JP2005526852A - 新規な置換スルファメート抗痙攣性誘導体 - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、一般式(I):
の新規な抗痙攣性誘導体及び該誘導体を含有する製薬学的組成物に関する。式(I)の化合物はてんかんの処置において有用である。
の化合物の製造法を目的とする。
てんかんは、人が慢性の根源的なプロセスの故の再発性発作を有する状態を記述している。てんかんは、1つの疾患自体ではなくて臨床的現象を指し、それは、てんかんの多くの形態及び原因が存在するからである。てんかんの定義を2回もしくはそれより多い正当な理由のない発作として用いると、てんかんの発生率は世界中の種々の集団において約0.3〜0.5パーセントと見積もられ、てんかんの有病率は1000人当たり5〜10人と見積もられる。
特許文献1は、ある種類の新規な抗−てんかん性化合物を開示している。これらの化合物の1つ、トピラメートとして既知の2,3:4,5−ビス−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノーススルファメートは、ヒトのてんかんの臨床試験において、単純及び複雑部分発作ならびに二次的に全身化した発作の処置における付属治療として又はモノテラピー(monotherapy)として有効であることが示された(非特許文献1;非特許文献2)。
本発明は、式(I)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R12は独立してアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR12置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1及びR2はそれらが結合しているN原子と一緒になってヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し;ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここで−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており;そしてここで1個より多い−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか;
あるいはまた、R1及びR2はそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、シクロアルキル、アルキル、ジアルキルアミノ、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し;
但し、R1がアルキルである場合、R2はアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり;
さらに但し、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり;
さらに但し、XがOであり、R2及びR3が一緒になって式:
R4及びR5が一緒になって式:
ここでR7及びR8はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つR1が水素である場合、R2は
イソプロピルスルホニル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル又は4−ピリジル以外である]
の新規な化合物又はその製薬学的に許容され得る塩に関する。
XはCH2又はOから選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩の製造法に関し、その方法は式(Ij)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させて対応する式(XX)の化合物を得ることを含んでなる。
本発明は、てんかんの処置のために有用な式(I)
の化合物に関する。
XはCH2又はOから選ばれ;
R1は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R12は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR12置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1及びR2は、それらが結合しているN原子と一緒になってヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し;ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここで−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており;そしてここで1個より多い−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか;
あるいはまた、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し;
但し、R1がアルキルである場合、R2はアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり;
さらに但し、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり;
さらに但し、XがOであり、R2及びR3が一緒になって式:
R4及びR5が一緒になって式:
ここでR7及びR8はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つR1が水素である場合、R2は
イソプロピルスルホニル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル又は4−ピリジル以外である]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩がある。
ここでそれぞれの場合にR7及びR8は両方とも水素であるか、又は両方とも低級アルキルである。好ましくは、R7及びR8は両方とも水素又はメチルである。
の化合物がある。
ここで単独のもしくは置換基の一部としてのアルキル、アラルキル、窒素含有ヘテロアリール又は窒素含有ヘテロシクロアルキルは、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができる。
ここでR20は低級アルキルである。好ましくは、2個のR14基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって2−(1−メチル−ピロリジニル)を形成する。
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aは、それらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し;
但し、R1が水素の場合、R2はメチルカルボニル又はカルボキシエチル以外である]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を目的とする。
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルであり;
但し、R1が水素の場合、R2はメチルカルボニル又はカルボキシエチル以外である]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩がある。
の化合物及び式(XXa)
XはCH2又はOから選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2の場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOの場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルから選ばれるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物の製造法に関し、その方法は式(Ij)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基はそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させて、対応する式(XX)の化合物を得ることを含んでなる。式(XX)の化合物はてんかんの処置に有用である。
XはCH2又はOから選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2の場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOの場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を製造する方法であって、式(Ij)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2の場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させ、対応する式(XX)の化合物を得ることを含んでなる方法がある。
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;且つここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルである]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させ、対応する式(XXa)の化合物を得ることを含んでなる方法がある。式(XXa)の化合物はてんかんの処置に有用である。
酢酸塩、ベンゼンスルホン酸塩、安息香酸塩、重炭酸塩、重硫酸塩、重酒石酸塩、ホウ酸塩、カルシウムエデト酸塩、カムシレート、炭酸塩、クラブラネート、クエン酸塩、エデト酸塩、エジシレート、エストレート、エシレート、フマル酸塩、グルセプテート、グルコン酸塩、グルタミン酸塩、グリコリルアルサニレート、ヘキシルレゾルシネート、ヒドラバミン、ヒドロブロミド、ヒドロクロリド、ヒドロキシナフトエート、ヨーダイド、イソチオネート、乳酸塩、ラクトビオネート、ラウリン酸塩、リンゴ酸塩、マレイン酸塩、マンデル酸塩、メシレート、メチルブロミド、メチルナイトレート、メチルサルフェート、粘液酸塩、ナプシレート、硝酸塩、N−メチルグルカミンアンモニウム塩、オレイン酸塩、パモ酸塩(エンボネート)、パルミチン酸塩、パントテン酸塩、リン酸塩/二リン酸塩、ポリガラクツロン酸塩、サリチル酸塩、ステアリン酸塩、硫酸塩、サブアセテート、コハク酸塩、タンニン酸塩、酒石酸塩、テオクレート、トシレート、トリエチオダイド、吉草酸塩、ベンザンチン、クロロプロカイン、コリン、ジエタノールアミン、エチレンジアミン、メグルミン、プロカイン、アルミニウム、カルシウム、リチウム、マグネシウム、カリウム、ナトリウム及び亜鉛。
AcN =アセトニトリル
Benzhydryl =−CH(フェニル)2
CDI =1,1’−カルボニルジイミダゾール
DAF =ジアセトンフルクトース
DCC =1,3−ジシクロヘキシルカルボジイミド
DCM =ジクロロメタン
DIPEA =ジイソプロピルエチルアミン
DME =ジメトキシエタン
DMF =ジメチルホルムアミド
EtOAc =酢酸エチル
EtOH =エタノール
GC =ガスクロマトグラフィー
HBTU =O−(1H−ベンゾトリアゾール−1−イル)−N,N,N’,N’−テトラメチルウロニウムヘキサフルオロホスフェート
HPLC =高圧液体クロマトグラフィー
MeOH =メタノール
SEM =2−(トリメチルシリル)エトキシメチル
SEM−Cl =2−(トリメチルシリル)エトキシメチルクロリド
TBAH =テトラブチルアンモニウムヒドロキシド
TEA =トリエチルアミン
THF =テトラヒドロフラン
TLC =薄層クロマトグラフィー
Topiramate=2,3:4,5−ビス−O−(1−メチルエチリデン)−β−D−フルクトピラノーススルファメート
式(I)の化合物は、スキーム1に概述される方法に従って製造することができる。
[実施例1]
融点 51〜52℃
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 5.99−5.80(1H,m),5.30(1H,d,J=17.5Hz),5.24(1H,d,J=10.2Hz),4.63(1H,dd,J=8.3,2.5Hz),4.35(1H,d,J=2.7Hz),4.27(1H,s),4.19(2H,dd,J=12.9,10.5Hz),3.93(1H,dd,J=13.0,1.9Hz),3.83−3.74(3H,m),1.56(3H,s),1.49(3H,s),1.44(3H,s),1.36(3H,s)。
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,47.48;H 6.64;N,3.69;O,33.73;S,8.45
F:C,47.52;H 6.77
化合物#3〜6,8,21〜27,37〜39及び45は、上記のアリルアミンの代わりに適切に置換されたアミンを適宜に選択し且つ置き換えて、上記の方法に従い、類似して製造された。
[実施例2]
融点 45〜48℃
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 7.10(1H,s),7.05(1H,s),4.62(1H,dd,J=8.0,2.5Hz),4.35(1H,d,J=2.6Hz),4.25(1H,d,J=7.6Hz),3.93(1H,dd,J=13.0,1.8Hz),3.78(1H,d,J=12.9Hz),3.69(2H,q,J=17.4,12.0Hz),1.55(3H,s),1.49(3H,s),1.40(3H,s),1.36(3H,s)。
[実施例3]
融点 88〜90℃
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 4.60(1H,d,J=7.7Hz),4.45−4.34(2H,m),4.30−4.19(2H,m),3.91(1H,d,J=12.8Hz),3.75(1H,d,J=13.0Hz),1.60−1.38(18H,m),1.33(3H,s)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,46.46;H,6.65;N,3.19;O,36.41;S,7.30
F:C,46.78;H,6.89;N,3.15
化合物#13は、第3級ブチルアルコールの代わりにトリフェニルシリノールに置き換えて、上記の方法に従って類似して製造され、白色の固体を与えた。
[実施例4]
攪拌棒、熱電対及びN2出口が備えられた250mLの反応フラスコに、クロロスルホニルイソシアノエート(10.0mL,115ミリモル)及びジクロロメタン(20mL)を入れた。反応フラスコを0℃に冷却した後、滴下ロートを介し、30分かけてベンジルアルコール(11.9mL,115ミリモル)を加えた。内部温度を10℃より低く保った。完全な添加の後、反応混合物を室温に温め、15分間攪拌し、次いで真空下で濃縮して白色の固体を得た。白色の固体を石油エーテル(100mL)中で磨砕した。濾過により固体を集め、石油エーテル(2x50mL)で洗浄し、真空下で乾燥し、最終的生成物を白色の微粉末として得た。
段階B:
攪拌棒及びN2出口が備えられた100mLの反応フラスコに、[[[(クロロスルホニル)アミノ]カルボニル]オキシ]−ベンゼン(5.0g,21ミリモル)及びアセトニトリル(20mL)を入れた。次いで滴下ロートを介し、ピリジン(2.4mL,30ミリモル)中のジアセトンフルクトース(5.2g,20ミリモル)を加え、反応物を終夜攪拌した。次いで材料を濃縮乾固して油を得た。油をDCM(100mL)中に取り上げ、0.5N HCl(2x50mL)及びブライン(1x50mL)で洗浄した。相分離の後、有機層をNa2SO4(150g)上で乾燥し、濾過し、真空下で濃縮して粘着性の白色の固体を得た(9.3g)。材料をシリカゲルに適用し、酢酸エチル及びヘキサン(50%)で溶離させて表題化合物を粘性の油として得た。
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 8.58(1H,s),7.45−7.30(5H,m),5.21(1H,s),4.58−4.50(1H,m),4.42(1H,dd,J=10.6,3.0Hz),4.35−4.17(3H,m),3.87(1H,d,J=13.4Hz),3.74(1H,d,J=13.2Hz),1.51(3H,s),1.43(3H,s),1.36(3H,s),1.32(3H,s)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,50.73;H,5.75;N,2.96;O,33.79;S,6.77
F:C,50.97;H,6.10;N,2.67
[実施例5]
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 4.61(1H,dd,J=8.0,2.6Hz),4.39(1H,d,J=10.7),4.33−4.20(3H,m),3.90(1H,d,J=13.4Hz),3.76(1H,d,J=13.4),2.54−2.34(2H,m),1.54(3H,s),1.47(3H,s),1.42(3H,s),1.34(3H,s),1.16(3H,t,J=7.2Hz)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,45.56;H,6.37;N,3.54;O,36.42;S,8.11
F:C,45.28;H,6.47;N,3.26
化合物#29は、無水プロピオン酸の代わりに無水酢酸に置き換え、上記の方法に従って類似して製造され、黄色の油を与えた。
[実施例6]
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 4.54(1H,dd,J=8.0,2.7Hz),4.35(1H,d,J=2.7Hz),4.21(1H,d,J=8.2Hz),3.89−3.68(3H,m),3.56(1H,d,J=13.3Hz),1.70(3H,s),1.43(3H,s),1.34(3H,s),1.27(3H,s)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,41.69;H,5.50;N,3.47;Na,5.70;O,35.70;S,7.95
F:C,41.56;H,5.89;N,2.94;Na,5.93
化合物#16、17、19及び20は、上記の方法に従い、類似して製造された。
[実施例7]
融点 126℃
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 4.63(1H,dd,J=8.0,2.7Hz),4.36−4.2(4H,m),3.93(1H,d,J=13.0,1.9Hz),3.80(1H,d,J=13.0Hz),1.56(3H,s),1.51(3H,s),1.44(3H,s),1.37(3H,s)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,33.12;H,4.28;N,2.97;O,33.94;S,13.60;F,12.09
F:C,33.25;H,4.18;N,3.06
化合物#44及び62〜91は、N−トリフルオロメタンスルホニルクロリドの代わりに適切に置換されたクロリドを適宜選択し且つ置き換え、上記の方法に従って類似して製造された。
[実施例8]
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 4.70(8H,s),4.43−4.37(2H,m),4.16(2H,d,J=3.6Hz),3.93(1H,d,J=13.7Hz),3.83(1H,t,J=5.0Hz),3.74(1H,d,J=13.7Hz),1.52(3H,s),1.44(3H,s),1.38(3H,s),1.33(3H,s)
化合物#32は、モルホリンの代わりにt−ブチルアミンに置き換え、上記の方法に従って類似して製造され、白色の固体を与えた。
[実施例9]
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 4.76(4H,s),4.61(1H,dd,J=8.0,2.7Hz),4.28(1H,d,J=3.6Hz),4.27−4.24(1H,m),4.22(1H,s),4.14−4.10(1H,m),3.91(1H,dd,J=13.0,2.0Hz),3.75(1H,d,J=12.8Hz),3.66−3.57(4H,m),1.55(3H,s),1.48(3H,s),1.41(3H,s),1.32(3H,s),0.01(18H,s)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,48.05;H,8.23;N,2.33;O,26.67;S,5.35;Si,9.36
F:C,48.33;H,8.15;N,2.12
[実施例10]
融点 137〜138℃
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 7.52−7.39(4H,m),7.17−7.00(6H,m),4.22(1H,dd,J=7.9,2.5Hz),3.90−3.86(1H,m),3.84(1H,s),3.68(2H,dd,J=16.1,9.9Hz),3.49(1H,dd,J=13.0,1.8Hz),3.24(3H,d,J=13.0Hz),1.11(3H,s),0.98(3H,s),0.96(3H,s),0.89(3H,s)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,53.43;H,5.60;N,2.60;O,26.69;P,5.74;S,5.94
F:C,53.72;H,5.42;N,2.33
[実施例11]
1H NMR(300MHz,CDCl3)δ 5.30(1H,s),4.63−4.55(1H,m),4.35−4.28(1H,m),4.23(1H,d,J=7.6Hz),4.12(2H,q,J=20.4,11.4Hz),3.89(1H,d,J=12.8Hz),3.74(1H,d,J=12.7Hz),3.19(2H,q,J=12.3,5.7Hz),2.41(2H,t,J=7.1Hz),1.89(2H,t,J=7.1Hz),1.53(3H,s),1.45(3H,s),1.40(3H,s),1.33(3H,s)
元素分析:(T=理論値,F=測定値)
T:C,45.17;H,6.40;N,3.29;O,37.61;S,7.54
F:C,44.95;H,6.22;N,3.05
化合物#35及び36は、酪酸ブチルの代わりに適切に置換されたエステルを適宜に選択し且つ置き換え、上記の方法に従い、類似して製造された。
[実施例12]
HPLC/MS/ES+[M+1]+質量=428.0
化合物#46は上記の方法に従い、類似して製造された。
[実施例13]
[実施例14]
[実施例15]
HPLC/MS(ES+)[M+Na]+=492.1;[M+K]+=508.2m/z
[実施例16]
融点 126℃
[実施例17]
[実施例18]
[実施例19]
MS MH+=418
[実施例20]
MS MH+=420
[実施例21]
MS MH+=394.44
[実施例22]
1H NMR(300MHz,CDCl3):δ1.23(s,3H),δ1.32(s,3H),δ1.39(s,3H),δ1.42(s,3H),δ3.68(d,1H,J=12.3MHz),δ3.81(d,1H,J=12.3MHz),δ4.10−4.25(m,4H),δ4.47(dd 1H,J=2.46MHz,J=7.88MHz),δ7.14(t,1H,J=7.2MHz),δ7.36(d,1H,J=3.93MHz),δ7.54(d,1H,J=7.71MHz),δ7.59(d 1H,J=7.71MHz),δ7.67(d,1H,J=3.99MHz),δ8.49(d 1H,J=4.6MHz)。
[実施例23]
融点 >250℃。
1H NMR(300MHz,DMSO)δ 7.45−7.20(5H,m),4.86(2H,s),4.55(1H,dd,J=8.1,2.4Hz),4.38(1H,d,J=2.8Hz),4.20(1H,d,J=8.1Hz),3.84(2H,q,J=28.2,10.5Hz),3.73(1H,d,J=13.3Hz),3.56(1H,d,J=12.9Hz),1.44(3H,s),1.34(3H,s),1.33(3H,s),1.25(3H,s)
上記の方法に従い、表1、2及び3に挙げる本発明の代表的な化合物を製造した。塩として製造された化合物の場合、R1を塩カチオンで置き換える。
全身性強直−間代発作のための標準的MESモデルを用いて抗痙攣活性を決定した(Swinyard EA,Woodhead JH,White HS,Franklin MR,In:Levy RH,Mattson RH,Meldrum BS,Penry JK,Dreifuss FE編集,Antiepileptic drugs.New York:Raven Press,1989:85−102)。
Claims (34)
- 式(I)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R12は独立してアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR12置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりアルキル、ハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1及びR2は、それらが結合しているN原子と一緒になって、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し;ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここで−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており;そしてここで1個より多い−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか;
あるいはまた、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、ジアルキルアミノ、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2の場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOの場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し;
但し、R1がアルキルである場合、R2はアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり;
さらに但し、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり;
さらに但し、XがOであり、R2及びR3が一緒になって式:
R4及びR5が一緒になって式:
ここでR7及びR8はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つR1が水素である場合、R2は
イソプロピルスルホニル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル又は4−ピリジル以外である]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - 式(It)
R1は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R12は独立してアミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR12置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりアルキル、ハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ヘテロアリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1及びR2は、それらが結合しているN原子と一緒になって、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し;ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここで−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており;且つここで1個より多い−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか;
あるいはまた、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、ジアルキルアミノ、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
ここでR20は低級アルキルであり;
但し、R1がアルキルである場合、R2はアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり;
さらに但し、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はイソプロピルスルホニル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル又は4−ピリジル以外である]
の請求項1に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - R1が水素、低級アルキル及びアラルキルより成る群から選ばれ;
R2がヒドロキシ、アルキル、ベンズヒドリル、アルコキシ、アルケニル、アリール、アラルキル、アラルキルオキシ、アルコキシカルボニルアルキル、−C(O)−R9、アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、窒素含有ヘテロアリール、窒素含有ヘテロシクロアルキル、−SO2R12、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくは置換基の一部としてのアルキル、アラルキル、窒素含有ヘテロアリール又は窒素含有ヘテロシクロアルキルは、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
但し、R1が低級アルキルである場合、R2はアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はイソプロピルスルホニル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル又は4−ピリジル以外である
請求項1に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - R2が−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)及び−SO2R12より成る群から選ばれる請求項3に記載の化合物。
- R1及びR2が、それらが結合している窒素原子と一緒になって、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルから選ばれる基を形成し;
ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここで−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており;且つここで1個より多い−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはなく;
但し、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外である
請求項1に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - R1及びR2が、それらが結合しているN原子と一緒になって、モルホリニル又は1−(2−イソプロポキシ−フェニル)−ピペラジニル、イソインドール−1,3−ジオンから選ばれる基を形成する請求項5に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。
- R1及びR2が、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−N=C(R14)2を形成し;
ここでR14は水素、ジアルキルアミノ、シクロアルキル及びアリールより成る群から選ばれ;ここでシクロアルキル又はアリールは、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、2個のR14基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
ここでR20は低級アルキルである
請求項3に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - R14が水素、ジ(低級アルキル)アミノ、アリール及びシクロアルキルより成る群から選ばれる
請求項7に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - R14がジメチルアミノ、シクロヘキシル及びフェニルより成る群から選ばれる
請求項8に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - 2個のR14基が、それらが結合している炭素原子と一緒になって、2−(1−メチル−ピロリジニル)を形成する請求項7に記載の化合物。
- R1が水素、アルキル、アラルキル及びSEMより成る群から選ばれ;
R2がヒドロキシ、ハロゲン化アルキル、ベンズヒドリル、アルコキシ、アルケニル、アラルキル(ここでアラルキルは場合によりアルコキシから選ばれる置換基で置換されていることができる)、アラルキルオキシ、アルコキシカルボニルアルキル、カルボキシアルキル、アルキルカルボニル(ここでアルキルは場合によりカルボキシ又はアルコキシカルボニルから選ばれる置換基で置換されていることができる)、アリールカルボニル(ここでアリールは場合によりアルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル又はカルボキシから選ばれる置換基で置換されていることができる)、アラルキルカルボニル、アルコキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、アルコキシアルキルカルボニル、アミノアルキル、アルキルアミノアルキル、ジアルキルアミノアルキル、窒素含有ヘテロアリール、窒素含有ヘテロシクロアルキル、アミノスルホニル(ここでアミノ基は場合により1〜2個の低級アルキルで置換されていることができる)、アルキルスルホニル(ここでアルキル基は場合によりハロゲンから独立して選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができる)、アリールスルホニル(ここでアリール基は場合によりアルキル、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、ハロゲン、アルコキシ、アルキルカルボニルアミノ、アセトアミド、ニトロ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ又は2−クロロ−4−ニトロフェノキシから独立して選ばれる1〜3個の置換基で置換されていることができる)、アラルキルスルホニル、ビフェニルスルホニル、ヘテロアリールスルホニル(ここでヘテロアリールは場合によりハロゲン、アルキル、ヘテロアリール又はベンゼンスルホニルから独立して選ばれる1〜2個の置換基で置換されていることができる)、ベンズヒドリル、−Si−(アリール)3、−C(O)O−Si(アリール)3、−P(=O)(アリール)2、−P(=O)(アルコキシ)2及びSEMより成る群から選ばれ;
但し、R1が水素である場合、R2はメチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はイソプロピルスルホニル又は4−ピリジル以外である
請求項3に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - R1が水素、メチル、エチル、ベンジル及びSEMより成る群から選ばれ;
R2がヒドロキシ、メトキシ、アリル、1−(2−ブロモ)−エチル、1−(2−エトキシカルボニル)エチル、メトキシカルボニルメチル、メトキシカルボニルエチル、1−(メトキシカルボニル)−n−プロピル、カルボキシメチル、1−(3−カルボキシ)−n−プロピル、1−(2−カルボキシ)エチル、エトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メチルカルボニル、エチルカルボニル、n−プロピルカルボニル、イソブチルカルボニル、フェニルエチルカルボニル、ベンジルカルボニル、フェニルカルボニル、2−メトキシカルボニルフェニル−カルボニル、2−カルボキシフェニル−カルボニル、メトキシカルボニル−エチルカルボニル、カルボキシエチルカルボニル、ジエトキシ−ホスフィニル、トリフェニルシリル、トリフェニルシリルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル、ジメチルアミノエチル、ベンジル、4−メトキシベンジル、ベンジルオキシ、3−ピロリジニル、4−ピリジル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル,SEM、ジフェニルホスフィニル、ベンズヒドリル、2−メトキシフェニルカルボニル、3−メトキシフェニルカルボニル、4−メトキシフェニルカルボニル、メトキシメチルカルボニル、2−トリルカルボニル、3−トリルカルボニル、4−トリルカルボニル、5−ヘプチルカルボニル、アミノスルホニル、4−トリフルオロメトキシフェニルスルホニル、1−ナフチルスルホニル、2−ナフチルスルホニル、1−(5−ジメチルアミノ)−ナフチル−スルホニル、4−ビフェニルスルホニル、2−チエニルスルホニル、2−(3−(2−ピリジル)−チエニル)−スルホニル、4−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、2,6−ジフルオロフェニルスルホニル、ベンジルスルホニル、4−メトキシフェニルスルホニル、4,5−ジブロモ−2−チエニルスルホニル、2−ベンゼンスルホニル−5−チエニルスルホニル、トリフルオロメチルスルホニル、3−トリフルオロメチルフェニルスルホニル、2,2,2−トリフルオロエチルスルホニル、フェニルスルホニル、2,4,6−トリメチルフェニル−スルホニル、2−クロロ−1−エチルスルホニル、イソプロピルスルホニル、イソブチルスルホニル、1−ブチルスルホニル、4−(2,1,3−ベンズオキサジアゾリル)スルホニル、4−(2−クロロ−4−ニトロフェノキシ)−3,5−ジクロロフェニルスルホニル、4−ブロモフェニルスルホニル、エチルスルホニル、8−キノリニルスルホニル、3,5−ジメチル−4−イソオキサゾリルスルホニル、4−(2,1,3−ベンゾチジアゾリル)スルホニル、1−プロピルスルホニル、4−メチルカルボニルアミノフェニル−スルホニル、4−アセトアミドフェニルスルホニル及び4−ニトロフェニルスルホニルより成る群から選ばれ;
但し、R1が水素である場合、R2はメチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシメチル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はイソプロピルスルホニル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル又は4−ピリジル以外である
請求項11に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - R1が水素及びメチルより成る群から選ばれ;
R2がヒドロキシ、メトキシ、アリル、1−(3−メトキシカルボニル)−n−プロピル、1−(2−カルボキシ)エチル、1−(2−ブロモ)−エチル、1−(2−エトキシカルボニル)エチル、メトキシカルボニルメチル、t−ブトキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、メチルカルボニル、エチルカルボニル、トリフェニルシリル、トリフェニルシリルオキシカルボニル、トリフルオロメチルスルホニル及びベンズヒドリルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、R1及びR2が、それらが結合している窒素原子と一緒になって、1−(2−イソプロポキシフェニル)−ピペリジニルを形成し;
但し、R1が水素である場合、R2はメチルカルボニル以外である
請求項12に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - 製薬学的に許容され得る担体及び請求項1の化合物を含んでなる製薬学的組成物。
- 請求項1の化合物及び製薬学的に許容され得る担体を混合することにより調製される製薬学的組成物。
- 請求項1の化合物及び製薬学的に許容され得る担体を混合することを含んでなる製薬学的組成物の調製法。
- 請求項1の化合物の治療的に有効な量を患者に投与することを含んでなる、必要のある患者におけるてんかんの処置方法。
- 式(Ij)
[式中、
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって、フェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aは、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させることを含んでなる式(XX)
XはCH2又はOから選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物の製造法。 - 脱−保護条件が接触還元である請求項18に記載の方法。
- 脱−保護条件が酸開裂である請求項18に記載の方法。
- 脱−保護条件が塩基性開裂である請求項18に記載の方法。
- 式(Ij)の化合物をヒドラジン、メチルヒドラジン又はフェニルヒドラジンと反応させる請求項18に記載の方法。
- 式(Ik)
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aは、それらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aは、それらが結合している窒素原子と一緒になって、−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
ここでR20は低級アルキルである]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させることを含んでなる式(XXa)
- 脱−保護条件が接触還元である請求項24に記載の方法。
- 脱−保護条件が酸開裂である請求項24に記載の方法。
- 脱−保護条件が塩基性開裂である請求項24に記載の方法。
- 式(Ik)の化合物をヒドラジン、メチルヒドラジン又はフェニルヒドラジンと反応させる請求項24に記載の方法。
- 式(Ij)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基は、それらが結合している炭素原子と一緒になって、式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はメチルカルボニル又はカルボキシエチル以外である]
の請求項1に記載の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - 式(Ij)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、ジアルキルアミノ、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれるか;
あるいはまた、2個のR14基はそれらが結合している炭素原子と一緒になって式
ここでR20は低級アルキルであり;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させることにより製造される生成物。 - 式(I)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1は水素、アルキル、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキル−アルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2はヒドロキシ、アルキル、アルコキシ、アルケニル、アルキニル、シクロアルキル、シクロアルキル−アルキル、シクロアルケニル、アリール、アリールオキシ、アラルキル、アラルキルオキシ、ヘテロアリール、ヘテロアリール−アルキル、ヘテロシクロアルキル、ヘテロシクロアルキルアルキル、アルコキシカルボニルアルキル、−(C2−8アルキル)−O−C(O)−(アルキル)、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、アラルキルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−SO2R12、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル、アリール、アラルキル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R12は独立してアルキル、アリール、アラルキル又はヘテロアリールから選ばれ;ここで単独のもしくはR12置換基の一部としてのアルキル、アリール又はヘテロアリール基は、場合によりハロゲン、トリフルオロメチル、トリフルオロメトキシ、アルキル、アルコキシ、ニトロ、アルキルカルボニルアミノ、アリールカルボニルアミノ、アラルキルカルボニルアミノ、アリール、ベンゼンスルホニル又はフェノキシから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでフェノキシ基は場合によりハロゲン、アルキル、アルコキシ又はニトロから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1及びR2はそれらが結合しているN原子と一緒になってヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基を形成し;ここでヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、オキソ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここでアリール置換基は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ、シアノ、−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;ここで−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基は、アリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル上の窒素又は炭素原子に結合しており;そしてここで1個より多い−C(=NH)−アミノ、−C(=NH)−アルキルアミノ又は−C(=NH)−ジアルキルアミノ基がアリール、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキルに結合していることはないか;
あるいはまた、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成し;
但し、R1がアルキルである場合、R2はアルキル以外であり;
さらに但し、R1が水素である場合、R2はアルキル、メチルカルボニル、フェニル、ベンジル又はカルボキシアルキル以外であり;
さらに但し、R1及びR2は、それらが結合している窒素原子と一緒になる場合、イミダゾリル以外であり;
さらに但し、XがOであり、R2及びR3が一緒になって式:
R4及びR5が一緒になって式:
ここでR7及びR8はそれぞれの場合にそれぞれメチルであり、
且つR1が水素である場合、R2は
イソプロピルスルホニル、4−(N−ベンジル)−ピペリジニル又は4−ピリジル以外である]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩。 - 式(Ij)
XはCH2又はOから選ばれ;
R1aは水素、置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−Si(R10)(O0−1R11)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR1置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
R2aは置換エチル、アルケニル(ここでアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、シクロアルケニル(ここでシクロアルケニル基の二重結合は窒素に直接結合しているか、又は窒素から炭素原子1個移動した位置にある)、ベンジルオキシ、ヘテロアリール−C1アルキル、ヘテロシクロアルキル−C1アルキル、アルコキシカルボニルC2アルキル、−C(O)−R9、−C(O)−(アルキル)−O−(アルキル)、アルコキシカルボニル、アリールオキシカルボニル、ベンジルオキシカルボニル、−C(O)O−Si(R17)3、−Si(R10)(O0−1R11)2、−P(=O)(R13)2及びSEMより成る群から選ばれ;
ここでエチル基上の置換基はハロゲン、カルボキシ、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基であり;
ここで単独のもしくはR2置換基の一部としてのアルキル、ベンジル、ヘテロアリール又はヘテロシクロアルキル基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R9は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR9置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R10は独立して水素、アルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR10置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R11は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR11置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アルコキシカルボニル、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R13は独立してアルキル、アルコキシ、アリール、アリールオキシ、アラルキル又はアラルキルオキシから選ばれ;ここで単独のもしくはR13置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
ここで各R17は独立してアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR17置換基の一部としてのアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aはそれらが結合している窒素原子と一緒になって式
ここでnは1〜3の整数であり;そしてここで各R15はハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ及びシアノより成る群から独立して選ばれるか;
あるいはまた、2個のR15基はそれらが結合している炭素原子と一緒になってフェニル環を形成し;ここでフェニル環は場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができるか;
あるいはまた、R1a及びR2aは、それらが結合している窒素原子と一緒になって−N=C(R14)2を形成し;
ここで各R14は独立して水素、アルキル、シクロアルキル、アリール又はアラルキルから選ばれ;ここで単独のもしくはR14置換基の一部としてのアルキル、シクロアルキル又はアリール基は、場合によりハロゲン、ヒドロキシ、カルボキシ、アルキル、アルコキシ、アリール、アラルキル、アミノ、アルキルアミノ、ジアルキルアミノ、ニトロ又はシアノから独立して選ばれる1個もしくはそれより多い置換基で置換されていることができ;
但し、少なくとも1個のR14は水素及びアルキルより成る群から選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩を脱−保護条件下で反応させ、対応する式(XX)の化合物を得ることを含んでなる式(XX)
XはCH2又はOから選ばれ;
R3、R4、R5及びR6はそれぞれ独立して水素又は低級アルキルから選ばれ、XがCH2である場合、R5及びR6は一緒になってベンゼン環を形成するアルケン基であることができ、XがOである場合、R3とR4及び/又はR5とR6は一緒になって式:
ここでR7及びR8は同一もしくは異なり、水素、低級アルキルであるか、又はアルキルであり、且つ一緒になってシクロペンチルもしくはシクロヘキシル環を形成する]
の化合物又はその製薬学的に許容され得る塩の製造法。
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WO2013167999A2 (en) | 2012-05-10 | 2013-11-14 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of neurologic diseases |
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US9403857B2 (en) | 2012-05-10 | 2016-08-02 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of metabolic syndrome |
US9233161B2 (en) | 2012-05-10 | 2016-01-12 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of neurological conditions |
US9346742B2 (en) | 2012-05-10 | 2016-05-24 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of fibromyalgia pain |
WO2013168005A2 (en) | 2012-05-10 | 2013-11-14 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of restless leg syndrome and fibromyalgia |
US9273061B2 (en) | 2012-05-10 | 2016-03-01 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of chronic pain |
US9394288B2 (en) | 2012-05-10 | 2016-07-19 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of asthma and allergy |
WO2013168000A1 (en) | 2012-05-10 | 2013-11-14 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of severe pain |
US9499527B2 (en) | 2012-05-10 | 2016-11-22 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of familial amyloid polyneuropathy |
WO2013175377A2 (en) | 2012-05-23 | 2013-11-28 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of mucositis |
WO2013175347A2 (en) | 2012-05-23 | 2013-11-28 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of respiratory disorders |
US9434729B2 (en) | 2012-05-23 | 2016-09-06 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of periodontitis and rheumatoid arthritis |
EP2852569B1 (en) | 2012-05-23 | 2020-10-14 | Cellixbio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of multiple sclerosis |
WO2013175376A2 (en) | 2012-05-23 | 2013-11-28 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of local pain |
EP2852570B1 (en) | 2012-05-23 | 2020-04-22 | Cellixbio Private Limited | Composition for the treatment of inflammatory bowel disease |
US9108942B1 (en) | 2014-11-05 | 2015-08-18 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of moderate to severe pain |
WO2014020480A2 (en) | 2012-08-03 | 2014-02-06 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment migraine and neurologic diseases |
US9624168B2 (en) | 2012-09-06 | 2017-04-18 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment inflammation and lipid disorders |
CA2873029A1 (en) | 2012-09-08 | 2014-03-13 | Cellixbio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of inflammation and lipid disorders |
WO2014089269A1 (en) | 2012-12-07 | 2014-06-12 | Glycomimetics, Inc. | Compounds, compositions and methods using e-selectin antagonists for mobilization of hematopoietic cells |
US8652527B1 (en) | 2013-03-13 | 2014-02-18 | Upsher-Smith Laboratories, Inc | Extended-release topiramate capsules |
US9101545B2 (en) | 2013-03-15 | 2015-08-11 | Upsher-Smith Laboratories, Inc. | Extended-release topiramate capsules |
US9333187B1 (en) | 2013-05-15 | 2016-05-10 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of inflammatory bowel disease |
EP3004049B1 (en) | 2013-06-04 | 2018-09-05 | Cellixbio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of diabetes and pre-diabetes |
US9096537B1 (en) | 2014-12-31 | 2015-08-04 | Mahesh Kandula | Compositions and methods for the treatment of mucositis |
CN103910770B (zh) * | 2014-03-14 | 2017-01-04 | 天津南开允公医药科技有限公司 | 一种托吡酯的制备方法以及该方法中所涉及的中间体晶型及其制备方法 |
CA2976314C (en) | 2014-09-26 | 2021-02-23 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of epilepsy and neurological disorders |
JP6698643B2 (ja) | 2014-09-29 | 2020-05-27 | セリックス バイオ プライヴェート リミテッドCellix Bio Private Limited | 多発性硬化症の治療のための組成物及び方法 |
CA2965449C (en) | 2014-10-27 | 2020-11-10 | Cellix Bio Private Limited | Three component salts of fumaric acid monomethyl ester with piperazine or ethylene diamine for the treatment of multiple sclerosis |
US9290486B1 (en) | 2014-11-05 | 2016-03-22 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of epilepsy |
US9175008B1 (en) | 2014-11-05 | 2015-11-03 | Cellix Bio Private Limited | Prodrugs of anti-platelet agents |
US9150557B1 (en) | 2014-11-05 | 2015-10-06 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of hyperglycemia |
US10208014B2 (en) | 2014-11-05 | 2019-02-19 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of neurological disorders |
US9321716B1 (en) | 2014-11-05 | 2016-04-26 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of metabolic syndrome |
US9173877B1 (en) | 2014-11-05 | 2015-11-03 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of local pain |
US9284287B1 (en) | 2014-11-05 | 2016-03-15 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the suppression of carbonic anhydrase activity |
US9932294B2 (en) | 2014-12-01 | 2018-04-03 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of multiple sclerosis |
US9206111B1 (en) | 2014-12-17 | 2015-12-08 | Cellix Bio Private Limited | Compositions and methods for the treatment of neurological diseases |
DK3242869T3 (da) | 2015-01-06 | 2022-01-31 | Cellix Bio Private Ltd | Sammensætninger og fremgangsmåder til behanding af inflammation og smerte |
EP4129973A1 (en) * | 2018-03-27 | 2023-02-08 | Daikin Industries, Ltd. | Lithium sulfamate derivatives |
CN110655542A (zh) * | 2018-06-29 | 2020-01-07 | 鲁南制药集团股份有限公司 | 一种2,3:4,5-双-O-(1-甲基亚乙基)-β-D-吡喃果糖氯磺酸酯的晶型 |
CN114685526A (zh) * | 2020-12-25 | 2022-07-01 | 长沙博源医疗科技有限公司 | 一种托吡酯衍生物、免疫原、抗托吡酯特异性抗体及其制备方法与应用 |
Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60109558A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-06-15 | マクニ−ラブ・インコ−ポレ−テツド | スルフアメ−トおよび医薬としてのその用途 |
JPH07291988A (ja) * | 1992-04-28 | 1995-11-07 | Mcneilab Inc | 抗痙攣剤性フルクトピラノース環式亜硫酸エステル類および硫酸エステル類 |
JPH09507070A (ja) * | 1993-12-23 | 1997-07-15 | オーソ・フアーマシユーチカル・コーポレーシヨン | 抗痙攣性プソイドフルクトピラノーススルファメート類 |
JP2000502888A (ja) * | 1995-12-01 | 2000-03-14 | オクシス インターナショナル インコーポレイテッド | トピラメートのイムノアッセイ、並びに類似体及び抗体 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
PT94305B (pt) | 1989-06-12 | 1997-02-28 | Robins Co Inc A H | Processo para a preparacao de compostos tendo um ou mais radicais aminossulfoniloxi uteis como produtos farmaceuticos |
US5273993A (en) | 1989-06-12 | 1993-12-28 | A. H. Robins Company, Incorporated | Compounds having one or more aminosulfonyloxy radicals useful as pharmaceuticals |
US5194446A (en) | 1989-06-12 | 1993-03-16 | A. H. Robins Company, Incorporated | Compounds having one or more aminosulfaonyloxy radicals useful as pharmaceuticals |
US5192785A (en) | 1989-09-03 | 1993-03-09 | A. H. Robins Company, Incorporated | Sulfamates as antiglaucoma agents |
US5025031A (en) | 1989-11-30 | 1991-06-18 | A. H. Robins Co., Inc. | Aryl and aryloxyalkyl sulfamate esters useful as anticonvulsants |
IL103172A (en) | 1991-09-19 | 1997-01-10 | Mcneilab Inc | Preparation of chlorosulfate and sulfamate derivatives of 2, 3:4, 5-bis-o-(1-methylethylidene)-beta-d-fructopyranose and (1-methylcyclohexyl) methanol |
US5998380A (en) | 1995-10-13 | 1999-12-07 | New England Medical Center Hospitals, Inc. | Treatment of migraine |
JP3602906B2 (ja) * | 1996-03-05 | 2004-12-15 | 富士写真フイルム株式会社 | 熱現像感光材料 |
-
2003
- 2003-05-08 US US10/434,387 patent/US7060725B2/en not_active Expired - Lifetime
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2004
- 2004-11-04 HR HR20041042A patent/HRP20041042A2/xx not_active Application Discontinuation
- 2004-11-09 IL IL16510804A patent/IL165108A0/xx unknown
- 2004-12-08 NO NO20045369A patent/NO20045369L/no not_active Application Discontinuation
- 2004-12-09 ZA ZA200409989A patent/ZA200409989B/xx unknown
-
2005
- 2005-11-02 US US11/265,670 patent/US7560459B2/en active Active
Patent Citations (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS60109558A (ja) * | 1983-09-26 | 1985-06-15 | マクニ−ラブ・インコ−ポレ−テツド | スルフアメ−トおよび医薬としてのその用途 |
JPH07291988A (ja) * | 1992-04-28 | 1995-11-07 | Mcneilab Inc | 抗痙攣剤性フルクトピラノース環式亜硫酸エステル類および硫酸エステル類 |
JPH09507070A (ja) * | 1993-12-23 | 1997-07-15 | オーソ・フアーマシユーチカル・コーポレーシヨン | 抗痙攣性プソイドフルクトピラノーススルファメート類 |
JP2000502888A (ja) * | 1995-12-01 | 2000-03-14 | オクシス インターナショナル インコーポレイテッド | トピラメートのイムノアッセイ、並びに類似体及び抗体 |
Non-Patent Citations (3)
Title |
---|
JPN6009064651, MARYANOFF, B.E., et al., J. Med. Chem., 41(8), pp.1315−1343 (1998) * |
JPN6009064652, BARRIOS, I.A., et al., THEOCHEM, 580, pp.243−250 (2002) * |
JPN6009064653, MARYANOFF, B.E., et al., Bioorg. Med. Chem. Lett., 3(12), pp.2653−2656 (1993) * |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1665828A (zh) | 2005-09-07 |
BR0309964A (pt) | 2005-03-01 |
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CA2485966A1 (en) | 2003-11-27 |
RU2328502C2 (ru) | 2008-07-10 |
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US7060725B2 (en) | 2006-06-13 |
IL165108A0 (en) | 2005-12-18 |
US7560459B2 (en) | 2009-07-14 |
WO2003097656A2 (en) | 2003-11-27 |
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US20060058373A1 (en) | 2006-03-16 |
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