JP2005347268A - ランプ用保護カバー、ランプと保護カバーを含むセット、リソグラフ装置に給源を設置する方法、デバイス製造方法、同方法により製造したデバイス - Google Patents
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Abstract
【解決手段】ランプ用保護カバーは、軟質で、ランプが保護カバーで覆われているときに破損した場合に、保護カバーがランプからもたらされる破片に対して不透過性を有するような引張強度のある材料で構成される。保護カバーは、放電ランプを光源に設置するのに使用され、ランプを設置した後にランプから取り除かれる。
【選択図】図4a
Description
1.ステップ・モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを実質的に静止状態に保ちながら、投射ビームに付与された全パターンを目標部分Cに同時に投射する(すなわち単一静的露光)。次いで、異なる目標部分Cを露光できるように、基板テーブルWTをX及び/又はY方向にシフトさせる。ステップ・モードでは、露光領域の最大サイズが、単一静的露光で描写された目標部分Cのサイズを制限する。
2.走査モードでは、マスク・テーブルMT及び基板テーブルWTを同時に走査しながら、ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投射する(すなわち単一動的露光)。マスク・テーブルMTに対して相対的な基板テーブルWTの速度及び方向は、投射システムPLの倍率及び画像反転特性によって決定づけられる。走査モードでは、露光領域の最大サイズが、単一動的露光における目標部分の非走査方向の幅を制限するのに対して、走査動作の長さが、目標部分の走査方向の高さを決定づける。
3.他のモードでは、マスク・テーブルを、プログラム可能パターン形成機器を保持しながら実質的に静止状態に維持し、基板テーブルWTを移動又は操作しながら、ビームに付与されたパターンを目標部分Cに投射する。このモードでは、一般には、パルス放射源を採用し、基板テーブルWTのそれぞれの移動後、又は走査時の連続的な放射パルスの間に、必要に応じてプログラム可能パターン形成機器を更新する。この動作モードは、上記のタイプのプログラム可能ミラー・アレイの如きプログラム可能パターン形成機器を利用するマスクレス・リソグラフィに容易に適用されうる。
4 反射器
6 ソケット
8 取付金具
10 接続部
12 外部陽極端子
14 放射
16 筐体
20、36 ベース
22 冷却フィン
24 陽極球部
26 熱反射層
28 陽極
30 陰極
32 球
34 陰極球部
38 保護カバー
Claims (18)
- 放電ランプ用保護カバーであって、該保護カバーは、軟質で、放電ランプが該保護カバーに覆われているときに破損した場合に、該保護カバーが放電ランプからもたらされる破片に対して不透過性を有するような引張強度のある材料で構成される保護カバー。
- 前記引張強度は、約2.5から6Gpaの範囲である請求項1に記載の保護カバー。
- 繊維で構成される請求項1に記載の保護カバー。
- 前記繊維は、アラミド、ポリエチレン、SPECTRA(登録商標)、VECTRAN(登録商標)、PBO、ガラス、及びその任意の組合せを含む材料の群から選択される請求項3に記載の保護カバー。
- 前記繊維は、編物又は織物である請求項3に記載の保護カバー。
- 前記繊維は、二軸織物である請求項3に記載の保護カバー。
- 繊維には、リソグラフ装置において化学的に不活性である被膜が塗布されている請求項3に記載の保護カバー。
- 前記被膜はPTFEである請求項7に記載の保護カバー。
- 前記保護カバーには軟質層が塗布されている請求項1に記載の保護カバー。
- 前記軟質層は、保護カバーの内側及び外側の少なくとも一方に配置されている請求項9に記載の保護カバー。
- 前記軟質層は、ポリマーで構成される請求項9に記載の保護カバー。
- 前記軟質層は、PE、PVC又はPTFEを含む群から選択されたポリマーで構成される請求項11に記載の保護カバー。
- 放電ランプと保護カバーを含むセットであって、該保護カバーは、軟質で、放電ランプが保護カバーに覆われているときに破損した場合に、保護カバーが放電ランプからもたらされる破片に対して不透過性を有するような引張強度のある材料で構成されるセット。
- 前記放電ランプは、ガラスで構成された部品を含み、前記保護カバーは、ガラスで構成されたすべての前記部品を保護するのに十分な長さを有する請求項13に記載のセット。
- リソグラフ装置に光源を設置する方法であって、
放電ランプを設ける工程と、
保護カバーを放電ランプに設ける工程であって、該保護カバーは、軟質で、放電ランプが保護カバーに覆われているときに破損した場合に、保護カバーが放電ランプからもたらされる破片に対して不透過性を有するような引張強度のある材料で構成される工程と、
保護カバーがまだ放電ランプ上に存在している間に、リソグラフ装置の光源に放電ランプを設置する工程と、
放電ランプを設置した後に保護カバーを取り除く工程とを含む方法。 - 前記リソグラフ装置は、
放射を生成するように構成された光源と、
前記放射に基づいてビームを供給するように構成された照明システムと、
その断面にパターンを有する投射ビームを付与するように構成されたパターン形成機器を支持するように構成された支持体と、
基板を保持するように構成された基板テーブルと、
パターン形成ビームを基板の目標部分に投射するように構成された投射システムとを備える請求項15に記載の方法。 - 放電ランプを設ける工程と、
保護カバーを放電ランプに設ける工程であって、該保護カバーは、軟質で、放電ランプが保護カバーに覆われているときに破損した場合に、保護カバーが放電ランプからもたらされる破片に対して不透過性を有するような引張強度のある材料で構成される工程と、
保護カバーがまだ放電ランプ上に存在している間に、光源に放電ランプを設置する工程と、
放電ランプを設置した後に保護カバーを取り除く工程と、
放射のパターン形成ビームを基板の目標部分に投射する工程とを含むデバイス製造方法。 - 請求項17に記載の方法に従って製造されたデバイス。
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US10/860,655 US20050269934A1 (en) | 2004-06-04 | 2004-06-04 | Protective cover for a lamp, set including a lamp and a protective cover, method of installing a source in a lithographic apparatus, device manufacturing method and device manufactured thereby |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005347268A true JP2005347268A (ja) | 2005-12-15 |
Family
ID=34939920
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005163481A Pending JP2005347268A (ja) | 2004-06-04 | 2005-06-03 | ランプ用保護カバー、ランプと保護カバーを含むセット、リソグラフ装置に給源を設置する方法、デバイス製造方法、同方法により製造したデバイス |
Country Status (7)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20050269934A1 (ja) |
EP (1) | EP1602980A3 (ja) |
JP (1) | JP2005347268A (ja) |
KR (1) | KR100609111B1 (ja) |
CN (1) | CN1707156A (ja) |
SG (1) | SG117607A1 (ja) |
TW (1) | TWI279652B (ja) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006127866A2 (en) * | 2005-05-23 | 2006-11-30 | Karlheinz Strobl | Delivery system for removable lamp |
DE102006030275A1 (de) * | 2006-06-30 | 2008-01-03 | Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH | Schutzhülle für Lampen und zugehörige Baueinheit |
CN101440927B (zh) * | 2007-11-23 | 2010-12-15 | 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 | 发光装置 |
TWI413872B (zh) * | 2010-08-30 | 2013-11-01 | Zhen Ding Technology Co Ltd | 電路板標記系統及其使用方法 |
CN103543860A (zh) * | 2012-07-12 | 2014-01-29 | 云辉科技股份有限公司 | 触控模块信号端的制造方法及其结构 |
GB2596574A (en) * | 2020-07-01 | 2022-01-05 | Ceravision Ltd | Lamp for emitting UV-B radiation & luminaire |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB861881A (en) * | 1957-12-16 | 1961-03-01 | Ass Elect Ind | Improvements relating to protective covers for electric lamps |
US4737401A (en) * | 1985-03-11 | 1988-04-12 | Allied Corporation | Ballistic-resistant fine weave fabric article |
NO870539L (no) * | 1986-02-21 | 1987-08-24 | Rohrmoser Alois Skifabrik | Forsterkningselement for inkorporering i en harpiks og anvendelse av dette elementet. |
US5119512A (en) * | 1986-06-12 | 1992-06-09 | Allied-Signal Inc. | Cut resistant yarn, fabric and gloves |
US4888517A (en) * | 1987-08-28 | 1989-12-19 | Gte Products Corporation | Double-enveloped lamp having a shield surrounding a light-source capsule within a thick-walled outer envelope |
DE4317252C1 (de) * | 1993-05-24 | 1994-05-05 | Blv Licht & Vakuumtechnik | Gasentladungslampe |
US5565264A (en) * | 1994-08-29 | 1996-10-15 | Warwick Mills, Inc. | Protective fabric having high penetration resistance |
US6233978B1 (en) * | 1998-04-09 | 2001-05-22 | Gehring Textiles, Inc. | Pointed thrust weapons protective fabric system |
JP4578014B2 (ja) * | 2001-04-05 | 2010-11-10 | 株式会社オーク製作所 | 放電灯の安全カバー |
JP2003160185A (ja) * | 2001-11-21 | 2003-06-03 | Ushio Inc | 放電ランプ用保護カバー |
-
2004
- 2004-06-04 US US10/860,655 patent/US20050269934A1/en not_active Abandoned
-
2005
- 2005-05-20 EP EP05104310A patent/EP1602980A3/en not_active Ceased
- 2005-05-26 SG SG200503330A patent/SG117607A1/en unknown
- 2005-05-27 TW TW094117518A patent/TWI279652B/zh not_active IP Right Cessation
- 2005-06-03 CN CNA2005100785120A patent/CN1707156A/zh active Pending
- 2005-06-03 KR KR1020050047490A patent/KR100609111B1/ko not_active IP Right Cessation
- 2005-06-03 JP JP2005163481A patent/JP2005347268A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1707156A (zh) | 2005-12-14 |
TW200608151A (en) | 2006-03-01 |
TWI279652B (en) | 2007-04-21 |
EP1602980A3 (en) | 2007-09-26 |
KR20060049541A (ko) | 2006-05-19 |
US20050269934A1 (en) | 2005-12-08 |
EP1602980A2 (en) | 2005-12-07 |
KR100609111B1 (ko) | 2006-08-08 |
SG117607A1 (en) | 2005-12-29 |
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RD05 | Notification of revocation of power of attorney |
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|
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A521 | Request for written amendment filed |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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