JP2005294735A - 照射エネルギ密度の決定方法、半導体基板の製造方法および半導体基板の製造装置 - Google Patents
照射エネルギ密度の決定方法、半導体基板の製造方法および半導体基板の製造装置 Download PDFInfo
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Abstract
【課題】 レーザ光を照射することによって被照射膜の結晶性を高める際に、レーザ発振器の状態の変化などの影響によって、得られる被照射膜の結晶性にばらつきが生じさせないレーザ光の照射エネルギ密度を決定する方法、その方法を用いた半導体基板の製造方法およびそれを用いた半導体基板の製造装置を提供することを目的とする。
【解決手段】 基板上に形成された被照射膜に対して、種々の照射エネルギ密度を有するレーザ光を照射し、照射エネルギ密度ごとに被照射膜の表面散乱光強度を測定することによって、エネルギ密度と表面散乱光強度との対応関係情報を作成する。ここで対応関係情報とは、たとえば、図3で示した照射エネルギ密度と表面散乱光強度との特性曲線である。この対応関係情報に基づいて、あらかじめ設定された目標値である表面散乱光強度から照射エネルギ密度を決定する。
【選択図】 図3
Description
照射エネルギ密度ごとに被照射膜の表面散乱光強度を測定する表面散乱光強度測定工程と、
照射エネルギ密度と表面散乱光強度との対応関係情報を作成する対応関係情報作成工程と、
対応関係情報に基づいてあらかじめ設定された目標値である表面散乱光強度から照射エネルギ密度を決定する照射エネルギ密度決定工程とを有することを特徴とする照射エネルギ密度の決定方法である。
決定したエネルギ密度を有するレーザ光を被照射膜に照射してレーザアニール処理をするレーザアニール工程とを有することを特徴とする半導体基板の製造方法である。
照射エネルギ密度ごとに被照射膜の表面散乱光強度を測定する表面散乱光強度測定手段と、
照射エネルギ密度と表面散乱光強度との対応関係情報を作成する対応関係情報作成手段と、
対応関係情報に基づいてあらかじめ設定された目標値である表面散乱光強度から照射エネルギ密度を決定する照射エネルギ密度決定手段と、
決定したエネルギ密度を有するレーザ光を被照射膜に照射してレーザアニール処理をするレーザアニール手段とを有することを特徴とする半導体基板の製造装置である。
12 レーザ発振器
13 照射光学系
14 表面散乱光強度測定手段
15 制御手段
16 基板
17 非晶質Si膜
18 X−Yテーブル
19 処理チャンバ
20 内部空間
21 メモリ
22 半導体基板
Claims (7)
- 基板上に形成された被照射膜に対して種々の照射エネルギ密度を有するレーザ光を照射する予備照射工程と、
照射エネルギ密度ごとに被照射膜の表面散乱光強度を測定する表面散乱光強度測定工程と、
照射エネルギ密度と表面散乱光強度との対応関係情報を作成する対応関係情報作成工程と、
対応関係情報に基づいてあらかじめ設定された目標値である表面散乱光強度から照射エネルギ密度を決定する照射エネルギ密度決定工程とを有することを特徴とする照射エネルギ密度の決定方法。 - 請求項1記載の照射エネルギ密度の決定方法によって、レーザ光の照射エネルギ密度を決定する処理条件決定工程と、
決定した照射エネルギ密度を有するレーザ光を被照射膜に照射してレーザアニール処理をするレーザアニール工程とを有することを特徴とする半導体基板の製造方法。 - 所定の条件が満たされたときに、再度、処理条件決定工程を行って、レーザ光の照射エネルギ密度を再決定することを特徴とする請求項2記載の半導体基板の製造方法。
- 所定の条件は、レーザ発振器のレーザガスが交換されたことであることを特徴とする請求項3記載の半導体基板の製造方法。
- 所定の条件は、一枚の基板がレーザアニール処理されたことであることを特徴とする請求項3記載の半導体基板の製造方法。
- 所定の条件は、複数枚の基板がレーザアニール処理されたことであることを特徴とする請求項3記載の半導体基板の製造方法。
- 基板上に形成された被照射膜に対して種々の照射エネルギ密度を有するレーザ光を照射する予備照射手段と、
照射エネルギ密度ごとに被照射膜の表面散乱光強度を測定する表面散乱光強度測定手段と、
照射エネルギ密度と表面散乱光強度との対応関係情報を作成する対応関係情報作成手段と、
対応関係情報に基づいてあらかじめ設定された目標値である表面散乱光強度から照射エネルギ密度を決定する照射エネルギ密度決定手段と、
決定した照射エネルギ密度を有するレーザ光を被照射膜に照射してレーザアニール処理をするレーザアニール手段とを有することを特徴とする半導体基板の製造装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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Cited By (1)
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