JP2005320320A - 工業用殺菌組成物 - Google Patents
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Abstract
【課題】 疎水性イソチアゾリン系化合物を使用しつつ、グリコール系溶剤の使用量を低減させることができる、工業用殺菌組成物を提供することにある。
【解決手段】 疎水性イソチアゾリン系化合物（ＯＩＴ）、親水性イソチアゾリン系化合物（ＭＩＴ）、グリコール系溶剤（ＤＥＧ）および水から工業用殺菌組成物を調製する。工業用殺菌組成物には、ＯＩＴが２〜３０重量％含まれ、ＭＩＴが、ＯＩＴが１０重量％未満のとき２〜３５重量％、１０重量％以上のとき２〜２０重量％含まれる。また、ＯＩＴの含有量（ｘ）に対するＭＩＴとＤＥＧとの含有合計量（ｙ）が、下記の三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域にある。
三次関数（Ａ）：ｙ＝−０．０００４ｘ3＋０．０３ｘ2−１．３０８３ｘ＋７２．５
一次関数（Ｂ）：ｙ＝−０．５ｘ＋６１
【選択図】 図１
【解決手段】 疎水性イソチアゾリン系化合物（ＯＩＴ）、親水性イソチアゾリン系化合物（ＭＩＴ）、グリコール系溶剤（ＤＥＧ）および水から工業用殺菌組成物を調製する。工業用殺菌組成物には、ＯＩＴが２〜３０重量％含まれ、ＭＩＴが、ＯＩＴが１０重量％未満のとき２〜３５重量％、１０重量％以上のとき２〜２０重量％含まれる。また、ＯＩＴの含有量（ｘ）に対するＭＩＴとＤＥＧとの含有合計量（ｙ）が、下記の三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域にある。
三次関数（Ａ）：ｙ＝−０．０００４ｘ3＋０．０３ｘ2−１．３０８３ｘ＋７２．５
一次関数（Ｂ）：ｙ＝−０．５ｘ＋６１
【選択図】 図１
Description
本発明は、工業用殺菌組成物、詳しくは、細菌、かび、酵母、藻の防除剤として用いられる工業用殺菌組成物に関する。
従来、各種の工業製品には、細菌、カビ、酵母、藻などの有害な微生物が繁殖しやすく、生産性や品質の低下、悪臭の発生などの原因になっている。そのため、工業製品には、細菌、カビ、酵母、藻に対して防除効果を発現する種々の工業用殺菌組成物を添加することが広く知られている。このような工業用殺菌組成物として、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン（ＯＩＴ）や２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン（ＭＩＴ）が広く知られており、これらを相乗効果比率で組み合わせて添加することが、提案されている（例えば、特許文献１参照）。
特開平８−８１３１１号公報
しかるに、近年、環境負荷の観点から、工業用殺菌組成物においても、有機溶剤の使用量を低減することが求められている。しかし、ＯＩＴは、疎水性であることから、これを液剤として調製するには、有機溶剤の使用が不可避である。
この点、特許文献１には、ＯＩＴおよびＭＩＴの配合割合について、広範囲に記載されており、しかも、溶剤について、水と有機溶剤との比率を任意に設定することができる旨、記載されている。しかしながら、同文献において想定されているＯＩＴやＭＩＴの含有量は、数〜数百ｐｐｍ程度にすぎず、ＯＩＴやＭＩＴを数〜数十重量％含有させる場合には、液剤が分離するという不具合が生じる。
この点、特許文献１には、ＯＩＴおよびＭＩＴの配合割合について、広範囲に記載されており、しかも、溶剤について、水と有機溶剤との比率を任意に設定することができる旨、記載されている。しかしながら、同文献において想定されているＯＩＴやＭＩＴの含有量は、数〜数百ｐｐｍ程度にすぎず、ＯＩＴやＭＩＴを数〜数十重量％含有させる場合には、液剤が分離するという不具合が生じる。
そこで、本発明は、このような不具合に鑑みなされたものであって、その目的とするところは、疎水性イソチアゾリン系化合物を使用しつつ、グリコール系溶剤の使用量を低減させることができる、工業用殺菌組成物を提供することにある。
上記目的を達成するために、本発明者らは、疎水性イソチアゾリン系化合物を含む工業用殺菌組成物の配合について鋭意検討したところ、疎水性イソチアゾリン系化合物に対して、親水性イソチアゾリン系化合物およびグリコール系溶剤を、その合計量として特定割合で配合すると、グリコール系溶剤の使用量を低減しつつ、均一な溶液として、工業用殺菌組成物を調製できる知見を見出し、さらに研究を進めた結果、本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、
（１） 一般式（１）で表される疎水性イソチアゾリン系化合物、一般式（２）で表される親水性イソチアゾリン系化合物、グリコール系溶剤および水から調製される工業用殺菌組成物であって、
一般式（１）：
（１） 一般式（１）で表される疎水性イソチアゾリン系化合物、一般式（２）で表される親水性イソチアゾリン系化合物、グリコール系溶剤および水から調製される工業用殺菌組成物であって、
一般式（１）：
（式中、Ｒ1は、炭素数６〜１２の炭化水素基を示す。）
一般式（２）：
一般式（２）：
（式中、Ｒ2は、炭素数１〜３の炭化水素基を示す。）
前記疎水性イソチアゾリン系化合物が、前記工業用殺菌組成物中に、２〜３０重量％含まれており、
前記親水性イソチアゾリン系化合物が、前記工業用殺菌組成物中に、前記疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％未満である場合には、２〜３５重量％含まれており、前記疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％以上である場合には、２〜２０重量％含まれており、
かつ、前記疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量（ｘ）に対する前記親水性イソチアゾリン系化合物と前記グリコール系溶媒との含有合計量（ｙ）が、下記の三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域にあることを特徴とする、工業用殺菌組成物、
三次関数（Ａ）：ｙ＝−０．０００４ｘ3＋０．０３ｘ2−１．３０８３ｘ＋７２．５
一次関数（Ｂ）：ｙ＝−０．５ｘ＋６１
（２） 前記疎水性イソチアゾリン系化合物が、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンであることを特徴とする、前記（１）に記載の工業用殺菌組成物、
（３） 前記親水性イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンであることを特徴とする、前記（１）または前記（２）に記載の工業用殺菌組成物
を提供するものである。
前記疎水性イソチアゾリン系化合物が、前記工業用殺菌組成物中に、２〜３０重量％含まれており、
前記親水性イソチアゾリン系化合物が、前記工業用殺菌組成物中に、前記疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％未満である場合には、２〜３５重量％含まれており、前記疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％以上である場合には、２〜２０重量％含まれており、
かつ、前記疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量（ｘ）に対する前記親水性イソチアゾリン系化合物と前記グリコール系溶媒との含有合計量（ｙ）が、下記の三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域にあることを特徴とする、工業用殺菌組成物、
三次関数（Ａ）：ｙ＝−０．０００４ｘ3＋０．０３ｘ2−１．３０８３ｘ＋７２．５
一次関数（Ｂ）：ｙ＝−０．５ｘ＋６１
（２） 前記疎水性イソチアゾリン系化合物が、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンであることを特徴とする、前記（１）に記載の工業用殺菌組成物、
（３） 前記親水性イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンであることを特徴とする、前記（１）または前記（２）に記載の工業用殺菌組成物
を提供するものである。
本発明の工業用殺菌組成物によれば、疎水性イソチアゾリン系化合物を使用しつつ、有機溶剤の使用量を低減することができる。
本発明の工業用殺菌組成物は、一般式（１）で表される疎水性イソチアゾリン系化合物と、一般式（２）で表される親水性イソチアゾリン系化合物と、グリコール系溶剤と、水とから調製される。
本発明において、疎水性イソチアゾリン系化合物は、下記一般式（１）で表される。
一般式（１）：
本発明において、疎水性イソチアゾリン系化合物は、下記一般式（１）で表される。
一般式（１）：
（式中、Ｒ1は、炭素数６〜１２の炭化水素基を示す。）
一般式（１）中、Ｒ1で示される炭素数６〜１２の炭化水素基としては、例えば、炭素数６〜１２のアルキル基、炭素数６〜１２のアルケニル基、炭素数６〜１２のアルキニル基、炭素数６〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアラルキル基などが挙げられる。
一般式（１）中、Ｒ1で示される炭素数６〜１２の炭化水素基としては、例えば、炭素数６〜１２のアルキル基、炭素数６〜１２のアルケニル基、炭素数６〜１２のアルキニル基、炭素数６〜１２のシクロアルキル基、炭素数６〜１２のアリール基、炭素数６〜１２のアラルキル基などが挙げられる。
炭素数６〜１２のアルキル基としては、例えば、ヘキシル、ヘプチル、ｎ−オクチル、イソオクチル、２−エチルヘキシル、ノニル、デシル、イソデシル、ウンデシル、ドデシルなどの炭素数６〜１２のアルキル基が挙げられる。
炭素数６〜１２のアルケニル基としては、例えば、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニルなどの炭素数６〜１２のアルケニル基が挙げられる。
炭素数６〜１２のアルケニル基としては、例えば、ヘキセニル、ヘプテニル、オクテニル、ノネニル、デセニル、ウンデセニル、ドデセニルなどの炭素数６〜１２のアルケニル基が挙げられる。
炭素数６〜１２のアルキニル基としては、例えば、ヘキシニル、ヘプチニル、オクチニル、デシニル、ウンデシニル、ドデシニルなどの炭素数６〜１２のアルキニル基が挙げられる。
炭素数６〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシルなどの炭素数６〜１２のシクロアルキル基が挙げられる。
炭素数６〜１２のシクロアルキル基としては、例えば、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロノニル、シクロデシル、シクロウンデシル、シクロドデシルなどの炭素数６〜１２のシクロアルキル基が挙げられる。
炭素数６〜１２のアリール基としては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、ナフチル、アズレニル、ビフェニルなどの炭素数６〜１２のアリール基が挙げられる。
炭素数６〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、ｏ、ｍまたはｐ−メチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−エチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−または３，５−ジメチルベンジル、２，３，４−、３，４，５−または２，４，６−トリメチルベンジル、５−イソプロピル−２−メチルベンジル、２−イソプロピル−５−メチルベンジル、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、１−（２−メチルフェニル）エチル、１−（３−メチルフェニル）エチル、１−（４−メチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピルフェニル）エチル、１−（３−イソプロピルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピルフェニル）エチル、１−（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピル−４−メチルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピル−２−メチルフェニル）エチル、１−（２，４−ジメチルフェニル）エチル、１−（２，５−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジメチルフェニル）エチルなどの炭素数６〜１２のアラルキル基が挙げられる。
炭素数６〜１２のアラルキル基としては、例えば、ベンジル、１−フェニルエチル、２−フェニルエチル、１−フェニルプロピル、２−フェニルプロピル、３−フェニルプロピル、ｏ、ｍまたはｐ−メチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−エチルベンジル、ｏ、ｍまたはｐ−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、２，３−、２，４−、２，５−、２，６−、３，４−または３，５−ジメチルベンジル、２，３，４−、３，４，５−または２，４，６−トリメチルベンジル、５−イソプロピル−２−メチルベンジル、２−イソプロピル−５−メチルベンジル、２−メチル−５−ｔｅｒｔ−ブチルベンジル、１−（２−メチルフェニル）エチル、１−（３−メチルフェニル）エチル、１−（４−メチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピルフェニル）エチル、１−（３−イソプロピルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピルフェニル）エチル、１−（２−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）エチル、１−（２−イソプロピル−４−メチルフェニル）エチル、１−（４−イソプロピル−２−メチルフェニル）エチル、１−（２，４−ジメチルフェニル）エチル、１−（２，５−ジメチルフェニル）エチル、１−（３，５−ジメチルフェニル）エチルなどの炭素数６〜１２のアラルキル基が挙げられる。
上記したＲ1で示される炭素数６〜１２の炭化水素基としては、好ましくは、炭素数６〜１２のアルキル基、さらに好ましくは、ｎ−オクチルが挙げられる。
このような疎水性イソチアゾリン系化合物としては、より具体的には、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン（以下、ＯＩＴという。）が挙げられる。
本発明において、疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量は、工業用殺菌組成物中、２〜３０重量％、好ましくは、２〜２０重量％である。２重量％より少ないと、使用時における工業用殺菌組成物の添加量が増大するという不都合があり、３０重量％より多いと、皮膚刺激性が増大して、取り扱いに不都合を生じる。２〜３０重量％において、殺菌性能を発現するための取り扱いに優れる。
このような疎水性イソチアゾリン系化合物としては、より具体的には、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オン（以下、ＯＩＴという。）が挙げられる。
本発明において、疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量は、工業用殺菌組成物中、２〜３０重量％、好ましくは、２〜２０重量％である。２重量％より少ないと、使用時における工業用殺菌組成物の添加量が増大するという不都合があり、３０重量％より多いと、皮膚刺激性が増大して、取り扱いに不都合を生じる。２〜３０重量％において、殺菌性能を発現するための取り扱いに優れる。
本発明において、親水性イソチアゾリン系化合物は、下記一般式（２）で表される。
一般式（２）：
一般式（２）：
（式中、Ｒ2は、炭素数１〜３の炭化水素基を示す。）
一般式（２）中、Ｒ2で示される炭素数１〜３の炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルケニル基、炭素数１〜３のアルキニル基、炭素数１〜３のシクロアルキル基などが挙げられる。
炭素数１〜３のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルなどの炭素数１〜３のアルキル基が挙げられる。
一般式（２）中、Ｒ2で示される炭素数１〜３の炭化水素基としては、例えば、炭素数１〜３のアルキル基、炭素数１〜３のアルケニル基、炭素数１〜３のアルキニル基、炭素数１〜３のシクロアルキル基などが挙げられる。
炭素数１〜３のアルキル基としては、例えば、メチル、エチル、ｎ−プロピル、イソプロピルなどの炭素数１〜３のアルキル基が挙げられる。
炭素数１〜３のアルケニル基としては、例えば、ビニル、アリルなどの炭素数２〜３のアルケニル基が挙げられる。
炭素数１〜３のアルキニル基としては、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニルなどの炭素数２〜３のアルキニル基が挙げられる。
炭素数１〜３のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピルなどの炭素数３のシクロアルキル基が挙げられる。
炭素数１〜３のアルキニル基としては、例えば、エチニル、１−プロピニル、２−プロピニルなどの炭素数２〜３のアルキニル基が挙げられる。
炭素数１〜３のシクロアルキル基としては、例えば、シクロプロピルなどの炭素数３のシクロアルキル基が挙げられる。
上記したＲ2で示される炭素数１〜３の炭化水素基としては、好ましくは、炭素数１〜３のアルキル基、さらに好ましくは、メチルが挙げられる。
このような親水性イソチアゾリン系化合物としては、より具体的には、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン（以下、ＭＩＴという。）が挙げられる。
本発明において、親水性イソチアゾリン系化合物の含有量は、工業用殺菌組成物中、疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％未満である場合には、２〜３５重量％、好ましくは、５〜２０重量％であり、疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％以上である場合には、２〜２０重量％、好ましくは、２〜１０重量％である。
このような親水性イソチアゾリン系化合物としては、より具体的には、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オン（以下、ＭＩＴという。）が挙げられる。
本発明において、親水性イソチアゾリン系化合物の含有量は、工業用殺菌組成物中、疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％未満である場合には、２〜３５重量％、好ましくは、５〜２０重量％であり、疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％以上である場合には、２〜２０重量％、好ましくは、２〜１０重量％である。
疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％未満である場合に、２重量％より少ないと、殺菌性能が不十分であり、３５重量％より多いと、高濃度の親水性イソチアゾリン系化合物が必要である。２〜３５重量％において、殺菌性能と工業的生産性のバランスに優れる。
また、疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％以上である場合に、２重量％より少ないと、殺菌性能が不十分であり、２０重量％より多いと、高濃度の親水性イソチアゾリン系化合物が必要であり、２〜２０重量％において、殺菌性能と工業的生産性のバランスに優れる。
また、疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％以上である場合に、２重量％より少ないと、殺菌性能が不十分であり、２０重量％より多いと、高濃度の親水性イソチアゾリン系化合物が必要であり、２〜２０重量％において、殺菌性能と工業的生産性のバランスに優れる。
本発明において、グリコール系溶剤は、例えば、エチレングリコール、ジエチレングリコール、ポリエチレングリコール、プロピレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ポリプロピレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、ペンタンジオール、エチレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノブチルエーテル、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、ジエチレングリコールモノエチルエーテル、トリプロピレングリコールモノメチルエーテルなどが挙げられる。好ましくは、ジエチレングリコール（以下、ＤＥＧという。）が挙げられる。また、これらグリコール系溶剤は、単独で用いてもよく、２種以上を併用することもできる。
そして、本発明の工業用殺菌組成物は、疎水性イソチアゾリン系化合物、親水性イソチアゾリン系化合物、グリコール系溶剤および水を、配合して、溶液として調製する。
疎水性イソチアゾリン系化合物、親水性イソチアゾリン系化合物およびグリコール系溶媒の配合割合は、疎水性イソチアゾリン系化合物および親水性イソチアゾリン系化合物に関しては、それぞれ上記した含有量の範囲を前提とし、疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量（ｘ）に対する、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量（ｙ）が、下記の三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域となるように、処方される。
疎水性イソチアゾリン系化合物、親水性イソチアゾリン系化合物およびグリコール系溶媒の配合割合は、疎水性イソチアゾリン系化合物および親水性イソチアゾリン系化合物に関しては、それぞれ上記した含有量の範囲を前提とし、疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量（ｘ）に対する、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量（ｙ）が、下記の三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域となるように、処方される。
また、水の配合割合は、疎水性イソチアゾリン系化合物、親水性イソチアゾリン系化合物およびグリコール系溶剤の残量とされる。
三次関数（Ａ）：ｙ＝−０．０００４ｘ3＋０．０３ｘ2−１．３０８３ｘ＋７２．５
一次関数（Ｂ）：ｙ＝−０．５ｘ＋６１
上記三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）は、より具体的には、例えば、市販の表計算ソフトウエアを使用して、図１に示すように、疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量（ｘ）を横軸（ｘ軸）にとり、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量（ｙ）を縦軸（ｙ軸）にとって、上記した２つの関数式をそれぞれ入力することにより、プロットすることができる。また、三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）との間の領域は、例えば、図１に示す斜線領域として表すことができる。
三次関数（Ａ）：ｙ＝−０．０００４ｘ3＋０．０３ｘ2−１．３０８３ｘ＋７２．５
一次関数（Ｂ）：ｙ＝−０．５ｘ＋６１
上記三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）は、より具体的には、例えば、市販の表計算ソフトウエアを使用して、図１に示すように、疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量（ｘ）を横軸（ｘ軸）にとり、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量（ｙ）を縦軸（ｙ軸）にとって、上記した２つの関数式をそれぞれ入力することにより、プロットすることができる。また、三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）との間の領域は、例えば、図１に示す斜線領域として表すことができる。
三次関数（Ａ）は、親水性イソチアゾリン系化合物を配合せず、グリコール系溶剤および水によって疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解するためのグリコール系溶剤の含有量の下限を示している。この下限は、例えば、特定含有量の疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解するために最低限必要となるグリコール系溶剤の含有量を、実験から求めることにより、求められる。三次関数（Ａ）は、そのような下限を、互いに異なる特定含有量の疎水性イソチアゾリン系化合物について、それぞれ求めた後、図１に示す横軸および縦軸に対して、求められた各下限を通過するように、三次関数曲線を描くことにより、得ることができる。
より具体的には、例えば、表１に示すように、ＤＥＧ／水において、特定含有量のＯＩＴを溶解するために最低限必要とされるＤＥＧの含有量を、実験により求める。表１の場合には、例えば、ＯＩＴ２重量％において、ＤＥＧ７０重量％（ＤＥＧ７０重量％／水２８重量％）では○（均一）（試料Ｎｏ．１）、ＤＥＧ６８重量％（ＤＥＧ６８重量％／水３０重量％）では×（不均一）（試料Ｎｏ．２）であるため、ＯＩＴ２重量％において、ＤＥＧの下限値は７０重量％である。以下同様に、ＯＩＴ１０重量％においては、ＤＥＧの下限値は６２重量％（試料Ｎｏ．３、４参照）として求められ、ＯＩＴ２０重量％においては、ＤＥＧの下限値は５５重量％（試料Ｎｏ．５、６参照）として求められ、ＯＩＴ３０重量％において、ＤＥＧの下限値は４９重量％（試料Ｎｏ．７、８参照）として求められる。
そして、図２に示すように、横軸にＯＩＴ含有量、縦軸に（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量をとって、上記実験データ（試料Ｎｏ．１〜８）をプロット（図２中、「△」で示す。）し、各下限値を通過するように、三次関数曲線を描くことにより、三次関数（Ａ）を得ることができる。
つまり、図２において、三次関数（Ａ）より上方の領域は、ＤＥＧ／水において、ＭＩＴを配合せずとも、ＯＩＴを均一に溶解できるＤＥＧの含有量の範囲が示されている。このような上方の領域において、ＤＥＧを配合すれば、ＯＩＴを均一に溶解できるが、多量のＤＥＧが必要となり、ＤＥＧの含有量の低減を図ることができない。
一方、図２において、三次関数（Ａ）より下方の領域は、ＤＥＧ／水において、ＤＥＧ／水のみでは、ＯＩＴを均一に溶解できないＤＥＧの含有量の範囲を示している。このような下方の領域では、ＤＥＧの含有量の低減を図ることができるが、ＤＥＧのみによって、ＯＩＴを均一に溶解することができない。
一方、図２において、三次関数（Ａ）より下方の領域は、ＤＥＧ／水において、ＤＥＧ／水のみでは、ＯＩＴを均一に溶解できないＤＥＧの含有量の範囲を示している。このような下方の領域では、ＤＥＧの含有量の低減を図ることができるが、ＤＥＧのみによって、ＯＩＴを均一に溶解することができない。
しかるに、表２では、ＯＩＴ２重量％において、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量が、７０重量％（ＭＩＴ２重量％／ＤＥＧ６８重量％）では○（均一）（試料Ｎｏ．９）、表３では、ＯＩＴ１０重量％において、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量が、６２重量％（ＭＩＴ２．５重量％／ＤＥＧ５９．５重量％）では○（均一）（試料Ｎｏ．２５）、表４では、ＯＩＴ２０重量％において、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量が、５５重量％（ＭＩＴ５重量％／ＤＥＧ５０重量％）では○（均一）（試料Ｎｏ．３６）、表５では、ＯＩＴ３０重量％において、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量が、４９重量％（ＭＩＴ５重量％／ＤＥＧ４４重量％）では○（均一）（試料Ｎｏ．４８）であり、これら各点は、図２において、上記した各下限値と同一位置にプロットされる。そして、これら各点は、ＤＥＧ／水に、ＭＩＴを配合することにより、ＯＩＴを均一に溶解している。
そのため、三次関数（Ａ）は、ＤＥＧ／水において、ＤＥＧ／水のみでは、ＯＩＴを均一に溶解できない下限を示すと同時に、ＤＥＧ／水において、ＤＥＧ／水のみでは、ＯＩＴを均一に溶解できないが、ＤＥＧ／水に、ＭＩＴを配合することにより、ＯＩＴを均一に溶解することができる、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の上限をも示している。
すなわち、三次関数（Ａ）は、図１において、親水性イソチアゾリン系化合物を配合せず、グリコール系溶剤および水によって疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解するためのグリコール系溶剤の含有量の下限を示すと同時に、グリコール系溶剤および水のみでは、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解できないが、グリコール系溶剤および水に、親水性イソチアゾリン系化合物を配合することにより、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解することができる、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量の上限をも示している。
すなわち、三次関数（Ａ）は、図１において、親水性イソチアゾリン系化合物を配合せず、グリコール系溶剤および水によって疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解するためのグリコール系溶剤の含有量の下限を示すと同時に、グリコール系溶剤および水のみでは、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解できないが、グリコール系溶剤および水に、親水性イソチアゾリン系化合物を配合することにより、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解することができる、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量の上限をも示している。
一次関数（Ｂ）は、親水性イソチアゾリン系化合物を配合して、親水性イソチアゾリン系化合物、グリコール系溶剤および水によって疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解できる、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶剤との合計含有量の下限を示している。この下限は、例えば、特定含有量の疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解するために最低限必要となる親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶剤との合計の含有量を、実験から求めることにより、求められる。一次関数（Ｂ）は、そのような下限を、互いに異なる特定含有量の疎水性イソチアゾリン系化合物について、それぞれ求めた後、図１に示す横軸および縦軸に対して、求められた各下限を通過するように、一次関数曲線を描くことにより、得ることができる。
より具体的には、例えば、表２〜表５に示すように、ＭＩＴ／ＤＥＧ／水において、特定含有量のＯＩＴを溶解するために最低限必要とされる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量を、実験により求める。
表２は、ＯＩＴの含有量が２重量％の場合を示しており、表２において、例えば、ＭＩＴ２重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６３重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１０）、ＭＩＴ５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６１重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１２）、ＭＩＴ７．５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６１．５重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１４）、ＭＩＴ１０重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６１重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１６）、ＭＩＴ２０重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６０重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１８）、ＭＩＴ３０重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６０重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１９）、ＭＩＴ３５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６０重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．２０）である。
表２は、ＯＩＴの含有量が２重量％の場合を示しており、表２において、例えば、ＭＩＴ２重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６３重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１０）、ＭＩＴ５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６１重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１２）、ＭＩＴ７．５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６１．５重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１４）、ＭＩＴ１０重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６１重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１６）、ＭＩＴ２０重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６０重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１８）、ＭＩＴ３０重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６０重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．１９）、ＭＩＴ３５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６０重量％では○（均一）（試料Ｎｏ．２０）である。
一方、表２において、例えば、ＭＩＴ２重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量５８重量％では×（不均一）（試料Ｎｏ．２１）、ＭＩＴ５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量５８重量％では×（不均一）（試料Ｎｏ．２２）、ＭＩＴ７．５重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量５７．５重量％では×（不均一）（試料Ｎｏ．２３）、ＭＩＴ１０重量％の場合に、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量５７重量％では×（不均一）（試料Ｎｏ．２４）である。
以上のことから、ＯＩＴの含有量が２重量％の場合には、ＭＩＴ／ＤＥＧの重量比率にかかわらず、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量５９重量％付近が、均一溶解から不均一溶解への境界となっていることがわかる。そのため、表２に示す実験データ（試料Ｎｏ．９〜２４）のうち、ＭＩＴ／ＤＥＧ／水において、ＯＩＴを溶解できる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の下限値、つまり、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量６０重量％（試料Ｎｏ．１８、１９、２０）が、ＯＩＴの含有量が２重量％の場合において、ＯＩＴを溶解できる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の下限値となる。
以下同様にして、ＯＩＴの含有量が１０重量％の場合には、表３からわかるように、ＭＩＴ／ＤＥＧの重量比率にかかわらず、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量５６重量％（試料Ｎｏ．２８、３０）が、ＯＩＴの含有量が１０重量％の場合において、ＯＩＴを溶解できる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の下限値となる。
また、同様に、ＯＩＴの含有量が２０重量％の場合には、表４からわかるように、ＭＩＴ／ＤＥＧの重量比率にかかわらず、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量５１重量％（試料Ｎｏ．３７、４１）が、ＯＩＴの含有量が２０重量％の場合において、ＯＩＴを溶解できる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の下限値となる。
また、同様に、ＯＩＴの含有量が３０重量％の場合には、表３からわかるように、ＭＩＴ／ＤＥＧの重量比率にかかわらず、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量４６重量％（試料Ｎｏ．４９、５１）が、ＯＩＴの含有量が３０重量％の場合において、ＯＩＴを溶解できる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の下限値となる。
そして、図２に示すように、横軸にＯＩＴ含有量、縦軸に（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量をとって、表２〜表５に示す各実験データ（試料Ｎｏ．９〜５８）をプロット（図２中、均一に溶解した試料は、「○」で示し、不均一に溶解した試料は、「×」で示す。）し、各下限値を通過するように、一次関数曲線を描くことにより、一次関数（Ｂ）を得ることができる。
図２において、一次関数（Ｂ）より下方の領域は、ＭＩＴ／ＤＥＧ／水において、ＯＩＴを均一に溶解できない（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の範囲を示している。このような下方の領域では、たとえ、ＤＥＧ／水に、ＭＩＴを配合しても、ＯＩＴの溶解が不均一となり、均一な溶液として本発明の工業用殺菌組成物を調製することができない。
一方、図２において、一次関数（Ｂ）より上方の領域であって、かつ、三次関数（Ａ）より下方の領域は、ＭＩＴ／ＤＥＧ／水において、ＯＩＴを均一に溶解できる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の範囲を示している。この領域では、ＤＥＧ／水のみではＯＩＴを均一に溶解できないが、ＤＥＧ／水に、ＭＩＴを配合すれば、ＯＩＴを均一に溶解させることができる。
一方、図２において、一次関数（Ｂ）より上方の領域であって、かつ、三次関数（Ａ）より下方の領域は、ＭＩＴ／ＤＥＧ／水において、ＯＩＴを均一に溶解できる（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の範囲を示している。この領域では、ＤＥＧ／水のみではＯＩＴを均一に溶解できないが、ＤＥＧ／水に、ＭＩＴを配合すれば、ＯＩＴを均一に溶解させることができる。
つまり、三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域は、ＤＥＧ／水において、ＤＥＧ／水のみでは、ＯＩＴを均一に溶解できないが、ＤＥＧ／水に、ＭＩＴを配合することにより、ＯＩＴを均一に溶解することができる、（ＭＩＴ＋ＤＥＧ）合計含有量の上限および下限の領域を示している。
そのため、図１において、三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の斜線で示す領域は、グリコール系溶剤および水のみでは、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解できないが、グリコール系溶剤および水に、親水性イソチアゾリン系化合物を配合することにより、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解することができる、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量の上限および下限の領域を示している。この領域においては、グリコール系溶剤および水に、親水性イソチアゾリン系化合物を配合すれば、疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解することができ、グリコール系溶剤の使用量を低減しつつ、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解して、均一な溶液として、本発明の工業用殺菌組成物を得ることができる。
そのため、図１において、三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の斜線で示す領域は、グリコール系溶剤および水のみでは、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解できないが、グリコール系溶剤および水に、親水性イソチアゾリン系化合物を配合することにより、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解することができる、親水性イソチアゾリン系化合物とグリコール系溶媒との含有合計量の上限および下限の領域を示している。この領域においては、グリコール系溶剤および水に、親水性イソチアゾリン系化合物を配合すれば、疎水性イソチアゾリン系化合物を溶解することができ、グリコール系溶剤の使用量を低減しつつ、疎水性イソチアゾリン系化合物を均一に溶解して、均一な溶液として、本発明の工業用殺菌組成物を得ることができる。
そして、このような領域において各成分が配合されている本発明の工業用殺菌組成物によれば、グリコール系溶剤の使用量を低減しつつ、疎水性イソチアゾリン系化合物を有効量配合しても、分離や濁りが生じることを防止することができる。しかも、グリコール系溶剤の使用量を低減する一方で、親水性イソチアゾリン系化合物が配合されるので、細菌、かび、酵母、藻などに対して、これら疎水性イソチアゾリン系化合物および親水性イソチアゾリン系化合物が有する優れた防除効果を相乗的に発現することができる。
そのため、本発明の工業用殺菌組成物は、例えば、製紙パルプ工場、冷却水循環工程などの種々の産業用水や、切削油などの金属加工用油剤、カゼイン、澱粉粉、にかわ、塗工紙、紙用塗工液、サイズ剤、紙力増強剤、塗料、接着剤、合成ゴムラテックス、インキ、ポリビニルアルコールフィルム、塩化ビニルフィルム、樹脂製品、セメント混和剤、シーリング剤、目地剤などの各種工業製品における工業用殺菌剤として好適に用いられる。
なお、本発明の工業用殺菌組成物は、上記したように、均一な溶液として得ることができ、これをそのまま液剤として使用することができるが、目的および用途に応じて、適宜、液剤以外の剤型に製剤化することもできる。例えば、均一な溶液を適宜の担体に含浸させて、粒剤や粉剤として製剤化することもできる。
さらに、本発明の工業用殺菌組成物は、その目的および用途によって、例えば、他の防腐防カビ剤、防藻剤、酸化防止剤、光安定剤などの公知の添加剤を、本発明の工業用殺菌組成物の優れた効果を阻害しない範囲において、適宜添加することもできる。
さらに、本発明の工業用殺菌組成物は、その目的および用途によって、例えば、他の防腐防カビ剤、防藻剤、酸化防止剤、光安定剤などの公知の添加剤を、本発明の工業用殺菌組成物の優れた効果を阻害しない範囲において、適宜添加することもできる。
なお、本発明の工業用殺菌組成物は、その適用対象に応じて添加量を適宜決定すればよいが、例えば、５〜１０００ｍｇ（有効成分）／ｋｇ（製品）、好ましくは、１０〜５００ｍｇ（有効成分）／ｋｇ（製品）の濃度として用いられる。
また、表１〜５に示す各試料Ｎｏ．１〜５８は、各表に示す配合割合（重量％）において、ＯＩＴと、ＭＩＴと、ＤＥＧと、水とを配合して、室温で攪拌混合することにより、調製したものであって、得られた溶液について、目視によって外観を観察し、その評価を以下のように判定したものである。
○：均一透明な溶液
×：不均一で、懸濁または層分離した溶液
また、表１〜５に示す各試料Ｎｏ．１〜５８は、各表に示す配合割合（重量％）において、ＯＩＴと、ＭＩＴと、ＤＥＧと、水とを配合して、室温で攪拌混合することにより、調製したものであって、得られた溶液について、目視によって外観を観察し、その評価を以下のように判定したものである。
○：均一透明な溶液
×：不均一で、懸濁または層分離した溶液
Claims (3)
- 一般式（１）で表される疎水性イソチアゾリン系化合物、一般式（２）で表される親水性イソチアゾリン系化合物、グリコール系溶剤および水から調製される工業用殺菌組成物であって、
一般式（１）：
一般式（２）：
前記疎水性イソチアゾリン系化合物が、前記工業用殺菌組成物中に、２〜３０重量％含まれており、
前記親水性イソチアゾリン系化合物が、前記工業用殺菌組成物中に、前記疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％未満である場合には、２〜３５重量％含まれており、前記疎水性イソチアゾリン系化合物が１０重量％以上である場合には、２〜２０重量％含まれており、
かつ、前記疎水性イソチアゾリン系化合物の含有量（ｘ）に対する前記親水性イソチアゾリン系化合物と前記グリコール系溶媒との含有合計量（ｙ）が、下記の三次関数（Ａ）および一次関数（Ｂ）の間の領域にあることを特徴とする、工業用殺菌組成物。
三次関数（Ａ）：ｙ＝−０．０００４ｘ3＋０．０３ｘ2−１．３０８３ｘ＋７２．５
一次関数（Ｂ）：ｙ＝−０．５ｘ＋６１ - 前記疎水性イソチアゾリン系化合物が、２−ｎ−オクチル−４−イソチアゾリン−３−オンであることを特徴とする、請求項１に記載の工業用殺菌組成物。
- 前記親水性イソチアゾリン系化合物が、２−メチル−４−イソチアゾリン−３−オンであることを特徴とする、請求項１または２に記載の工業用殺菌組成物。
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| JP2010024206A (ja) * | 2008-07-23 | 2010-02-04 | Japan Enviro Chemicals Ltd | 工業用防腐防かび剤 |
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH0881311A (ja) * | 1994-04-07 | 1996-03-26 | Rohm & Haas Co | ハロゲン非含有殺生物剤 |
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