JP2005520281A - 顕微鏡のひずみの影響を低減するためのデバイス - Google Patents
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Abstract
Description
できれば、上記測定デバイスは、上記顕微鏡の画像形成システムからの画像を分析するように配置されている画像分析システムを備え、それにより上記サンプルに対する上記望ましくないひずみの影響を測定することが望ましい。顕微鏡の画像または画像の一部を使用することにより、サンプルに実際に影響を与えるこのような動きだけが考慮の対象になり、その結果正確な補償を行うことができる。さらに、この方法は、さらなる変更を全然行わないで、顕微鏡ですでに使用することができる情報を使用する。
できれば、上記望ましくないひずみは、機械的振動または変動、温度の変動または音響ひずみの中の1つであり、電子顕微鏡の解像度が向上することが好ましい。上記電子顕微鏡は、好適には、さらにSTMまたはAFMのような走査探査デバイスを備えることが好ましい。上記精密位置決めデバイスは上記走査探査デバイスに内蔵されていて、コンパクトなサイズを実現している。さらに、上記精密位置決めデバイスは、圧電素子、慣性制御デバイス、または上記サンプルを精密位置決めするためのマイクロ電気機械システム(MEMS)構造の中の1つを備えている。
別の方法としては、同様に、上記および他の目的は、顕微鏡の望ましくないひずみの影響を低減するための方法により達成される。上記方法は、精密位置決め手段上に検査対象のサンプルを配置するステップと、ロックされた周波数を有する励起信号を上記精密位置決め手段に供給するステップと、上記顕微鏡により上記サンプルの画像を形成するステップと、複数の励起信号中の上記顕微鏡からの画像を分析するステップとを含む。
添付の図面を参照しながら好ましい実施の形態により、以下に本発明をさらに詳細に説明する。
特に、上記精密位置決めデバイスは、圧電またはMEMS構造に限定されず、実際には、磁気弾性またはバイモルフ・トランスジューサのような多くの他のトランスジューサ、またはギア・ボックス付きモータを、上記精密位置決めデバイスを実行するために使用することができることに留意されたい。また、本発明は、例えば、1つの方向の変動の補償に限定されないで、上記精密位置決めデバイスにより精密位置決めを行うことができるすべての次元内の変動を補償するために使用することができることにも留意されたい。
最後に、本発明を使用することにより、電子顕微鏡の設置コストを低減することもできるし、または別の方法としては、現在の設置との安定性を改善することもでき、それにより解像度を改善することができることにも留意されたい。
4 制御デバイス 5 画像分析システム 6 測定デバイス
7 顕微鏡画像 8 電子ビーム
Claims (12)
- 電子顕微鏡(3)でサンプル(1)を検査している場合に、望ましくないひずみの影響を低減するためのデバイスであって、前記サンプル(1)が、精密位置決めデバイス(2)上に装着されるように配置されていて、前記精密位置決めデバイス(2)が、望ましくないひずみによる測定誤差を補償するように、前記精密位置決めデバイス(4)を制御するために配置されている制御デバイス(4)に接続していることを特徴とするデバイス。
- 前記デバイスが、さらに、前記サンプル(1)に影響を与える前記望ましくないひずみを測定するための測定デバイス(6)と、前記測定デバイス(6)からの情報を、その情報に従って前記測定デバイスを制御するために前記制御手段(4)にフィードバックするためのフィードバック手段とを備える請求項1に記載のデバイス。
- 前記制御デバイス(4)が、前記望ましくないひずみによるサンプルの動きを補償するために、前記精密位置決めデバイス(3)の動きを制御し、それにより前記サンプル(1)の位置を制御するように配置されている請求項1または2に記載のデバイス。
- 前記測定デバイス(6)が、前記サンプルの近く、または別の方法としては、前記電子顕微鏡(3)自身上に設置されている加速計のような振動を測定するためのデバイスを備える請求項1〜3の何れか1項に記載のデバイス。
- 前記測定デバイス(6)が、前記顕微鏡(#)の画像形成システムからの画像を分析するように配置されている画像分析システム(5)を備え、それにより前記サンプル(1)に対する望ましくないひずみの影響を測定する請求項1〜3の何れか1項に記載のデバイス。
- 前記精密位置決めデバイス(2)が、固定周波数を有する励起信号により制御されるように配置されている請求項1に記載のデバイス。
- 前記サンプルが、前記顕微鏡により画像形成されるように配置され、前記デバイスが、さらに、複数の励起信号サイクル中の前記顕微鏡からの画像信号を分析するための画像信号分析システム(5)を備えている請求項6に記載のデバイス。
- 前記望ましくないひずみが、機械的振動または変動、温度の変動または音響ひずみの中の1つである前記請求項の何れか1項に記載のデバイス。
- 前記電子顕微鏡(3)が、さらに、STMまたはAFMのような走査探査デバイスを備え、前記精密位置決めデバイスが前記走査探査デバイスに内蔵されている前記請求項の何れか1項に記載のデバイス。
- 前記精密位置決めデバイス(2)が、圧電素子、慣性制御デバイス、または前記サンプル(1)を精密位置決めするためのマイクロ電気機械システム(MEMS)構造の中の1つを備える前記請求項の何れか1項に記載のデバイス。
- 顕微鏡の望ましくないひずみの影響を低減するための方法であって、
精密位置決め手段上に検査対象のサンプルを配置するステップと、
前記望ましくないひずみによる前記サンプルの動きを測定するステップと、
ひずみによる前記サンプルの動きを補償するために、前記サンプルの動きの測定値に基づいて前記精密位置決め手段を制御するステップとを含む方法。 - 顕微鏡の望ましくないひずみの影響を低減するための方法であって、
精密位置決め手段上に検査対象のサンプルを配置するステップと、
ロックされた周波数を有する励起信号を前記精密位置決め手段に供給するステップと、
前記顕微鏡により前記サンプルの画像を形成するステップと、
複数の励起信号中に前記顕微鏡からの画像を分析するステップとを含む方法。
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