JP2005276465A - 超電導線材 - Google Patents
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Abstract
【課題】 表面に結晶配向性を有する基板、中間層および超電導層の各層間における結晶格子の不整合が小さく、超電導特性に優れた超電導線材を提供する。
【解決手段】 超電導層と2つ以上の中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを含む超電導線材であって、上記超電導層、表面に結晶配向性を有する基板および2つ以上の中間層において、それらの平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数を、それぞれasc、asub、a1、・・・ak(kは2以上の整数)とし、2つ以上の中間層の換算格子定数をa1’、・・・ak’とするとき、asub<a1’<・・・<ak’<ascまたはasub>a1’>・・・>ak’>ascの関係を満たす超電導線材。
【選択図】 図1
【解決手段】 超電導層と2つ以上の中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを含む超電導線材であって、上記超電導層、表面に結晶配向性を有する基板および2つ以上の中間層において、それらの平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数を、それぞれasc、asub、a1、・・・ak(kは2以上の整数)とし、2つ以上の中間層の換算格子定数をa1’、・・・ak’とするとき、asub<a1’<・・・<ak’<ascまたはasub>a1’>・・・>ak’>ascの関係を満たす超電導線材。
【選択図】 図1
Description
本発明は、超電導線材に関し、より詳しくは、超電導層と2つ以上の中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを有する超電導線材に関する。
高温超電導体の発見以来、ケーブル、限流器、マグネットなどの電力機器への応用を目指した高温超電導線材の開発が活発に行なわれている。ここで、優れた高温超電導線材を得るためには、配向性の高い超電導層を形成する必要がある。
超電導層の配向性を向上させるためには、表面に結晶配向性を有する基板上に、中間層を形成し、さらにその中間層上に超電導層を形成する方法が提案されている(たとえば、特許文献1〜2参照。)。
しかし、中間層および超電導層として異種の材料を用いるため、これらの層の格子定数は互いに一致することがないことから、各層間における結晶格子の不整合により、中間層および超電導層に部分的な結晶ひずみまたは部分的な結晶欠陥などによる結晶性の低下が生じ、超電導臨界電流(Ic)または超電導臨界温度(Tc)などの超電導特性の向上が妨げられるという問題があった。
特開平11−053967号公報
特開平11−111080号公報
本発明は、上記問題点を解決するため、表面に結晶配向性を有する基板、中間層および超電導層の各層間における結晶格子の不整合が小さく、超電導特性に優れた超電導線材を提供することを目的とする。
上記目的を達成するため、本発明にかかる超電導線材は、超電導層と2つ以上の中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを含む超電導線材であって、上記超電導層の超電導層平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をasc、上記の表面に結晶配向性を有する基板の基板平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をasub、2以上の中間層の中間層平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をそれぞれa1,・・・akとし、mおよびnが1以上の整数、kが2以上の整数であるとき、a1/m、na1、a1/(√2・m)またはna1/(√2)のいずれかの数値であって、ascとasubとの間にある換算格子定数a1’、および、ak/m、nak、ak/(√2・m)またはnak/(√2)のいずれかの数値であって、ascとasubとの間にある換算格子定数ak’が、asub<a1’<・・・<ak’<ascまたはasub>a1’>・・・>ak’>ascの関係を満たすことを特徴とする。
また、本発明にかかる上記超電導線材において、超電導層と中間層との格子不整合率Δ|asc−ak’|、隣接する中間層間の格子不整合率Δ|ak’−ak-1’|および中間層と表面に結晶配向性を有する基板との格子不整合率Δ|a1’−asub|を、6%以下とすることができる。
さらに、本発明にかかる上記超電導線材が、超電導層と2つの中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを含む場合には、上記の表面に結晶配向性を有する基板をNi金属またはNiを含有する合金を含む配向金属基板とし、上記の表面に結晶配向性を有する基板に隣接する中間層である第1中間層をイットリア安定化ジルコニア(以下、YSZという)およびYb2O3の中から選ばれる1の化合物からなるものとし、上記第1中間層および超電導体に隣接する中間層である第2中間層をCeO2、LaAlO3、Ho2O3、Y2O3、Sm2Zr2O7およびGd2Zr2O7の中から選ばれる1の化合物からなるものとし、上記超電導層をRE1Ba2Cu3O7-δ(REは希土類元素)からなるものとすることができる。
また、本発明にかかる上記超電導線材が、超電導層と3つの中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを含む場合には、上記の表面に結晶配向性を有する基板が、Ni金属またはNiを含有する合金を含む配向金属基板とし、上記の表面に結晶配向性を有する基板に隣接する中間層である第1中間層をYSZおよびYb2O3の中から選ばれる1の化合物からなるものとし、上記第1中間層に隣接する中間層である第2中間層をHo2O3、Y2O3、Sm2Zr2O7およびGd2Zr2O7の中から選ばれる1の化合物からなるものとし、上記第2中間層および超電導層に隣接する中間層である第3中間層をCeO2およびLaAlO3の中から選ばれる1の化合物からなるものとし、上記超電導層をRE1Ba2Cu3O7-δ(ここで、REは希土類元素を示す。以下同じ。)からなるものとすることができる。
上記のように、本発明によれば、超電導層の格子定数asc、2以上の中間層の換算格子定数a1’、・・・、ak’および表面に結晶配向性を有する基板の格子定数asubが、asub<a1’<・・・<ak’<ascまたはasub>a1’>・・・>ak’>ascの関係を満たすことにより、超電導層、2以上の中間層、および表面に結晶配向性を有する基板の各層間の結晶格子の不整合を小さくすることができ、超電導特性に優れた超電導線材が得られる。
本発明にかかる一の超電導線材は、図1を参照して、超電導層3と2以上の中間層2と表面に結晶配向性を有する基板1とを含む超電導線材100であって、上記超電導層3の超電導層平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をasc、上記の表面に結晶配向性を有する基板1の基板平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をasub、上記2以上の中間層2の中間層平面に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をそれぞれa1,・・・akとし、mおよびnが1以上の整数、kが2以上の整数であるとき、a1/m、na1、a1/(√2・m)またはna1/(√2)のいずれかの数値であって、ascとasubとの間にある換算格子定数a1’、および、ak/m、nak、ak/(√2・m)またはnak/(√2)のいずれかの数値であって、ascとasubとの間にある換算格子定数ak’が、asub<a1’<・・・<ak’<ascまたはasub>a1’>・・・>ak’>ascの関係を満たす。かかる関係を満たす2以上の中間層の換算格子定数a1’、・・・、ak’は、表面に結晶配向性を有する基板の格子定数と超電導層の格子定数との間で単調増加または単調減少するため、超電導層、2以上の中間層および表面に結晶配向性を有する基板の各層における結晶格子の不整合を効果的に低減することができる。
ここで、上記各層における各層平面格子定数に平行な方向における1つの結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数asc、asub、a1、・・・akは、X線回折法を用いて測定することができる。たとえば、X線を各層の全反射近傍方向から入射回折させるインプレーン回折法は、表面に平行な結晶方位の格子定数を測定する一つの方法である。また、各層の構成元素および元素組成については、蛍光X線分析、XPS(X-ray Photoelectron Spectroscopy;X線光電子分光法)、EPMA(Electron Probe Micro Analysis;電子プローブ微小分析)法、SIMS(Secondary Ion Mass Spectroscopy;2次イオン質量分析)法などにより定性的または定量的に同定することができる。さらに、既知の結晶の多くは、各層の構成元素または元素組成を同定することにより、格子定数を推定することができる。すなわち、上記各種の分析法を併用することによって、各層の構成元素および元素組成、各層における格子定数asc、asub、a1、・・・akを同定することができる。
ここで、上記各層の結晶格子が立方晶または正方晶である場合および立方晶または正方晶で近似できる場合において、中間層に超電導層が堆積するときの両層における結晶格子の整合性について検討する。たとえば、RE1Ba2Cu3O7-δ(REは希土類元素)などの超電導層は、通常c軸方向に堆積するため、超電導層および中間層において、それぞれ超電導層平面および中間層平面と平行な方向における1の結晶軸をa軸について結晶格子の整合性を評価することができる。
超電導層のa軸の大きさを示す格子定数をasc、上記超電導層に隣接するk番目(kは2以上の整数)の中間層である第k中間層のa軸の大きさを示す格子定数をakとするとき、第k中間層の結晶格子に完全に整合して超電導層が堆積する場合として、次の2つの場合がある。第1の場合は、両層のa軸の方向が一致し、かつ、いずれかの層のa軸の大きさを示す格子定数の1以上の整数倍が他方の層のa軸の大きさを示す格子定数と一致する場合であり、この場合はmasc=akまたはasc=nakとなる(ここで、mおよびnは1以上の整数)。第2の場合は、いずれかの層のa軸の方向が他方の層のa軸の方向に対して両層の平面方向に45°傾いており、いずれかの層のa軸の大きさを示す格子定数の1以上の整数倍が他方の層のa軸の大きさを示す格子定数と一致する場合であり、この場合は√2・masc=akまたは√2・asc=nakとなる(ここで、mおよびnは1以上の整数)。
しかし、超電導層、中間層および表面に結晶配向性を有する基板は、その材質が異なっているため、各層のa軸の大きさを示す上記格子定数は、通常一致しない。各層間の結晶格子の不整合は、上記格子定数の違いとして把握できる。ここで、ak/m、nak、ak/(√2・m)またはnak/(√2)のいずれかの数値であって、asubとascとの間にあるものを換算格子定数ak’と、また表面に結晶配向性を有する基板に隣接する第1中間層について、a1/m、na1、a1/(√2・m)またはna1/(√2)のいずれかの数値であって、asubとascとの間にあるものを換算格子定数a1’と定義するとき、asub、a1’・・・ak’、ascが、asub<a1’<・・・<ak’<ascまたはasub>a1’>・・・>ak’>ascの関係を満たす場合には、2以上の中間層の換算格子定数a1’・・・ak’は、表面に結晶配向性を有する基板の格子定数asubと超電導層の格子定数ascとの間で単調増加または単調減少するため、超電導層、2以上の中間層および表面に結晶配向性を有する基板の各層間における結晶格子の不整合を効率的に小さくすることができる。このようにして、各層間における結晶格子の不整合を緩和することにより、中間層および超電導層に結晶ひずみまたは結晶欠陥が起こりにくくなり、中間層および超電導層の結晶性が高く維持され、超電導性に優れた超電導線材が得られる。
また、本発明にかかる上記超電導線材において、超電導層と中間層との格子不整合率Δ|asc−ak’|、隣接する中間層間の格子不整合率Δ|ak’−ak-1’|および中間層と表面に結晶配向性を有する基板との格子不整合率Δ|a1’−asub|を、6%以下とすることが好ましい。ここで、Δ|asc−ak’|はΔ|asc−ak’|=100×|asc−ak’|/((asc+ak’)/2)で、Δ|ak’−ak-1’|はΔ|ak’−ak-1’|=100×|ak’−ak-1’|/((ak’+ak-1’)/2)で、Δ|a1’−asub|はΔ|a1’−asub|=100×|a1’−asub|/((a1’+asub)/2)で定義される格子不整合率である。なお、上記各式において、|asc−ak’|は(asc−ak’)の絶対値を、|ak’−ak-1’|は(ak’−ak-1’)の絶対値を、|a1’−asub|は(a1’−asub)の絶対値をそれぞれ意味する。各層間における格子不整合率が小さくなるほど、各層間の格子定数または換算格子定数の違いが小さくかつ均等化されることによって、各層間の結晶格子の不整合をさらに低減することができる。かかる観点から、Δ|asc−ak’|、Δ|ak’−ak-1’|およびΔ|a1’−asub|が、5%以下であることがより好ましく、4%以下であることがさらに好ましい。
ここで、本発明に用いられる表面に結晶配向性を有する基板1とは、少なくとも基板の表面に1軸以上の配向性を有する結晶を含有する基板をいい、好ましくは配向金属基板が用いられるが、これに限られず、金属または金属以外の単結晶基板であってもよい。ここで、配向金属基板とは、基板を構成する金属原子が2軸配向している金属基板をいい、完全な2軸配向基板のみならず、基板内における結晶軸のずれ角が25°以下の基板が含まれる。ここで、2軸配向の2軸とは、基板面に垂直な方向の結晶軸と基板面に平行な方向の一の結晶軸とをいい、基板内における結晶軸のずれ角とは、基板面に平行な方向にある一の結晶軸の基板面に平行な面内におけるずれ角であって、基板内におけるずれ角の平均値で示したものをいう。
配向金属基板としては、上記のような2軸配向を有する基板であれば特に制限はないが、Ni、Cr、Mn、Co、Fe、Pd、Cu、Ag、Auまたはこれらのうち2以上の金属からなる合金が好ましく用いられる。また、上記の金属または合金の単体だけでなく、上記の金属または合金を他の金属または合金と積層することもできる。たとえば、高強度材料であるSUSなどの合金、またはさらに高強度の材料であるTiB2/TiAl(TiB2粒子分散型TiAl)などの粒子分散強化合金に配向Ni薄膜層を設けて配向金属基板とすることもできる。
本発明に用いられる2以上の中間層2としては、パイロクロア型、螢石型、岩塩型またはペロブスカイト型の結晶構造をもつ、1種以上の金属元素を有する金属酸化物が好ましく用いられる。具体的には、Y2O3、CeO2、Ho2O3またはYb2O3などのの希土類元素酸化物、YSZ、BZO(BaZrO3)、STO(SrTiO3)、Al2O3、YAlO3、LaAlO3、MgO、Sm2Zr2O7またはGd2Zr2O7などのLn−M−O系化合物(Lnは1種以上のランタノイド元素、MはSr、ZrおよびGaの中から選ばれる1種以上の元素、Oは酸素)などが挙げられる。かかる酸化物は、結晶定数、結晶配向の観点から表面に結晶配向性を有する基板および超電導層の差を緩和するとともに、一般に高温で堆積される超電導層の堆積プロセスの間に、表面に結晶配向性を有する基板である配向金属基板から超電導層への金属原子の流出を防止する役割を果たす。
2層以上の中間層2の形成方法としては、本発明の目的に反さない限り特に制限はなく、スパッタ法、EBD(電子線ビーム蒸着;Electron Beam Deposition)法、PLD(パルスレーザー蒸着;Pulse Laser Deposition)法、熱蒸着法などの方法が好ましく用いられる。
本発明に用いられる超電導層3としては、特に制限はないが、RE1Ba2Cu3O7-δなどが好ましく用いられる。超電導層の形成方法としては、本発明の目的に反さない限り特に制限はなく、PLD法、MOD(有機金属成膜;Metal Organic Deposition)法、MOCVD(有機金属気相成長;Metal Organic Chemical Vapor Deposition)法などの方法が好ましく用いられる。
さらに、図1を参照して、超電導層3を保護するとともに電流を安定して流すため、必要に応じて、超電導層3の上に安定化層4を形成することもできる。安定化層4としては、電導性が高く超電導層と反応しないものであれば特に制限はないが、Ag、Au、Pt、Alまたはこれらの合金などが好ましく用いられる。安定化層の形成方法としては、特に制限はないが、スパッタ法、EBD法、PLD法、熱蒸着法、MOD法、MOCVD法、めっき法などの方法が好ましく用いられる。
ここで、たとえば、超電導層がRE1Ba2Cu3O7-δの一つであるHo1Ba2Cu3O7-δ、表面に結晶配向性を有する基板が、Ni金属からなる配向金属基板である配向Ni基板の場合において、超電導層、2以上の中間層および表面に結晶配向性を有する基板の各層における格子整合性について検討する。表1に、超電導層であるHo1Ba2Cu3O7-δおよび表面に結晶配向性を有する基板である配向Ni基板のそれぞれの格子定数ascおよびasub、各種中間層の格子定数akおよび換算格子定数ak’、超電導層の格子定数に対する各層の格子定数asub、ascまたは換算格子定数ak’の比である格子定数比を示す。
表1において、各中間層の換算格子定数は、たとえば以下のようにして算出される。YSZの格子定数は5.14であるが、これを√2で除することにより換算格子定数が3.63と算出される。Ho2O3の格子定数は10.61であるが、これを2√2で除することにより換算格子定数が3.75と算出される。LaAlO3の格子定数は3.79であるが、これを1で除することにより換算格子定数が3.79と算出される。CeO2の格子定数は5.41であるが、これを√2で除することにより換算格子定数が3.83と算出される。
本発明にかかる超電導線材が、図1を参照して、超電導層3と2つの中間層2と表面に結晶配向性を有する基板1を含む超電導線材100であって、上記の表面に結晶配向性を有する基板1がNi金属またはNiを含有する合金を含む配向金属基板であり、上記の表面に結晶配向性を有する基板に隣接する中間層である第1中間層21がYSZおよびYb2O3の中から選ばれる1の化合物からなり、上記第1中間層21および超電導層3に隣接する中間層である第2中間層22がCeO2、LaAlO3、Ho2O3、Y2O3、Sm2Zr2O7およびGd2Zr2O7の中から選ばれる1の化合物からなり、上記超電導層をRE1Ba2Cu3O7-δからなることが好ましい。表1を参照して、第1中間層の換算格子定数a1’は表面に結晶配向性を有する基板の格子定数asubに近く、第2中間層の換算格子定数a2’は超電導層の格子定数ascに近いため、各層間の格子定数(または換算格子定数)の違いがより均等化するため、各層間の結晶格子の不整合をより低減することができる。
ここで、本発明にかかる超電導線材が、超電導層としてHo1Ba2Cu3O7-δ、表面に結晶配向性を有する基板として配向Ni基板、および2の中間層を含む場合に、それぞれの格子定数および、または換算格子定数およびについて、asub<a1’<a2’<ascの関係を満たすいくつかの組合わせにおいて、各層間の格子不整合率Δ(Δ|a1’−asub|、Δ|a2’−a1’|またはΔ|asc−a2’|)は、表2のように算出される。なお、表2において、Δsub-1はΔ|a1’−asub|を、Δ1-2はΔ|a2’−a1’|を、Δ2-scはΔ|asc−a2’|をそれぞれ示す。
表2に示すように、各層間の格子不整合率Δは、6%以下となった。中でも、第1中間層および第2中間層を、それぞれ、YSZおよびHo2O3、YSZおよびY2O3、YSZおよびSm2Zr2O7とした場合は、各層間の格子不整合率Δは4%以下となった。
また、本発明にかかる超電導線材が、図2を参照して、超電導層3と3つの中間層2と表面に結晶配向性を有する基板1とを含む場合には、上記の表面に結晶配向性を有する基板1が、Ni金属またはNiを含有する合金を含む配向金属基板であり、上記の表面に結晶配向性を有する基板1に隣接する中間層である第1中間層21がYSZおよびYb2O3の中から選ばれる1の化合物からなり、上記第1中間層21に隣接する中間層である第2中間層22がHo2O3、Y2O3、Sm2Zr2O7およびGd2Zr2O7の中から選ばれる1の化合物からなり、上記第2中間層22および超電導層3に隣接する中間層である第3中間層23がCeO2およびLaAlO3の中から選ばれる1の化合物からなり、上記超電導層3がRE1Ba2Cu3O7-δからなることが好ましい。表1を参照して、第1中間層の換算格子定数a1’は表面に結晶配向性を有する基板の格子定数asubに近く、第3中間層の換算格子定数a3’は超電導層の格子定数ascに近く、第2中間層の換算格子定数a2’がa1’とa3’の間にあるため、各層間の格子定数(または換算格子定数)の違いがさらに均等化するため、各層間の結晶格子の不整合をさらに低減することができる。
ここで、本発明にかかる超電導線材が、超電導層としてHo1Ba2Cu3O7-δ、表面に結晶配向性を有する基板として配向Ni基板、および3つの中間層を含む場合に、それぞれの格子定数および、または換算格子定数およびについて、asub<a1’<a2’<a3’<ascの関係を満たすいくつかの組合わせにおいて、各層間の格子不整合率Δ(Δ|a1’−asub|、Δ|a2’−a1’|、Δ|a3’−a2’|またはΔ|asc−a2’|)は、表3のように算出される。なお、表3において、Δsub-1はΔ|a1’−asub|を、Δ1-2はΔ|a2’−a1’|を、Δ2-3はΔ|a3’−a2’|を、Δ3-scはΔ|asc−a3’|をそれぞれ示す。
表3に示すように、各層間の格子不整合率Δは、6%以下となった。また、表3を表2に対比すると明らかなように、中間層が3つのものは、中間層が2つのものに比べて、各層間の格子不整合率Δがより小さくなる傾向にあった。
本発明にかかる超電導線材について、実施例に基づいてさらに具体的に説明する。
(実施例1)
図1を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1として配向金属基板である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、第1中間層2としてYSZ層をPLD法により0.8μm堆積させた。次に、この第1中間層21上に、第2中間層22としてCeO2層をスパッタ法で0.1μm堆積させた。次いで、この第2中間層22上に、超電導層3としてHo1Ba2Cu3O7-δ層をPLD法で1.0μm堆積させた。さらに、この超電導層3上に、安定化層4としてAg層をスパッタ法で1.0μm堆積させた。その後、超電導層3であるHo1Ba2Cu3O7-δ層に酸素を取り込ませるとともに、Ho1Ba2Cu3O7-δ層とAg層との間の接触抵抗を下げるために、大気圧下の酸素雰囲気中で、500℃で1時間の熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材100の超電導臨界温度(以下、Tcという)および液体窒素中(77K)における超電導臨界電流(以下、Icという)は、Tc=88K、Ic=35Aであった。また、Ho1Ba2Cu3O7-δ層の(103)面におけるX線回折φスキャンピークの半値幅は、10°であった。ここで、実施例1における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=3.1%、Δ|a2’−a1’|=5.4%、Δ|asc−a2’|=1.6%と算出される。
図1を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1として配向金属基板である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、第1中間層2としてYSZ層をPLD法により0.8μm堆積させた。次に、この第1中間層21上に、第2中間層22としてCeO2層をスパッタ法で0.1μm堆積させた。次いで、この第2中間層22上に、超電導層3としてHo1Ba2Cu3O7-δ層をPLD法で1.0μm堆積させた。さらに、この超電導層3上に、安定化層4としてAg層をスパッタ法で1.0μm堆積させた。その後、超電導層3であるHo1Ba2Cu3O7-δ層に酸素を取り込ませるとともに、Ho1Ba2Cu3O7-δ層とAg層との間の接触抵抗を下げるために、大気圧下の酸素雰囲気中で、500℃で1時間の熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材100の超電導臨界温度(以下、Tcという)および液体窒素中(77K)における超電導臨界電流(以下、Icという)は、Tc=88K、Ic=35Aであった。また、Ho1Ba2Cu3O7-δ層の(103)面におけるX線回折φスキャンピークの半値幅は、10°であった。ここで、実施例1における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=3.1%、Δ|a2’−a1’|=5.4%、Δ|asc−a2’|=1.6%と算出される。
(比較例1)
図1を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、第1中間層2としてCeO2層をスパッタ法で0.1μm堆積させた。次に、この第1中間層21上に、第2中間層22としてYSZ層をPLD法により0.8μm堆積させた。次いで、この第2中間層22上に、超電導層3としてHo1Ba2Cu3O7-δ層をPLD法で1.0μm堆積させた。さらに、この超電導層3上に、安定化層4としてAg層をスパッタ法で1.0μm堆積させた。その後、実施例1と同様の条件で熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材のTcおよびIcは、Tc=85K、Ic=25Aであった。また、Ho1Ba2Cu3O7-δ層の(103)面におけるX線回折φスキャンピークの半値幅は、18°であったが、そのピーク強度は実施例1の場合に比べて約2/3となった。ここで、比較例1における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=8.4%、Δ|a2’−a1’|=5.4%、Δ|asc−a2’|=6.9%と算出される。比較例1においては、2つの中間層を有するがasub<a1’<ak2’<ascの関係を満たしていないため、各層間の格子不整合率が大きくなり、その結果として超電導層の結晶性が低下し、TcおよびIcが低下したものと考えられる。
図1を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、第1中間層2としてCeO2層をスパッタ法で0.1μm堆積させた。次に、この第1中間層21上に、第2中間層22としてYSZ層をPLD法により0.8μm堆積させた。次いで、この第2中間層22上に、超電導層3としてHo1Ba2Cu3O7-δ層をPLD法で1.0μm堆積させた。さらに、この超電導層3上に、安定化層4としてAg層をスパッタ法で1.0μm堆積させた。その後、実施例1と同様の条件で熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材のTcおよびIcは、Tc=85K、Ic=25Aであった。また、Ho1Ba2Cu3O7-δ層の(103)面におけるX線回折φスキャンピークの半値幅は、18°であったが、そのピーク強度は実施例1の場合に比べて約2/3となった。ここで、比較例1における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=8.4%、Δ|a2’−a1’|=5.4%、Δ|asc−a2’|=6.9%と算出される。比較例1においては、2つの中間層を有するがasub<a1’<ak2’<ascの関係を満たしていないため、各層間の格子不整合率が大きくなり、その結果として超電導層の結晶性が低下し、TcおよびIcが低下したものと考えられる。
(比較例2)
図1を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、1つの中間層2としてYSZ層をPLD法により0.9μm堆積させた。次いで、この中間層上2に、超電導層3としてHo1Ba2Cu3O7-δ層をPLD法で1.0μm堆積させた。さらに、この超電導層3上に、安定化層4としてAg層をスパッタ法で1.0μm堆積させた。その後、実施例1と同様の条件で熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材のTcおよびIcは、Tc=86K、Ic=28Aであった。また、Ho1Ba2Cu3O7-δ層の(103)面におけるX線回折φスキャンピークの半値幅は、18°であり、そのピーク強度は実施例1の場合に比べて約2/3となった。ここで、比較例2における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=3.1%、Δ|asc−a2’|=6.9%と算出される。比較例2においては、1つの中間層しか有していないため、各層間の格子不整合率が大きくなり、その結果として超電導層の結晶性が低下し、TcおよびIcが低下したものと考えられる。
図1を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、1つの中間層2としてYSZ層をPLD法により0.9μm堆積させた。次いで、この中間層上2に、超電導層3としてHo1Ba2Cu3O7-δ層をPLD法で1.0μm堆積させた。さらに、この超電導層3上に、安定化層4としてAg層をスパッタ法で1.0μm堆積させた。その後、実施例1と同様の条件で熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材のTcおよびIcは、Tc=86K、Ic=28Aであった。また、Ho1Ba2Cu3O7-δ層の(103)面におけるX線回折φスキャンピークの半値幅は、18°であり、そのピーク強度は実施例1の場合に比べて約2/3となった。ここで、比較例2における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=3.1%、Δ|asc−a2’|=6.9%と算出される。比較例2においては、1つの中間層しか有していないため、各層間の格子不整合率が大きくなり、その結果として超電導層の結晶性が低下し、TcおよびIcが低下したものと考えられる。
(実施例2)
図2を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、第1中間層21としてPLD法により0.8μmのYSZ層を、第2中間層22としてPLD法により0.5μmのHo2O3層を、第3中間層23としてスパッタ法により0.1μmのCeO2層を、超電導層3としてPLD法により1μmのHo1Ba2Cu3O7-δ層を、安定化層4としてスパッタ法により1μmのAg層を順次形成した。その後、実施例1と同様の条件で熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材200のTcおよびIcは、Tc=89K、Ic=45Aであった。ここで、実施例3における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=0.8%、Δ|a2’−a1’|=2.2%、Δ|a3’−a2’|=5.4%、Δ|asc−a3’|=1.6%と算出される。本実施例においては、実施例1において最も格子不整合率が大きかったYSZ層とCeO2層との間にHo2O3層が形成されているために、YSZ層とCeO2層との格子不整合が緩和され、Icが著しく増大したものと考えられる。
図2を参照して、表面に結晶配向性を有する基板1である幅1cm、厚さ100μmの配向Ni基板上に、第1中間層21としてPLD法により0.8μmのYSZ層を、第2中間層22としてPLD法により0.5μmのHo2O3層を、第3中間層23としてスパッタ法により0.1μmのCeO2層を、超電導層3としてPLD法により1μmのHo1Ba2Cu3O7-δ層を、安定化層4としてスパッタ法により1μmのAg層を順次形成した。その後、実施例1と同様の条件で熱処理を行なった。こうして得られた超電導線材200のTcおよびIcは、Tc=89K、Ic=45Aであった。ここで、実施例3における格子不整合率Δは、表1の格子定数または換算格子定数を用いて、Δ|a1’−asub|=0.8%、Δ|a2’−a1’|=2.2%、Δ|a3’−a2’|=5.4%、Δ|asc−a3’|=1.6%と算出される。本実施例においては、実施例1において最も格子不整合率が大きかったYSZ層とCeO2層との間にHo2O3層が形成されているために、YSZ層とCeO2層との格子不整合が緩和され、Icが著しく増大したものと考えられる。
今回開示された実施の形態および実施例はすべての点で例示であって制限的なものではないと考えられるべきである。本発明の範囲は、上記した説明でなくて特許請求の範囲によって示され、特許請求の範囲と均等の意味および範囲内のすべての変更が含まれることが意図される。
以上のように、本発明は、超電導層と2つ以上の中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを含む超電導線材に広く利用することができ、超電導層、2以上の中間層、および表面に結晶配向性を有する基板の各層間の格子不整合を緩和することにより、超電導特性に優れた超電導線材を提供することができる。
1 表面に結晶配向性を有する基板、2 中間層、3 超電導層、4 安定化層、21 第1中間層、22 第2中間層、23 第3中間層、100,200 超電導線材。
Claims (4)
- 超電導層と2つ以上の中間層と表面に結晶配向性を有する基板とを含む超電導線材であって、
前記超電導層の超電導層平面に平行な方向における1の結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をasc、前記表面に結晶配向性を有する基板の基板平面に平行な方向における1の結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をasub、前記2つ以上の中間層の中間層平面に平行な方向における1の結晶軸であるa軸の大きさを示す格子定数をそれぞれa1、・・・、akとし、mおよびnが1以上の整数、kが2以上の整数であるとき、
a1/m、na1、a1/(√2・m)またはna1/(√2)のいずれかの数値であってascとasubとの間にある換算格子定数a1’および
ak/m、nak、ak/(√2・m)またはnak/(√2)のいずれかの数値であってascとasubとの間にある換算格子定数ak’が、
asub<a1’<・・・<ak’<asc または asub>a1’>・・・>ak’>asc
の関係を満たすことを特徴とする超電導線材。 - 前記超電導層と前記中間層との格子不整合率Δ|asc−ak’|を、
Δ|asc−ak’|=100×|asc−ak’|/((asc+ak’)/2)と、
隣接する前記中間層間の格子不整合率Δ|ak’−ak-1’|を、
Δ|ak’−ak-1’|=100×|ak’−ak-1’|/((ak’+ak-1’)/2)と、
前記中間層と前記表面に結晶配向性を有する基板との格子不整合率Δ|a1’−asub|を、
Δ|a1’−asub|=100×|a1’−asub|/((a1’+asub)/2)と定義するとき、
Δ|asc−ak’|、Δ|ak’−ak-1’|およびΔ|a1’−asub|が、6%以下である請求項1に記載の超電導線材。 - 前記超電導層と2つの前記中間層と前記表面に結晶配向性を有する基板とを含む超電導線材であって、
前記表面に結晶配向性を有する基板が、Ni金属またはNiを含有する合金を含む配向金属基板であり、
前記表面に結晶配向性を有する基板に隣接する中間層である第1中間層が、イットリア安定化ジルコニアおよびYb2O3からなる群から選ばれる1の化合物からなり、
前記第1中間層および前記超電導体に隣接する中間層である第2中間層が、CeO2、LaAlO3、Ho2O3、Y2O3、Sm2Zr2O7およびGd2Zr2O7からなる群から選ばれる1の化合物からなり、
前記超電導層がRE1Ba2Cu3O7-δ(REは希土類元素)からなる請求項1または請求項2に記載の超電導線材。 - 前記超電導層と3つの前記中間層と前記表面に結晶配向性を有する基板とを含む超電導線材であって、
前記表面に結晶配向性を有する基板が、Ni金属またはNiを含有する合金を含む配向金属基板であり、
前記表面に結晶配向性を有する基板に隣接する中間層である第1中間層が、イットリア安定化ジルコニアおよびYb2O3からなる群から選ばれる1の化合物からなり、
前記第1中間層に隣接する中間層である第2中間層が、Ho2O3、Y2O3、Sm2Zr2O7およびGd2Zr2O7からなる群から選ばれる1の化合物からなり、
前記第2中間層および前記超電導層に隣接する中間層である第3中間層が、CeO2およびLaAlO3からなる群から選ばれる1の化合物からなり、
前記超電導層がRE1Ba2Cu3O7-δ(REは希土類元素)からなる請求項1または請求項2に記載の超電導線材。
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Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007115561A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Internatl Superconductivity Technology Center | 希土類系テープ状酸化物超電導体及びその製造方法 |
WO2007080876A1 (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation | 希土類系テープ状酸化物超電導体 |
JP2008293976A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Zenergy Power Gmbh | 超伝導性薄膜ストリップ導体のための金属基体 |
JP2009221572A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Chubu Electric Power Co Inc | 酸化物超電導線材用の2軸配向薄膜及びその製造方法 |
JP2009541957A (ja) * | 2006-06-29 | 2009-11-26 | ゼナジー・パワー・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 高温超伝導体上に金属被覆層を形成するための方法 |
JP2012226857A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸化物超電導薄膜線材の製造方法 |
-
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Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007115561A (ja) * | 2005-10-21 | 2007-05-10 | Internatl Superconductivity Technology Center | 希土類系テープ状酸化物超電導体及びその製造方法 |
WO2007080876A1 (ja) * | 2006-01-13 | 2007-07-19 | International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation | 希土類系テープ状酸化物超電導体 |
US7662749B2 (en) | 2006-01-13 | 2010-02-16 | International Superconductivity Technology Center, The Juridical Foundation | Rare earth-containing tape-shaped oxide superconductor |
JP2009541957A (ja) * | 2006-06-29 | 2009-11-26 | ゼナジー・パワー・ゲゼルシャフト・ミト・ベシュレンクテル・ハフツング | 高温超伝導体上に金属被覆層を形成するための方法 |
JP2008293976A (ja) * | 2007-05-24 | 2008-12-04 | Zenergy Power Gmbh | 超伝導性薄膜ストリップ導体のための金属基体 |
JP2009221572A (ja) * | 2008-03-18 | 2009-10-01 | Chubu Electric Power Co Inc | 酸化物超電導線材用の2軸配向薄膜及びその製造方法 |
JP2012226857A (ja) * | 2011-04-15 | 2012-11-15 | Sumitomo Electric Ind Ltd | 酸化物超電導薄膜線材の製造方法 |
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