JP2005310201A - 光ディスク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 基板1上に、少なくとも情報層(記録層)2、光透過層3およびハードコート層4を順次備え、ハードコート層4側からレーザー光を照射して記録および/または再生を行う光ディスク10である。光透過層3が、エーテル結合およびウレタン結合のうちのいずれか一方または双方を含む樹脂と、アルカリ金属塩とを含有してなる。
【選択図】 図1
Description
図1に、本発明の光ディスクの一構成例を示す。図示する光ディスク10は、基板1上に記録層2と光透過層3とを順次備え、さらに、ハードコート層4が形成された構成を有しており、光透過層3側からレーザー光を照射して記録および/または再生を行うものである。ここで、光透過層3は、記録および/または再生用のレーザー光が記録層2に照射されるか、または、記録層2より反射される際に、レーザー光が透過する層である。
図2は、本発明の光ディスクの他の層構成例を示す概略断面図である。図2に示す光ディスク20は、基板1の、情報ピットやプリグループ等の微細凹凸が形成されている側の面上に、反射層15、第2誘電体層16、相変化記録材料層12および第1誘電体層17、光透過層3を順次備え、さらに、光透過層3上にハードコート層4が形成された構成を有する。図示する例では、反射層15、第2誘電体層16、相変化記録材料層12および第1誘電体層17が情報層を構成し、この情報層および光透過層3が、記録または再生のために必要な膜体を構成する。この光ディスク20においては、ハードコート層4および光透過層3を通じて、即ち、膜体側から記録/再生レーザー光が入射する。
CH2=CR1COOR2Rf (1)
(式中、R1は、水素原子またはメチル基を表し、R2は、−CpH2p−、−C(CpH2p+1)H−、−CH2C(CpH2p+1)H−、または−CH2CH2O−を表し、Rfは、−CnF2n+1、−(CF2)nH、−(CF2)pOCnH2nCiF2i+1、−(CF2)pOCmH2mCiF2iH、−N(CpH2p+1)COCnF2n+1、または−N(CpH2p+1)SO2CnF2n+1を表し、pは1〜10、nは1〜16、mは0〜10、iは0〜16の整数である)で表されるフッ素含有単量体から、または、上記一般式(1)で表されるフッ素含有単量体とヒドロキシル基を含まないラジカル重合性単量体とから形成される。このフッ素含有セグメントによって、ハードコート層表面に防汚性および/または潤滑性が付与される。
(Z DOL)
F−[CF2CF2CF2O]s−CF2CF2CH2OH
(Demnum−SA)
F−[CF(CF3)CF2O]s−CF(CF3)CH2OH
(Krytox−OH)
HO(CH2CH2O)n−CH2−CF2O−[CF2CF2O]s−[CF2O]m−CF2CH2(OCH2CH2)nOH
(Zdol−TX)
HOCH2CH(OH)CH2O−CH2−CF2O−[CF2CF2O]s−[CF2O]m−CF2CH2OCH2CH(OH)CH2OH
(Z−Tetraol)
実施例1〜6および比較例1、2
図2に示す層構成の光ディスクサンプルを、以下のようにして作製した。
情報記録のためのグルーブが形成されたディスク状基板1(ポリカーボネート製、直径120mm、厚さ1.1mm)のグルーブ形成面上に、Al98Pd1Cu1(原子比)からなる厚さ100nmの反射層15をスパッタリング法により形成した。グルーブの深さは、波長λ=405nmにおける光路長で表してλ/6とした。また、グループ記録方式における記録トラックピッチは、0.32μmとした。
ウレタンアクリレート 75重量部
(ポリカーボネートジオール(分子量1000、商品名:ニッポラン 981、日本ポリウレタン工業(株)製)を水添MDIおよび2HEAにより両末端アクリレート化した重合物)
テトラヒドロフルフリルアクリレート 25重量部
イルガキュア184 3重量部
(重合開始剤、チバスペシャルティケミカルズ社製)
ウレタンアクリレート 75重量部
(ポリテトラメチレングリコール(分子量600、和光純薬工業(株)製)を水添MDIおよび2HEAにより両末端アクリレート化した重合物)。
テトラヒドロフルフリルアクリレート 25重量部
イルガキュア184 3重量部
(重合開始剤、チバスペシャルティケミカルズ社製)
表面修飾コロイダルシリカ 100重量部
(固形分濃度40%、溶媒:プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート)
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート 48重量部
テトラヒドロフルフリルアクリレート 12重量部
イルガキュア184 3重量部
(重合開始剤、チバスペシャルティケミカルズ社製)
プロピレングリコールモノメチルエーテルアセテート 40重量部
(非反応性希釈溶剤)
(A1)成分:含フッ素ブロック共重合体(モディパーF600(日本油脂(株)製)の水酸基をイソシアネートエチルメタアクリレートで変性したもの(固形分として))
0.2重量部
(A2)成分:パーフルオロポリエーテルテトラアクリレート(Fombrin Z−Tetraol(アウジモント社製)の4つの末端ヒドロキシル基をアクリレート変性したもの(分子量Mw約1,000)) 0.3重量部
JIS L 1094に準拠して、半減期の測定を行った。具体的には、温度25℃、相対湿度10%に設定された試験室において、各光ディスクサンプルから寸法35×35mmにて切り出した試料を測定器にセットし、測定時間を60分まで行った以外は上記測定方法に従った。この半減期測定を、初期と保存後(温度80℃、相対湿度85%、保存時間50時間)の2通り行った結果を、下記の表2中に示す。測定結果は試料の耐電圧が1/2に減衰するまでの時間(半減期)として得られ、この時間が短いほど帯電防止性能に優れているといえる。なお、本発明の光ディスクの場合には、上記測定において半減期が60分以下であれば問題ないと考えられる。
2 記録層
3 光透過層
4 ハードコート層
10、20 光ディスク
12 相変化記録材料層
15 反射層
16 第2誘電体層
17 第1誘電体層
Claims (8)
- 基板上に、少なくとも情報層、光透過層およびハードコート層を順次備え、該ハードコート層側からレーザー光を照射して記録および/または再生を行う光ディスクであって、前記光透過層が、エーテル結合およびウレタン結合のうちのいずれか一方または双方を含む樹脂と、アルカリ金属塩とを含有してなることを特徴とする光ディスク。
- 前記アルカリ金属塩がリチウム塩である請求項1記載の光ディスク。
- 前記樹脂がポリエーテル基含有ウレタンアクリレートである請求項1または2記載の光ディスク。
- 前記ハードコート層がシリカ微粒子を含有する請求項1〜3のうちいずれか一項記載の光ディスク。
- 前記ハードコート層が、表面に、含フッ素ブロック共重合体およびフッ素含有ポリエーテル化合物のうちのいずれか一方または双方を含有する請求項1〜4のうちいずれか一項記載の光ディスク。
- 前記アルカリ金属塩の含有量が、前記樹脂100重量部に対し0.1〜10重量部の範囲内である請求項1〜5のうちいずれか一項記載の光ディスク。
- 対物レンズ開口数NAが0.85以上である記録/再生装置において、波長380〜450nmのレーザー光を用いて記録および/または再生される請求項1〜6のうちいずれか一項記載の光ディスク。
- 表面に、樹脂層と、ハードコート層とを順次備え、該樹脂層が、エーテル結合およびウレタン結合のうちのいずれか一方または双方を含む樹脂と、アルカリ金属塩とを含有してなることを特徴とする物体。
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