとんどの場合、加熱は必要でないかも知れず、切断/環化反応は10〜40℃の温度でも起こる。
得られる反応混合物を蒸発乾固し、次いでチオヒダントイン副生成物を除去できる溶媒で洗浄するか、あるいは当該技術分野においてそれ自体既知の方法により、例えば逆相カラムクロマトグラフィーによりそれを精製する。得られる上記の式(III)の4,10−保護RAMO−NH誘導体は、本発明の式(I)及び(Ia)の生成物を得るための上記のアミド化及び脱−保護段階のための重要中間体である。
上記で規定した通り、本明細書に記載される式(I)の化合物の製造法は、R’及びR”が上記で規定されたと同じ意味を有する上記の式(II)において示されるラモプラニンのそれぞれの単一の因子A、A、A、A’、A’及びA’ならびにラモプラノースならびにそれらの対応するテトラヒドロ誘導体及びアグリコンの製造も含む。
天然産物中には常に存在する他の成分が伴わない、ラモプラニン複合体のそれぞれの単一の成分を合成する可能性は、いずれかの特定の理由から大量の単一の生成物(a single unitary product)が望まれる場合、米国特許第4,427,656号明細書及び欧州特許第318680号明細書に記載されている複合体からの単一の成分のやっかいな分離法に代わる有効な代替法である。
記号Yの少なくとも1つが水素を示す場合、本発明の式(I)及び(Ia)の化合物は通常の方法に従って酸付加塩を形成することができる。
本発明の化合物の好ましい付加塩は、「製薬学的に許容され得る酸付加塩」であり、それは生物学的、製造的及び調製的観点から、製薬学的習慣ならびに動物成長促進における使用と適合性の酸との塩を意味する。
化合物(I)及び(Ia)の代表的且つ適した酸付加塩には、有機及び無機酸の両方、例えば塩酸、臭化水素酸、硫酸、硝酸、リン酸、酢酸、トリフルオロ酢酸、トリクロロ酢酸、コハク酸、クエン酸、アスコルビン酸、乳酸、マレイン酸、フマル酸、パルミチン酸、コリン酸、パモ酸、粘液酸、グルタミン酸、ショウノウ酸、グルタル酸、グリコール酸、フタル酸、酒石酸、ラウリン酸、ステアリン酸、サリチル酸、メタンスルホン酸、ドデシルスルホン酸(エストール酸(estolic))、ベンゼンスルホン酸、ソルビン酸、ピクリン酸、安息香酸、桂皮酸などとの標準的反応により生成する塩が含まれる。
本発明の遊離のアミノもしくは非−塩化合物の対応する付加塩への変換及び逆、すなわち本発明の化合物の付加塩の非−塩もしくは遊離のアミノ形態への変換は、通常の技術的熟練の範囲内であり、本発明に包含される。唯一の予備注意は、塩基を遊離させる時に8〜9より高いpHを有する溶液を避けることである(ラクトン部分の開環を避けるため)。例えば非−塩形態を水性溶媒中に溶解し、わずかにモル過剰の選ばれた酸を加えることにより、式(I)及び(Ia)の遊離のアミノ化合物を対応する酸付加−塩に変換することができる。得られる溶液又は懸濁液を次いで凍結乾燥し、所望の塩を回収する。いくつかの場合には、凍結乾燥の代わりに、塩の形態が可溶性である水に非混和性の有機溶媒を用いるその水溶液からの抽出、分離された有機相の小容量への濃縮及び非−溶剤の添加による沈殿により最終的塩を回収することができる。
最終的塩が、非−塩形態が可溶性である有機溶媒中に不溶性である場合、化学量論的量もしくはわずかに過剰の選ばれた酸の添加の後、非−塩形態の有機溶液から濾過することによりそれを回収することができる。
非−塩形態は、水性溶媒中に溶解された対応する酸塩から、それを次いで中和して非−塩形態を遊離させることにより製造され得る。この後者は、例えば水に非混和性の有機溶媒を用いる抽出により回収されるか、又は選ばれた酸の添加及び上記のような仕上げにより、別の酸付加塩に変換される。
中和に続いて脱塩が必要な場合、通常の脱塩法を用いることができる。
例えば制御された孔の(controlled pore)ポリデキストラン樹脂(例えばSephadex LH 20)又はシラン化シリカゲル上のカラムクロマトグラフィーを簡便に用いることができる。水溶液を用いて望ましくない塩を溶離させた後、水及び極性もしくは非極性有機溶媒の混合物の線状勾配又はステップ−勾配により、所望の生成物を溶離させる。
当該技術分野において既知の通り、製薬学的に許容され得る酸又は製薬学的に許容され得ない酸との塩生成を簡便な精製法として用いることができる。生成及び単離の後、式(I)及び(Ia)の化合物の塩の形態を対応する非−塩もしくは製薬学的に許容され得る塩に変換することができる。
いくつかの場合には、式(I)及び(Ia)の化合物の酸付加塩は、水及び親水性溶媒中により可溶性であり、向上した化学的安定性を有する。活性化合物の水もしくは親水性溶媒中における優れた溶解性及び安定性は、薬剤の投与のために適した製薬学的組成物の調製に関し、当該技術分野において一般に真価が認められている。
しかしながら、式(I)及び(Ia)の化合物の性質のそれらの塩との類似性を見ると、式(I)及び(Ia)の非−塩化合物の生物学的活性を扱う場合に本出願において言われることは、それらの製薬学的に許容され得る塩にも当てはまり、逆もそうである。
以下の表1は、本発明の一般的方法に従って製造され得る1系列の化合物を示す。
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上記の表1から観察され得る通り、上記の式(I)の範囲内に含まれるが式(Ia)の範囲内に含まれない化合物1、5及び35は、それらがそれぞれラモプラニン因子A、ラモプラニン因子Aのテトラヒドロ誘導体及びラモプラニン因子Aに相当する点で既知の化合物である。
本発明の方法に従って得られる化合物の試験管内抗微生物活性を、メチシリン−感受性、メチシリン−耐性及びバンコマイシン−中間(intermedie)スタフィロコックス・アウレウス(Staphylococcus aureus)、Van−S及びVan−A エンテロコックス・ファエシウム(Enterococcus faecium)及びファエカリス(faecalis)、ストレプトコックス・ピオゲネス(Streptococcus pyogenes)、エシェリキア・コリ(Escherichiae coli)ならびにカンジダ・アルビカンス(Candida albicans)の臨床的単離物のパネルに対して評価した。
NCCLS法(NCCLS Document M7−A4 Vol.17,No.2 January 1997)に従ってブロス微量希釈法を用い、0.02%のアルブミンウシ血清の存在下に、約5x10cfu/mLの接種材料を用いてMICsを行なった。用いられた培地は、30%(v/v)のウシ血清が補足されたかもしくはされないカチオン−調節Mueller−Hinton(MH)ブロス(Difco Laboratories,Detroit,MI,USA)を含んだ。24時間のインキュベーションの後に37℃において試験を読み取った。
下記の表2に、上記の表1において同定されたいくつかの代表的化合物のMIC(最小阻止濃度)値を報告する。
Figure 2005529852
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上記の表2から明らかな通り、式(Ia)の範囲内に含まれる新規な化合物はほとんどの場合、ラモプラニン群の既知の化合物のメンバー、すなわち化合物1、5及び35と同じ活性のレベルを示す。
既知の化合物1との比較における1系列の式(Ia)の化合物の試験管内抗微生物活性を測定するためのさらに別の組の実験を、実施例において記載される方法Aに従う式(IV)の出発酸と式(III)のデアシルラモプラニンとの反応に由来する溶液に直接行なった。
反応溶液(方法Aにおいて記載される1M塩酸の添加から生ずる)を、0.1%ペプトン Difco Laboratories,(Detroit,MI,USA)及び0.9%NaCl(PBS)の添加により6000mcg/mlに希釈した。得られる溶液を水で所望の濃度に希釈し、試験を行ない、その場合それは表2において報告された単離された化合物に関して記載したと同じ方法で行なわれた。
以下の表2.1は、上記の実験の結果を報告する。
Figure 2005529852
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上記の表2.1から、表2の場合と同様に、式(Ia)を有する新規な化合物がほとんどの場合に既知の化合物1と同じレベルの活性を示すことが明らかである。
ラモプラニンとの比較における本発明の代表的ないくつかの化合物の抗微生物活性を、ラットにおける生体内試験を介して示した。
例として、腹腔内に投与されたスタフィロコックス・アウレウス Smith SA 819により引き起こされるネズミ敗血症において、式(Ia)のいくつかの代表的な化合物の治療的有効性を、ラモプラニンとの比較において評価した。生体内抗感染活性の評価のための参照薬剤としてバンコマイシンを選んだ。
マウスをスタフィロコックス・アウレウス Smith SA 819に腹腔内感染させた。未処置の動物は、感染から後の24時間以内に死亡した。それぞれ8匹のマウスのグループを、挑戦(challenge)から10〜20分後に開始して、種々の用量レベルのラモプラニン又はそれぞれの試験化合物で皮下により処置した。参照薬剤は、皮下注入されるバンコマイシンであった。それぞれの用量において7日まで生存する動物のパーセンテージから、Spearman−Kaeber(Finney,D.J.1952.The Spearman−Kaeber method,p.524−530.In D.J.Finney(ed.),Statistical method in biological assay.Charles Griffin & Company Limited,London)法により50%有効用量(ED50)及び95%信頼限界を算出した。
実験データを下記の表3において報告する。
Figure 2005529852
上記のデータからわかる通り、式(Ia)の範囲内に含まれる化合物13、37、39、40は、ラモプラニン及び参照薬剤バンコマイシンに関し、より優れた有効性を示す。
ラモプラニンとの比較における上記で挙げた化合物39及び40のより優れた抗微生物活性の確証を、スタフィロコックス・アウレウス Smith SA819より生体内でラモプラニンに対して感受性が低いMRSA株であるスタフィロコックス・アウレウス AS613に感染したマウスにおいて行なわれるさらに別の実験で示した。
マウスを約10CFU/マウスのスタフィロコックス・アウレウス SA 613に腹腔内感染させた。未処置の動物は、感染から後の24時間以内に死亡した。それぞれ8匹のマウスのグループを、挑戦から10〜20分後に開始して、種々の用量レベルのラモプラニン又はそれぞれの試験化合物で静脈内もしくは皮下により処置した。参照薬剤としてラモプラニン及びバンコマイシンを用いた。
4種の試験化合物、ラモプラニン及びバンコマイシンのそれぞれの用量において7日まで生存する動物のパーセンテージから、Spearman−Kaeber法により算出される50%有効用量(ED50)及び95%信頼限界を表4に報告する。
Figure 2005529852
ラモプラニンとの比較における式(Ia)の新規なラモプラニン−様アミド誘導体の許容性を、文献(D.Salauze and D.Decouvelare “In vitro assessment of the haemolytic potentioal of candidate drugs”,Comp.Haematology Intern.1994;G.Dal Negro and P.Cristofori,“A new approach for evaluation of the in vitro haemolytic potential of solution of a new medicine”,Comp.Hematology Inter.1996)において示唆されている方法に従って、血球への溶血力(haemolytic potential)の測定により研究した。
ラモプラニン−様アミド誘導体をジメチルスルホキシド(DMSO)中に40.000mcg/mlにおいて溶解し、次いで0.1% ペプトンDifco Laboratories,(Detroit,MI,USA)及び0.9% NaCl(PBS)中で1:5に希釈した。
全血試料をラットの背大動脈(dorsal aorta)から得、試験の前にPBS中で1:100に希釈した。
試験グループは:
グループ1−表5に報告される濃度におけるラモプラニン及びラモプラニン−様アミド誘導体
グループ2−生理学的溶血標準としてのPBS
グループ3−100%溶血標準としてのサポニン(Sigma)、蒸留水中の3%における溶液
を含んだ。
試験グループを血球中で1:5に希釈し、水浴中で37℃において45分間インキュベーションした。
インキュベーション時間の後、試料を2500〜3000gにおいて10分間遠心し、0.1mlの各上澄み液を900mclのDrabkin’s試薬(Sigma)中で希釈した。
試料の光学濃度(OD)を540nmにおいて、Drabkin’s試薬及び0.1mlのPBSのブランク調製物に対して測定した。
試験は三重に行なわれた。

Δx/Δt x 100 = 溶血の%
[Δx=調べられた各濃度に関するOD540の平均値(グループ1〜2)
Δt=100%溶血標準に関するOD540の平均値(グループ3)]
を用いて溶血のパーセンテージを算出した。
ブランク標準(グループ2)の溶血値の少なくとも3倍を超える場合に、溶血は有意であると考えられた。
結果を表5に報告する。
Figure 2005529852
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試験された化合物の中の、溶血活性の不在に関して特に興味深い結果:800mcg/mlにおける39、600における47及び82、400mcg/mlにおける10、14、23及び38、200mcg/mlにおける4、24、32及び34。
化合物40も特に低い溶血活性(400mcg/mlにおいて13.74%)を示し、それは化合物40を治療における使用に関して興味深いものとしている。
既知の化合物1との比較における式(Ia)の1系列の化合物の溶血効果を測定するためのさらに別の組の実験を、実施例において記載される方法Aに従う式(IV)の出発酸と式(III)のデアシルラモプラニンとの反応に由来する溶液に直接行なった。
反応溶液(方法Aにおいて記載される1M塩酸の添加から生ずる)を、0.1%ペプトン Difco Laboratories,(Detroit,MI,USA)及び0.9%NaCl(PBS)の添加により1200mcg/mlに希釈した。次いで表5において報告した単離された化合物に関して記載したと同じ方法で試験を行なった。
以下の表5.1は、上記の実験の結果を報告する。
Figure 2005529852
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試験された実質的にすべての化合物が既知の参照化合物1より低い溶血性の結果を与えた。
試験された化合物の中で、化合物57、72、76、91,94、101、102、103、105、108、109、110、111、112、113、114、115、116、117、118、120、122、123は、600mcg/mlにおけるそれらの%ライシス値が10%より低いので、特に低い溶血効果を示した。
上記の式(Ia)のラモプラニン−様アミド誘導体の許容性のさらなる確証が、化合物13、37、39及び40に行なわれる生体内研究により示された。
試験化合物を5%グルコース中で、必要な濃度において可溶化した。試験化合物につき用量当たり3〜6匹のラットを、24時間毎の間隔で1〜2日間処置した。注入部位及び一般的挙動の観察を毎日記録した;尿を血液の存在に関して調べた。最後の処置から24〜48時間後にラットを殺した。
本実験においてラモプラニンは用いられず、それはいくつかの以前の研究が、本研究において用いられる用量と類似かもしくはわずかにそれより低い用量においてそれが重大な局所的非許容性を引き起こすことを明白に示したからである。従って、5%グルコースを与えられる3匹のラットにより構成される正の標準のみを、すべてのパラメーターに関する参照として用いた。
それぞれ種々の薬剤濃度(2、4又は8mg/ml)における2種の用量、10及び20mg/kgを試験した。最初のボーラスは10mg/kg−8mg/mlにおけるものであった。正の結果の場合、他のラットに同じ試験化合物を20mg/mg−8mg/mlにおいてすぐに投薬し、それはこの実験段階(experimental phase)において試験される最高用量−濃度であった。10mg/kg−8mg/mlにおいて負の結果の場合、それより低い濃度において投与される同じ用量(10mg/kg−4mg/ml又は10mg/kg−2mg/ml)を試験した。正の結果が見出されたら、同じ薬剤濃度において、対応するmg/kgとしてのより高い用量を評価した。この実験設計を用い、種々の条件を確かめることができ、且つ同時に許容性への用量の影響に対する薬剤濃度の影響を決定することができた。
下記の表6は、この研究の結果をまとめている。
Figure 2005529852
上記で報告した抗微生物活性及び許容性を見ると、本発明の式(Ia)の新規な化合物を、該活性成分に敏感な病原性バクテリアにより引き起こされる感染性疾患の予防及び処置のために、特にエンテロコックス、ストレプトコックス及びスタフィロコックス系統により引き起こされる感染の処置のために、ヒトの医学及び獣医学において用いられる抗微生物性調製物の活性成分として有効に用いることができる。
本発明の化合物は経口的、局所的又は非経口的に投与され得、非経口的投与経路が好ましい。
投与の経路に依存して、これらの化合物を種々の投薬形態に調製することができる。経口的投与のための調製物は、カプセル、錠剤、液体溶液又は懸濁剤の形態にあることができる。当該技術分野において既知の通り、カプセル及び錠剤は、活性成分の他に通常の賦形剤、例えば希釈剤、例えばラクトース、リン酸カルシウム、ソルビトールなど、滑沢剤、例えばステアリン酸マグネシウム、タルク、ポリエチレングリコール、結合剤、例えばポリビニルピロリドン、ゼラチン、ソルビトール、トラガカント、アラビアゴム、風味剤ならびに許容され得る崩壊剤及び湿潤剤を含有することができる。一般に水性もしくは油性溶液もしくは懸濁剤の形態にある液体調製物は、懸濁化剤のような通常の添加剤を含有することができる。
局所的使用のために、本発明の式(Ia)の化合物を鼻及び喉の粘膜又は気管支組織を介する吸収に適した形態において調製することもでき、簡便には液体スプレー又は吸入剤、ロゼンジあるいは咽頭塗布剤(throat paint)の形態をとることができる。
目への投薬のために、調製物は液体又は半−液体形態で存在することができる。局所的適用(topical applications)を、軟膏、クリーム、ローション、塗布剤又は粉剤として疎水性又は親水性基剤中で調製することができる。
直腸的投与のために、本発明の式(Ia)の化合物は、通常のビヒクル、例えばココアバター、ワックス、鯨ろう又はポリエチレングリコール及びそれらの誘導体と混合された座薬の形態で投与される。
注入のための組成物は、油性もしくは水性ビヒクル中の懸濁剤、溶液又は乳剤のような形態をとることができ、調製剤、例えば懸濁化剤、安定剤及び/又は分散剤を含有することができる。
あるいはまた活性成分は、送達の時点に無菌水のような適したビヒクルを用いて再構築するための粉剤形態にあることもできる。
投与されるべき活性成分の量は、処置されるべき患者の大きさ及び状態、投与の経路及び頻度ならびに含まれる原因となる主体(causative agent)のような種々の因子に依存する。
本発明の化合物は一般に、体重のkg当たり約1〜約40mgの活性成分の用量で有効である。特定の化合物、感染及び患者の特性に依存して、有効用量を1日当たり1回の投与において投与することができ、あるいは1日当たり2〜4回の投与に分けることができる。特に望ましい組成物は、単位当たり約30〜約500mgを含有する投薬単位の形態で調製されるものである。
ラモプラニン−様アミド誘導体の合成のための一般的方法
方法A:
DMF(12.5ml)中の(4,10)オルニチン残基において適切に保護された式(III)のデアシルラモプラニン(4,10−保護RAMO−NH)(0.35ミリモル)、TEA(1.05ミリモル)及びカルボン酸R−COOH(IV)(0.525ミリモル)の溶液に、室温で攪拌しながらPyBOP(0.525ミリモル)を加える。HPLC分析により反応を監視する(表7中の保持時間を参照されたい)。混合物を室温で反応させ、5時間後、ピペリジン(625μl)あるいは代わりに2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(1.875ml)を加えてオルニチン部分から保護基を除去する。反応物を室温で攪拌下に保持し、HPLCにより監視し(表7中の保持時間を参照されたい)、30分後に希HClを加える(1M溶液の6.5ml)。調製的HPLC及び凍結乾燥による精製によって所望の生成物を得ることができる。誘導体をH−NMR(表8)、13C−NMR及びMS分光測定(表9)により特性化する。
方法B:
DMF(12.5ml)中の4,10−保護RAMO−NH(0.35ミリモル)の溶液に、室温で攪拌しながらトリエチルアミン(0.70ミリモル)及び活性化エステル(0.35ミリモル)を加える。HPLC分析により反応を監視する(表7中の保持時間を参照されたい)。混合物を室温で反応させ、5時間後、ピペリジン(625μl)あるいは代わりに2,2,6,6−テトラメチルピペリジン(1.875ml)を加えてオルニチン部分から保護基を除去する。反応物を室温で攪拌下に保持し、HPLCにより監視し(表7中の保持時間を参照されたい)、30分後に希HClを加える(1M溶液の6.5ml)。調製的HPLC及び凍結乾燥による精製によって所望の生成物を得ることができる。誘導体をH−NMR(表8)、13C−NMR及びMS分光測定(表9)により特性化する。
活性化エステルの製造のための一般的方法
DMF(4ml)中の選ばれたカルボン酸R−COOH IV(2ミリモル)及びペンタフルオロフェノールトリフルオロ酢酸塩(2.32ミリモル)の溶液に、室温で攪拌しながらピリジン(2.2ミリモル)を加えた。TLC分析により反応を監視した。混合物を1時間反応させ、次いで酢酸エチル(250ml)で希釈した。有機相をHCl 0.1N、NaHCO(5%溶液)及び水で洗浄した。有機抽出物を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、減圧下で溶媒を除去した。
下記の表7に、上記の一般的方法に従って製造された化合物、製造法及び用いられた出発材料をまとめる。
Figure 2005529852
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化合物10、13、14、23、24、37、39及び49のH−NMRデータを表8に報告する。実施例中に記載されている化合物のMS分光測定を介して決定される分子量を表9に報告する。
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出発4,10−保護RAMO−NH (III)の製造
4,10 ジFMOC保護RAMO−NHの製造
段階I:ラモプラニンのオルニチン部分の保護
95%(w/w)の表題化合物(title)を有するラモプラニン二塩酸塩(110.6g,40ミリモル)のジメチルホルムアミド(500ml)中の溶液を、窒素雰囲気下で攪拌しながら0℃に保った。この溶液に、反応物を0〜5℃に保ちながら、N−(9−フルオレニルメトキシカルボニルオキシ)−スクシンイミド(FMOC−ONSu)(6.8g,20ミリモル)及びTEA(5.8ml,41.2ミリモル)を加えた。5分後、さらなるFMOC−ONSu(6.8g,20ミリモル)及びTEA(5.8ml,41.2ミリモル)を加えた。さらに5分後、FMOC−ONSu(13.6g,40ミリモル)を加えた。反応温度を室温に上昇させた。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 25.6分。測定器:Shimadzu SCL−6B;カラム:Merck Lichrocart 125−4−Lichrosphere 100 RP−18(5μm);流量:1ml/分;検出器 UV λ=270;注入容量 10μl;相A:HCOONH 0.05M,相B:MeCN;勾配:時間0 %B=35;時間15 %B=40;時間35 %B=70)。HPLC制御の後、反応の完了に追加の10.8gのFMOC−ONSuが必要であった。30分後、酢酸(20ml)を加え、反応混合物を酢酸エチル(6 l)中に注いだ。沈殿物を濾過し、酢酸エチル(1 l)で洗浄し、乾燥した。133グラムの固体生成物が得られた。酢酸を用いてpH4.5〜5に調節されたメタノール/水(1:9)中で攪拌下に、固体を洗浄した。固体を濾過し、減圧下で35℃において乾燥し、126.8グラムの白色の固体を得た。収率 100%。MS:低同位体(lower isotope)分子量=2996
段階II:還元的オゾン分解
4,10−ジFMOC保護RAMO−NHCOCHOの合成
−78℃に冷却されたメタノール/DMF(9:1,800ml)中の前段階で得られた4,10−ジFMOC保護RAMO−NH(30g)の溶液に、攪拌下でオゾンを泡立てた(40ミリモル,5%のオゾンを含有する酸素の100 l/時の流量において)。−78℃で30分間反応を保持した。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 7.5分。測定器及び条件は上記の通りである)。溶液中に窒素を泡立てることにより、過剰のオゾンを除去した。トリフェニルホスフィンを加え(5.8g)、反応物が室温に達するのを許した。減圧下でメタノールを蒸発させ、残留DMF溶液を攪拌下で酢酸エチル(2 l)中に注いだ。沈殿物を濾過し、酢酸エチルで洗浄し(3X150ml)、室温で乾燥し、31.5グラムの固体を得た。収率 100%。MS:低同位体分子量=2916
段階III:還元的アミノ化
4,10−ジFMOC保護RAMO−NHCOCHNHCHの合成
無水DMF(925ml)中の4,10−ジFMOC保護RAMO−NHCOCHO(110g,38ミリモル)及びベンジルアミンヒドロブロミド(36.5g,194ミリモル)の溶液に、攪拌下に、室温においてNaCNBH(3.58g,57ミリモル)を加えた。混合物を2時間攪拌した。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 19.6分。測定器及び条件は上記の通りである)。溶液を水(9L)中に注いだ。沈殿物を濾過し、減圧下に35℃で乾燥し、107gの粗生成物を得た。
精製:
粗生成物(107g)を35℃〜40℃において、pH2.5(HCl 1N)における1.5Lの(1:1)アセトニトリル:水混合物中に溶解した。この溶液に攪拌下でシラン化シリカゲルを加えた(300g)。30分後、アセトニトリルを減圧下で蒸発させ、あらかじめ水を用いて安定化されたシラン化シリカゲルカラム(直径 7.5cm、高さ 100cm)の頂点に水懸濁液を負荷した。85:15から開始して1:1までの水:アセトニトリル勾配を用いて溶離を行なった。生成物を含有する画分を集め、減圧下でアセトニトリルを蒸発させた。沈殿物を濾過し、水(100ml)で洗浄し、減圧下に35℃で乾燥し、20.6グラムの白色の固体を得た。収率 18%(ラモプラニンから)。MS:低同位体分子量=3007
段階IV:エドマン分解
4,10−ジFMOC保護RAMO−NHの合成
ピリジン:水 1:1(340ml)中の4,10−ジFMOC保護RAMO−NHCOCHNHCH(17g,5.65ミリモル)の溶液に、室温で攪拌しながらフェニルイソチオシアナート(0.76ml,6.35ミリモル)を加えた。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 24.7分。測定器及び条件は上記の通りである)。1時間後、溶媒を蒸発させ、残留物をトルエン(50ml)中に懸濁させ、蒸発させた。この操作を2回繰り返した。次いで固体をジクロロメタン(100ml)中に懸濁させ、TFA(100ml)を加えた。40℃において15分及びHPLC制御(保持時間 9.5分。測定器及び条件は上記の通りである)の後、混合物を減圧下で蒸発させ、得られる油をジエチルエーテル(300ml)を用いて磨砕した。固体生成物を濾過し、ジエチルエーテル(100ml)で洗浄し、減圧下に35〜40℃で乾燥し、17グラムの固体を得た。個体を水中に懸濁させ、懸濁液を室温で2時間攪拌し、濾過した;固体を減圧下に、35〜40℃で乾燥し、15グラムの白色の固体を得た。MS:低同位体分子量=2860
H−NMR及び13C−NMRをそれぞれ図1及び図2において報告する。
4,10−ジCBZ保護RAMO−NHの製造
段階I:ラモプラニンのオルニチン部分の保護
95%の表題化合物(w/w)を有するラモプラニン二塩酸塩(40ミリモル)のジメチルホルムアミド(500ml)中の溶液を、窒素雰囲気下で攪拌しながら0℃に保った。この溶液に、反応物を0〜5℃に保ちながら、ジベンジルジカーボネート(80ミリモル)及びTEA(80ミリモル)を加えた。反応物を室温に上昇させた。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 16.0分。測定器及び条件は上記の通りである)。1時間後、反応物を酢酸エチル(6 l)中に注ぎ、沈殿物を濾過し、ジエチルエーテル(1 l)で洗浄し、減圧下に35〜40℃で乾燥し、125グラムの白色の固体を得た。収率 100%。MS:低同位体分子量=2820
段階II:還元的オゾン分解
4,10−ジCBZ保護RAMO−NHCOCHOの合成
対応するFMOC保護化合物の場合に用いられたと同じ方法に従った。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 10.0分。測定器及び条件は上記の通りである)。収率 100%。MS:低同位体分子量=2740
段階III:還元的アミノ化
4,10−ジCBZ保護RAMO−NHCOCHNHCHの合成
対応するFMOC保護化合物の場合に用いられたと同じ方法に従った。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 13.8分。測定器及び条件は上記の通りである)。収率 100%。MS:低同位体分子量=2831
段階IV:エドマン分解
4,10−ジCBZ保護RAMO−NHの合成
対応するFMOC保護化合物の場合に用いられたと同じ方法に従った。HPLC分析により反応を監視した(保持時間 11.0分)。測定器及び条件は上記の通りである)。収率 100%。MS:低同位体分子量=2684
式(IV)のカルボン酸出発材料の製造:
表7に従って用いられる多くの式(IV)のカルボン酸出発材料は、商業的に入手可能な製品である。商業的に入手できないカルボン酸を以下の方法に従って製造した。
化合物1a:2Z,4E−7−メチル−オクタ−2,4−ジエン酸
段階1:60%鉱油分散液としての水素化ナトリウム(6.8g,169ミリモル)を乾燥丸底フラスコ中に導入し、そこに乾燥テトラヒドロフラン(220ml)を加えた。フラスコにセラムキャップ(serum cap)で栓をし、氷中で冷却し、窒素をフラッシングした。冷却され且つ攪拌されているスラリにアセト酢酸エチル(20g,154ミリモル)を滴下し、滴下の完了後に反応物を10分間攪拌した。溶液を−78℃に冷却し、n−ブチルリチウムの溶液(シクロヘキサン中の2M溶液の85ml)を反応混合物に滴下し、攪拌をさらに10分間続けた。3−メチルブチルアルデヒド(154ミリモル)を次いで一度に加えた。さらに10分の後、反応物をHCl溶液(400の水中の37%HClの50ml)中に注いだ。ジエチルエーテルを加えた;水層を取り出し、2x40mlのジエチルエーテルで再び抽出した。エーテル性抽出物を合わせ、飽和ブライン溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、減圧下で溶媒を除去した。溶離剤としてヘキサン:酢酸エチル=8:2を用いるフラッシュクロマトグラフィーにより油性の残留物を精製し、16.6gの5−ヒドロキシ−7−メチル−3−オキソ−オクタン酸エチルエステルを得た。収率 50%。
H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.95(d,6H,Me −CH);1.19(m,1H,C −iPr);1.28(t,3H,CH );1.51(m,1H,C −iPr);1.80(m,1H,CMe);2.65(dd,1H,HOCHC CO);2.68(s ブロード,1H,OH);2.73(dd,1H,HOCHC CO);3.47(s,2H,COC COOEt);4.16(m,1H,HOCCHCO);4.21(q,2H,C CH)。
段階2:メタノール(100ml)中の段階1に従って得られる生成物(41.6ミリモル)の攪拌溶液に、−30℃においてホウ水素化ナトリウム(1.58g,41.6ミリモル)を加えた。同じ温度で攪拌を2時間続けた。次いで飽和塩化アンモニウム溶液を加え、減圧下でメタノールを蒸発させた。混合物を酢酸エチルで抽出した;有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濃縮して3,5−ジヒドロキシ−7−メチル−オクタン酸エチルエステル中間体を得、それをさらなる精製なしで続く段階のために用いた。
段階3:段階2の生成物にトルエン(100ml)及びパラトルエンスルホン酸(800mg)を加え、混合物を2時間還流させた。水を用いて反応をクエンチングし、酢酸エチルで抽出した。有機層を硫酸ナトリウム上で乾燥し、蒸発させて6gの7−メチル−5−ヒドロキシ−オクト−2−エン−酸のラクトンを得、それをそのまま続く段階のために用いた。
H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.97(d,6H,Me −CH);1.41(m,1H,C −iPr);1.80(m,1H,C −iPr);1.92(m,1H,CMe);2.31(m,2H,C CH=CH);4.52(m,1H,COCO);6.04(m,1H,CH=CCOO);6.90(m,1H,C=CHCOO)。
段階4:テトラヒドロフラン(100ml)中の段階3に従って得られるラクトン(38.9ミリモル)及びテトラブチルアンモニウムフルオリド(38.9ミリモル)の混合物を窒素下に、室温で3時間攪拌した。水を加え、混合物を酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和ブライン溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させて3.8gの表題のジエン酸1aを得た。収率 段階1に従って得られる中間生成物から60%。ジエン酸をフラッシュクロマトグラフィーにより精製した(CHCl:MeOH=95:5)。
化合物1a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.93(d,6H,Me −CH);1.73(m,1H;CMe);2.11(m con J=7.4Hz,2H,C CH=CH);5.6(d con J=11.4Hz,1H,CCOOH);6.12(dt con J=15.2 e 7.4,1H,CCH);6.66(dd con J=J=11.3,1H,C=CHCOOH);7.33(m con J=15.2Hz,1H,C=CHCH)。13C−NMR(CDCl,500MHZ):化学シフトp.p.m.170.6,147.0,145.3,127.4,113.9,41.7,29.1,22.2.
出発アルデヒドを変える以外は同じ方法に従って、化合物35a、36a及び37aを合成した。
化合物35a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.98(t,3H);1.45(m,2H);2.17(m,2H);5.58(d,1H,J=11.33Hz);6.12(m,1H,J=15.2Hz);6.65(dd,1H);7.34(m,1H)。
化合物36a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.1.05(d,6H);2.48(m,1H);5.6(d,1H,J=11.31Hz);6.08(m,1H);6.65(dd,1H);7.3(m,1H)。
化合物37a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.1.07(t,3H);2.25(m,2H);5.59(d,1H,J=11.35Hz);6.17(m,1H),6.66(dd,1H);7.35(m,1H)。
化合物33a:(2E,4E)−7−メチル−オクタ−2,4−ジエン酸
化合物1aのトランス−トランス異性体である化合物33aを、最終段階を変える以外は化合物1aの戦略と同じ合成戦略に従って合成した。
段階4:上記の段階3に従って得られるラクトン(2.143ミリモル)及びNaOH 30%(11ml)の混合物を還流において1時間攪拌した。HCl 5Mを用いて混合物をpH 3まで酸性化し、次いで酢酸エチルで抽出した。有機層を飽和ブライン溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させて粗生成物を得、それをフラッシュクロマトグラフィーにより精製した(クロロホルム:メタノール=9:1)。0.37gの所望の表題化合物が得られた。収率=60%
化合物33a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.9(d,6H,Me −CH);1.76(m,1H;CMe);2.1(t,2H,C CH=CH);5.82(d,1H,J=15.36Hz,CCOOH);6.12−6.3(m,2H);7.29(m,1H)。
出発アルデヒドを変える以外は同じ方法に従い、化合物32a及び34aを合成した。
化合物32a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.93(t,3H);1.45(m,2H);2.17(m,2H);5.77(d,1H,J=15.31Hz);6.15−6.3(m,2H);7.25(m,1H)。
化合物34a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.1.07(d,6H);2.43(m,1H);5.8(d,1H,J=15.24Hz);6.15(m,1H);6.24(m,1H);7.26(m,1H)。
化合物22a:4−ブトキシ−安息香酸
段階1:アセトン(15ml)中の4−ヒドロキシ−ベンズアルデヒド(8.2ミリモル)、ブチルブロミド(8.2ミリモル)、KCO(8.2ミリモル)及びKI(8.2ミリモル)の混合物を還流において6時間攪拌した。アセトンを蒸発させ、半固体残留物を水中に溶解し、酢酸エチルで抽出した。有機層をNaOH 0.1N及び次いで飽和ブライン溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させて粗生成物を得、それをそのまま続く段階のために用いた。収率 100%
段階2:エタノール(6.7ml)中の段階1に従って得られる化合物(1.12ミリモル)の溶液に、AgNO溶液(水中の4.6M,0.56ml)を加えた。KOH(水中の1M溶液の5.6ml)を加え、反応混合物を室温で2時間攪拌した。固体を濾過し、濃塩酸を用いて水溶液をpH 1まで酸性化し、ジエチルエーテルで抽出した。有機相を水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させ、所望の表題の酸(22a)を得、それをさらなる精製なしでアミド化段階のために用いた。
化合物22a:H−NMR:(DMSO−d,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.92(t,3H);1.43(m,2H);1.7(m,2H);4.03(t,2H);7.00(d,2H);7.86(d,2H)。
化合物40a:2−エチル−ヘキサン酸
CHCl(10ml)中の2−エチルヘキサノール(8.7ミリモル)の溶液に、RuClO(0.014ミリモル)及びテトラブチルアンモニウムブロミド(0.2ミリモル)を加えた。混合物を40℃に加熱し、30% H(v/v)(3ml)を滴下した。1時間後、反応が完了した。水を加え、有機相を分離し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させて表題の粗生成物を得、それをフラッシュクロマトグラフィーにより精製し(純粋なCHCl)、0.8gの所望の生成物を得た。収率 65%
化合物40a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.92(m,6H);1.3(m,4H);1.45−1.75(m,4H);2.29(m,1H);10.4(ブロード,1H)。
化合物82a:2−エチルフェニル酢酸
段階1:60%鉱油分散液としての水素化ナトリウム(240mg,6ミリモル)を乾燥丸底フラスコ中に導入し、そこに乾燥N,N−ジメチルホルムアミド(12ml)を加えた。フラスコにセラムキャップで栓をし、アルゴンをフラッシングした。攪拌されているスラリにN,N−ジメチルホルムアミド(3ml)中のシアノ酢酸エチル(679mg,6ミリモル)の溶液を滴下し、滴下の完了後に反応物を10分間攪拌した。次いで2−エチルヨードベンゼンを一度に加え、続いてヨウ化銅(I)(1143mg,6ミリモル)を加えた。混合物を95℃で4時間加熱し、次いで0℃に冷却し、1N 塩酸(100ml)中に注いだ。ジエチルエーテルを加えた;水層を取り出し、3x100mlのジエチルエーテルで再び抽出した。エーテル性抽出物を合わせ、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下で除去した。油性残留物をフラッシュクロマトグラフィーにより、ヘキサン:酢酸エチル:ジクロロメタン 8:1:1を溶離剤として用いて精製し、326mgのエチル シアノ(2−エチルフェニル)酢酸エチルエステルを無色の油として得た。収率 50%。
H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.1.25(t,3H,ArCH );1.27(t,3H,COOCH );2.72(m,2H,ArC CH);4.24(m,2H,COOC CH);4.92(s,1H,NCCCOOEt);7.26(m,2H,Ar);7.34(m,1H,Ar);7.47(m,1H,Ar)。
段階2:上記の段階1に従って得られるシアノ(2−エチルフェニル)酢酸エチルエステル(1.5ミリモル)及び1N 水酸化ナトリウム(10ml)の混合物を還流において40時間攪拌した。濃塩酸を用いて混合物をpH2まで酸性化し、次いで2x20mlの酢酸エチルで抽出した。有機抽出物を合わせ、飽和ブライン溶液で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で蒸発させて222mgの所望の表題化合物を白色の固体として得た。収率 90%。
化合物82a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.1.23(t,3H,ArCH );2.68(q,2H,ArC CH);3.70(s,2H,C COOH);7.17(m,1H,Ar);7.24(m,3H,Ar)。
化合物49a:2−エチルヨードベンゼンの代わりに2,6−ジメチルヨードベンゼンを用いる以外は同じ方法に従い、化合物49aを合成した。
H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.2.35(s,6H,ArC );3.74(s,2H,C COOH);7.04(m,2H,Ar);7.08(m,1H,Ar)。
化合物122a:3−エチル−ペンタン酸
段階1:乾燥テトラヒドロフラン(20ml)を乾燥丸底フラスコ中に導入し、60%鉱油分散液としての水素化ナトリウム(1.3g,32.67ミリモル)をそこに加えた。フラスコを0℃に冷却し、アルゴンをフラッシングした。冷却され且つ攪拌されたスラリにジエチル−ホスホノ酢酸メチル(5ml 27.23ミリモル)を滴下した。反応溶液を15分間攪拌し、次いでジエチルケトン(2.9ml 27.23ミリモル)を加え、温度を室温に上昇させた。反応物をアルゴン雰囲気下で終夜攪拌した。ジクロロメタン(100ml)を加え、有機相を1N 塩酸(100ml)及び水(100ml)で洗浄した。有機相を分離し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、次いで減圧下で溶媒を除去した。
油性残留物をフラッシュクロマトグラフィー(器械:Isco ColumnによるCombiFlash Sq 16X:Redi Sep法:相A n−ヘキサン;相B 酢酸エチル 検出器 UV=230nm;流量 40ml/分 T=0 %B=0,T=20 %B=10,T=30 %B=20)により精製し、3.28gの3−エチル−ペント−2−エン酸メチルエステルを無色の油として得た。収率 84.8%
H−NMR:(CDCl,600MHZ):化学シフト,p.p.m.1.05−1.09(m,6H,CH );2.20(q,2H,CH );2.63(q,2H,CH );5.61(s,1H,CCC(O))。
段階2:3−エチル−ペント−2−エン酸メチルエステル(150mg,1.056ミリモル)をジオキサン(1ml)中に溶解し、活性炭上のパラジウム 10%(30mg)を加えた;スラリを加圧下で(40p.s.i.)4時間水素化した。炭素を濾過し、フィルターをジオキサン(1ml)で洗浄した;混合物に1N NaOH(2ml)を加え、それを室温で終夜放置した;1N 塩酸(3ml)の添加の後、生成物を酢酸エチルで抽出した。有機溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下で除去し、90mgの3−エチルペンタン酸を無色の油として得た。収率 65.5%。
化合物122a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.90(t,6H,CH );1.35−1.43(m,4H,CH );1.75−1.78(m,1H,CH);2.29(d,2H,C C(O))。
適したカルボニル誘導体(アルデヒド又はケトン)及びメチルジエチルホスホノ誘導体(アセテート又は2プロピオネート)を出発材料として用いる以外は同じ方法に従い、以下の化合物を合成した。
化合物63a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.88−0.92(m,6H,CH );1.25−1.42(m,6H,CH ,CH );1.82−1.84(m,1H,CH);2.28(d,2H,C C(O))。
化合物65a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.86(t,6H,CH );1.22−1.25(m,1H,CH);1.28−1.34(m,4H,CH );1.59−1.64(m,2H,CHC );2.32−2.35(m,2H,C C(O))。
化合物68a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.85−0.95(m,9H,CHC );1.09(d,1.5H,CHC );1.15(d,1.5H,CHC ) ジアステレオマー;1.05−1.23(m,2H,CHC );1.6−1.67(m,1H,CH);1.85−1.87(m,0.5H,CH);1.98−2.00(m,0.5H,CH) ジアステレオマー;2.38−2.43(m,1H,CH)。
化合物123a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.84−0.92(m,6H,CH );1.09(d,3H,CHC );1.30−1.33(m,2H,CH );1.34−1.42(m,2H,CH );1.60−1.62(m,1H,CH);2.55−2.58(m,1H,CHC)。
化合物124a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.86−0.93(m,6H,CH );1.09(d,1.5H,CHC );1.10(d,1.5H,CHC ) ジアステレオマー;1.28−1.36(m,4H,CH );1.37−1.46(m,2H,CHCH);1.69−1.71(m,1H,CH);2.55−2.59(m,1H,CC(O))。
化合物126a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.83−0.86(m,6H,CH );1.18(d,3H,CHC );1.25−1.35(m,6H,CHC );1.64−1.69(m,1H,CH);2.52−2.56(m,1H,CC(O))。
化合物127a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.87−0.90(m,6H,CHC );0.96(d,3H,CHC );1.08−1.19(m,2H,CHC );1.62−1.66(m,1H,CHCH);2.04−2.07(m,1H,CHCH);1.14(dd,1H,C C(O));2.34(dd,1H,C C(O))。
化合物119a:3−エチルペント−2−エン酸
第2段階を変える以外は、化合物122aと同じ合成に従って酸119aを得た。
段階2:3−エチルペント−2−エン酸メチルエステル(200mg,1.4ミリモル)をジオキサン(1ml)中に溶解した。1N NaOH(1ml)を加え、混合物を50℃で終夜放置した;1N 塩酸を加え(2ml)、化合物を酢酸エチルで抽出した。有機溶液を硫酸ナトリウム上で乾燥し、濾過し、溶媒を減圧下で除去し、162mgの3−エチルペント−2−エン酸を無色の油として得た。収率 90%。H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.1.06−1.11(m,6H,CH );2.23(q,2H,CH );2.64(q,2H,CH );5.65(s,1H,CC(O))。
同じ方法に従い、対応するメチルエステル(化合物122aの製造に関して記載された第1段階に従って製造される)を出発材料として用い、以下の化合物を合成した:
化合物120a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.1.01−1.09(m,6H,CH );1.91(s,1H,CC );2.20(q,2H,CH );2.46(q,2H,CH )。
化合物121a:H−NMR:(CDCl,500MHZ):化学シフト,p.p.m.0.85−0.89(m,6H,CH );1.35−1.41(m,2H,CH );1.48−1.55(m,2H,CH );2.02−2.05(m,1H,CH);5.81(d,1H,CHC);6.86(q,1H,CC(O))。
ジFMOC RAMO−NHH−NMRスペクトルの図。 ジFMOC RAMO−NH13C−NMRスペクトルの図。

Claims (16)

  1. 式(I)
    RAMO−NH−CO−R (I)
    [式中、Rは以下:
    i)式:
    Figure 2005529852
    の炭化水素基であって、式中、R、R及びRはそれぞれ独立して水素又は炭素数が1〜4の低級アルキルを示し;Rは水素、メチル又はエチルを示し;Rは水素又は炭素数が1〜5の低級アルキルを示す炭化水素基;あるいは
    ii)式−A−Rの基であって、式中、Aは基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる直鎖状もしくは分枝鎖状(C−C)アルキレン又は(C−C)アルキリデン基を示し、Rは:
    −アルキル部分が直鎖状もしくは分枝鎖状であることができ、且つ場合により二重結合を含有していることができ、且つ1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4のアルコキシ基、
    −場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオ、フェニル、フェニル−炭素数が1〜4の低級アルキル、フェノキシ、フェノキシ−炭素数が1〜4の低級アルキルから独立して選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基であって、ここでフェニルならびにフェニル低級−アルキル、フェノキシ及びフェノキシ−低級アルキル基のフェニル部分が場合によりハロ、シアノ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
    −場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、
    −フェニル部分が場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェノキシ基、あるいは
    −ナフチル部分が場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフトキシ基
    を示し;
    −但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rは非置換であるかもしくは場合により上記で規定した通りに置換されていることができる低級アルコキシ、フェノキシ又はナフトキシ基を示すことができない
    式−A−Rの基
    の意味を有し、
    基RAMO−NH−は式(f)
    Figure 2005529852
    のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、
    式中、
    Xは水素、アルファ−D−マンノピラノシル、2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノ−ピラノシルを示し;
    Yは水素又はアミノ官能基の保護基を示す]
    のラモプラニン−様アミド誘導体ならびにその酸付加塩の製造方法であって、
    式(III)
    Figure 2005529852
    [式中、
    Xは水素、アルファ−D−マンノピラノシル又はアルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    Y’はアミノ官能基の保護基を示す]
    のデアシルラモプラニン化合物を、Rが上記と同じ意味を有するカルボン酸RCOOH(IV)と、縮合剤の存在下であるいは該カルボン酸の活性化エステルの形成を介して反応させ、場合によりアミノ官能基の保護基を除去することにより、アミド化に供することを特徴とする方法。
  2. Rが−A−R基を示す場合、Aが基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる炭素数が1〜4の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレン基を示し、Rが:
    −アルキル部分が直鎖状もしくは分枝鎖状であることができ、且つ場合により二重結合を含有していることができ、且つ1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4のアルコキシ基、
    −場合によりハロ、シアノ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ、フェニル、フェニル−炭素数が1〜4の低級アルキル、フェノキシ、フェノキシ−炭素数が1〜4の低級アルキルから独立して選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェニル基であって、ここでフェニルならびにフェニル低級−アルキル、フェノキシ及びフェノキシ−低級アルキル基のフェニル部分が場合によりハロ、シアノ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
    −場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、
    −フェニル部分が場合によりハロ、シアノ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェノキシ基、あるいは
    −ナフチル部分が場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフトキシ基
    を示し;
    −但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rは非置換であるかもしくは場合により上記で規定した通りに置換されていることができる低級アルコキシ、フェノキシ又はナフトキシ基を示すことができず;
    他のすべての記号は請求項1におけると同じ意味を有する
    請求項1に記載の方法。
  3. 式(Ia)
    RAMO−NH−CO−R (Ia)
    [式中、Rは以下:
    i)式:
    Figure 2005529852
    の炭化水素基であって、式中、R、R及びRはそれぞれ独立して水素又は炭素数が1〜4の低級アルキルを示し;Rは水素、メチル又はエチルを示し;Rは水素又は炭素数が1〜5の低級アルキルを示し、但しR、R、R及びRが同時に水素を示す式(a)の、あるいはR、R、R及びRが同時に水素を示し且つ二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する式(e)の炭化水素基をRが示す場合、Rはn−プロピル、イソブチル又はイソペンチル基を示すことができない炭化水素基;あるいは
    ii)式−A−Rの基であって、式中、Aは基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる直鎖状もしくは分枝鎖状(C−C)アルキレン又は(C−C)アルキリデン基を示し、Rは:
    −アルキル部分が直鎖状もしくは分枝鎖状であることができ、且つ場合により二重結合を含有していることができ、且つ1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4のアルコキシ基、
    −場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオ、フェニル、フェニル−炭素数が1〜4の低級アルキル、フェノキシ、フェノキシ−炭素数が1〜4の低級アルキルから独立して選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基であって、ここでフェニルならびにフェニル低級−アルキル、フェノキシ及びフェノキシ−低級アルキル基のフェニル部分が場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
    −場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、
    −フェニル部分が場合によりハロ、シアノ、ニトロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキルチオから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェノキシ基、あるいは
    −ナフチル部分が場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフトキシ基
    を示し;
    −但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rは非置換であるかもしくは場合により上記で規定した通りに置換されていることができる低級アルコキシ、フェノキシ又はナフトキシ基を示すことができない
    −A−Rの基
    の意味を有し、
    基RAMO−NH−は式(f)
    Figure 2005529852
    のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、
    式中、
    −Xは水素、アルファ−D−マンノピラノシル、2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    −Yは水素又はアミノ官能基の保護基を示す]
    のラモプラニン−様アミド誘導体及びその酸付加塩。
  4. Rが−A−R基を示す場合、Aが基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる炭素数が1〜4の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレン基を示し、Rが:
    −アルキル部分が直鎖状もしくは分枝鎖状であることができ、且つ場合により二重結合を含有していることができ、且つ1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4のアルコキシ基、
    −場合によりハロ、シアノ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシ、フェニル、フェニル−炭素数が1〜4の低級アルキル、フェノキシ、フェノキシ−炭素数が1〜4の低級アルキルから独立して選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェニル基であって、ここでフェニルならびにフェニル低級−アルキル、フェノキシ及びフェノキシ−低級アルキル基のフェニル部分が場合によりハロ、シアノ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
    −場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、
    −フェニル部分が場合によりハロ、シアノ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェノキシ基、あるいは
    −ナフチル部分が場合によりハロ、場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルキル及び場合により1〜3個のハロゲン原子で置換されていることができる炭素数が1〜4の低級アルコキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフトキシ基
    を示し;
    −但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rは非置換であるかもしくは場合により上記で規定した通りに置換されていることができる低級アルコキシ、フェノキシ又はナフトキシ基を示すことができず;
    他のすべての記号は請求項3におけると同じ意味を有する
    請求項3のラモプラニン−様アミド誘導体。
  5. 式(III)
    Figure 2005529852
    [式中、
    Xは水素、アルファ−D−マンノピラノシル又はアルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル又は2,3−O−ジ[アルファ−D−マンノピラノシル]−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    Y’は好ましくは
    9−フルオレニルメトキシカルボニル(FMOC)、
    9−(2−スルホ)フルオレニルメトキシカルボニル、
    9−(2,7−ジブロモ)フルオレニルメトキシカルボニル、
    2−クロロ−3−インデニルメトキシカルボニル、
    ベンズ(f)インデン−3−イルメトキシカルボニル、
    2,7−ジ−t−ブチル−[9−(10,10ジオキソ−10,10,10,10−テトラ−ヒドロチオキサンチル)]メトキシカルボニル、
    1,1−ジメチル−2−シアノエトキシカルボニル、
    アリルオキシカルボニル、
    シンナミルオキシカルボニル、
    N−ヒドロキシピペリジニルオキシカルボニル、
    ベンジルオキシカルボニル(CBZ)、
    p−ニトロベンジルオキシカルボニル、
    3,4−ジメトキシ−6−ニトロベンジルオキシカルボニル、
    2,4−ジクロロベンジルオキシカルボニル、
    9−アンスリルメチルオキシカルボニル
    及びジフェニルメトキシカルボニル、
    から選ばれるアミノ官能基の保護基、最も好ましくはFMOC又はCBZを示す]
    のデアシルラモプラニン化合物及びその酸付加塩。
  6. 式(III)のデアシルラモプラニン化合物のアミノ官能基の保護基Y’が:
    9−フルオレニルメトキシカルボニル(FMOC)、
    9−(2−スルホ)フルオレニルメトキシカルボニル、
    9−(2,7−ジブロモ)フルオレニルメトキシカルボニル、
    2−クロロ−3−インデニルメトキシカルボニル、
    ベンズ(f)インデン−3−イルメトキシカルボニル、
    2,7−ジ−t−ブチル−[9−(10,10ジオキソ−10,10,10,10−テトラ−ヒドロチオキサンチル)]メトキシカルボニル、
    1,1−ジメチル−2−シアノエトキシカルボニル、
    アリルオキシカルボニル、
    シンナミルオキシカルボニル、
    N−ヒドロキシピペリジニルオキシカルボニル、
    ベンジルオキシカルボニル(CBZ)、
    p−ニトロベンジルオキシカルボニル、
    3,4−ジメトキシ−6−ニトロベンジルオキシカルボニル、
    2,4−ジクロロベンジルオキシカルボニル、
    9−アンスリルメチルオキシカルボニル
    及びジフェニルメトキシカルボニル、
    好ましくはFMOC又はCBZから選ばれる請求項1及び2のいずれかに記載の方法。
  7. カルボン酸RCOOH(IV)を式(III)のデアシルラモプラニン化合物と:ジイソプロピルカルボジイミド(DIC)、ヒドロキシベンゾトリアゾール(HOBT)なしの又はその存在下におけるジシクロヘキシルカルボジイミド(DCC)、N,N,N’,N’−テトラメチル−O−(ベンゾトリアゾール−1−イル)ウロニウムテトラフルオロボレート(TBTU)、N,N,N’,N’−テトラメチル−O−(7−オキサベンゾトリアゾール−1−イル)ウロニウムヘキサフルオロホスフェート(HATU)、ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−(ジメチルアミノ)ホスホニウムヘキサフルオロホスフェート(HBTU)、ベンゾトリアゾリルオキシ−トリス−(ピロリジノ)ホスホニウムヘキサフルオロ−ホスフェート(PyBOP)及び(C−C)アルキル、フェニル又は複素環式ホスホルアジデート、例えばジフェニル−ホスホルアジデート、ジモルホリル−ホスホルアジデートから選ばれる縮合剤の存在下で反応させることによりアミド化を行なう請求項1、2及び6のいずれかに記載の方法。
  8. 酸RCOOH(IV)の活性化エステルを介してアミド化を行い、ここで該活性化エステルが:4−ニトロフェノール、2,4−ジニトロフェノール、2,4,5−トリクロロフェノール、2−クロロ−4,6−ジメトキシトリアジン、1−ヒドロキシベンゾトリアゾール、ペンタフルオロフェノール、1−ヒドロキシ−6−クロロ−1H−ベンゾトリアゾールから選ばれる化合物を用いる該酸RCOOH(IV)のエステル化により製造される請求項1、2及び6のいずれかに記載の方法。
  9. アミド化反応を:有機アミド、グリコール及びポリオールのエーテル、ホスホルアミド誘導体、スルホキシド、好ましくはジメチルホルムアミド、ジメトキシエタン、ヘキサメチルホスホロアミド、ジメチルスルホキシド、ジオキサン、N−メチルピロリドン及びそれらの混合物から選ばれる溶媒の存在下で行なう請求項1、2、6、7及び8のいずれかに記載の方法。
  10. Rが:
    i)上記の式(a)、(b)、(c)、(d)又は(e)の炭化水素基であって、式中、R、R及びRはそれぞれ独立して水素、メチル、エチル又はプロピルを示し、Rは水素、メチル又はエチルを示し、Rは水素又は炭素数が1〜4の低級アルキルを示し、但し該基(a)、(b)、(c)、(d)又は(e)の炭素原子の合計数は両端を含んで4〜8であり、且つさらに但しR、R、R及びRが同時に水素を示す式(a)の、あるいはR、R、R及びRが同時に水素を示し且つ二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する式(e)の炭化水素をRが示す場合、Rは炭素数が3又は4の低級アルキルを示すことができない炭化水素基、あるいは
    ii)式−A−Rの基であって、式中、Aは基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる直鎖状もしくは分枝鎖状(C−C)アルキレン又は(C−C)アルキリデン基を示し、Rは:
    −場合により、炭素数が1〜4の低級アルキル、トリフルオロメチル、炭素数が1〜4の低級アルコキシ、トリフルオロメトキシ、トリフルオロメチルチオ、クロロ、ブロモ、フルオロ、ニトロ、シアノ及びフェニルから選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
    −場合により、炭素数が1〜4の低級アルキル、炭素数が1〜4の低級アルコキシ、クロロ、フルオロ、トリフルオロメチル及びトリフルオロメトキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、あるいは
    −場合により炭素数が1〜4の低級アルキルで置換されていることができるフェノキシ基
    を示し、
    −但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rはフェノキシ又は場合により炭素数が1〜4の低級アルキルで置換されていることができるフェノキシを示すことができない
    式−A−Rの基
    を示し、
    −基RAMO−NH−が上記の式(f)のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、ここでXは水素、2−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;Yは水素又はアミノ官能基の保護基を示す
    請求項3の化合物及びその酸付加塩。
  11. Rが:
    i)上記の式(a)、(b)、(c)、(d)又は(e)の炭化水素基であって、式中、R、R、R及びRはそれぞれ独立して水素、メチル又はエチルを示し、Rは水素又は炭素数が1〜4の低級アルキルを示し、但し該基(a)、(b)、(c)、(d)又は(e)の炭素原子の合計数は両端を含んで4〜8であり、且つさらに但しR、R、R及びRが同時に水素を示す式(a)の、あるいはR、R、R及びRが同時に水素を示し且つ二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する式(e)の炭化水素をRが示す場合、Rは炭素数が3又は4の低級アルキルを示すことができない炭化水素基;あるいは
    ii)式−A−Rの基であって、式中、Aは基Rをカルボニル基と直接連結する結合あるいは場合により二重結合を含有していることができる炭素数が1〜4の直鎖状もしくは分枝鎖状アルキレン基を示し、Rは:
    −場合により、炭素数が1〜4の低級アルキル、トリフルオロメチル、炭素数が1〜4の低級アルコキシ、トリフルオロメトキシ、クロロ、ブロモ、フルオロ、シアノ及びフェニルから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェニル基、
    −場合により、炭素数が1〜4の低級アルキル、炭素数が1〜4の低級アルコキシ、クロロ、フルオロ、トリフルオロメチル及びトリフルオロメトキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるナフチル基、あるいは
    −フェノキシ基
    を示し、
    −但しAが基Rをカルボニル基と直接連結する結合を示す場合、Rはフェノキシ基を示すことができない
    式−A−Rの基
    を示し、
    他のすべての記号は請求項10におけると同じ意味を有する
    請求項10の化合物。
  12. Rが:
    i)Rが水素、メチル又はエチルを示し、R、R及びRが水素を示し、Rがメチル又はエチルを示す式(a)の炭化水素基、
    −R、R、R及びRが水素を示し、Rが炭素数が1〜4の低級アルキルを示す式(b)の炭化水素基、
    −R、R、R及びRが水素を示し、Rが炭素数が1〜4の低級アルキルを示し、両方の二重結合が(E)トランス立体配置を有する式(e)の炭化水素基、
    −R、R、R及びRが水素を示し、Rがメチル又はエチルを示し、二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する式(e)の炭化水素基;あるいは
    ii)Aが基Rをカルボニル基と直接連結する結合又はメチレン基を示し、Rが場合によりフェニル基で又はメチル、エチル、メトキシ及びエトキシから選ばれる1もしくは2個の置換基で置換されていることができるフェニル基あるいはナフチル基を示す式−A−Rの基
    を示し;
    基RAMO−NH−が上記の式(f)のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、式中、
    Xは水素、2−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル、好ましくは2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    Yは水素又はアミノ官能基の保護基、好ましくはFMOC又はCBZを示す
    請求項3の化合物及び製薬学的に許容され得るその酸付加塩。
  13. (a)Rが−A−R基を示す場合、Aが基Rをカルボニル基と直接連結する結合又はメチレン基を示し、Rが場合によりメチル、エチル、メトキシ、エトキシ及びフェニルから選ばれる置換基で置換されていることができるフェニル基あるいはナフチル基を示し;
    (b)基RAMO−NH−が上記の式(f)のラモプラニン抗生物質コア部分を示し、式中、
    Xは2−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル、好ましくは2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    他のすべての記号は請求項12におけると同じ意味を有する
    請求項12の化合物。
  14. Rが:
    −Rがエチルを示し、R、R及びRが水素を示し、Rがメチルを示す上記の式(a)の炭化水素基、
    −R、R、R及びRが水素を示し、Rがエチルを示し、二重結合がそれぞれ2シス(Z)及び4トランス(E)立体配置を有する上記の式(e)の炭化水素基;
    −R、R、R及びRが水素を示し、Rがエチルを示し、両方の二重結合がトランス(E)立体配置を有する上記の式(e)の炭化水素基;
    −R、R、R及びRが水素を示し、Rがイソプロピルを示し、両方の二重結合がトランス(E)立体配置を有する上記の式(e)の炭化水素基;あるいは
    −Aがメチレン基を示し、Rが2−メチルフェニル、2,6−ジメチルフェニル、2−エチルフェニル又は1−ナフチルを示す基−A−R
    を示し;
    基RAMO−NH−が上記の式(f)の抗生物質コア部分を示し、式中、
    Xは水素、2−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル、好ましくは2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    Yは水素又はアミノ官能基の保護基、好ましくはFMOC又はCBZを示す
    請求項3の化合物及び製薬学的に許容され得るその酸付加塩。
  15. (a)Rが−A−Rの基を示す場合、Aがメチレン基を示し、Rが2−メチルフェニル又は1−ナフチルを示し;
    (b)基RAMO−NH−は上記の式(f)の抗生物質コア部分を示し、式中、
    Xは2−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル、好ましくは2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    他のすべての記号は請求項14におけると同じである
    請求項14の化合物。
  16. Rが基−A−Rを示し、ここで
    Aはメチレン基を示し、Rは2−メチルフェニルを示し、
    基RAMO−NH−が式(f)の抗生物質コア部分を示し、ここでXは2−O−アルファ−D−マンノピラノシル又は2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシル、好ましくは2−O−アルフア−D−マンノピラノシル−アルファ−D−マンノピラノシルを示し;
    Yは水素を示す
    請求項13の化合物及び製薬学的に許容され得るその酸付加塩。
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