JP2005513535A - 半透過型液晶表示装置 - Google Patents

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Abstract


【課題】 半透過型液晶表示装置が開示されている。
【解決手段】 第1基板と、その内面が前記第1基板と対向するように位置した第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、入射光のうち、一部分は反射させて、一部分は透過させる透明半透過膜とを備える。半透過膜とバックライトとの間での再生過程により入射光の一定部分が半透過膜を持続的に透過するので、透過率を向上させて光効率を増大させることができる。

Description

本発明は液晶表示装置に関し、より詳細には、光量が豊富な所では低消費電力モードである反射モードでディスプレイを行い、光量が足りない所では高輝度モードである透過モードでディスプレイを行うことができる半透過型液晶表示装置に関するものである。
今日の情報化社会において、電子ディスプレイ装置(electronic display device)の役割は漸次重要になり、各種電子ディスプレイ装置が多様な産業分野で広範囲に用いられている。
一般に、電子ディスプレイ装置とは、多様な情報を視覚を通して人に伝達する装置を言う。即ち、電子ディスプレイ装置とは、各種電子機器から出力される電気的情報信号を、人の視覚で認識が可能な光情報信号に変換する電子装置と定義することができ、人と電子機器を連結する架橋的役割を果たす装置と定義することもできる。
このような電子ディスプレイ装置において、光情報信号が発光現象により表示される場合には、発光型表示(emissive display)装置と呼ばれ、反射、散乱、干渉現象等により光変調が表示される場合には、受光型表示(non−emissivedisplay)装置と呼ばれる。能動型表示装置とも呼ばれる前記発光型表示装置としては、陰極線管(cathode ray tube;CRT)、プラズマディスプレイパネル(plasma display panel;PDP)、発光ダイオード(light emitting diode;LED)、及びエレクトロルミネセントディスプレイ(electroluminescent display;ELD)等を挙げることができる。又、受動型表示装置である前記受光型表示装置としては、液晶表示装置(Liquid Crystal Display;LCD)、電気化学表示装置(electrochemical display;ECD)、及び電気泳動表示装置(Electrophoretic Image Display;EPID)等を挙げることができる。
テレビやコンピュータ用モニター等のような画像表示装置に用いられる陰極線管(CRT)は、表示品質及び経済性等の面で最も高い占有率を占めているが、重い重量、大きな容積、及び高い消費電力等のような短所を持っている。
しかし、半導体技術の急速な進歩により、各種電子装置の低電圧及び低電力化と共に、電子機器の小型及び軽量化によって、新しい環境に適合した電子ディスプレイ装置、即ち、薄くて、軽くて、低い駆動電圧及び低い消費電力の特性を有する平板パネル(flat panel)型ディスプレイ装置に対する要求が急激に増大している。
現在開発されている多様な平板ディスプレイ装置のうち、液晶表示装置は、他のディスプレイ装置に対して薄くて、軽くて、低い消費電力及び低い駆動電圧を有しているのみならず、陰極線管に近い画像表示が可能なので、多様な電子装置に広範囲に用いられている。
液晶表示装置は、光源によって液晶セルの背面に位置したバックライトを用いて画像を表示する透過型液晶表示装置、外部の自然光を用いた反射型液晶表示装置、そして室内や外部光源が存在していない暗い所では、表示素子自体の内蔵光源を用いてディスプレイする透過表示モードとして作動し、室外の高照度環境では、外部の入射光を反射させてディスプレイする反射表示モードとして作動する半透過型液晶表示装置に区分される。
又、液晶表示装置は、液晶層にかかる電圧で液晶分子配列を調節するが、その駆動方法によって、走査線に連結された全ての画素に同時に信号電圧をかけるラインアドレッシング(line addressing)をしながら信号線と走査線にかかった電圧の差の自乗平均平方根(root−mean−square;rms)値を用いて画素を駆動するパシブマトリックス(passive matrix)型と、それぞれの画素にMIM(Metal−Insulator−Metal)素子や薄膜トランジスタ等のスイッチング素子を付着して画素を駆動するアクティブマトリックス(active matrix)型とに区分される。
図1は、従来の半透過型液晶表示装置の断面図であって、薄膜トランジスタを用いたアクティブマトリックス型液晶表示装置を示す。
図1を参照すると、従来の半透過型液晶表示装置は、第1基板10、前記第1基板10と対向して配置された第2基板40、前記基板の間に形成された液晶層50、及び前記第1基板10の後側に配置された光源、即ち、バックライトを含む。
前記第1基板10は、第1絶縁基板11、前記第1絶縁基板11に形成された薄膜トランジスタ25、前記薄膜トランジスタ25の一部分を露出させるコンタクトホール32を有する保護膜30、透明電極34、及び反射電極36で構成される。薄膜トランジスタ25は、ゲート電極12、ゲート絶縁膜14、アクティブパターン16、オームコンタクトパターン18、ソース電極20、及びドレーン電極22で構成される。前記透明電極34は、バックライト60から発生して第1基板10を通じて入射する光を透過し、同時に第1基板10の画素領域に一つずつ形成される薄膜トランジスタ25に連結される画素電極の役割を果たす。前記反射電極36は、第2基板40を通じて入射する光を反射し、同時に画素電極の役割を果たす。即ち、透明電極34が存在する領域は透過部Tに提供され、その以外の部分は、第2基板40を通じて入射する外部光を反射する反射部Rに提供される。
前記第2基板40は、第2絶縁基板42、光が通過して所定の色が発現されるRGB画素からなるカラーフィルター44、画素間の光漏出を防止するためのブラックマトリックス46、及び透明共通電極48を含む。
前記液晶層50は、90°ツイストされたネマチック(twisted nematic)液晶であって、屈折率異方性Δnと厚さdをかけた値Δndが約0.24になる。
又、液晶層50は、配向方向によって、第1基板10と第2基板40のそれぞれの外面に、外部光の透過方向を一定にするための第1偏光板54及び第2偏光板58が取り付けられる。前記第1偏光板54及び第2偏光板58は、偏光軸が互いに対して垂直になるように設置された線偏光子である。
前記第1基板10と第1偏光板54との間、及び前記第2基板40と第2偏光板58との間には、それぞれ第11/4波長位相差板52及び第21/4波長位相差板56が形成される。1/4波長位相差板52、56は、位相差板の光軸に平行して互いに垂直な2つの偏光成分に対して、1/4波長だけの位相差を付与して、線偏光を円偏光に変更させるか、円偏光を線偏光に変更させる役割を果たす。
以下では、図1に図示した従来の半透過型液晶表示装置の反射モード及び透過モードでの動作原理を説明する。
図2a及び図2bは、反射モードの動作原理を説明するための概略図である。
まず、画素電圧が印加されない場合(OFF)、図2aに示したように、外部から入射した光は、第2偏光板58を通過してその偏光軸と平行な方向に線偏光され、第21/4波長位相差板56を通過して左円偏光される。左円偏光された光は、液晶層50を通過して第2偏光板58の偏光軸に垂直な方向に線偏光された後、反射電極36に入射する。前記反射電極36から反射され線偏光された光は、液晶層50を通過して左円偏光される。左円偏光された光は、第21/4波長位相差板56を通過して前記第2偏光板58の偏光軸と平行な方向に線偏光された後、第2偏光板58をそのまま通過してホワイト(white)画像を表示することになる。
画素電圧が最大である場合(ON)、図2bに示したように、外部から入射した光は、第2偏光板58を通過してその偏光軸と平行な方向に線偏光され、第21/4波長位相差板56を通過して左円偏光される。左円偏光された光は、偏光状態の変化なしに液晶層50を通過して反射電極36に入射する。前記反射電極36に入射した光は、反射電極36から反射され右円偏光され、液晶層50をそのまま通過する。このように、液晶層50をそのまま通過した右円偏光された光は、第21/4波長位相差板56を通過して第2偏光板58の偏光軸に垂直な方向に線偏光された後、第2偏光板58によって遮断されブラック(black)画像を表示することになる。
図3a及び図3bは、透過モードの動作原理を説明するための概略図である。
画素電圧が印加されない場合(OFF)には、図3aに示したように、第1偏光板54の下に設けられたバックライトから放出された光が第1偏光板54に入射して、第1偏光板54の偏光軸と平行な方向の光のみが通過することになる。この際、前記第1偏光板54の偏光軸は、第2偏光板58の偏光軸と垂直になるので、第1偏光板54を通過した光は、第2偏光板58の偏光軸と垂直な方向に線偏光された光になる。前記線偏光された光は、第11/4波長位相差板52によって右円偏光され、右円偏光された光は、透明電極34を通過した後、液晶層50に入射する。前記右円偏光された光は、液晶層50を通過して第2偏光板58の偏光軸と平行な方向に線偏光され、第21/4波長位相差板56を通過して右円偏光される。この際、前記第2偏光板58の偏光軸と平行な方向の成分のみ第2偏光板58を通過することができるので、前記右円偏光された光のうち、50%が第2偏光板58を通過する。従って、50%の光損失が発生して、完全なホワイトでなく中間明るさの画像が表示される。
一方、図示してないが、透過モード時、液晶セルの内部にゲートライン、データライン、又は反射電極36のような金属層が存在する領域では、入射光の光路が異なる。言い換えると、バックライトから入射する光が第1偏光板54を通過してその偏光軸と平行な方向に線偏光された後、第11/4波長位相差板52を通過して右円偏光される。右円偏光された光は、前記した金属層から反射され左円偏光された後、第11/4波長位相差板52を通過して第1偏光板54の偏光軸と平行な方向に線偏光される。従って、線偏光された光は、第1偏光板54に吸収されてバックライト側に戻らないので、前記した金属層から反射された光は、再生せず、無くなるため、全体的な光効率が低下する。
最大の画素電圧が印加された場合(ON)には、図3bに示したように、第1偏光板54の下に設けられたバックライトから放出された光が、第1偏光板54に入射して第1偏光板54の偏光軸と平行な方向の光のみ通過することになる。前記第1偏光板54により線偏光された光は、第11/4波長位相差板52により右円偏光され、右円偏光された光は透明電極34を通過した後、液晶層50に入射する。前記右円偏光された光は、偏光状態の変化なしに液晶層50を通過した後、第21/4波長位相差板56により第2偏光板58の偏光軸と垂直な方向に線偏光される。その後、第2偏光板58の偏光軸と垂直な方向に線偏光された光は、第2偏光板58を通過せず、ブラック画像を表示することになる。
前述したように、従来の半透過型液晶表示装置によると、第1基板10と第2基板40のそれぞれに対して、偏光板54、58のみならず可視光線の全体領域を含む光帯域1/4波長位相差板52、56を取り付けなければならないので、透過型液晶表示装置に対して製品原価が上昇する。又、透過モード時、偏光特性によって50%の光損失が発生するので、透過型液晶表示装置に対して透過率が50%減少し、コントラスト比(C/R)が低下する問題がある。
又、液晶層50のΔndが0.24μmであって、通常の透過型液晶表示装置(Δndが約0.48μm)に対してΔndが半分水準なので、液晶セルのギャップを3μm水準に減少させ、液晶の屈折率異方性Δnも減少させなければならない。従って、製造工程が難しくなるのみならず、液晶の信頼性劣化が発生する問題がある。
従って、本発明は、前述した従来方法の問題点を解決するためのものであって、本発明の目的は、液晶セルの構造を単純化して透過モード時、光損失を減少させることができる半透過型液晶表示装置を提供することにある。
本発明の一観点によると、第1基板と、第2基板と、液晶層と、第1偏光板と、第2偏光板と、バックライトと、透明半透過膜とを備えることを特徴とする半透過型液晶表示装置を提供する。この半透過型液晶表示装置における第2基板は、その内面が前記第1基板と対向するように位置し、液晶層は、前記第1基板と第2基板との間に形成される。第1偏光板は、前記第1基板の外面に形成される。第2偏光板は、前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成される。バックライトは、前記第1偏光板の後側に配置される。透明半透過膜は、前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち、一部分は反射させて、一部分は透過させる。
又、本発明の他の観点によると、液晶セルと、第1偏光板と、第2偏光板と、バックライトと、半透過膜とからなる半透過型液晶表示装置を提供する。液晶セルは、第1基板と、その内面が前記第1基板と対向するように位置した第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層とを含む。第1偏光板は、前記第1基板の裏面に形成されている。第2偏光板は、前記第2基板の内面と反対側の外面に形成されている。バックライトは、前記第1偏光板の後側に配置されている。透明半透過膜は、前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され構成されている。この半透過型液晶表示装置は、前記液晶セルの前面から入射し前記半透過膜から反射されて前記液晶セルの前面に出射する反射光経路と、前記バックライトから前記液晶セルの後面から入射し前記半透過膜を透過して前記液晶セルの前面に出射する透過光経路とを有することを特徴とする。
又、本発明の他の観点によると、絶縁基板上に形成されたゲートライン、前記ゲートラインと絶縁され前記ゲートラインと交差するように形成されたデータライン、及び前記データラインと電気的に連結される画素電極を具備する第1基板と、その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる透明半透過膜とを具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置を提供する。
又、本発明の他の観点によると、絶縁基板上に、ゲート電極、前記ゲート電極及び絶縁基板上に形成されたゲート絶縁膜、前記ゲート電極上のゲート絶縁膜上に形成されたアクティブパターン、及び前記アクティブパターン上に離隔して形成されたソース/ドレーン電極を含んで形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタのソース電極又はドレーン電極のうちいずれか一つと電気的に連結される画素電極とを具備する第1基板と、その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層されて、入射光のうち一部分は反射させて、一部分は透過させる透明半透過膜とを具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置を提供する。
又、本発明の他の側面によると、絶縁基板上にアクティブパターン、前記アクティブパターン及び絶縁基板上に形成されたゲート絶縁膜、前記アクティブパターン上のゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極、前記ゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された層間絶縁膜、及び前記層間絶縁膜上に離隔して形成されたソース/ドレーン電極を含んで形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタのソース電極又はドレーン電極のうちいずれか一つと電気的に連結された画素電極とを具備する第1基板と、その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる透明半透過膜とを具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置を提供する。
又、本発明の他の観点によると、絶縁基板上に形成され、複数のデータラインと複数のゲートラインとが交差してマトリックス形態に配列される表示セルアレー回路、及び前記絶縁基板上の前記表示セルアレー回路の第1領域に形成され、前記複数個のゲートラインを駆動するためのゲート駆動回路を具備する第1基板と、その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる透明半透過膜とを具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置を提供する。
本発明によると、液晶セルの内部に反射電極が存在せず、上部基板(第2基板)及び下部基板(第1基板)のそれぞれに1/4波長位相差板を形成しないので、従来の半透過型液晶表示装置に対してその構造を単純化させることができる。
又、入射光の一部は透過させて、一部は反射させる半透過膜であって、透明電極と反射電極の役割を同時に行うことができ、光の再生(recycle)過程が継続的に起きるので、透過モードで光損失が発生しない。従って、従来の半透過型液晶表示装置に対して透過率が向上されるのみならず、下部基板(即ち、第1基板)に1/4波長位相差板を用いないので、バックライトから入射して液晶セルの金属領域から反射された光が再生され利用されることにより、全体的な光効率を増加させることができる。
又、従来の透過型液晶表示装置の液晶光学条件をその通り用いることができるので、液晶の信頼性劣化を防止することができる。
以下では、添付図面を参照して本発明の好ましい実施例を詳細に説明する。
図4は、本発明の第1実施例による半透過型液晶表示装置の断面図である。
図4を参照すると、本発明の第1実施例による半透過型液晶表示装置は、第1基板110、その内面が前記第1基板110と対向するように配置された第2基板130、及び前記第1基板110と第2基板130との間に形成された液晶層150を含む。
好ましくは、前記第1基板110及び第2基板130はガラス基板を用いて製作する。
前記第1基板110の内面にはITO(Indium−Tin−Oxide)のような導電性酸化膜からなる第1透明電極115が形成される。好ましくは、前記第1透明電極115は、第1方向に延長されて前記第1方向と直交する第2方向に反復される信号電極の役割を果たす。
前記第1基板110の外面には、第1偏光板155が形成され、前記第2基板130の前記内面と反対側の外面には第2偏光板165が形成される。前記第1偏光板155及び第2偏光板165は、所定の偏光成分を吸収して、その外の偏光成分を透過して光の透過方向を一定にする役割を果たし、好ましくは偏光軸が互いに対して垂直になるように設置された線偏光子である。
前記第1偏光板155の後側には、バックライト170が設けられる。
前記第2基板130の前記第1基板110と対向する内面には、ITOのような導電性酸化膜からなる第2透明電極135が形成される。好ましくは、前記第2透明電極135は、前記第2方向に反復されならが前記第1方向に延長される走査電極の役割を果たす。即ち、パシブマトリックス型液晶表示装置では、第1基板110の第1透明電極115と、第2基板130の第2透明電極135とが直交して配列されることにより、それぞれ信号電極と走査電極として用いられる。
前記液晶層150は、180°から270°ツイストされたSTN液晶組成物からなる。又、90°ツイストされたネマチック(twisted nematic)液晶組成物を用いて前記液晶層150を形成することもできる。通常的に、パシブマトリックス型液晶表示装置ではSTN液晶を用いる反面、アクティブマトリックス型液晶表示装置ではTN液晶を用いる。本実施例によると、前記液晶層150の屈折率異方性Δnと厚さdをかけた値Δndが約0.2〜0.6μm、好ましくは0.48μmであって、従来の透過型液晶表示装置の液晶光学条件をそのまま用いることができるので、液晶の信頼性劣化を防止することができる。
前記第1偏光板155とバックライト170との間には、図5に示したように、互いに異なる屈折率を有する2つの透明な膜、即ち第1層161及び第2層162が交互に2層以上積層され構成された半透過膜160が形成される。前記半透過膜160は、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる役割を果たす。従って、本実施例による半透過型液晶表示装置は、第2基板130側に入射し、第1基板110を通過して前記半透過膜160から反射された後、更に第2基板130に出射する反射光経路180と、前記バックライト170から第1基板110に入射し、前記半透過膜160を透過して第2基板130に出射する透過光経路185とを有する。
以下では、本発明の半透過膜160に対して詳細に説明する。
図5に示したように、膜の厚さ方向をz方向とし、膜の面をx−y面とする時、本発明の好ましい一実施例による半透過膜160は、その第1層161が膜の面、即ちx−y面内に屈折率異方性を有し、第2層162が膜の面内に屈折率異方性を有しないことを特徴とする。
前記半透過膜160は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる異方性特性を有する。例えば、膜の延伸(elongation)方向と並んでいる方向をx方向とし、前記延伸方向と垂直な方向をy方向とする時、面内に屈折率異方性を有する高い屈折率の第1層161と、面内に屈折率異方性を有しない低い屈折率の第2層162の3つの主屈折率n、n、nは、次のような関係(1)を満足する。
n1=n1≠n1
n2=n2=n2
n1≠n2
n1≠n2
|n1−n2|<|n1−n2|
(ただし、n1、n1、n1はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第1層の主屈折率を表し、n2、n2、n2はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第2層の主屈折率を表す)
このような第1層161と第2層162間のx方向の屈折率差がy方向の屈折率差より小さいと、偏光されない光が膜に垂直方向(即ち、z方向)に入射する時、フレネルの式(Fresnel’s equation)によって、y方向と並んでいる偏光成分は、高い屈折率差により大部分反射されるが、x方向と並んでいる偏光成分は、低い屈折率差により一部分は透過され、一部分は反射される。
一般的に、複屈折性の誘電体多層膜からなる反射型偏光子を用いて、表示の明るさを強化させる方法が、日本国特表平9−506985号公報や、国際公開された国際出願WO97/01788号などに開示されている。このような複屈折性の誘電体多層膜は、2種類の高分子層を交互に積層して形成されるが、2種類の高分子のうち、一つは屈折率の大きな材料が選択され、他の一つは屈折率の小さい材料が選択される。複屈折性の誘電体多層膜の光学的側面での構造は次のようである。
例えば、屈折率が大きな材料を延伸した第1層と、屈折率が小さい材料を延伸した第2層との間に次のような屈折率関係が存在すると仮定して見よう。
n1=n1=1.57、n1=1.86
n2=n2=n2=1.57
このように第1層と第2層のx及びz方向の屈折率が同じであり、y方向の屈折率が異なる場合、偏光されない光が膜に垂直方向(即ち、z方向)に入射する時、フレネルの式によってx方向の偏光成分は全部透過し、y方向の偏光成分は全部反射することになる。このような特性を有する複屈折性の誘電体多層膜の代表的な例として、3M社のDBEF(Dual Brightness Enhancement Film)を挙げられる。前記DBEFは、互いに異なる2つの材質の薄膜が交互的に数百層が積層されている多層膜構造に形成されている。即ち、複屈折率(birefringence)が非常に高いポリエチレンナフタレート(polyethylene naphtalate)層と等方性構造を有するポリメチルメタクリレート(polymethyl methacrylate;PMMA)層を交互に積層してDBEFを形成する。ナフタレン基は平面構造を有しているので、隣接した時に積層が容易であり、積層方向の屈折率が他の方向の屈折率と大きく異なるようになる。一方、PMMAは、無定形高分子として等方性配向をするので、全ての方向への屈折率が等しい。
このように、3M社のDBEFはx方向の偏光成分は全部透過し、y方向の偏光成分は全部反射するが、本発明の一実施例による半透過膜160は、特定方向(例えば、y方向)の偏光成分は大部分反射するが、それと垂直な方向(例えば、x方向)の偏光成分は一部反射させ、一部透過させる特性を有する。このような半透過膜は入射光の偏光状態及び方向によって、透過率及び反射率の大きさが異なる2つの異方性半透過膜を垂直に取り付けて形成することができ、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる異方性半透過膜と、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有する半透過膜を取り付けて形成することもできる。この際、2つの半透過膜は一体型に形成することもでき、分離された別の膜形態に形成することもできる。
又、本発明の好ましい他の実施例によると、前記半透過膜160は、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有する。例えば、膜の延伸方向と並んでいる方向をx方向とし、前記延伸方向と垂直な方向をy方向とする時、高い屈折率の第1層161と低い屈折率の第2層162は、膜のx−y面内に屈折率等方性を有し、3つの主屈折率n、n、nは次のような関係(2)を満足する。
n1=n1=n1
n2=n2=n2≠n1
このように、第1層161と第2層162のz方向の屈折率が異なる場合、偏光されない光が膜に垂直方向(即ち、z方向)に入射する時、フレネルの式によってx方向の偏光成分も一部透過及び一部反射され、y方向の偏光成分も一部反射及び一部透過される。この際、第1層161又は第2層162の厚さや屈折率を調節して反射される光の反射率を半透過型液晶表示装置の特性に合わせて調節することができる。即ち、反射特性を強化した半透過型液晶表示装置は反射率を高くする一方、透過特性を重要視する半透過型液晶表示装置は、反射率を低くして透過率を向上させる。
前述したように、本発明の半透過膜160は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる異方性特性を有するように形成することもでき、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有するように形成することもできる。いずれの場合にも、前記半透過膜160は、膜の面に垂直方向に光が入射する時、いずれの方向の偏光成分に対しても4%以上の反射率を有するように形成することが好ましい。
本発明の半透過膜160は、第1偏光板155と一体型に形成することもでき、前記第1偏光板155と分離して別の膜形態に形成することもできる。前記半透過膜160を第1偏光板155と一体型に形成する場合には、液晶セルの厚さを薄くすることができ、原価側面においても有利になる。
第1偏光板155の表面に高分子多層膜を蒸着又は塗布して半透過膜160を製作する方法は、偏光板に反射防止(anti−reflection)処理をする概念と逆の概念を有する。即ち、反射防止処理は、屈折率が互いに異なる2種類の透明膜を一定厚さに反復蒸着又はコーティングして膜内部での多反射(multi−reflection)により消滅干渉を行うことであるが、入射光の一定部分は反射し、一定部分は透過させる半透過膜を形成するためには、補強干渉が行われるように膜の厚さを調節しなければならない。
又、本実施例による半透過型液晶表示装置は、図6a及び図6bに図示したように、鏡面反射(specular reflection)を防止し、反射光を多様な角度に適切に拡散させるために、第1基板110又は第2基板130に光散乱層168を形成することができる。例えば、前記光散乱層168は、第1基板110と第1偏光板155との間、又は第2基板130と第2偏光板165との間に形成することができ、第1偏光板155と半透過膜160との間にも形成することができる。前記光散乱層168は、第1偏光板155又は第2偏光板165と一体型に形成するか、前記偏光板と分離された別の膜状態に形成する。前記光散乱層168は、透明ビーズを分散したプラスチックフィルムで構成することができ、接着剤中にビーズを混入して光散乱層として用いることにより、例えば、第1基板110を第1偏光板155に直接接着しても構わない。
又、本実施例による半透過型液晶表示装置は、光効率を最適化するために、第1基板110又は第2基板130に位相差板(図示せず)を形成することができる。例えば、前記位相差板は、第1基板110と第1偏光板155との間、又は第2基板130と第2偏光板165との間に偏光板と一体型に形成するか、偏光板から分離された別の膜形態に形成する。
以下では、前記の構造を有する本実施例による半透過型液晶表示装置の動作原理を詳細に説明する。
図7a乃至図8bは、半透過膜160を第1偏光板155と一体型に形成した半透過型液晶表示装置において、反射モード及び透過モードの動作原理を説明するための概略図である。ここで、光の偏光方向は、第2偏光板165の偏光軸を基準に示したものであり、一部分反射及び一部分透過された光は点線で表示した。
まず、反射モードで画素電圧が印加されない場合(OFF)、図7aに示したように、外部から入射した光は第2偏光板165を通過して、その偏光軸と平行な方向に線偏光される。線偏光された光は、液晶層150及び第1透明電極115を通過して第2偏光板165の偏光軸に垂直な方向に線偏光された後、第1偏光板155と一体型に形成された半透過膜160に入射する。この際、前記第1偏光板155の偏光軸と第2偏光板165の偏光軸は互いに垂直になるので、第1偏光板155に入射する光は、前記第1偏光板155の偏光軸と平行な方向になる。従って、前記第1偏光板155の偏光軸と平行な方向に線偏光された光は、半透過膜160を一部分透過して一部分反射される。即ち、前記半透過膜160が前述した関係(1)の屈折率特性を有する場合、半透過膜160に入射する光のうち、膜の延伸方向と並んでいるx方向の偏光成分は、一部分透過して一部分反射する反面、前記延伸方向と垂直なy方向の偏光成分は大部分反射する。又、前記半透過膜160が前述した関係(2)の屈折率特性を有する場合には、半透過膜160に入射する光のうち、x方向とy方向の偏光成分が一部分透過及び一部分反射する。
このように、前記半透過膜160から反射された線偏光された光は、第1透明電極115及び液晶層150を通過して、前記第2偏光板165の偏光軸と平行な方向に線偏光された後、第2偏光板165をそのまま通過してホワイト(white)画像を表示することになる。又、前記半透過膜160を透過した光は、半透過膜160とバックライト170との間で再生過程を経て、半透過膜160を一部反射及び一部透過する過程を持続的に行うので、光損失を除去して反射率及び光効率を向上させることができる。
反射モードで画素電圧が最大である場合(ON)、図7bに示したように、外部から入射した光は第2偏光板165をそのまま通過して、その偏光軸と平行な方向に線偏光された後、偏光状態の変化なしに液晶層150を通過して第1偏光板155と一体型の半透過膜160に入射する。この際、線偏光された光は、第1偏光板155の偏光軸と垂直な方向なので、前記第1偏光板155で全部吸収される。従って、半透過膜160から光が反射されることができないので、ブラック(black)画像を表示することになる。
透過モードで画素電圧が印加されない場合(OFF)、図8aに示したように、バックライト170から放出された光が第1偏光板155と一体型の半透過膜160に入射する。前記半透過膜160が前述した関係(1)の屈折率特性を有する場合、第1偏光板155の偏光軸と平行な方向の光のうち、x軸方向と並んでいる偏光成分は一部分透過して一部分反射する反面、y軸方向と並んでいる偏光成分は大部分反射される。又、前記半透過膜160が前述した関係(2)の屈折率特性を有する場合には、x及びy方向の全ての偏光成分は、一部透過及び一部反射されるので、前記第1偏光板155の偏光軸と平行な方向の光のうち、一部分は透過して一部分は反射される。
このように、半透過膜160を透過して第1偏光板155を通過した光は、第1偏光板155の偏光軸と平行な方向、即ち、第2偏光板165の偏光軸と垂直な方向に線偏光された光になる。前記線偏光された光は、第1透明電極115及び液晶層150を通過して第2偏光板165の偏光軸と平行な方向に線偏光される。従って、第2偏光板165の偏光軸と平行な方向に線偏光された光は、第2偏光板165をそのまま通過してホワイト画像を表示することになる。又、前記半透過膜160から反射された光は、バックライト170と半透過膜160との間で再生された後、前述した過程を反復するので、x方向と並んでいる偏光成分又はxとy方向に並んでいる偏光成分が持続的に半透過膜160を通過して用いられるので、光損失を除去して透過率及び光効率を向上させることができる。
透過モードで最大の画素電圧が印加された場合(ON)、図8bに示したように、バックライト170から放出された光が第1偏光板155と一体型の半透過膜160に入射して、前記第1偏光板155の偏光軸と平行な方向の光のうち、一部分は透過して一部分は反射される。前記半透過膜160を透過して、第1偏光板155を通過した光は、第1偏光板155の偏光軸と平行な方向、即ち、第2偏光板165の偏光軸と垂直な方向に線偏光された光になる。前記線偏光された光は、偏光状態の変化なしに第1透明電極115及び液晶層150を通過する。従って、第2偏光板165の偏光軸と垂直な方向に線偏光された光は、第2偏光板165を通過することができないので、ブラック画像を表示することになる。
図9a乃至図10bは、半透過膜160を第1偏光板155と分離して別の膜形態に形成した半透過型液晶表示装置において、反射モード及び透過モードの動作原理を説明するための概略図である。ここで、光の偏光方向は第2偏光板165の偏光軸を基準に示したものであり、一部分反射及び一部分透過された光は、点線で表示した。
まず、反射モードで画素電圧が印加されない場合(OFF)、図9aに示したように、外部から入射された光は第2偏光板165を通過して、その偏光軸と平行な方向に線偏光される。線偏光された光は、液晶層150及び第1透明電極115を通過して第2偏光板165の偏光軸に垂直な方向に線偏光され第1偏光板155に入射する。この際、前記第1偏光板155は第2偏光板165の偏光軸に対して垂直な偏光軸を有しているので、第2偏光板165の偏光軸に垂直な方向に線偏光された光は、第1偏光板155をそのまま通過して半透過膜160に入射される。前記半透過膜160が前述した関係(1)の屈折率特性を有する場合、半透過膜160に入射される光のうち、延伸方向と並んでいるx方向の偏光成分は、一部分透過して一部分反射する反面、前記延伸方向と垂直なy方向の偏光成分は大部分反射する。又、前記半透過膜160が前述した関係(2)の屈折率特性を有する場合には、半透過膜160に入射される光のうち、x方向とy方向の偏光成分が一部分透過及び一部分反射する。
このように、半透過膜160から反射された線偏光された光は、第1偏光板155の偏光軸と平行な方向なので、第1偏光板155をそのまま通過して第1透明電極115を経て液晶層150に入射する。前記線偏光された光は、液晶層150を通過して第2偏光板165の偏光軸と平行な方向に線偏光された後、第2偏光板165をそのまま通過してホワイト(white)画像を表示することになる。又、前記半透過膜160を透過した光は、半透過膜160とバックライト170との間で再生過程を経て半透過膜160を一部反射及び一部透過する過程を持続的に行うので、光損失を除去して反射率及び光効率を向上させる。
反射モードで画素電圧が最大である場合(ON)、図9bに示したように、外部から入射された光は第2偏光板165を通過して、その偏光軸と平行な方向に線偏光された後、偏光状態の変化なしに液晶層150を通過して第1偏光板155に入射する。この際、線偏光された光は、第1偏光板155の偏光軸と垂直な方向なので、前記第1偏光板155で全部吸収される。従って、半透過膜160から光が反射されることができないので、ブラック(black)画像を表示することになる。
透過モードで画素電圧が印加されない場合(OFF)、図10aに示したように、バックライト170から放出された光が半透過膜160に入射した後、一部分透過及び一部分反射される。前記半透過膜160が前述した関係(1)の屈折率特性を有する場合、半透過膜160に入射する光のうち、膜の延伸方向と並んでいるx方向の偏光成分は、一部分透過して一部分反射する反面、前記延伸方向と垂直なy方向の偏光成分は大部分反射される。又、前記半透過膜160が前述した関係(2)の屈折率特性を有する場合には、半透過膜160に入射する光のうち、x方向とy方向の偏光成分が、一部分透過及び一部分反射される。
このように、半透過膜160を透過した光は、第1偏光板155を通過して、その偏光軸と平行な方向に線偏光された後、第1透明電極115及び液晶層150を通過して第2偏光板165の偏光軸と平行な方向に線偏光される。従って、第2偏光板165の偏光軸と平行な方向に線偏光された光は、第2偏光板165をそのまま通過してホワイト画像を表示することになる。又、前記半透過膜160から反射された光は、バックライト170と半透過膜160との間で再生された後、前記過程を反復するので、x方向と並んでいる偏光成分又はxとy方向に並んでいる偏光成分が半透過膜160を持続的に透過して用いられることにより、光損失を防止して透過率及び光効率を向上させる。
通過モードで最大の画素電圧が印加された場合(ON)、図10bに示したように、バックライト170から放出された光が半透過膜160に入射した後、一部分透過及び一部分反射される。前記半透過膜160を透過した光は、第1偏光板155を通過して、その偏光軸と平行な方向、即ち、第2偏光板165の偏光軸と垂直な方向に線偏光された後、偏光状態の変化なしに第1透明電極115及び液晶層150を通過する。従って、第2偏光板165の偏光軸と垂直な方向に線偏光された光は、第2偏光板165を通過することができないので、ブラック画像を表示することになる。
図11は、本発明の他の実施例による半透過型液晶表示装置の断面図を示す。
図11を参照すると、半透過型液晶表示装置は、第1基板200、前記第1基板200と対向して配置された第2基板250、前記基板の間に形成された液晶層260、及び前記第1基板200の後側に配置されたバックライト270を含む。
前記第1基板200は、第1絶縁基板210上に複数のゲートライン(図示せず)と複数のデータライン(図示せず)が、マトリックス形態に形成されており、1対のゲートラインと1対のデータラインによって定義される領域に画素電極234と薄膜トランジスタ225が形成されている。前記第2基板250は、第2絶縁基板252、光が通過して所定の色が発現されるRGB画素からなるカラーフィルター254、画素間の光漏出を防止するためのブラックマトリックス256、及び透明共通電極258を含む。
薄膜トランジスタ225は、第1絶縁基板210上に形成されたゲート電極212、前記ゲート電極212及び第1絶縁基板210上に形成されたゲート絶縁膜214、前記ゲート電極212上のゲート絶縁膜214上に形成されたアクティブパターン216、及びオームコンタクトパターン218、そして前記オームコンタクトパターン218上に離隔して形成されたソース電極220及びドレーン電極222で構成される。ここで、前記アクティブパターン216は、非晶質シリコン又は多結晶シリコンのうちいずれか一つで形成される。
前記薄膜トランジスタ225が形成された第1絶縁基板210上には、無機物や有機物からなる保護膜230が形成される。前記保護膜230を貫通して前記ドレーン電極222を露出させるコンタクトホール232が形成される。前記画素電極234は、ITO(Indium tin oxide)のような導電性酸化膜で構成された透明電極234で形成される。
好ましくは、前記液晶層260は90°ツイストされたネマチック(twisted nematic)液晶であって、屈折率異方性Δnと厚さdをかけた値Δndが、約0.2〜0.6μm、望ましくは0.48μmになる。従って、従来の透過型液晶表示装置の液晶光学条件をそのまま用いることができるので、液晶の信頼性劣化を防止することができる。
前記液晶層260の配向方向によって、第1基板210と第2基板252のそれぞれの外面に外部光の透過方向を一定にする第1偏光板262及び第2偏光板266が取り付けられる。好ましくは、前記第1偏光板262及び第2偏光板266は、偏光軸が互いに対して垂直になるように設置された線偏光子である。
前記薄膜トランジスタ225のゲート電極212はゲートラインに連結され、ソース電極220はデータラインに連結され、ドレーン電極222はコンタクトホール232を通じて画素電極234に連結される。従って、ゲートラインを通じて走査電圧がゲート電極212に印加されると、データラインに流れる信号電圧がソース電極220からドレーン電極222にアクティブパターン216を通じて印加される。信号電圧がドレーン電極222に印加されると、ドレーン電極222に連結された画素電極234と第2基板250の共通電極258との間に電圧差が発生することになる。そうすると、画素電極234と共通電極258との間に注入された液晶層260の分子配列が変化され、これにより、液晶260の光透過率が変化して薄膜トランジスタ225は液晶セルの画素を動作させるスイッチング素子としての役割を果たす。
前記第1偏光板262とバックライト270との間には互いに異なる屈折率を有する透明な第1層及び第2層が交互に多数積層され構成された半透過膜264が形成される。前記半透過膜264は、前述した第1実施例で説明したように、入射光のうち一部分は反射させて一部分は透過させる役割を果たす。即ち、前記半透過膜264は、入射光の偏光状態及び方向によって、透過率及び反射率の大きさが異なる異方性特性を有するように形成することもでき、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有するように形成することもできる。いずれの場合でも、前記半透過膜264は、膜の面に垂直方向に光が入射する時、いずれの方向の偏光成分に対しても4%以上の反射率を有するように形成することが好ましい。前記半透過膜264は、第1偏光板262と一体型又は分離型に形成する。
又、本実施例による半透過型液晶表示装置は、鏡面反射を防止して反射光を多様な角度に適当に拡散させるために、第1基板200又は第2基板250に光散乱層(図示せず)を形成することができる。例えば、前記光散乱層は、第1基板200と第1偏光板262との間、又は第2基板250と第2偏光板266との間に形成し、第1偏光板262と半透過膜264との間にも形成することができる。前記光散乱層は、第1偏光板262又は第2偏光板266と一体型又は分離型に形成する。又、接着剤にビーズを混入して光散乱層として用いることもできる。
又、本実施例による半透過型液晶表示装置は、光効率を最適化するために、第1基板200又は第2基板250に位相差板(図示せず)を形成することができる。例えば、前記位相差板は、第1基板200と第1偏光板262との間、又は第2基板250と第2偏光板266との間に形成される。前記位相差板は、第1偏光板262又は第2偏光板266と一体型又は分離型に形成する。
本実施例の半透過型液晶表示装置によると、液晶セルの内部に反射電極を形成せずに、半透過膜264で反射電極の役割を代わる。従って、外部から第2基板250側に入射した光は、第1基板200を通過して前記半透過膜264から反射された後、第2基板250に出射する反射光経路280を有する。又、バックライト270から第1基板200に入射した光は、前記半透過膜264を透過した後、第2基板250に出射される透過光経路285を有する。
図11に図示した半透過型液晶表示装置の反射モード及び透過モードでの動作原理は、図7a乃至図10bを参照して説明したものと同じである。即ち、入射光の一部分は透過して一部分は反射させる半透過膜を用いることにより、反射モード及び透過モード時、光損失が発生しないので、反射率及び透過率を共に向上させることができる。又、図1に図示した従来の半透過型液晶表示装置と比較する時、下部基板、即ち第1基板200に1/4波長位相差板を形成しないので、バックライト270から入射されて、液晶セルの内部のゲートラインやデータラインのような金属層が存在する領域から反射される光も半透過膜264とバックライト270との間で再生されて用いられることにより、全体的な光効率を増加させることができる。
図12は、本発明の第3実施例による半透過型液晶表示装置の断面図であって、上部−ゲート(top−gate)構造の薄膜トランジスタ−液晶表示装置を図示する。
図12を参照すると、半透過型液晶表示装置は、第1基板300、前記第1基板300と対向して配置された第2基板350、前記基板の間に形成された液晶層360、及び前記第1基板300の後側に配置されたバックライト370を含む。
前記第1基板300は、第1絶縁基板310上に複数のゲートライン(図示せず)と複数のデータライン(図示せず)がマトリックス形態に形成されており、その交差点に画素電極334と薄膜トランジスタ325が形成されている。前記第2基板350は、第2絶縁基板352、光が通過して所定の色が発現されるRGB画素からなるカラーフィルター354、画素間の光漏出を防止するためのブラックマトリックス356、及び透明共通電極358を含む。
薄膜トランジスタ325は、第1絶縁基板310上に形成されたアクティブパターン312、前記アクティブパターン312及び第1絶縁基板310上に形成されたゲート絶縁膜314、前記アクティブパターン312上のゲート絶縁膜314上に形成されたゲート電極316、前記ゲート電極316及びゲート絶縁膜314上に形成された層間絶縁膜318、及び前記層間絶縁膜318上に離隔して形成されたソース/ドレーン電極320、322で構成される。前記ソース/ドレーン電極320、322は、前記層間絶縁膜318及びゲート絶縁膜314を貫通するコンタクトホール319を通じて、それぞれアクティブパターン312に形成されたソース領域S及びドレーン領域Dに接続される。ここで、前記アクティブパターン312は、多結晶シリコン又は非晶質シリコンのうち、いずれか一つで形成される。
前記薄膜トランジスタ325が形成された第1絶縁基板310上には、無機物や有機物からなる保護膜330が形成される。前記保護膜330を貫通して前記ドレーン電極322を露出させる第2接触孔332が形成される。前記画素電極はITOのような導電性酸化膜からなる透明電極334で形成される。
好ましくは、前記液晶層360は90°ツイストされたネマチック(twisted nematic)液晶であって、屈折率異方性Δnと厚さdをかけた値Δndが約0.2〜0.6μm、望ましくは0.48μmになる。従って、従来の透過型液晶表示装置の液晶光学条件をそのまま用いることができるので、液晶の信頼性劣化を防止することができる。
前記液晶層360の配向方向によって、第1基板300と第2基板350のそれぞれの外面に外部光の透過方向を一定にする第1偏光板362及び第2偏光板366が取り付けられる。好ましくは、前記第1偏光板362及び第2偏光板366は、偏光軸が互いに対して垂直になるように設置された線偏光子である。
前記第1偏光板362とバックライト370との間には、互いに異なる屈折率を有する透明な第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させて一部分は透過させる透明半透過膜364が形成される。即ち、前記半透過膜364は反射電極の役割を行う。従って、外部から第2基板350側に入射した光は、第1基板300を通過して前記半透過膜364から反射された後、第2基板350に出射する反射光経路380を有する。又、バックライト370から第1基板300に入射した光は、前記半透過膜364を透過した後、第2基板350に出射される透過窓経路385を有する。
図13は、本発明の第4実施例による半透過型液晶表示装置の分解斜視図であり、図14は、図13に図示した第1基板の平面図である。
図13及び図14を参照すると、半透過型液晶表示装置は、第1基板412a、前記第1基板412aと対向して配置された第2基板412b、前記基板の間に形成された液晶層LC、及び前記第1基板412aの後側に配置されたバックライト490を含む。
前記第1基板412a上には、表示セルアレー回路450、データ駆動回路460、ゲート駆動回路470、データ駆動回路460を接続するための第1外部端子463、ゲート駆動回路470を接続するための第2外部端子472が形成される。カラーフィルターを有する第1基板412aと透明共通電極(CE)を有する第2基板412bとの間に液晶層(LC)が形成される。前記液晶層LCの配向方向によって第1基板412aと第2基板412bのそれぞれの外面に外部光の透過方向を一定にする第1偏光板480及び第2偏光板(図示せず)が取り付けられる。
延性印刷回路基板416に設置された統合制御及びデータ駆動チップ418と第1基板412aの回路は、延性印刷回路基板416により電気的に連結される。延性印刷回路基板416は、データ信号、データタイミング信号、ゲートタイミング信号、及びゲート駆動電圧を第1基板412aのデータ駆動回路460及びゲート駆動回路470に提供する。
前記表示セルアレー回路450は、カラム方向に延長されたm個のデータライン(DL1〜DLm)と、ロー方向に延長されたn個のゲートライン(GL1〜GLn)を含む。前記データラインとゲートラインの各交差点には、スイッチングトランジスタ(ST)が形成される。スイッチングトランジスタ(ST)のドレーンは、データライン(DLi)に連結され、ゲートはゲートライン(GLi)に連結される。スイッチングトランジスタ(ST)のソースは、透明画素電極PEに連結される。
前記ゲート駆動回路470は、複数のステージが従属連結され、一番目ステージには開示信号が入力端子に結合され、各ステージの出力信号により複数のゲートライン(GL1〜GLn)を順次選択する一つのシフトレジストで構成される。
前記データ駆動回路460は、シフトレジスト464と、たとえば528個(176*3)のスイッチングトランジスタを含む。528個のスイッチングトランジスタは、66個ずつ8個のデータラインブロック(BL1〜BL8)を形成する。各データラインブロック(BLi)は、66個のデータ入力端子で構成された外部入力端子463に66個の入力端子が共通に連結され、シフトレジスタ464は、クロック信号(CK,CKB)、ブロック選択開始信号(STH)を3端子を有する外部接続端子462を介して提供する。対応する66個のデータラインに66個の出力端子が連結される。又、シフトレジスト464の8個の出力端子うち、対応する一つの出力端子にブロック選択端子が連結される。528個のスイッチングトランジスタのそれぞれは、対応するデータラインにソースが連結され、66個のデータ入力端子うち、対応する入力端子にドレーンが連結され、ゲートにブロック選択端子に連結された非晶質シリコン薄膜トランジスタで構成される。従って、528個のデータラインは66個ずつ8個のブロックに分割され、シフトレジスト464の8個のブロック選択信号により順次各ブロックが選択される。
このように、第1基板412a上にゲート駆動回路470及びデータ駆動回路460を表示セルアレー回路450と共に集積する半透過型液晶表示装置において、前記第1偏光板470とバックライト490との間には、互いに異なる屈折率を有する透明な第1層及び第2層が交互に多数積層され構成された半透過膜495が形成される。この際、前記半透過膜495は、第1偏光板480と一体型又は分離型に形成する。
前記半透過膜495は、入射光うち、一部分は反射させて一部分は透過させる役割を果たす。前記半透過膜495は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる異方性特性を有するように形成することもでき、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有するように形成することもできる。いずれの場合にも、前記半透過膜495は、膜の面に垂直方向に光が入射する時、いずれの方向の偏光成分に対しても4%以上の反射率を有するように形成することが好ましい。
前述した第4実施例では、データ駆動回路及びゲート駆動回路にシフトレジストを採用した例を示す。しかし、データ駆動回路又はゲート駆動回路のうち、いずれの一つにのみシフトレジストを採用することができるのは明白である。
以上、本発明の実施例によって詳細に説明したが、本発明はこれに限定されず、本発明が属する技術分野において通常の知識を有するものであれば本発明の思想と精神を離れることなく、本発明を修正または変更できる。
従来の半透過型液晶表示装置の断面図である。 図1の半透過型液晶表示装置において、反射モードの動作原理を説明するための概略図である。 図1の半透過型液晶表示装置において、反射モードの動作原理を説明するための概略図である。 図1の半透過型液晶表示装置において、透過モードの動作原理を説明するための概略図である。 図1の半透過型液晶表示装置において、透過モードの動作原理を説明するための概略図である。 本発明の第1実施例による半透過型液晶表示装置の断面図である。 図4に図示した半透過膜の構造図である。 図4の半透過型液晶表示装置に適用することができる光散乱層の位置を説明するための断面図である。 図4の半透過型液晶表示装置に適用することができる光散乱層の位置を説明するための断面図である。 一体型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、反射モードの動作原理を説明するための概略図である。 一体型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、反射モードの動作原理を説明するための概略図である。 一体型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、透過モードの動作原理を説明するための概略図である。 一体型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、透過モードの動作原理を説明するための概略図である。 分離型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、反射モードの動作原理を説明するための概略図である。 分離型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、反射モードの動作原理を説明するための概略図である。 分離型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、透過モードの動作原理を説明するための概略図である。 分離型半透過膜を適用した図4の半透過型液晶表示装置において、透過モードの動作原理を説明するための概略図である。 本発明の第2実施例による半透過型液晶表示装置の断面図である。 本発明の第3実施例による半透過型液晶表示装置の断面図である。 本発明の第4実施例による半透過型液晶表示装置の分解斜視図である。 図13に図示した第1基板の平面図である。
符号の説明
10,110,200,300,412a 第1基板
11,210,310 第1絶縁基板
12,212,316 ゲート電極
14,214,314 ゲート絶縁膜
16,216,312 アクティブパターン
18,218 オームコンタクトパターン
20,220,320 ソース電極
22,222,322 ドレーン電極
25,225,325 薄膜トランジスタ
30,230,330 保護膜
32,232,319 コンタクトホール
34,234,334 透明電極
36 反射電極
40,130,250,350,412b 第2基板
42,252,352 第2絶縁基板
44,254,354 カラーフィルター
46,256,356 ブラックマトリックス
50,150,260,360,LC 液晶層
52 第11/4波長位相差板
54,155,262,362,480 第1偏光板
56 第21/4波長位相差板
58,165,266,366 第2偏光板
60,170,270,370,490 バックライト
110,258,358,CE 透明共通電極
115 第1透明電極
135 第2透明電極
160,264,364,495 半透過膜
168 光散乱層
180,280,380 反射光経路
185,285,385 透過光経路
234,334 画素電極
318 層間絶縁膜
332 ビヤホール
364 透明半透過膜
416 延性印刷回路基板
418 データ駆動チップ
450 表示セルアレー回路
460 データ駆動回路
462,463 データ駆動回路外部連結端子
470 ゲート駆動回路
472 ゲート駆動回路外部連結端子

Claims (44)

  1. 第1基板と、
    その内面が前記第1基板と対向するように位置する第2基板と、
    前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち、一部分は反射させて、一部分は透過させる透明半透過膜と、
    を備えることを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  2. 前記半透過膜は、前記第1偏光板と一体に形成されたことを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  3. 前記半透過膜は、前記第1偏光板と分離された別の膜形態に形成されたことを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  4. 前記半透過膜の第1層は、膜の面内に屈折率異方性を有し、前記第2層は、膜の面内に屈折率異方性を有しないことを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  5. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる異方性特性を有することを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  6. 膜の厚さ方向をz軸とし、膜の面をx−y面とする時、前記半透過膜の第1層及び第2層の3つの主屈折率n、n、nは、
    n1=n1≠n1
    n2=n2=n2
    n1≠n2
    n1≠n2
    |n1−n2|<|n1−n2|
    (ただし、n1、n1、n1はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第1層の主屈折率を表し、n2、n2、n2はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第2層の主屈折率を表す)
    の関係を満足することを特徴とする請求項5記載の半透過型液晶表示装置。
  7. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有することを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  8. 膜の厚さ方向をz軸とし、膜の面をx−y面とする時、前記半透過膜の第1層及び第2層の3つの主屈折率n、n、nは、
    n1=n1=n1
    n2=n2=n2≠n1
    (ただし、n1、n1、n1はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第1層の主屈折率を表し、n2、n2、n2はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第2層の主屈折率を表す)
    の関係を満足することを特徴とする請求項7記載の半透過型液晶表示装置。
  9. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる2つの異方性半透過膜を互いに垂直に付着して形成されたことを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  10. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる第1半透過膜と、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有する第2半透過膜を付着して形成されたことを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  11. 前記半透過膜は、膜の面に垂直に光が入射する時、いずれの方向の偏光成分に対しても4%以上の反射率を有することを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  12. 前記第1基板又は前記第2基板に形成された光散乱層を更に備えることを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  13. 前記光散乱層は、前記第1基板と第1偏光板との間、前記第2基板と第2偏光板との間、又は、前記第1偏光板と半透過膜との間に形成されたことを特徴とする請求項12記載の半透過型液晶表示装置。
  14. 前記第1基板又は前記第2基板に形成された位相差板を更に備えることを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  15. 前記位相差板は、前記第1基板と第1偏光板との間、又は、前記第2基板と第2偏光板との間に形成されたことを特徴とする請求項14記載の半透過型液晶表示装置。
  16. 前記液晶層の屈折率異方性Δnと厚さdをかけた値Δndが0.2〜0.6μm程度であることを特徴とする請求項1記載の半透過型液晶表示装置。
  17. 第1基板と、その内面が前記第1基板と対向するように位置した第2基板と、前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層とを含む液晶セルと、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され構成された透明半透過膜とを具備し、
    前記液晶セルの前面から入射し前記半透過膜から反射されて前記液晶セルの前面に出射する反射光経路と、前記バックライトから前記液晶セルの後面から入射し前記半透過膜を透過して前記液晶セルの前面に出射する透過光経路とを有することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  18. 前記半透過膜の第1層は、膜の面内に屈折率異方性を有し、前記第2層は、膜の面内に屈折率異方性を有しないことを特徴とする請求項17記載の半透過型液晶表示装置。
  19. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる異方性特性を有することを特徴とする請求項17記載の半透過型液晶表示装置。
  20. 膜の厚さ方向をz軸とし、膜の面をx−y面とする時、前記半透過膜の第1層及び第2層の3つの主屈折率n、n、nは、
    n1=n1≠n1
    n2=n2=n2
    n1≠n2
    n1≠n2
    |n1−n2|<|n1−n2|
    (ただし、n1、n1、n1はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第1層の主屈折率を表し、n2、n2、n2はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第2層の主屈折率を表す)
    の関係を満足することを特徴とする請求項19記載の半透過型液晶表示装置。
  21. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有することを特徴とする請求項17記載の半透過型液晶表示装置。
  22. 膜の厚さ方向をz軸とし、膜の面をx−y面とする時、前記半透過膜の第1層及び第2層の3つの主屈折率n、n、nは、
    n1=n1=n1
    n2=n2=n2≠n1
    (ただし、n1、n1、n1はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第1層の主屈折率を表し、n2、n2、n2はそれぞれx軸、y軸、z軸方向における第2層の主屈折率を表す)
    の関係を満足することを特徴とする請求項21記載の半透過型液晶表示装置。
  23. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって、透過率及び反射率の大きさが異なる2つの異方性半透過膜を垂直に付着して形成されたことを特徴とする請求項17記載の半透過型液晶表示装置。
  24. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる第1半透過膜と、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有する第2半透過膜を付着して形成されたことを特徴とする請求項17記載の半透過型液晶表示装置。
  25. 前記半透過膜は、膜の面に垂直に光が入射する時、いずれの方向の偏光成分に対しても4%以上の反射率を有することを特徴とする請求項17記載の半透過型液晶表示装置。
  26. 前記第1基板又は前記第2基板に形成された光散乱層を更に具備することを特徴とする請求項17記載の半透過型液晶表示装置。
  27. 第1透明電極が形成された第1基板と、
    その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に第2透明電極が形成された第2基板と、
    前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光うち一部分は反射させて一部分は透過させる透明半透過膜と、
    を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  28. 前記第1透明電極は信号電極であり、前記第2透明電極は走査電極であることを特徴とする請求項27記載の半透過型液晶表示装置。
  29. スイッチング素子及び前記スイッチング素子と接続する透明画素電極が形成された第1基板と、
    その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、
    前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる透明半透過膜と、
    を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  30. 前記スイッチング素子は、薄膜トランジスタであることを特徴とする請求項29記載の半透過型液晶表示装置。
  31. 絶縁基板上に形成されたゲートライン、前記ゲートラインと絶縁され前記ゲートラインと交差するように形成されたデータライン、及び前記データラインと電気的に連結される画素電極を具備する第1基板と、
    その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、
    前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる透明半透過膜と、
    を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  32. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる異方性特性を有することを特徴とする請求項31記載の半透過型液晶表示装置。
  33. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有することを特徴とする請求項31記載の半透過型液晶表示装置。
  34. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる2つの異方性半透過膜を垂直に付着して形成されたことを特徴とする請求項31記載の半透過型液晶表示装置。
  35. 前記半透過膜は、入射光の偏光状態及び方向によって透過率及び反射率の大きさが異なる第1半透過膜と、入射光の偏光状態及び方向と関係なく等方的に透過及び反射特性を有する第2半透過膜とを付着して形成されたことを特徴とする請求項31記載の半透過型液晶表示装置。
  36. 前記半透過膜は、膜の面に垂直に光が入射する時、いずれの方向の偏光成分に対しても4%以上の反射率を有することを特徴とする請求項31記載の半透過型液晶表示装置。
  37. 絶縁基板上に、ゲート電極、前記ゲート電極及び絶縁基板上に形成されたゲート絶縁膜、前記ゲート電極上のゲート絶縁膜上に形成されたアクティブパターン、及び前記アクティブパターン上に離隔して形成されたソース/ドレーン電極を含んで形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタのソース電極又はドレーン電極のうちいずれか一つと電気的に連結される画素電極とを具備する第1基板と、
    その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、
    前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層されて、入射光のうち一部分は反射させて、一部分は透過させる透明半透過膜と、
    を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  38. 前記アクティブパターンは、多結晶シリコンで形成されたことを特徴とする請求項37記載の半透過型液晶表示装置。
  39. 前記アクティブパターンは、非晶質シリコンで形成されたことを特徴とする請求項37記載の半透過型液晶表示装置。
  40. 絶縁基板上にアクティブパターン、前記アクティブパターン及び絶縁基板上に形成されたゲート絶縁膜、前記アクティブパターン上のゲート絶縁膜上に形成されたゲート電極、前記ゲート電極及びゲート絶縁膜上に形成された層間絶縁膜、及び前記層間絶縁膜上に離隔して形成されたソース/ドレーン電極を含んで形成された薄膜トランジスタと、前記薄膜トランジスタのソース電極又はドレーン電極のうちいずれか一つと電気的に連結された画素電極とを具備する第1基板と、
    その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、
    前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる透明半透過膜と、
    を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  41. 前記アクティブパターンは、多結晶シリコンで形成されたことを特徴とする請求項40記載の半透過型液晶表示装置。
  42. 前記アクティブパターンは、非晶質シリコンで形成されたことを特徴とする請求項40記載の半透過型液晶表示装置。
  43. 絶縁基板上に形成され、複数のデータラインと複数のゲートラインとが交差してマトリックス形態に配列される表示セルアレー回路、及び前記絶縁基板上の前記表示セルアレー回路の第1領域に形成され、前記複数個のゲートラインを駆動するためのゲート駆動回路を具備する第1基板と、
    その内面が前記第1基板と対向するように位置し、前記内面に透明共通電極が形成された第2基板と、
    前記第1基板と第2基板との間に形成された液晶層と、
    前記第1基板の外面に形成された第1偏光板と、
    前記第2基板の前記内面と反対側の外面に形成された第2偏光板と、
    前記第1偏光板の後側に位置したバックライトと、
    前記第1偏光板と前記バックライトとの間に形成され、互いに異なる屈折率を有する第1層及び第2層が交互に多数積層され、入射光のうち一部分は反射させ、一部分は透過させる透明半透過膜と、
    を具備することを特徴とする半透過型液晶表示装置。
  44. 前記絶縁基板上の前記表示セルアレー回路の第2領域に形成され、前記複数個のデータラインを駆動するためのデータ駆動回路を更に具備することを特徴とする請求項43記載の半透過型液晶表示装置。
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