JP2005258271A - Color filter - Google Patents

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Hironori Kobayashi
弘典 小林
Kaori Yamashita
かおり 山下
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Dai Nippon Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a color filter having excellent adhesive property to various members such as a colored layer and manufactured with good manufacture efficiency. <P>SOLUTION: The color filter has base material, a light shielding part formed on the base material, a photocatalyst containing layer formed to cover over the base material and the light shielding part and containing a photocatalyst and organo-polysiloxane, and the colored layer formed on the photocatalyst containing layer. The photocatalyst containing layer has minute holes and particulate organic and inorganic composite material. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、着色層をインクジェット方式で着色することにより得られる、カラー液晶ディスプレイに好適なカラーフィルタに関するものである。   The present invention relates to a color filter suitable for a color liquid crystal display, which is obtained by coloring a colored layer by an inkjet method.

近年、パーソナルコンピューターの発達、特に携帯用パーソナルコンピューターの発達に伴い、液晶ディスプレイ、とりわけカラー液晶ディスプレイの需要が増加する傾向にある。しかしながら、このカラー液晶ディスプレイが高価であることから、コストダウンの要求が高まっており、特にコスト的に比重の高いカラーフィルタに対するコストダウンの要求が高い。   In recent years, with the development of personal computers, especially portable personal computers, the demand for liquid crystal displays, particularly color liquid crystal displays, has been increasing. However, since this color liquid crystal display is expensive, there is an increasing demand for cost reduction, and in particular, there is a high demand for cost reduction for a color filter having a high specific gravity.

このようなカラーフィルタにおいては、通常赤(R)、緑(G)、および青(B)の3原色の着色パターンを備え、R、G、およびBのそれぞれの画素に対応する電極をON、OFFさせることで液晶がシャッタとして作動し、R、G、およびBのそれぞれの画素を光が通過してカラー表示が行われるものである。   In such a color filter, it is usually provided with coloring patterns of three primary colors of red (R), green (G), and blue (B), and electrodes corresponding to the respective pixels of R, G, and B are turned on, By turning it off, the liquid crystal operates as a shutter, and light passes through each of the R, G, and B pixels, and color display is performed.

従来より行われているカラーフィルタの製造方法としては、例えば染色法が挙げられる。この染色法は、まずガラス基板上に染色用の材料である水溶性の高分子材料を形成し、これをフォトリソグラフィー工程により所望の形状にパターニングした後、得られたパターンを染色浴に浸漬して着色されたパターンを得る。これを3回繰り返すことによりR、G、およびBのカラーフィルタ層を形成する。   As a conventional method for producing a color filter, for example, a staining method can be mentioned. In this dyeing method, first, a water-soluble polymer material, which is a dyeing material, is formed on a glass substrate, patterned into a desired shape by a photolithography process, and then the obtained pattern is immersed in a dyeing bath. To get a colored pattern. By repeating this three times, R, G, and B color filter layers are formed.

また、他の方法としては顔料分散法がある。この方法は、まず基板上に顔料を分散した感光性樹脂層を形成し、これをパターニングすることにより単色のパターンを得る。さらにこの工程を3回繰り返すことにより、R、G、およびBのカラーフィルタ層を形成する。
さらに他の方法としては、電着法や、熱硬化樹脂に顔料を分散させてR、G、およびBの3回印刷を行った後、樹脂を熱硬化させる方法等を挙げることができる。しかしながら、いずれの方法も、R、G、およびBの3色を着色するために、同一の工程を3回繰り返す必要があり、コスト高になるという問題や、工程を繰り返すため歩留まりが低下するという問題がある。
Another method is a pigment dispersion method. In this method, a photosensitive resin layer in which a pigment is dispersed is first formed on a substrate, and this is patterned to obtain a monochromatic pattern. Further, this process is repeated three times to form R, G, and B color filter layers.
Still other methods include an electrodeposition method, a method in which a pigment is dispersed in a thermosetting resin, R, G, and B are printed three times, and then the resin is thermoset. However, in any method, it is necessary to repeat the same process three times in order to color the three colors of R, G, and B, and there is a problem that the cost is high, and the yield decreases because the process is repeated. There's a problem.

そこで、基材上に、光触媒と、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により特性が変化する材料とを含有する特性変化パターン形成用塗工液を用いて光触媒含有層を形成し、パターン状に露光することにより、特性が変化したパターンを形成し、着色層を形成するカラーフィルタの製造方法等が本発明者等において検討されてきた(特許文献1)。この方法によれば、上記光触媒含有層の特性を利用して、容易に着色層を形成することを可能とすることができる。   Therefore, a photocatalyst-containing layer is formed on the base material using a coating solution for property change pattern formation containing a photocatalyst and a material whose properties change due to the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and is exposed in a pattern. Thus, the inventors have studied a method for manufacturing a color filter that forms a pattern with changed characteristics and forms a colored layer (Patent Document 1). According to this method, it is possible to easily form a colored layer using the characteristics of the photocatalyst-containing layer.

ここで、上記光触媒含有層上には着色層や、ITO層等の種々の部材が設けられることとなることから、他の部材とより密着性が良好なものとすることによって、より高品質なカラーフィルタを形成することができる。また、上述したカラーフィルタは、エネルギーの照射によりエネルギーが照射された部分の特性を光触媒の作用を利用することにより変化させて、特性の異なるパターンを形成するものであるので、特性の差を生じさせるのに所定の時間がかかる。この時間を短縮することができれば、さらなる効率化を図ることが可能である。   Here, since various members, such as a colored layer and an ITO layer, are provided on the photocatalyst-containing layer, by making the adhesiveness better with other members, higher quality can be achieved. A color filter can be formed. In addition, the above-described color filter changes the characteristics of the portion irradiated with energy by utilizing the action of the photocatalyst to form patterns having different characteristics, and thus causes a difference in characteristics. It takes a predetermined time to make it happen. If this time can be shortened, further efficiency can be achieved.

特開2001−074928号公報Japanese Patent Laid-Open No. 2001-074928

そこで、より着色層等の種々の部材との接着性が良好であり、かつ製造効率よく製造されるカラーフィルタの提供が望まれている。   Therefore, it is desired to provide a color filter that has better adhesion to various members such as a colored layer and is manufactured with high manufacturing efficiency.

本発明は、基材と、上記基材上に形成された遮光部と、上記基材および上記遮光部を覆うように形成され、光触媒およびオルガノポリシロキサンを含有する光触媒含有層と、上記光触媒含有層上に形成された着色層とを有するカラーフィルタであって、
上記光触媒含有層が微細空孔と、微粒子状有機無機複合材料とを有することを特徴とするカラーフィルタを提供する。
The present invention includes a base material, a light-shielding portion formed on the base material, a photocatalyst-containing layer formed so as to cover the base material and the light-shielding portion, and containing a photocatalyst and an organopolysiloxane, and the photocatalyst-containing material A color filter having a colored layer formed on the layer,
Provided is a color filter, wherein the photocatalyst-containing layer has fine pores and a particulate organic-inorganic composite material.

本発明によれば、上記光触媒含有層が上記微細空孔を有することから、その光触媒含有層上に形成された着色層等が光触媒含有層中に入り込むこと等ができ、光触媒含有層と着色層との接着性が高いものとすることができる。また、上記光触媒含有層が、光触媒およびオルガノポリシロキサンを含有していることから、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の液体との接触角が低下するものとすることができる。したがって、カラーフィルタを製造する際、着色層を形成する領域のみにエネルギーを照射することによって、この領域の液体との接触角が低下したものとすることができ、この濡れ性の差を利用して、容易にインクジェット法等によって着色層が形成されたものとすることができるのである。またこの際、上記光触媒含有層が微細空孔を有することから、エネルギー照射に伴う光触媒の作用によって、微細空孔中で活性酸素種等を発生させることができ、光触媒の感度を良好なものとすることができるのである。   According to the present invention, since the photocatalyst-containing layer has the fine pores, a colored layer or the like formed on the photocatalyst-containing layer can enter the photocatalyst-containing layer, and the photocatalyst-containing layer and the colored layer And high adhesiveness. In addition, since the photocatalyst-containing layer contains a photocatalyst and an organopolysiloxane, the contact angle with the surface liquid can be reduced by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. Therefore, when manufacturing a color filter, by irradiating energy only to the region where the colored layer is formed, the contact angle with the liquid in this region can be reduced, and this difference in wettability is utilized. Thus, a colored layer can be easily formed by an ink jet method or the like. At this time, since the photocatalyst-containing layer has fine vacancies, the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation can generate active oxygen species and the like in the fine vacancies, and the photocatalyst has good sensitivity. It can be done.

上記発明においては、上記微粒子状有機無機複合材料の最大長径が0.03μm〜0.3μmの範囲内のものを含むことが好ましい。   In the said invention, it is preferable that the largest major axis of the said particulate organic inorganic composite material contains the thing in the range of 0.03 micrometer-0.3 micrometer.

また上記発明においては、上記光触媒含有層が、上記光触媒含有層表面の隣接する凸部を結んだ線から30nm以上の深さを有する表面微細空孔を有することが好ましい。これにより、上記着色層等が光触媒含有層中に入り込むことができ、これらの層と光触媒含有層との密着性を向上させることができるからである。   Moreover, in the said invention, it is preferable that the said photocatalyst containing layer has a surface fine void | hole which has a depth of 30 nm or more from the line | wire which connected the convex part which the said photocatalyst containing layer surface adjoins. Thereby, the said colored layer etc. can penetrate | invade in a photocatalyst containing layer, and the adhesiveness of these layers and a photocatalyst containing layer can be improved.

またさらに、上記発明においては、上記光触媒含有層が、上記光触媒含有層表面の隣接する凸部を結んだ線から30nmの深さにおける孔径が10nm〜30nmの範囲内である上記表面微細空孔を有することが好ましい。これにより、より光触媒含有層と着色層等との密着性を良好なものとすることができるからである。   Still further, in the invention, the photocatalyst-containing layer has the fine surface pores having a pore diameter in a range of 10 nm to 30 nm at a depth of 30 nm from a line connecting adjacent convex portions on the surface of the photocatalyst-containing layer. It is preferable to have. This is because the adhesion between the photocatalyst-containing layer and the colored layer can be made better.

また、上記発明においては、上記着色層が、少なくとも熱硬化性樹脂と、染料もしくは顔料とを有するものとすることができる。また、上記着色層が、少なくとも紫外線硬化性樹脂と、染料もしくは顔料とを有するものとすることもできる。   Moreover, in the said invention, the said colored layer shall have a thermosetting resin and dye or a pigment at least. The colored layer may have at least an ultraviolet curable resin and a dye or pigment.

本発明によれば、光触媒含有層とその光触媒含有層上に形成された着色層との接着性を高いものとすることができる。また、上記光触媒含有層の濡れ性の差を利用して、容易にインクジェット法等によって着色層を形成することができ、さらに光触媒の感度を良好なものとすることができることから、効率よく製造されたカラーフィルタとすることができる。   ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the adhesiveness of a photocatalyst containing layer and the colored layer formed on the photocatalyst containing layer can be made high. In addition, by utilizing the difference in wettability of the photocatalyst-containing layer, a colored layer can be easily formed by an inkjet method or the like, and the sensitivity of the photocatalyst can be improved. Color filter.

本発明は、着色層をインクジェット方式で着色することにより得られる、カラー液晶ディスプレイに好適なカラーフィルタおよびその製造方法に関するものであり、本発明のカラーフィルタは、基材と、上記基材上に形成された遮光部と、上記基材および上記遮光部を覆うように形成され、光触媒およびオルガノポリシロキサンを含有する光触媒含有層と、上記光触媒含有層上に形成された着色層とを有するカラーフィルタであって、
上記光触媒含有層が微細空孔と、微粒子状有機無機複合材料とを有することを特徴とするものである。
The present invention relates to a color filter suitable for a color liquid crystal display obtained by coloring a colored layer by an inkjet method and a method for producing the same, and the color filter of the present invention includes a base material and the base material. A color filter having a formed light-shielding portion, a photocatalyst-containing layer containing a photocatalyst and an organopolysiloxane, and a colored layer formed on the photocatalyst-containing layer, so as to cover the substrate and the light-shielding portion Because
The photocatalyst-containing layer has fine pores and a particulate organic-inorganic composite material.

本発明のカラーフィルタは、例えば図1に示すように、基材1と、その基材1上に形成された遮光部2と、その遮光部2上に形成された光触媒含有層3と、その光触媒含有層3上に形成された着色層4とを有するカラーフィルタであって、上記光触媒含有層が、微細空孔と微粒子状有機無機複合材料とを有するものである。   For example, as shown in FIG. 1, the color filter of the present invention includes a base material 1, a light shielding part 2 formed on the base material 1, a photocatalyst containing layer 3 formed on the light shielding part 2, and A color filter having a colored layer 4 formed on the photocatalyst-containing layer 3, wherein the photocatalyst-containing layer has fine pores and a particulate organic-inorganic composite material.

ここで、微粒子状有機無機複合材料とは、上記光触媒等の無機物がオルガノポリシロキサン等の有機物に一部または全部被覆されたもの等をいう。また上記微粒子状有機無機複合材の料光触媒が部分的に露出していてもよく、またさらに、いくつかの光触媒の粒子の固まりをオルガノポリシロキサン等の有機物が被覆しているもの等であってもよい。
また、光触媒含有層が微細空孔と微粒子有機無機複合材料とを含有するとは、例えば図2に示すように、上記微粒子有機無機複合材料が、光触媒含有層中で微細空孔を有するように形成されていることをいう。
Here, the particulate organic-inorganic composite material refers to a material in which an inorganic material such as the photocatalyst is partially or entirely coated with an organic material such as organopolysiloxane. In addition, the photocatalyst of the particulate organic-inorganic composite material may be partially exposed, and further, the photocatalyst particles may be coated with an organic substance such as organopolysiloxane. Also good.
The photocatalyst-containing layer contains fine pores and fine-particle organic-inorganic composite material, for example, as shown in FIG. 2, the fine-particle organic-inorganic composite material is formed so as to have fine pores in the photocatalyst-containing layer. It means being done.

本発明においては、上記光触媒含有層が微細空孔を有することによって、この光触媒含有層上に形成された着色層等の材料が、微細空孔中に入り込んでアンカー効果が発揮されるため、光触媒含有層上に形成された部材との密着性を良好なものとすることができる。   In the present invention, since the photocatalyst-containing layer has fine pores, a material such as a colored layer formed on the photocatalyst-containing layer enters the fine pores and exhibits an anchor effect. Adhesiveness with the member formed on the containing layer can be made favorable.

また、本発明においては、光触媒含有層中にオルガノポリシロキサンが含有されていることから、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の液体との接触角が低下するものとすることができ、この濡れ性の差を利用して、容易に着色層がインクジェット法等によって形成されたものとすることができる。このような光触媒の作用機構は、必ずしも明確なものではないが、光の照射によって生成したラジカルが、近傍の化合物との直接反応、あるいは、酸素、水の存在下で生じた活性酸素種によって、有機物の化学構造に変化を及ぼすものと考えられている。本発明においては、このラジカルや活性酸素種が光触媒含有層内のオルガノポリシロキサンに作用を及ぼし、その表面の液体との接触角を低下させるものであると考えられる。   In the present invention, since the organopolysiloxane is contained in the photocatalyst-containing layer, the contact angle with the liquid on the surface can be reduced by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and this wetting By utilizing the difference in properties, the colored layer can be easily formed by an inkjet method or the like. The mechanism of action of such a photocatalyst is not necessarily clear, but radicals generated by light irradiation are reacted directly with nearby compounds, or by active oxygen species generated in the presence of oxygen and water, It is thought to change the chemical structure of organic matter. In the present invention, it is considered that these radicals and active oxygen species act on the organopolysiloxane in the photocatalyst-containing layer to reduce the contact angle with the liquid on the surface.

本発明においては、上記光触媒含有層が上記の微細空孔を有することから、エネルギー照射によって励起された光触媒の作用によって、微細空孔内の酸素等と反応し、発生する活性酸素種等の量を多いものとすることができる。したがって、光触媒の感度を向上させることができ、上記オルガノポリシロキサンの液体との接触角を効率よく低下させることができる。また、光触媒含有層の表面だけでなく、光触媒含有層の内部まで液体との接触角が低いものとすることができることから、光触媒の感度の向上と同時に、液体との濡れ性を、微細空孔を有しない光触媒含有層と比較して格段に良好なものとすることができ、カラーフィルタを効率よく製造することができる、という利点も有する。
以下、本発明のカラーフィルタの各構成ごとに詳しく説明する。
In the present invention, since the photocatalyst-containing layer has the fine vacancies, the amount of active oxygen species and the like generated by reacting with oxygen and the like in the fine vacancies by the action of the photocatalyst excited by energy irradiation. Can be many. Accordingly, the sensitivity of the photocatalyst can be improved, and the contact angle of the organopolysiloxane with the liquid can be efficiently reduced. In addition, since the contact angle with the liquid can be reduced not only to the surface of the photocatalyst-containing layer but also to the inside of the photocatalyst-containing layer, the sensitivity of the photocatalyst is improved and the wettability with the liquid is improved. Compared with a photocatalyst-containing layer that does not have a light-emitting layer, the layer can be made much better, and the color filter can be produced efficiently.
Hereinafter, each configuration of the color filter of the present invention will be described in detail.

1.光触媒含有層
まず、本発明に用いられる光触媒含有層について説明する。本発明に用いられる光触媒含有層は、光触媒およびオルガノポリシロキサンを含有するものであり、また後述する基材および遮光部を覆うように形成されるものであって、上記微細空孔および微粒子有機無機複合材料を有するものであれば特に限定されるものではない。
1. Photocatalyst containing layer First, the photocatalyst containing layer used for this invention is demonstrated. The photocatalyst-containing layer used in the present invention contains a photocatalyst and an organopolysiloxane, and is formed so as to cover a base material and a light-shielding portion to be described later. If it has a composite material, it will not specifically limit.

ここで、本発明の光触媒含有層に含有される上記微粒子有機無機複合材料の大きさとしては、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により表面の濡れ性を変化させることが可能なものであれば特に限定されるものではないが、最大長径が0.03μm〜0.3μm、中でも0.05μm〜0.2μmの範囲内であるものを含むことが好ましく、上記範囲内の最大長径を有するものが、光触媒含有層を構成する固形分中50重量%〜90重量%程度含有されていることが好ましい。ここで、最大長径とは、一つの粒子中で径が最大となる長さをいうこととする。   Here, the size of the fine-particle organic-inorganic composite material contained in the photocatalyst-containing layer of the present invention is particularly limited as long as the wettability of the surface can be changed by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. However, it is preferable to include those having a maximum major axis of 0.03 μm to 0.3 μm, particularly 0.05 μm to 0.2 μm, and those having a maximum major axis within the above range are photocatalysts. It is preferable that about 50 to 90 weight% is contained in solid content which comprises a content layer. Here, the maximum major axis means a length that maximizes the diameter in one particle.

また、上記光触媒含有層は、表面に微細空孔を有することが好ましく、中でも光触媒含有層表面の凸部を結んだ線から30nm以上、中でも50〜200nmの範囲内の深さを有する表面微細空孔を有することが好ましい。これにより、上記光触媒の作用をより発揮することができるからである。この際の表面微細空孔の深さは、例えば光触媒含有層断面を電子顕微鏡にて撮影し、光触媒含有層表面の長さ1.0μmの範囲における上記表面微細空孔を測定することにより、算出することができる。また、本発明においては表面の長さに対して上記表面微細空孔を、20個/μm〜50個/μm程度有することが好ましい。   Further, the photocatalyst-containing layer preferably has fine pores on the surface, and in particular, a surface fine void having a depth of 30 nm or more from the line connecting the convex portions on the surface of the photocatalyst-containing layer, particularly a depth in the range of 50 to 200 nm. It is preferable to have a hole. This is because the action of the photocatalyst can be further exhibited. The depth of the surface micropores at this time is calculated by, for example, photographing the cross section of the photocatalyst containing layer with an electron microscope and measuring the surface micropores in the range of the length of the photocatalyst containing layer surface of 1.0 μm. can do. In the present invention, it is preferable that the surface fine pores have about 20 / μm to 50 / μm with respect to the length of the surface.

またさらに、この際、光触媒含有層は、上記隣接する光触媒含有層表面の凸部を結んだ線から30nmの位置における孔径が、10nm〜30nm、中でも15nm〜20nmの範囲内である上記表面微細空孔を有することが好ましい。上記孔径についても、上記表面微細空孔の深さを測定するのと同様に、電子顕微鏡により撮影した写真から求めることができる。また、上記孔径を有する表面微細空孔が、全表面微細空孔中30%〜80%、中でも40%〜70%の範囲内形成されていることが好ましい。これにより、光触媒含有層と他の層との密着性をより向上させることが可能となるからである。   Further, at this time, the photocatalyst-containing layer has the above-described surface fine voids having a pore diameter at a position of 30 nm from a line connecting the convex portions of the adjacent photocatalyst-containing layer surfaces within a range of 10 nm to 30 nm, especially 15 nm to 20 nm. It is preferable to have a hole. The pore diameter can also be obtained from a photograph taken with an electron microscope, as in the case of measuring the depth of the surface fine pores. Moreover, it is preferable that the surface fine void | hole which has the said hole diameter is formed within the range of 30% -80% in all the surface fine void | holes, especially 40% -70%. This is because the adhesion between the photocatalyst-containing layer and other layers can be further improved.

ここで上記光触媒含有層には、オルガノポリシロキサンが含有されていることから、エネルギー照射された際に、光触媒の作用によって表面の液体との接触角を低下させることができ、エネルギー照射された領域を親液性領域、エネルギー照射されていない領域を撥液性領域とすることができる。   Here, since the photocatalyst-containing layer contains organopolysiloxane, the contact angle with the liquid on the surface can be reduced by the action of the photocatalyst when irradiated with energy, and the region irradiated with energy. Can be defined as a lyophilic region, and a region not irradiated with energy as a lyophobic region.

本発明においては、エネルギー照射されていない部分、すなわち撥液性領域においては、40mN/mの液体との接触角が、10°以上、中でも表面張力30mN/mの液体との接触角が10°以上、特に表面張力20mN/mの液体との接触角が10°以上であることが好ましい。これは、エネルギー照射されていない部分が、撥液性が要求される部分であることから、上記液体との接触角が小さい場合は、撥液性が十分でなく、例えば後述する着色層を形成する着色層形成用塗工液をインクジェット方式等により塗布し、硬化させて形成する場合等に、撥液性領域にも着色層形成用塗工液が付着する可能性があることから、高精細に着色層を形成することが困難となるからである。   In the present invention, the contact angle with a liquid having a surface tension of 30 mN / m is 10 ° or more in a contact angle with a liquid with a surface tension of 30 mN / m in a portion not irradiated with energy, that is, a liquid repellent region. In particular, the contact angle with a liquid having a surface tension of 20 mN / m is preferably 10 ° or more. This is because the part that is not irradiated with energy is a part that requires liquid repellency, so when the contact angle with the liquid is small, the liquid repellency is not sufficient. For example, a colored layer described later is formed. When the colored layer forming coating liquid is applied by an inkjet method and cured, the colored layer forming coating liquid may adhere to the liquid-repellent region. This is because it becomes difficult to form a colored layer.

また、上記光触媒含有層は、エネルギー照射された部分、すなわち親液性領域においては、40mN/mの液体との接触角が9°未満、好ましくは表面張力50mN/mの液体との接触角が10°以下、特に表面張力60mN/mの液体との接触角が10°以下となるような層であることが好ましい。エネルギー照射された部分、すなわち親液性領域における液体との接触角が高い場合は、例えば着色層を形成する着色層形成用塗工液を、親液性領域においてもはじいてしまう可能性があり、例えばインクジェット法により着色層形成用塗工液を塗布した際に、着色層形成用塗工液が十分に塗れ広がらず、着色層を形成することが難しくなる可能性があるからである。   The photocatalyst-containing layer has a contact angle with a liquid of 40 mN / m of less than 9 °, preferably a liquid with a surface tension of 50 mN / m, in a portion irradiated with energy, that is, a lyophilic region. The layer is preferably such that the contact angle with a liquid having a surface tension of 10 ° or less, particularly 60 mN / m, is 10 ° or less. When the contact angle with the liquid in the energy irradiated part, that is, the lyophilic region is high, for example, the colored layer forming coating liquid for forming the colored layer may be repelled in the lyophilic region. This is because, for example, when the coating liquid for forming a colored layer is applied by an inkjet method, the coating liquid for forming a colored layer is not sufficiently spread and spread, and it may be difficult to form a colored layer.

なお、ここでいう液体との接触角は、種々の表面張力を有する液体との接触角を接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30秒後)し、その結果から、もしくはその結果をグラフにして得たものである。また、この測定に際して、種々の表面張力を有する液体としては、純正化学株式会社製のぬれ指数標準液を用いた。   In addition, the contact angle with the liquid here is measured using a contact angle measuring instrument (Kyowa Interface Science Co., Ltd. CA-Z type) with a liquid having various surface tensions (from the microsyringe to the liquid. 30 seconds after dropping), and the result was obtained or the result was graphed. In this measurement, as a liquid having various surface tensions, a wetting index standard solution manufactured by Pure Chemical Co., Ltd. was used.

本発明に用いられる光触媒含有層は、この光触媒含有層中にフッ素が含有され、さらにこの光触媒含有層表面のフッ素含有量が、光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、上記光触媒の作用によりエネルギー照射前に比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されていてもよく、またエネルギー照射による光触媒の作用により分解され、これにより光触媒含有層上の濡れ性を良好なものとすることができる分解物質を含むように形成されていてもよい。   The photocatalyst-containing layer used in the present invention contains fluorine in the photocatalyst-containing layer, and when the fluorine content on the surface of the photocatalyst-containing layer is irradiated with energy to the photocatalyst-containing layer, The photocatalyst-containing layer may be formed so as to be lower than that before energy irradiation, and is decomposed by the action of the photocatalyst by energy irradiation, thereby improving the wettability on the photocatalyst-containing layer. It may be formed so as to contain a decomposition substance capable of

以下、このような光触媒含有層を構成する、光触媒、オルガノポリシロキサン、およびその他の成分について説明する。   Hereinafter, the photocatalyst, organopolysiloxane, and other components constituting such a photocatalyst-containing layer will be described.

a.光触媒
まず、本発明に用いられる光触媒について説明する。本発明に用いられる光触媒としては、光半導体として知られる例えば二酸化チタン(TiO)、酸化亜鉛(ZnO)、酸化スズ(SnO)、チタン酸ストロンチウム(SrTiO)、酸化タングステン(WO)、酸化ビスマス(Bi)、および酸化鉄(Fe)を挙げることができ、これらから選択して1種または2種以上を混合して用いることができる。
a. Photocatalyst First, the photocatalyst used in the present invention will be described. Examples of the photocatalyst used in the present invention include titanium dioxide (TiO 2 ), zinc oxide (ZnO), tin oxide (SnO 2 ), strontium titanate (SrTiO 3 ), tungsten oxide (WO 3 ), which are known as photo semiconductors. Bismuth oxide (Bi 2 O 3 ) and iron oxide (Fe 2 O 3 ) can be mentioned, and one or a mixture of two or more selected from these can be used.

本発明においては、特に二酸化チタンが、バンドギャップエネルギーが高く、化学的に安定で毒性もなく、入手も容易であることから好適に使用される。二酸化チタンには、アナターゼ型とルチル型があり本発明ではいずれも使用することができるが、アナターゼ型の二酸化チタンが好ましい。アナターゼ型二酸化チタンは励起波長が380nm以下にある。   In the present invention, titanium dioxide is particularly preferably used because it has a high band gap energy, is chemically stable, has no toxicity, and is easily available. Titanium dioxide includes an anatase type and a rutile type, and both can be used in the present invention, but anatase type titanium dioxide is preferred. Anatase type titanium dioxide has an excitation wavelength of 380 nm or less.

このようなアナターゼ型二酸化チタンとしては、例えば、塩酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(石原産業(株)製STS−02(平均粒径7nm)、石原産業(株)製ST−K01)、硝酸解膠型のアナターゼ型チタニアゾル(日産化学(株)製TA−15(平均粒径12nm))等を挙げることができる。   Examples of such anatase type titanium dioxide include hydrochloric acid peptizer type anatase type titania sol (STS-02 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd. (average particle size 7 nm), ST-K01 manufactured by Ishihara Sangyo Co., Ltd.), nitric acid solution An anatase type titania sol (TA-15 manufactured by Nissan Chemical Co., Ltd. (average particle size 12 nm)) and the like can be mentioned.

また光触媒の粒径は小さいほど光触媒反応が効果的に起こるので好ましく、平均粒径が50nm以下であることが好ましく、20nm以下の光触媒を使用するのが特に好ましい。   The smaller the particle size of the photocatalyst, the more effective the photocatalytic reaction occurs. The average particle size is preferably 50 nm or less, and it is particularly preferable to use a photocatalyst of 20 nm or less.

本発明に用いられる光触媒含有層中の光触媒の含有量は、5〜60重量%、好ましくは20〜40重量%の範囲で設定することができる。また、光触媒含有層の厚みは、0.05〜10μmの範囲内が好ましい。   The content of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer used in the present invention can be set in the range of 5 to 60% by weight, preferably 20 to 40% by weight. The thickness of the photocatalyst containing layer is preferably in the range of 0.05 to 10 μm.

b.オルガノポリシロキサン
次に、本発明に用いられるオルガノポリシロキサンについて説明する。本発明に用いられるオルガノポリシロキサンは、エネルギー照射に伴う光触媒の作用により、光触媒含有層表面の液体との接触角を低下させることが可能なものであれば、特に限定されるものではなく、特に主骨格が上記の光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有するものであって、光触媒の作用により分解されるような有機置換基を有するものが好ましい。具体的には、(1)ゾルゲル反応等によりクロロまたはアルコキシシラン等を加水分解、重縮合して大きな強度を発揮するオルガノポリシロキサン、(2)撥水牲や撥油性に優れた反応性シリコーンを架橋したオルガノポリシロキサン等を挙げることができる。
b. Organopolysiloxane Next, the organopolysiloxane used in the present invention will be described. The organopolysiloxane used in the present invention is not particularly limited as long as it can reduce the contact angle with the liquid on the surface of the photocatalyst containing layer by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation, and is not particularly limited. It is preferable that the main skeleton has a high binding energy such that it is not decomposed by photoexcitation of the photocatalyst, and has an organic substituent that is decomposed by the action of the photocatalyst. Specifically, (1) an organopolysiloxane that exerts a high strength by hydrolyzing and polycondensing chloro or alkoxysilane by sol-gel reaction or the like, and (2) a reactive silicone excellent in water repellency and oil repellency. Cross-linked organopolysiloxanes can be mentioned.

上記の(1)の場合、一般式:
SiX(4−n)
(ここで、Yはアルキル基、フルオロアルキル基、ビニル基、アミノ基、フェニル基、クロロアルキル基、イソシアネート基、もしくはエポキシ基、またはこれらを含む有機基であり、Xはアルコキシル基、アセチル基またはハロゲンを示す。nは0〜3までの整数である。)
で示される珪素化合物の1種または2種以上の加水分解縮合物もしくは共加水分解縮合物であるオルガノポリシロキサンであることが好ましい。なお、ここでXで示されるアルコキシ基は、メトキシ基、エトキシ基、プロポキシ基、ブトキシ基であることが好ましい。また、Yで示される有機基全体の炭素数は1〜20の範囲内、中でも5〜10の範囲内であることが好ましい。
In the case of (1) above, the general formula:
Y n SiX (4-n)
(Where Y is an alkyl group, fluoroalkyl group, vinyl group, amino group, phenyl group, chloroalkyl group, isocyanate group, or epoxy group, or an organic group containing these, and X is an alkoxyl group, acetyl group, or Represents halogen, n is an integer from 0 to 3)
It is preferable that it is the organopolysiloxane which is a 1 type, or 2 or more types of hydrolysis condensate or cohydrolysis condensate of the silicon compound shown by these. Here, the alkoxy group represented by X is preferably a methoxy group, an ethoxy group, a propoxy group, or a butoxy group. Moreover, it is preferable that the carbon number of the whole organic group shown by Y exists in the range of 1-20, especially in the range of 5-10.

これにより、上記光触媒含有層を形成した際に、オルガノポリシロキサンを構成するYにより表面を撥液性とすることができ、またエネルギー照射に伴う光触媒の作用により、そのYが分解等されることによって、親液性とすることが可能となるからである。   Thus, when the photocatalyst-containing layer is formed, the surface can be made liquid-repellent by Y constituting the organopolysiloxane, and the Y is decomposed by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. This is because it can be made lyophilic.

また、特に上記オルガノポリシロキサンを構成するYがフルオロアルキル基であるオルガノポリシロキサンを用いた場合には、エネルギー照射前の光触媒含有層を、特に撥液性の高いものとすることができることから、高い撥液性が要求される場合等には、これらのフルオロアルキル基を有するオルガノポリシロキサンを用いることが好ましい。このようなオルガノポリシロキサンとして、具体的には、下記のフルオロアルキルシランの1種または2種以上の加水分解縮合物、共加水分解縮合物が挙げられ、一般にフッ素系シランカップリング剤として知られたものを使用することができる。
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
CF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
(CFCF(CFCHCHSi(OCH
CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CF(C)CSi(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
CF(CFCHCHSiCH(OCH
(CFCF(CFCHCHSiCH(OCH
(CFCF(CFCHCHSi CH(OCH
(CFCF(CFCHCHSi CH(OCH
CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CF(C)CSiCH(OCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFCHCHSi(OCHCH
CF(CFSON(C)CCHSi(OCH
In particular, when an organopolysiloxane in which Y constituting the organopolysiloxane is a fluoroalkyl group is used, the photocatalyst-containing layer before energy irradiation can be made particularly high in liquid repellency. When high liquid repellency is required, it is preferable to use an organopolysiloxane having these fluoroalkyl groups. Specific examples of such organopolysiloxanes include one or more of the following hydroalkyl silanes, co-hydrolysis condensates, and are generally known as fluorine-based silane coupling agents. Can be used.
CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
(CF 3 ) 2 CF (CF 2 ) 4 CH 2 CH 2 Si (OCH 3 ) 3 ;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 6 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 8 CH 2 CH 2 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 3 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 5 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 7 ( C 6 H 4) C 2 H 4 Si (OCH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 4 CH 2 CH 2 SiCH 3 (OCH 3) 2;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 6 CH 2 CH 2 Si CH 3 (OCH 3) 2;
(CF 3) 2 CF (CF 2) 8 CH 2 CH 2 Si CH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 3 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 5 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 7 ( C 6 H 4) C 2 H 4 SiCH 3 (OCH 3) 2;
CF 3 (CF 2) 3 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 5 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 7 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 9 CH 2 CH 2 Si (OCH 2 CH 3) 3;
CF 3 (CF 2) 7 SO 2 N (C 2 H 5) C 2 H 4 CH 2 Si (OCH 3) 3.

また、上記の(2)の反応性シリコーンとしては、下記一般式で表される骨格をもつ化合物を挙げることができる。   Examples of the reactive silicone (2) include compounds having a skeleton represented by the following general formula.

Figure 2005258271
Figure 2005258271

ただし、nは2以上の整数であり、R,Rはそれぞれ炭素数1〜10の置換もしくは非置換のアルキル、アルケニル、アリールあるいはシアノアルキル基であり、モル比で全体の40%以下がビニル、フェニル、ハロゲン化フェニルである。また、R、Rがメチル基のものが表面エネルギーが最も小さくなるので好ましく、モル比でメチル基が60%以上であることが好ましい。また、鎖末端もしくは側鎖には、分子鎖中に少なくとも1個以上の水酸基等の反応性基を有する。 However, n is an integer of 2 or more, R 1, R 2 are each a substituted or unsubstituted alkyl having 1 to 10 carbon atoms, alkenyl, aryl or cyanoalkyl group, the total molar ratio of 40% or less Vinyl, phenyl and phenyl halide. Further, those in which R 1 and R 2 are methyl groups are preferable because the surface energy becomes the smallest, and the methyl groups are preferably 60% or more by molar ratio. In addition, the chain end or side chain has at least one reactive group such as a hydroxyl group in the molecular chain.

上記オルガノポリシロキサンは、光触媒含有層中に、5重量%〜90重量%、中でも30重量%〜60重量%程度含有されることが好ましい。   The organopolysiloxane is preferably contained in the photocatalyst-containing layer in an amount of 5 to 90% by weight, especially about 30 to 60% by weight.

c.その他の物質
また、本発明に用いられる光触媒含有層中には、上記のオルガノポリシロキサンとともに、ジメチルポリシロキサンのような架橋反応をしない安定なオルガノシリコン化合物をバインダに混合してもよい。またさらに、バインダとして、主骨格が上記光触媒の光励起により分解されないような高い結合エネルギーを有する、有機置換基を有しない、もしくは有機置換基を有するポリシロキサンを挙げることができ、具体的にはテトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン等を加水分解、重縮合したものを含有させてもよい。
c. Other Substances In the photocatalyst-containing layer used in the present invention, a stable organosilicon compound that does not undergo a crosslinking reaction, such as dimethylpolysiloxane, may be mixed with a binder together with the organopolysiloxane. Furthermore, examples of the binder include polysiloxanes having a high binding energy that does not cause the main skeleton to be decomposed by photoexcitation of the photocatalyst, or that do not have an organic substituent, or have an organic substituent. You may contain what hydrolyzed and polycondensed methoxysilane, tetraethoxysilane, etc.

またさらに、上記オルガノポリシロキサンの濡れ性を変化させる機能を補助するため等に、エネルギー照射に伴い、分解される分解物質を含有させてもよい。このような分解物質としては、光触媒の作用により分解し、かつ分解されることにより光触媒含有層表面の液体との接触角を低下させる機能を有する界面活性剤を挙げることができる。具体的には、日光ケミカルズ(株)製NIKKOL BL、BC、BO、BBの各シリーズ等の炭化水素系、デュポン社製ZONYL FSN、FSO、旭硝子(株)製サーフロンS−141、145、大日本インキ化学工業(株)製メガファックF−141、144、ネオス(株)製フタージェントF−200、F251、ダイキン工業(株)製ユニダインDS−401、402、スリーエム(株)製フロラードFC−170、176等のフッ素系あるいはシリコーン系の非イオン界面活性剤を挙げることができ、また、カチオン系界面活性剤、アニオン系界面活性剤、両性界面活性剤を用いることもできる。   Furthermore, in order to assist the function of changing the wettability of the organopolysiloxane, a decomposition substance that is decomposed by energy irradiation may be included. Examples of such decomposition substances include surfactants that have the function of decomposing by the action of a photocatalyst and reducing the contact angle with the liquid on the surface of the photocatalyst-containing layer by being decomposed. Specifically, hydrocarbons such as NIKKOL BL, BC, BO, BB series manufactured by Nikko Chemicals Co., Ltd., ZONYL FSN, FSO manufactured by DuPont, Surflon S-141, 145 manufactured by Asahi Glass Co., Ltd., Dainippon Megafac F-141, 144 manufactured by Ink Chemical Industry Co., Ltd., Footgent F-200, F251 manufactured by Neos Co., Ltd., Unidyne DS-401, 402 manufactured by Daikin Industries, Ltd., Fluorard FC-170 manufactured by 3M Co., Ltd. Fluorine-based or silicone-based nonionic surfactants such as 176, and cationic surfactants, anionic surfactants, and amphoteric surfactants can also be used.

また、界面活性剤の他にも、ポリビニルアルコール、不飽和ポリエステル、アクリル樹脂、ポリエチレン、ジアリルフタレート、エチレンプロピレンジエンモノマー、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ポリウレタン、メラミン樹脂、ポリカーボネート、ポリ塩化ビニル、ポリアミド、ポリイミド、スチレンブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ポリプロピレン、ポリブチレン、ポリスチレン、ポリ酢酸ビニル、ナイロン、ポリエステル、ポリブタジエン、ポリベンズイミダゾール、ポリアクリルニトリル、エピクロルヒドリン、ポリサルファイド、ポリイソプレン等のオリゴマー、ポリマー等を挙げることができる。   Besides surfactants, polyvinyl alcohol, unsaturated polyester, acrylic resin, polyethylene, diallyl phthalate, ethylene propylene diene monomer, epoxy resin, phenol resin, polyurethane, melamine resin, polycarbonate, polyvinyl chloride, polyamide, polyimide Styrene butadiene rubber, chloroprene rubber, polypropylene, polybutylene, polystyrene, polyvinyl acetate, nylon, polyester, polybutadiene, polybenzimidazole, polyacrylonitrile, epichlorohydrin, polysulfide, polyisoprene, oligomers, polymers, and the like.

d.フッ素の含有
また、本発明においては、光触媒含有層がフッ素を含有し、さらにこの光触媒含有層表面のフッ素含有量が、光触媒含有層に対しエネルギーを照射した際に、上記光触媒の作用によりエネルギー照射前に比較して低下するように上記光触媒含有層が形成されていることが好ましい。これにより、エネルギーをパターン照射することにより、後述するように容易にフッ素の含有量の少ない部分からなるパターンを形成することができる。ここで、フッ素は極めて低い表面エネルギーを有するものであり、このためフッ素を多く含有する物質の表面は、臨界表面張力がより小さくなる。したがって、フッ素の含有量の多い部分の表面の臨界表面張力に比較してフッ素の含有量の少ない部分の臨界表面張力は大きくなる。これはすなわち、フッ素含有量の少ない部分はフッ素含有量の多い部分に比較して親液性領域となっていることを意味する。よって、周囲の表面に比較してフッ素含有量の少ない部分からなるパターンを形成することは、撥液性域内に親液性領域のパターンを形成することとなる。
d. In addition, in the present invention, when the photocatalyst containing layer contains fluorine, and the fluorine content on the surface of the photocatalyst containing layer is irradiated with energy to the photocatalyst containing layer, the photocatalyst containing layer is irradiated with energy by the action of the photocatalyst. It is preferable that the photocatalyst-containing layer is formed so as to be lower than before. Thereby, the pattern which consists of a part with little content of fluorine can be easily formed by irradiating energy with a pattern so that it may mention later. Here, fluorine has an extremely low surface energy. Therefore, the surface of a substance containing a large amount of fluorine has a smaller critical surface tension. Therefore, the critical surface tension of the portion having a small fluorine content is larger than the critical surface tension of the surface of the portion having a large fluorine content. This means that the portion with a low fluorine content is a lyophilic region compared to the portion with a high fluorine content. Therefore, forming a pattern composed of a portion having a lower fluorine content than the surrounding surface forms a pattern of a lyophilic region in the liquid repellent region.

したがって、このような光触媒含有層を用いた場合は、エネルギーをパターン照射することにより、撥液性領域内に親液性領域のパターンを容易に形成することができるので、例えばインクジェット法等により、着色層形成用塗工液を塗布した場合に、高精細な着色層を形成することが可能となるからである。   Therefore, when such a photocatalyst-containing layer is used, the pattern of the lyophilic region can be easily formed in the liquid-repellent region by irradiating the pattern with energy. This is because a high-definition colored layer can be formed when the colored layer forming coating solution is applied.

上述したような、フッ素を含む光触媒含有層中に含まれるフッ素の含有量としては、エネルギーが照射されて形成されたフッ素含有量が低い親液性領域におけるフッ素含有量が、エネルギー照射されていない部分のフッ素含有量を100とした場合に10以下、好ましくは5以下、特に好ましくは1以下である。   As described above, the fluorine content contained in the photocatalyst containing layer containing fluorine is not irradiated with energy in the lyophilic region having a low fluorine content formed by energy irradiation. When the fluorine content of the part is 100, it is 10 or less, preferably 5 or less, particularly preferably 1 or less.

このような範囲内とすることにより、エネルギー照射部分と未照射部分との親液性に大きな違いを生じさせることができる。したがって、このような光触媒含有層に、例えば着色層形成用塗工液を付着させることにより、フッ素含有量が低下した親液性領域のみに正確に着色層を形成することが可能となり、精度の良いカラーフィルタを得ることができるからである。なお、この低下率は重量を基準としたものである。   By setting it within such a range, it is possible to make a large difference in lyophilicity between the energy-irradiated portion and the unirradiated portion. Therefore, for example, by attaching a coating liquid for forming a colored layer to such a photocatalyst-containing layer, it becomes possible to accurately form a colored layer only in a lyophilic region having a reduced fluorine content. This is because a good color filter can be obtained. This rate of decrease is based on weight.

このような光触媒含有層中のフッ素含有量の測定は、一般的に行われている種々の方法を用いることが可能であり、例えばX線光電子分光法(X-ray Photoelectron Spectroscopy, ESCA(Electron Spectroscopy for Chemical Analysis)とも称される。)、蛍光X線分析法、質量分析法等の定量的に表面のフッ素の量を測定できる方法であれば特に限定されるものではない。   For the measurement of the fluorine content in the photocatalyst-containing layer, various commonly used methods can be used. For example, X-ray photoelectron spectroscopy (ES-ray photoelectron spectroscopy, ESCA) for Chemical Analysis)), and any method that can quantitatively measure the amount of fluorine on the surface, such as X-ray fluorescence analysis and mass spectrometry, is not particularly limited.

また、本発明においては、光触媒として上述したように二酸化チタンが好適に用いられるが、このように二酸化チタンを用いた場合の、光触媒含有層中に含まれるフッ素の含有量としては、X線光電子分光法で分析して定量化すると、チタン(Ti)元素を100とした場合に、フッ素(F)元素が500以上、このましくは800以上、特に好ましくは1200以上となる比率でフッ素(F)元素が光触媒含有層表面に含まれていることが好ましい。   In the present invention, as described above, titanium dioxide is preferably used as the photocatalyst. When titanium dioxide is used in this way, the fluorine content contained in the photocatalyst-containing layer is X-ray photoelectron. When analyzed and quantified by spectroscopy, when the titanium (Ti) element is defined as 100, the fluorine (F) element is in a ratio of 500 or more, preferably 800 or more, particularly preferably 1200 or more. It is preferable that the element is contained on the surface of the photocatalyst containing layer.

フッ素(F)が光触媒含有層にこの程度含まれることにより、光触媒含有層上における臨界表面張力を十分低くすることが可能となることから表面における撥液性を確保でき、これによりエネルギーをパターン照射してフッ素含有量を減少させたパターン部分における表面の親液性領域との濡れ性の差異を大きくすることができ、最終的に得られるカラーフィルタの精度を向上させることができるからである。   Fluorine (F) is included in the photocatalyst-containing layer to such an extent that the critical surface tension on the photocatalyst-containing layer can be sufficiently lowered, so that the liquid repellency on the surface can be secured, thereby irradiating the pattern with energy. This is because the difference in wettability with the lyophilic region on the surface of the pattern portion where the fluorine content is reduced can be increased, and the accuracy of the color filter finally obtained can be improved.

さらに、このようなカラーフィルタにおいては、エネルギーをパターン照射して形成される親液領域におけるフッ素含有量が、チタン(Ti)元素を100とした場合にフッ素(F)元素が50以下、好ましくは20以下、特に好ましくは10以下となる比率で含まれていることが好ましい。   Further, in such a color filter, the fluorine content in the lyophilic region formed by pattern irradiation with energy is 50 or less when the titanium (Ti) element is 100, preferably It is preferably contained in a ratio of 20 or less, particularly preferably 10 or less.

光触媒含有層中のフッ素の含有率をこの程度低減することができれば、カラーフィルタを形成するためには十分な親液性を得ることができ、上記エネルギーが未照射である部分の撥液性との濡れ性の差異により、カラーフィルタを精度良く形成することが可能となり、利用価値の高いカラーフィルタを得ることができる。   If the fluorine content in the photocatalyst-containing layer can be reduced to this extent, sufficient lyophilicity can be obtained for forming a color filter, and the liquid repellency of the portion where the energy is not irradiated can be obtained. Due to the difference in wettability, the color filter can be formed with high accuracy, and a color filter with high utility value can be obtained.

e.光触媒含有層の形成方法
上述したような光触媒含有層の形成方法としては、上記光触媒とオルガノポリシロキサンとを必要に応じて他の添加剤とともに溶剤中に分散して塗布液を調製し、この塗布液を基材上に塗布することにより形成することができる。使用する溶剤としては、エタノール、イソプロパノール等のアルコール系の有機溶剤が好ましい。塗布はスピンコート、スプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の塗布方法により行うことができる。バインダとして紫外線硬化型の成分を含有している場合、紫外線を照射して硬化処理を行うことにより、光触媒含有層を形成することができる。
e. Method for Forming Photocatalyst-Containing Layer As a method for forming the photocatalyst-containing layer as described above, a coating solution is prepared by dispersing the photocatalyst and organopolysiloxane in a solvent together with other additives as necessary. It can form by apply | coating a liquid on a base material. As the solvent to be used, alcohol-based organic solvents such as ethanol and isopropanol are preferable. The application can be performed by a known application method such as spin coating, spray coating, dip coating, roll coating, or bead coating. When an ultraviolet curable component is contained as a binder, the photocatalyst-containing layer can be formed by performing a curing treatment by irradiating ultraviolet rays.

f.光触媒含有層上に濡れ性変化パターンを形成する方法
次に、上記光触媒含有層にエネルギーを照射して、後述する着色層を形成するパターン状に、液体との接触角が低下した濡れ性変化パターンを形成する方法について説明する。本発明においては、上述したように光触媒含有層中のオルガノポリシロキサンがエネルギー照射に伴う光触媒の作用によって液体との接触角が低下する。したがって、例えば図3に示すように、上記光触媒含有層3にフォトマスク5等を用いてエネルギー6を照射することによって(図3(a))、光触媒含有層3上に濡れ性が良好となった濡れ性変化パターン7が形成されるのである(図3(b))。光触媒含有層上に濡れ性変化パターンが形成されていることにより、後述する着色層を形成する着色層形成用塗工液をインクジェット法等によって塗布した際、エネルギーが照射されていない領域にはインクが付着せず、液体との接触角が低下した濡れ性変化パターン7上にのみ、高精細に着色層形成用塗工液を付着させることができ、高精細な着色層を形成することができるのである。
f. Method for forming wettability change pattern on photocatalyst-containing layer Next, the wettability change pattern in which the contact angle with the liquid is lowered into a pattern that forms a colored layer to be described later by irradiating the photocatalyst-containing layer with energy. A method for forming the film will be described. In the present invention, as described above, the contact angle between the organopolysiloxane in the photocatalyst-containing layer and the liquid is lowered by the action of the photocatalyst accompanying energy irradiation. Therefore, for example, as shown in FIG. 3, when the photocatalyst-containing layer 3 is irradiated with energy 6 using a photomask 5 or the like (FIG. 3A), the wettability on the photocatalyst-containing layer 3 becomes good. A wettability change pattern 7 is formed (FIG. 3B). When a wettability change pattern is formed on the photocatalyst-containing layer, when a coloring layer forming coating liquid for forming a colored layer described later is applied by an ink jet method or the like, an ink is not applied to a region not irradiated with energy. The coating liquid for forming the colored layer can be attached with high precision only on the wettability change pattern 7 in which the contact angle with the liquid is reduced and the contact angle with the liquid is reduced, and a high-definition colored layer can be formed. It is.

ここで、上記光触媒含有層に照射されるエネルギーとしては、上記光触媒含有層の液体との接触角を低下させることが可能なエネルギーを照射する方法であれば、その方法は特に限定されるものではない。本発明でいうエネルギー照射(露光)とは、光触媒含有層表面の液体との接触角を低下させることが可能ないかなるエネルギー線の照射をも含む概念であり、可視光の照射に限定されるものではない。   Here, the energy applied to the photocatalyst containing layer is not particularly limited as long as it is a method of irradiating energy capable of reducing the contact angle with the liquid of the photocatalyst containing layer. Absent. The energy irradiation (exposure) in the present invention is a concept including irradiation of any energy beam capable of reducing the contact angle with the liquid on the surface of the photocatalyst containing layer, and is limited to irradiation with visible light. is not.

通常このようなエネルギー照射に用いる光の波長は、400nm以下の範囲、好ましくは150nm〜380nm以下の範囲から設定される。これは、上述したように光触媒含有層に用いられる好ましい光触媒が二酸化チタンであり、この二酸化チタンにより光触媒作用を活性化させるエネルギーとして、上述した波長の光が好ましいからである。   Usually, the wavelength of light used for such energy irradiation is set in a range of 400 nm or less, preferably in a range of 150 nm to 380 nm or less. This is because, as described above, the preferred photocatalyst used in the photocatalyst-containing layer is titanium dioxide, and light having the above-described wavelength is preferable as the energy for activating the photocatalytic action by the titanium dioxide.

このようなエネルギー照射に用いることができる光源としては、水銀ランプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、エキシマランプ、その他種々の光源を挙げることができる。また、上述したような光源を用い、フォトマスクを介したパターン照射により行う方法の他、エキシマ、YAG等のレーザを用いてパターン状に描画照射する方法を用いることも可能である。   Examples of light sources that can be used for such energy irradiation include mercury lamps, metal halide lamps, xenon lamps, excimer lamps, and various other light sources. In addition to the method of performing pattern irradiation using a light mask using a light source as described above, it is also possible to use a method of drawing and irradiating in a pattern using a laser such as excimer or YAG.

なお、エネルギー照射に際してのエネルギーの照射量は、光触媒含有層中の光触媒の作用により光触媒含有層表面の液体との接触角を低下させるのに必要な照射量とする。
この際、光触媒含有層を加熱しながらエネルギー照射することにより、より感度を上昇させることが可能となり、効率的に光触媒含有層表面の液体との接触角を低下させることができる点で好ましい。具体的には30℃〜80℃の範囲内で加熱することが好ましい。
In addition, the irradiation amount of energy at the time of energy irradiation is an irradiation amount necessary to reduce the contact angle with the liquid on the surface of the photocatalyst containing layer by the action of the photocatalyst in the photocatalyst containing layer.
At this time, it is preferable in that the energy can be irradiated while heating the photocatalyst-containing layer, whereby the sensitivity can be further increased and the contact angle with the liquid on the surface of the photocatalyst-containing layer can be efficiently reduced. Specifically, it is preferable to heat within a range of 30 ° C to 80 ° C.

本発明におけるエネルギー照射方向は、後述する基材が透明である場合は、基材側および光触媒含有層側のいずれの方向からフォトマスクを介したパターンエネルギー照射もしくはレーザの描画照射を行っても良い。なお、本発明においては、基材上に後述する遮光部が形成されていることから、基材側からエネルギーを全面に照射した場合には、遮光部が形成された領域上の光触媒含有層の液体との接触角が低下せず、遮光部の開口部のみの濡れ性を良好なものとすることができる。したがって、フォトマスク等の位置合わせ等の工程が必要なく、効率よく上記濡れ性変化パターンを形成することができる、という利点も有する。   In the energy irradiation direction in the present invention, when the substrate to be described later is transparent, pattern energy irradiation or laser drawing irradiation through a photomask may be performed from any direction on the substrate side and the photocatalyst containing layer side. . In the present invention, since the light shielding part described later is formed on the base material, when the entire surface is irradiated with energy from the base material side, the photocatalyst-containing layer on the region where the light shielding part is formed is used. The contact angle with the liquid does not decrease, and the wettability of only the opening portion of the light shielding portion can be improved. Therefore, there is an advantage that the wettability change pattern can be efficiently formed without requiring a step of alignment of a photomask or the like.

一方、基材が不透明な場合は、光触媒含有層側からエネルギー照射を行なう必要がある。   On the other hand, when the substrate is opaque, it is necessary to irradiate energy from the photocatalyst containing layer side.

2.着色層
次に、本発明に用いられる着色層について説明する。本発明に用いられる着色層は、上述した光触媒含有層上に形成されるものであり、本発明においては、上述したように光触媒含有層の液体との接触角が低下した濡れ性変化パターンに沿って形成されたものとすることができる。
2. Next, the colored layer used in the present invention will be described. The colored layer used in the present invention is formed on the above-described photocatalyst-containing layer. In the present invention, as described above, the wettability change pattern in which the contact angle with the liquid of the photocatalyst-containing layer is lowered is used. Can be formed.

このような着色層は、通常、赤(R)、緑(G)、および青(B)の3色で形成される。この着色層における着色パターン形状は、ストライプ型、モザイク型、トライアングル型、4画素配置型等の公知の配列とすることができ、着色面積は任意に設定することができる。
本発明において、この着色層を着色する方法としても特に限定されるものではなく、例えば、公知の塗料をスプレーコート、ディップコート、ロールコート、ビードコート等の公知の方法で塗布する塗布方式や、真空薄膜形式等を挙げることができるが、本発明においては、インクジェット方式により着色されることが好ましい。これにより、上記濡れ性変化パターン上に高精細に着色層を形成することができるからである。
Such a colored layer is usually formed of three colors of red (R), green (G), and blue (B). The colored pattern shape in the colored layer can be a known arrangement such as a stripe type, a mosaic type, a triangle type, or a four-pixel arrangement type, and the colored area can be arbitrarily set.
In the present invention, it is not particularly limited as a method for coloring this colored layer, for example, a coating method in which a known coating is applied by a known method such as spray coating, dip coating, roll coating, bead coating, Although a vacuum thin film form etc. can be mentioned, in this invention, it is preferable to be colored with an inkjet system. This is because a colored layer can be formed with high definition on the wettability change pattern.

ここで、このような着色層を形成するインクジェット方式のインクとしては、大きく水性、油性に分類されるが、本発明においてはいずれのインクであっても用いることができるが、表面張力の関係から水をベースとした水性のインクが好ましい。   Here, the ink of an ink jet system for forming such a colored layer is largely classified into water-based and oil-based, but any ink can be used in the present invention, but from the viewpoint of surface tension. Water-based aqueous inks are preferred.

本発明で用いられる水性インクには、溶媒として、水単独または水及び水溶性有機溶剤の混合溶媒を用いることがきる。一方、油性インクにはヘッドのつまり等を防ぐために高沸点の溶媒をベースとしたものが好ましく用いられる。このようなインクジェット方式のインクに用いられる着色剤は、公知の顔料、染料が広く用いられる。また、分散性、定着性向上のために溶媒に可溶・不溶の樹脂類を含有させることもできる。その他、ノニオン界面活性剤、カチオン界面活性剤、両性界面活性剤などの界面活性剤;防腐剤;防黴剤;pH調整剤;消泡剤;紫外線吸収剤;粘度調整剤:表面張力調整剤などを必要に応じて添加しても良い。   In the water-based ink used in the present invention, water alone or a mixed solvent of water and a water-soluble organic solvent can be used as a solvent. On the other hand, oil-based ink is preferably used based on a solvent having a high boiling point in order to prevent clogging of the head. Known colorants and dyes are widely used as colorants used in such ink jet inks. Further, in order to improve dispersibility and fixability, resins that are soluble or insoluble in a solvent can be contained. Other surfactants such as nonionic surfactants, cationic surfactants and amphoteric surfactants; antiseptics; antifungal agents; pH adjusters; antifoaming agents; UV absorbers; viscosity modifiers: surface tension modifiers, etc. May be added as necessary.

また、通常のインクジェットインクは適性粘度が低いためバインダ樹脂を多く含有できないが、インク中の着色剤粒子を樹脂で包むかたちで造粒させることで着色剤自身に定着能を持たせることができる。このようなインクも本発明においては用いることができる。さらに、所謂ホットメルトインクやUV硬化性インクを用いることもできる。   In addition, ordinary inkjet inks cannot contain a large amount of binder resin due to their low appropriate viscosity, but the colorant itself can be provided with fixing ability by granulating the colorant particles in the ink by wrapping them with resin. Such an ink can also be used in the present invention. Furthermore, so-called hot melt inks and UV curable inks can also be used.

本発明においては、中でも硬化型インクを用いることが好ましく、特に少なくとも紫外線硬化樹脂と、染料もしくは顔料とを含有するUV硬化性インク、または熱硬化樹脂と、染料もしくは顔料とを含有する熱硬化性インクを用いることが好ましい。   In the present invention, it is particularly preferable to use a curable ink, and in particular, a UV curable ink containing at least an ultraviolet curable resin and a dye or pigment, or a thermosetting resin containing a thermosetting resin and a dye or pigment. It is preferable to use ink.

UV硬化性インクを用いることにより、インクジェット方式により着色して着色層を形成後、UVを照射することにより、素早くインクを硬化させることができ、すぐに次の工程に送ることができる。したがって、効率よくカラーフィルタを製造することができる。   By using a UV curable ink, the ink can be colored by an ink jet method to form a colored layer, and then irradiated with UV to quickly cure the ink and immediately send it to the next step. Therefore, a color filter can be manufactured efficiently.

このようなUV硬化性インクは、プレポリマー、モノマー、光開始剤及び着色剤を主成分とするものである。プレポリマーとしては、ポリエステルアクリレート、ポリウレタンアクリレート、エポキシアクリレート、ポリエーテルアクリレート、オリゴアクリレート、アルキドアクリレート、ポリオールアクリレート、シリコンアクリレート等のプレポリマーのいずれかを特に限定することなく用いることができる。
モノマーとしては、スチレン、酢酸ビニル等のビニルモノマー;n−ヘキシルアクリレート、フェノキシエチルアクリレート等の単官能アクリルモノマー;ジエチレングリコールジアクリレート、1,6−ヘキサンジオールジアクリレート、ヒドロキシピペリン酸エステルネオペンチルグリコールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジペンタエリストールヘキサアクリレート等の多官能アクリルモノマーを用いることができる。上記プレポリマー及びモノマーは単独で用いても良いし、2種以上混含しても良い。
Such a UV curable ink is mainly composed of a prepolymer, a monomer, a photoinitiator and a colorant. As the prepolymer, any of prepolymers such as polyester acrylate, polyurethane acrylate, epoxy acrylate, polyether acrylate, oligo acrylate, alkyd acrylate, polyol acrylate, and silicon acrylate can be used without any particular limitation.
Monomers include vinyl monomers such as styrene and vinyl acetate; monofunctional acrylic monomers such as n-hexyl acrylate and phenoxyethyl acrylate; diethylene glycol diacrylate, 1,6-hexanediol diacrylate, hydroxypiperic acid ester neopentyl glycol diacrylate Polyfunctional acrylic monomers such as trimethylolpropane triacrylate and dipentaerystol hexaacrylate can be used. The prepolymer and the monomer may be used alone or in combination of two or more.

光重合開始剤は、イソブチルベンゾインエーテル、イソプロピルベンゾインエーテル、ベンゾインエチルエーテル、ベンゾインメチルエーテル、1−フェニル−l,2−プロパジオン−2−オキシム、2,2−ジメトキシ−2−フェニルアセトフェノン、ベンジル、ヒドロキシシクロヘキシルフェニルケトン、ジエトキシアセトフェノン、2−ヒドロキシ−2−メチル−1−フェニルプロパン−1−オン、ベンゾフェノン、クロロチオキサントン、2−クロロチオキサントン、イソプロピルチオキサントン、2−メチルチオキサントン、塩素置換ベンゾフェノン、ハロゲン置換アルキル−アリルケトン等の中から所望の硬化特性が得られるものを選択して用いることができる。その他必要に応じて脂肪族アミン、芳香族アミン等の光開始助剤;チオキサンソン等の光鋭感剤等を添加しても良い。   Photopolymerization initiators are isobutyl benzoin ether, isopropyl benzoin ether, benzoin ethyl ether, benzoin methyl ether, 1-phenyl-1,2-propadion-2-oxime, 2,2-dimethoxy-2-phenylacetophenone, benzyl, hydroxy Cyclohexyl phenyl ketone, diethoxyacetophenone, 2-hydroxy-2-methyl-1-phenylpropan-1-one, benzophenone, chlorothioxanthone, 2-chlorothioxanthone, isopropylthioxanthone, 2-methylthioxanthone, chlorine-substituted benzophenone, halogen-substituted alkyl -From the allyl ketone etc., what can obtain a desired hardening characteristic can be selected and used. In addition, photoinitiators such as aliphatic amines and aromatic amines; and photosensitizers such as thioxanthone may be added as necessary.

また、熱硬化性インクとしては、バインダ、及び、2官能または3官能のエポキシ基含有モノマーを少なくとも含有することを特徴とするものである。また、本発明に用いられる熱硬化性インクには、必要に応じて、着色剤、分散剤、硬化促進剤、或いは、その他の添加剤を含有するものであってもよい。ここで、上記熱硬化性インキ組成物に、インクジェット方式に適用するための適切な流動性、吐出性を付与するために、上記の各成分を溶剤(希釈剤)に溶解又は分散させてもよい。また、本発明に用いられる熱硬化性インクは、さらに上記熱硬化性インキ組成物に、上記2官能または3官能のエポキシ基含有モノマーと共に、4官能以上のエポキシ基含有樹脂を組み合わせたものであってもよい。   The thermosetting ink is characterized by containing at least a binder and a bifunctional or trifunctional epoxy group-containing monomer. The thermosetting ink used in the present invention may contain a colorant, a dispersant, a curing accelerator, or other additives as necessary. Here, in order to give the said thermosetting ink composition appropriate fluidity | liquidity for applying to an inkjet system, and discharge property, you may melt | dissolve or disperse | distribute each said component in a solvent (diluent). . The thermosetting ink used in the present invention is a combination of the above thermosetting ink composition and a bifunctional or trifunctional epoxy group-containing monomer and a tetrafunctional or higher functional epoxy group-containing resin. May be.

上記バインダとしては、それ自体は重合反応性のない樹脂、及び、それ自体が重合反応性を有する樹脂のいずれを用いてもよく、また、2種以上のバインダを組み合わせて用いても良い。   As the binder, either a resin having no polymerization reactivity per se or a resin having a polymerization reactivity per se may be used, or two or more binders may be used in combination.

例えば重合反応性のない樹脂をバインダとして用いる場合には、熱硬化性インキ組成物中の2官能または3官能のエポキシ基含有モノマー、その他の熱硬化性成分等が、加熱により重合して硬化する。このような非重合性バインダとしては、例えば、アクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、ポリスチレンマクロモノマー、及びポリメチルメタクリレートマクロモノマーの2種以上からなる共重合体等を用いることができる。   For example, when a resin having no polymerization reactivity is used as a binder, a bifunctional or trifunctional epoxy group-containing monomer in the thermosetting ink composition, other thermosetting components, and the like are polymerized and cured by heating. . Examples of such non-polymerizable binders include acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, styrene, polystyrene macromonomer, and poly Copolymers composed of two or more methyl methacrylate macromonomers can be used.

より具体的には、アクリル酸/ベンジルアクリレート共重合体、アクリル酸/メチルアクリレート/スチレン共重合体、アクリル酸/ベンジルアクリレート/スチレン共重合体、アクリル酸/メチルアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/メチルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、アクリル酸/2−ヒドロキシエチルアクリレート/ベンジルアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/2−ヒドロキシエチルアクリレート/ベンジルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、アクリル酸/メチルメタクリレート/スチレン共重合体、アクリル酸/ベンジルメタクリレート/スチレン共重合体、アクリル酸/メチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/メチルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、アクリル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、アクリル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体等のアクリル酸共重合体類を用いることができる。   More specifically, acrylic acid / benzyl acrylate copolymer, acrylic acid / methyl acrylate / styrene copolymer, acrylic acid / benzyl acrylate / styrene copolymer, acrylic acid / methyl acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, Acrylic acid / methyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / 2-hydroxyethyl Acrylate / benzyl acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / 2-hydroxyethyl acrylate / benzyl acrylate / polymethyl methacrylate macromono -Copolymer, Acrylic acid / Benzyl methacrylate copolymer, Acrylic acid / Methyl methacrylate / Styrene copolymer, Acrylic acid / Benzyl methacrylate / Styrene copolymer, Acrylic acid / Methyl methacrylate / Polystyrene macromonomer copolymer, Acrylic Acid / methyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, acrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / Benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, acrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polymethylmeta It can be used acrylic acid copolymers such as Li rate macromonomer copolymer.

またさらに、メタクリル酸/ベンジルアクリレート共重合体、メタクリル酸/メチルアクリレート/スチレン共重合体、メタクリル酸/ベンジルアクリレート/スチレン共重合体、メタクリル酸/メチルアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/メチルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベンジルアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベンジルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/2−ヒドロキシエチルアクリレート/ベンジルアクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/2−ヒドロキシエチルアクリレート/ベンジルアクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、メタクリル酸/メチルメタクリレート/スチレン共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/スチレン共重合体、メタクリル酸/メチルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/メチルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート/ポリスチレンマクロモノマー共重合体、メタクリル酸/2−ヒドロキシエチルメタクリレート/ベンジルメタクリレート/ポリメチルメタクリレートマクロモノマー共重合体等のメタクリル酸共重合体類等を挙げることができる。   Furthermore, methacrylic acid / benzyl acrylate copolymer, methacrylic acid / methyl acrylate / styrene copolymer, methacrylic acid / benzyl acrylate / styrene copolymer, methacrylic acid / methyl acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / Methyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl acrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2-hydroxyethyl acrylate / benzyl Acrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2-hydroxyethyl acrylate / benzyl acrylate / polymethyl methacrylate Tomacromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / methyl methacrylate / styrene copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, methacrylic acid / methyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer , Methacrylic acid / methyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2-hydroxy Ethyl methacrylate / benzyl methacrylate / polystyrene macromonomer copolymer, methacrylic acid / 2-hydroxyethyl methacrylate / benzine Methacrylate / polymethyl methacrylate macromonomer copolymers methacrylic acid copolymers such as and the like.

上記の非重合性バインダの中でも、特に、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート共重合体、メタクリル酸/ベンジルメタクリレート/スチレン共重合体、ベンジルメタクリレート/スチレン共重合体、ベンジルメタクリレートマクロモノマー/スチレン共重合体、ベンジルメタクリレート/スチレンマクロモノマー共重合体などが好ましい。   Among the above non-polymerizable binders, in particular, methacrylic acid / benzyl methacrylate copolymer, methacrylic acid / benzyl methacrylate / styrene copolymer, benzyl methacrylate / styrene copolymer, benzyl methacrylate macromonomer / styrene copolymer, benzyl A methacrylate / styrene macromonomer copolymer is preferred.

一方、それ自体が重合性を有するバインダとしては、非重合性バインダの分子に、エポキシ基のような熱重合性の官能基を導入してなるオリゴマー又はオリゴマーよりも大分子量のポリマーを用いることができる。重合性バインダの分子は、バインダ同士で重合すると共に、2官能または3官能の多官能モノマー、及びその他の重合性モノマーとも重合して熱硬化する。   On the other hand, as the binder having polymerizability by itself, it is possible to use an oligomer obtained by introducing a thermally polymerizable functional group such as an epoxy group into a non-polymerizable binder molecule or a polymer having a higher molecular weight than an oligomer. it can. The molecules of the polymerizable binder are polymerized between the binders, and also polymerized with a bifunctional or trifunctional polyfunctional monomer and other polymerizable monomers to be thermally cured.

熱重合性のバインダとしては、例えば、アクリル酸グリシジル、メタクリル酸グリシジル、α−エチルアクリル酸グリシジル、α−n−プロピルアクリル酸グリシジル、α−n−ブチルアクリル酸グリシジル、アクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−3,4−エポキシブチル、メタクリル酸−4,5−エポキシペンチル、アクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、メタクリル酸−6,7−エポキシヘプチル、α−エチルアクリル酸−6,7−エポキシヘプチルなどの(メタ)アクリレート類;o−ビニルフェニルグリシジルエーテル、m−ビニルフェニルグリシジルエーテル、p−ビニルフェニルグリシジルエーテル、o−ビニルベンジルグリシジルエーテル、m−ビニルベンジルグリシジルエーテル、p−ビニルベンジルグリシジルエーテルなどのビニルグリシジルエーテル類;2,3−ジグリシジルオキシスチレン、3,4−ジグリシジルオキシスチレン、2,4−ジグリシジルオキシスチレン、3,5−ジグリシジルオキシスチレン、2,6−ジグリシジルオキシスチレン、5−ビニルピロガロールトリグリシジルエーテル、4−ビニルピロガロールトリグリシジルエーテル、ビニルフロログリシノールトリグリシジルエーテル、2,3−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、3,4−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、2,4−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、3,5−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、2,6−ジヒドロキシメチルスチレンジグリシジルエーテル、2,3,4−トリヒドロキシメチルスチレントリグリシジルエーテル、及び、1,3,5−トリヒドロキシメチルスチレントリグリシジルエーテル等のエチレン性不飽和結合とエポキシ基を含有するモノマーの1種または2種以上を重合させた単独重合体または共重合体を用いることができる。   Examples of the heat-polymerizable binder include glycidyl acrylate, glycidyl methacrylate, glycidyl α-ethyl acrylate, glycidyl α-n-propyl acrylate, glycidyl α-n-butyl acrylate, and 3,4-acrylic acid. Epoxybutyl, methacrylic acid-3,4-epoxybutyl, methacrylic acid-4,5-epoxypentyl, acrylic acid-6,7-epoxyheptyl, methacrylic acid-6,7-epoxyheptyl, α-ethylacrylic acid-6 , 7-epoxyheptyl (meth) acrylates; o-vinylphenyl glycidyl ether, m-vinylphenyl glycidyl ether, p-vinylphenyl glycidyl ether, o-vinylbenzyl glycidyl ether, m-vinylbenzyl glycidyl ether, p- Vinyl benzylglyce Vinyl glycidyl ethers such as dil ether; 2,3-diglycidyloxystyrene, 3,4-diglycidyloxystyrene, 2,4-diglycidyloxystyrene, 3,5-diglycidyloxystyrene, 2,6-di Glycidyloxystyrene, 5-vinyl pyrogallol triglycidyl ether, 4-vinyl pyrogallol triglycidyl ether, vinyl phloroglicinol triglycidyl ether, 2,3-dihydroxymethylstyrene diglycidyl ether, 3,4-dihydroxymethylstyrene diglycidyl ether, 2,4-dihydroxymethylstyrene diglycidyl ether, 3,5-dihydroxymethylstyrene diglycidyl ether, 2,6-dihydroxymethylstyrene diglycidyl ether, 2,3,4-trihydride Homopolymers obtained by polymerizing one or more monomers containing an ethylenically unsaturated bond and an epoxy group, such as loxymethylstyrene triglycidyl ether and 1,3,5-trihydroxymethylstyrene triglycidyl ether Alternatively, a copolymer can be used.

また、上記のようなエチレン性不飽和結合とエポキシ基を含有するモノマーの1種または2種以上と、下記のようなエポキシ基を含有しないモノマーを重合させた共重合体も、熱重合性のバインダとして用いることができる。エポキシ基を含有しないモノマーとしては、例えばアクリル酸、メタクリル酸、メチルアクリレート、メチルメタクリレート、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、ベンジルアクリレート、ベンジルメタクリレート、スチレン、ポリスチレンマクロモノマー、及びポリメチルメタクリレートマクロモノマー等が挙げられる。   Further, a copolymer obtained by polymerizing one or more monomers containing an ethylenically unsaturated bond and an epoxy group as described above and a monomer not containing an epoxy group as described below is also thermally polymerizable. It can be used as a binder. Examples of monomers that do not contain an epoxy group include acrylic acid, methacrylic acid, methyl acrylate, methyl methacrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate, benzyl acrylate, benzyl methacrylate, styrene, polystyrene macromonomer, and polymethyl methacrylate. Macromonomer etc. are mentioned.

また、バインダは、熱硬化性インキ組成物の固形分全量に対して、通常、1〜50重量%の割合で配合する。ここで、配合割合を特定するための熱硬化性インキ組成物の固形分とは、溶剤を除く全ての成分を含み、液状の重合性モノマーも固形分に含まれるものとする。   Moreover, a binder is normally mix | blended in the ratio of 1 to 50 weight% with respect to the solid content whole quantity of a thermosetting ink composition. Here, the solid content of the thermosetting ink composition for specifying the blending ratio includes all components except the solvent, and the liquid polymerizable monomer is also included in the solid content.

3.遮光部
次に、本発明に用いられる遮光部について説明する。本発明に用いられる遮光部は、後述する基材上に形成されるものであり、カラーフィルタとした際に、照射されるエネルギーを遮蔽するものであれば、特に限定されるものではない。このような遮光部の形成方法は、必要とするエネルギーに対する遮蔽性等に応じて適宜選択されて用いられる。
3. Next, the light shielding part used in the present invention will be described. The light-shielding part used in the present invention is formed on a base material to be described later, and is not particularly limited as long as it shields the irradiated energy when a color filter is formed. Such a method for forming the light shielding portion is appropriately selected and used depending on the shielding property against the required energy.

例えば、スパッタリング法、真空蒸着法等により厚み1000〜2000Å程度のクロム等の金属薄膜を形成し、この薄膜をパターニングすることにより形成されてもよい。このパターニングの方法としては、スパッタ等の通常のパターニング方法を用いることができる。   For example, it may be formed by forming a metal thin film of chromium or the like having a thickness of about 1000 to 2000 mm by a sputtering method, a vacuum deposition method, or the like, and patterning the thin film. As this patterning method, a normal patterning method such as sputtering can be used.

また、樹脂バインダ中にカーボン微粒子、金属酸化物、無機顔料、有機顔料等の遮光性粒子を含有させた層をパターン状に形成する方法であってもよい。用いられる樹脂バインダとしては、ポリイミド樹脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂、ポリアクリルアミド、ポリビニルアルコール、ゼラチン、カゼイン、セルロース等の樹脂を1種または2種以上混合したものや、感光性樹脂、さらにはO/Wエマルジョン型の樹脂組成物、例えば、反応性シリコーンをエマルジョン化したもの等を用いることができる。このような樹脂製遮光部の厚みとしては、0.5〜10μmの範囲内で設定することができる。このような樹脂製遮光部のパターニングの方法は、フォトリソ法、印刷法等一般的に用いられている方法を用いることができる。   Alternatively, a method may be used in which a layer containing light-shielding particles such as carbon fine particles, metal oxides, inorganic pigments, and organic pigments in a resin binder is formed in a pattern. As the resin binder to be used, polyimide resin, acrylic resin, epoxy resin, polyacrylamide, polyvinyl alcohol, gelatin, casein, cellulose, or a mixture of one or more kinds, photosensitive resin, or O / A W emulsion type resin composition, for example, an emulsion of a reactive silicone can be used. The thickness of such a resin light-shielding portion can be set within a range of 0.5 to 10 μm. As a method for patterning such a resin light shielding portion, a generally used method such as a photolithography method or a printing method can be used.

またさらに本発明においては、遮光部が熱転写法により形成されたものとすることもできる。遮光部を形成する熱転写法とは、通常、透明なフィルム基材の片面に光熱変換層と遮光部転写層を設けた熱転写シートを基材上に配置し、遮光部を形成する領域にエネルギーを照射することによって、遮光部転写層が基材上に転写されて遮光部が形成されることとなるものである。このような熱転写法により形成される遮光部の膜厚としては、通常0.5μm〜10.0μm、特に0.8μm〜5.0μm程度とすることができる。   Furthermore, in the present invention, the light shielding portion may be formed by a thermal transfer method. The thermal transfer method for forming a light-shielding part is usually a thermal transfer sheet having a light-to-heat conversion layer and a light-shielding part transfer layer provided on one side of a transparent film base material, and energy is applied to the area where the light-shielding part is formed. By irradiating, the light shielding part transfer layer is transferred onto the substrate to form the light shielding part. The thickness of the light-shielding portion formed by such a thermal transfer method can usually be about 0.5 μm to 10.0 μm, particularly about 0.8 μm to 5.0 μm.

熱転写法により転写される遮光部は、通常、遮光材料と結着剤により構成されるものであり、遮光性材料としては、カーボンブラック、チタンブラック等の無機粒子等を用いることができる。このような遮光性材料の粒子径としては、0.01μm〜1.0μm、中でも0.03μm〜0.3μmの範囲内であることが好ましい。   The light shielding part transferred by the thermal transfer method is usually composed of a light shielding material and a binder, and inorganic particles such as carbon black and titanium black can be used as the light shielding material. The particle diameter of such a light-shielding material is preferably 0.01 μm to 1.0 μm, and more preferably 0.03 μm to 0.3 μm.

また、結着剤としては、熱可塑性と熱硬化性とを有する樹脂組成とすることが好ましく、熱硬化性官能基を有し、かつ軟化点が50℃〜150℃の範囲内、中でも60℃〜120℃の範囲内である樹脂材料および硬化剤等により構成されることが好ましい。このような材料として具体的には、1分子中にエポキシ基を2個以上有するエポキシ化合物またはエポキシ樹脂とその潜在性硬化剤との組み合わせ等が挙げられる。またエポキシ樹脂の潜在性硬化剤としては、ある一定の温度まではエポキシ基との反応性を有さないが、加熱により活性化温度に達するとエポキシ基との反応性を有する分子構造に変化する硬化剤を用いることができる。具体的には、エポキシ樹脂との反応性を有する酸性または塩基性化合物の中性塩や錯体、ブロック化合物、高融点体、マイクロカプセル封入物が挙げられる。また、上記遮光部中に、上記の材料の他に、離型剤、接着補助剤、酸化防止剤、分散剤等を含有させることもできる。   Further, the binder is preferably a resin composition having thermoplasticity and thermosetting properties, has a thermosetting functional group, and has a softening point in the range of 50 ° C to 150 ° C, particularly 60 ° C. It is preferable to be comprised by the resin material which exists in the range of -120 degreeC, a hardening | curing agent, etc. Specific examples of such a material include a combination of an epoxy compound or epoxy resin having two or more epoxy groups in one molecule and a latent curing agent thereof. As a latent curing agent for epoxy resins, it does not have reactivity with epoxy groups up to a certain temperature, but when it reaches the activation temperature by heating, it changes to a molecular structure with reactivity with epoxy groups. A curing agent can be used. Specific examples include neutral salts and complexes of acidic or basic compounds having reactivity with epoxy resins, block compounds, high melting point bodies, and microcapsules. In addition to the above materials, the light-shielding part may contain a release agent, an adhesion assistant, an antioxidant, a dispersant, and the like.

また、本発明においては、上記光触媒含有層と遮光部との間にプライマー層を形成してもよい。このプライマー層の作用・機能は必ずしも明確なものではないが、プライマー層を形成することにより、光触媒含有層の上記濡れ性変化を阻害する要因となる遮光部および遮光部間に存在する開口部からの不純物、特に、遮光部をパターニングする際に生じる残渣や、不純物の拡散を防止する機能を示すものと考えられる。したがって、プライマー層を形成することにより、高感度で光触媒含有層の液体との接触角を良好なものとすることができ、その結果、高解像度のパターンを得ることが可能となるのである。   In the present invention, a primer layer may be formed between the photocatalyst containing layer and the light shielding part. Although the action and function of this primer layer are not necessarily clear, by forming the primer layer, it becomes a factor that inhibits the above-mentioned wettability change of the photocatalyst-containing layer from the light-shielding part and the opening existing between the light-shielding parts. This is considered to exhibit a function of preventing diffusion of impurities, particularly residues generated when the light shielding portion is patterned, and impurities. Therefore, by forming the primer layer, the contact angle with the liquid of the photocatalyst containing layer can be improved with high sensitivity, and as a result, a high resolution pattern can be obtained.

なお、本発明においてプライマー層は、遮光部のみならず遮光部間に形成された開口部に存在する不純物が光触媒の作用に影響することを防止するものであるので、プライマー層は開口部を含めた遮光部全面にわたって形成されていることが好ましい。   In the present invention, the primer layer prevents the impurities present in the openings formed between the light shielding portions as well as the light shielding portions from affecting the action of the photocatalyst. Therefore, the primer layer includes the openings. It is preferable that it is formed over the entire light shielding portion.

本発明におけるプライマー層は、上記遮光部と上記光触媒含有層とが接触しないようにプライマー層が形成された構造であれば特に限定されるものではない。   The primer layer in the present invention is not particularly limited as long as the primer layer is formed so that the light-shielding portion and the photocatalyst-containing layer are not in contact with each other.

このプライマー層を構成する材料としては、特に限定されるものではないが、光触媒の作用により分解されにくい無機材料が好ましい。具体的には無定形シリカを挙げることができる。このような無定形シリカを用いる場合には、この無定形シリカの前駆体は、一般式SiXで示され、Xはハロゲン、メトキシ基、エトキシ基、またはアセチル基等であるケイ素化合物であり、それらの加水分解物であるシラノール、または平均分子量3000以下のポリシロキサンが好ましい。 The material constituting the primer layer is not particularly limited, but an inorganic material that is not easily decomposed by the action of the photocatalyst is preferable. Specific examples include amorphous silica. When such amorphous silica is used, the precursor of the amorphous silica is represented by the general formula SiX 4 and X is a silicon compound such as halogen, methoxy group, ethoxy group, or acetyl group, Silanol which is a hydrolyzate thereof or polysiloxane having an average molecular weight of 3000 or less is preferable.

また、プライマー層の膜厚は、0.001μmから1μmの範囲内であることが好ましく、特に0.001μmから0.1μmの範囲内であることが好ましい。   The thickness of the primer layer is preferably in the range of 0.001 μm to 1 μm, particularly preferably in the range of 0.001 μm to 0.1 μm.

4.基材
次に、本発明に用いられる基材について説明する。本発明に用いられる基材としては、上記遮光部および光触媒含有層を形成可能なものであれば、特に限定されるものではなく従来よりカラーフィルタに用いられているもの等を用いることができる。具体的には石英ガラス、パイレックス(登録商標)ガラス、合成石英板等の可撓性のない透明なリジット材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可撓性を有する透明なフレキシブル材等を挙げることができる。この中で特にコーニング社製7059ガラスは、熱膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブマトリックス方式によるカラー液晶表示装置用のカラーフィルタに適している。本発明において、基材は通常透明なものを用いるが、反射性の基板や白色に着色した基板でも用いることは可能である。また、基材は、必要に応じてアルカリ溶出防止用やガスバリア性付与その他の目的の表面処理を施したものを用いてもよい。
4). Next, the substrate used in the present invention will be described. As a base material used for this invention, if the said light-shielding part and a photocatalyst content layer can be formed, it will not specifically limit and what was conventionally used for the color filter etc. can be used. Specifically, transparent flexible materials such as quartz glass, Pyrex (registered trademark) glass, and synthetic quartz plates, or flexible flexible materials such as transparent resin films and optical resin plates, etc. Can be mentioned. Among them, Corning 7059 glass is a material having a small coefficient of thermal expansion, excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment, and is an alkali-free glass containing no alkali component in the active matrix. Suitable for color filters for color liquid crystal display devices. In the present invention, a transparent substrate is usually used, but a reflective substrate or a white colored substrate can also be used. Further, the substrate may be subjected to surface treatment for preventing alkali elution, imparting a gas barrier property or other purposes as required.

5.カラーフィルタ
本発明のカラーフィルタは、上記基材と、その基材上に形成された遮光部と、その基材および遮光部を覆うように形成された光触媒含有層と、その光触媒含有層上に形成された着色層とを有するものであれば、特に限定されるものではなく、例えば他に保護層やITO層等が形成されているものであってもよい。
5). Color filter The color filter of the present invention comprises the above-described base material, a light shielding part formed on the base material, a photocatalyst containing layer formed so as to cover the base material and the light shielding part, and the photocatalyst containing layer. If it has the formed colored layer, it will not specifically limit, For example, a protective layer, an ITO layer, etc. may be formed in addition.

なお、本発明は上記実施形態に限定されるものではない。上記実施形態は、例示であり、本発明の特許請求の範囲に記載された技術的思想と実質的に同一な構成を有し、同様な作用効果を奏するものは、いかなるものであっても本発明の技術的範囲に包含される。   The present invention is not limited to the above embodiment. The above-described embodiment is an exemplification, and the present invention has substantially the same configuration as the technical idea described in the claims of the present invention, and any device that exhibits the same function and effect is the present invention. It is included in the technical scope of the invention.

以下に実施例および比較例を示し、本発明をさらに具体的に説明する。   Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to Examples and Comparative Examples.

[実施例1]
1.遮光層の形成
先ず、厚さ1.1mmのソーダガラス基板上に、下記の組成からなる、遮光材料を塗布した後、100℃で15分間プリベークして遮光材料を乾燥させて成膜した。この際、遮光材料は、スピンコート法により塗布した。スピンコートの条件は、1500rpm/minとした。
・カーボンブラック(黒色顔料) 28.5%
・部分環化ポリイソプレン(ネガ型フォトポリマー) 15.0%
・芳香族ビスアジド(感光剤) 1.5%
・その他添加剤 0.3%
・ポリエチレングリコールモノメチルエーテルアセテート(溶剤) 54.7%
次に、上記のようにして形成した遮光性材料の薄膜に、フォトマスクを介して紫外線を照射して、300mJ/cm2の露光量で露光した後、現像、リンスした。現像には、現像液として、0.1%、NaCO3水溶液を用いた。その後、上記で得られた遮光層を乾燥した後、200℃で10分間ポストベークして膜厚1.2μm線幅30μm、間隔100μmの遮光層を有する基板が得られた。
[Example 1]
1. Formation of light shielding layer First, a soda glass substrate having a thickness of 1.1 mm was coated with a light shielding material having the following composition, and then prebaked at 100 ° C. for 15 minutes to dry the light shielding material to form a film. At this time, the light shielding material was applied by spin coating. The spin coating conditions were 1500 rpm / min.
・ Carbon black (black pigment) 28.5%
-Partially cyclized polyisoprene (negative photopolymer) 15.0%
・ Aromatic bisazide (photosensitive agent) 1.5%
・ Other additives 0.3%
・ Polyethylene glycol monomethyl ether acetate (solvent) 54.7%
Next, the light-shielding material thin film formed as described above was irradiated with ultraviolet rays through a photomask, exposed at an exposure amount of 300 mJ / cm 2 , and then developed and rinsed. For development, a 0.1% NaCO 3 aqueous solution was used as a developer. Thereafter, the light shielding layer obtained above was dried and then post-baked at 200 ° C. for 10 minutes to obtain a substrate having a light shielding layer with a film thickness of 1.2 μm, a line width of 30 μm, and an interval of 100 μm.

2.光触媒含有層の形成
イソプロピルアルコール30gとフルオロアルキルシランとが主成分であるMF−160E(トーケムプロダクツ(株)製)0.5gとトリメトキシメチルシラン(東芝シリコーン(株)製、TSL8113)3.5gと、光触媒である酸化チタン水分散体であるST−K01(石原産業(株)製)21gとを混合し、100℃で20分間撹拌した。これをイソプロピルアルコールにより3.5倍に希釈し光触媒含有層用組成物とした。
上記組成物を予め上記遮光層が形成されたソーダガラス製の透明基板上にスピンコーターにより塗布し、150℃で10分間の乾燥処理を行うことにより、透明な光触媒含有層(厚み0.3μm)を形成した。
この基板を断裁し、断裁部の走査型電子顕微鏡による写真(日立S5000)を観察した結果、光触媒含有層は、主に0.05〜0.2μmの最大直径を有する、オルガノポリシロキサンと酸化チタンとの混合物とからなる微粒子状有機無機混合物で構成され、表面の隣接する凸部を結んだ線からの深さが50〜100nmであり、かつ表面の隣接する凸部を結んだ線から30nmの位置における孔径が10〜30nmの微細空孔が形成されているのが分かった。ここで、表面の隣接する凸部を結んだ線から30nm以上の深さを有する上記微細空孔は、光触媒含有層表面の長さ1μmの範囲に25個形成されていた。また、表面の隣接する凸部を結んだ線から30nm以上の深さを有する微細空孔のうち、上記範囲内の孔径を有するものが、50%含まれていた。
2. Formation of Photocatalyst Containing Layer 0.5 g of MF-160E (manufactured by Tochem Products Co., Ltd.) and trimethoxymethylsilane (manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd., TSL8113), whose main components are 30 g of isopropyl alcohol and fluoroalkylsilane 5 g and 21 g of ST-K01 (Ishihara Sangyo Co., Ltd.), which is a titanium oxide aqueous dispersion as a photocatalyst, were mixed and stirred at 100 ° C. for 20 minutes. This was diluted 3.5 times with isopropyl alcohol to obtain a composition for a photocatalyst-containing layer.
A transparent photocatalyst-containing layer (thickness: 0.3 μm) is prepared by applying the composition to a transparent substrate made of soda glass on which the light-shielding layer is formed in advance using a spin coater and performing a drying treatment at 150 ° C. for 10 minutes. Formed.
As a result of cutting this substrate and observing a photograph (Hitachi S5000) of the cutting part by a scanning electron microscope, the photocatalyst-containing layer mainly has a maximum diameter of 0.05 to 0.2 μm. Organopolysiloxane and titanium oxide The depth from the line connecting the adjacent convex portions on the surface is 50 to 100 nm, and 30 nm from the line connecting the adjacent convex portions on the surface. It was found that fine pores having a pore diameter of 10 to 30 nm at the position were formed. Here, 25 fine pores having a depth of 30 nm or more from a line connecting adjacent convex portions on the surface were formed in a range of 1 μm in length on the surface of the photocatalyst containing layer. Further, 50% of fine pores having a depth of 30 nm or more from a line connecting adjacent convex portions on the surface had a pore diameter within the above range.

3.露光による親インク性領域の形成の確認
この光触媒含有層にマスクを介して水銀灯(波長365nm)により70mW/cm2の照度で50秒間パターン露光を行い露光部を形成し、非露光部及び露光部との液体との接触角を測定した。非露光部においては、表面張力30mN/mの液体(純正化学株式会社製、エチレングリコールモノエチルエーテル)との接触角を接触角測定器(協和界面科学(株)製CA−Z型)を用いて測定(マイクロシリンジから液滴を滴下して30秒後)した結果、30度であった。また露光部では、表面張力50mN/mの液体(純正化学株式会社製、ぬれ指数標準液No.50)との接触角を同様にして測定した結果、7度であった。このように、露光部が非露光部と比較して親インク性領域となり、露光部と非露光部との濡れ性の相違によるパターン形成が可能なことが確認された。
3. Confirmation of formation of ink-philic region by exposure This photocatalyst-containing layer is exposed to light through a mask with a mercury lamp (wavelength 365 nm) at an illuminance of 70 mW / cm 2 for 50 seconds to form an exposed portion, and an unexposed portion and an exposed portion The contact angle with the liquid was measured. In the non-exposed area, a contact angle measuring device (CA-Z type manufactured by Kyowa Interface Science Co., Ltd.) is used for the contact angle with a liquid having a surface tension of 30 mN / m (manufactured by Junsei Chemical Co., Ltd., ethylene glycol monoethyl ether). As a result of measurement (30 seconds after dropping a droplet from the microsyringe), it was 30 degrees. In the exposed area, the contact angle with a liquid having a surface tension of 50 mN / m (manufactured by Junsei Co., Ltd., wetting index standard solution No. 50) was measured in the same manner, and as a result, it was 7 degrees. As described above, it was confirmed that the exposed portion becomes an ink-philic region as compared with the non-exposed portion, and it is possible to form a pattern due to the difference in wettability between the exposed portion and the non-exposed portion.

4.画素部の形成
次に、上記光触媒含有層上にフォトマスクを用いて、線幅110μm、間隔20μm(線幅110μmの内、両サイド5μmは遮光層上に形成)の露光(3と同一露光条件)を行い、画素部用露光部を親インキ性とした。次に、RGB用各インクジェット装置を用いて、顔料5重量部、溶剤20重量部、アクリル酸/ベンシルアクリレート共重合体70重量部、2官能エポキシ含有モノマー5重量部を含むRGB各色の熱硬化型ポリエポキシアクリレートインクを、親インク性とした画素部用露光部に付着させ着色し、150℃、30分加熱処理を行い硬化させた。ここで、赤色、緑色、および青色の各インクについて、溶剤としてはポリエチレングリコールモノメチルエチルアセテート、顔料としては、赤色インクについてはC. I. Pigment Red 177、緑色インクについてはC. I. Pigment Green 36、青色インクについてはC. I. Pigment Blue 15+ C. I. Pigment Violet 23をそれぞれ用いた。
これにより、線幅100μm、遮光部30μmのRGBストライプカラーフィルターが得られた。
本カラーフィルターの着色部の密着性を評価するために、テープ剥離強度試験機(TPM-200:CNC社製)において、テープ幅20mm、剥離速度300mm/min、剥離強度200gの条件で剥離試験を行った結果、全く剥離が見られず、良好な光触媒含有層との密着性を示した
4). Next, using a photomask on the photocatalyst-containing layer, exposure (same exposure conditions as 3) with a line width of 110 μm and an interval of 20 μm (of which the side width of 5 μm is formed on the light-shielding layer) ) To make the exposed portion for the pixel portion ink-philic. Next, thermal curing of each color of RGB including 5 parts by weight of a pigment, 20 parts by weight of a solvent, 70 parts by weight of an acrylic acid / benzyl acrylate copolymer, and 5 parts by weight of a bifunctional epoxy-containing monomer is performed using each RGB inkjet device. The type polyepoxyacrylate ink was attached to the exposed portion of the pixel portion which was made ink-philic and colored, and was cured by heat treatment at 150 ° C. for 30 minutes. Here, for each of the red, green, and blue inks, the solvent is polyethylene glycol monomethyl ethyl acetate, the pigment is CI Pigment Red 177 for red ink, CI Pigment Green 36 for green ink, and CI Pigment Green 36 for blue ink Pigment Blue 15+ CI Pigment Violet 23 was used.
As a result, an RGB stripe color filter having a line width of 100 μm and a light shielding portion of 30 μm was obtained.
In order to evaluate the adhesion of the colored portion of the color filter, a peel test was conducted with a tape peel strength tester (TPM-200: manufactured by CNC) under the conditions of a tape width of 20 mm, a peel speed of 300 mm / min, and a peel strength of 200 g. As a result, no peeling was observed and good adhesion with the photocatalyst containing layer was shown.

[実施例2]
光触媒含有層用組成物形成におけるイソプロピルアルコールの希釈倍率を3倍にした以外は実施例1と同様の条件で光触媒含有層を形成した。この基板を断裁し、断裁部の走査型電子顕微鏡による写真(日立S5000)を観察した結果、光触媒含有層は、主に0.05〜0.3μmの最大直径を有する、オルガノポリシロキサンと酸化チタンとの混合物からなる微粒子状有機無機混合物で構成され、、表面の隣接する凸部を結んだ線からの深さが50〜150nmであり、かつ表面の凹凸の隣接する凸部を結んだ線から30nmの位置における孔径が15〜30nmである微細空孔が形成されているのが分かった。ここで、表面の隣接する凸部を結んだ線から30nm以上の深さを有する上記微細空孔は、光触媒含有層表面の長さ1μmの範囲に20個形成されていた。また、表面の隣接する凸部を結んだ線から30nm以上の深さを有する微細空孔のうち、上記範囲内の孔径を有するものが、60%含まれていた。
また、実施例1と同様に光触媒含有層上に着色層を形成し、着色層の剥離試験を行った結果、剥離は見られず、良好な着色層の密着性が得られ、また、光触媒含有層の光感度も実施例1と同等であった。
[Example 2]
A photocatalyst containing layer was formed under the same conditions as in Example 1 except that the dilution ratio of isopropyl alcohol in forming the photocatalyst containing layer composition was tripled. As a result of cutting this substrate and observing a photograph (Hitachi S5000) of the cut portion by a scanning electron microscope, the photocatalyst-containing layer mainly has an organopolysiloxane and titanium oxide having a maximum diameter of 0.05 to 0.3 μm. From a line connecting adjacent convex portions on the surface and having a depth of 50 to 150 nm from a line connecting adjacent convex portions on the surface. It was found that fine pores having a pore diameter of 15 to 30 nm at a position of 30 nm were formed. Here, 20 fine pores having a depth of 30 nm or more from a line connecting adjacent convex portions on the surface were formed in a range of 1 μm in length on the surface of the photocatalyst containing layer. In addition, 60% of fine pores having a depth of 30 nm or more from a line connecting adjacent convex portions on the surface had a pore diameter within the above range.
Moreover, as a result of forming a colored layer on the photocatalyst-containing layer in the same manner as in Example 1 and performing a peel test on the colored layer, no peel was observed, and good adhesion of the colored layer was obtained. The photosensitivity of the layer was also equivalent to Example 1.

[比較例1]
光触媒含有層用組成物形成におけるイソプロピルアルコールの希釈倍率を1.5倍にした以外は実施例1と同様の条件で光触媒含有層を形成した。
この基板を断裁し、断裁部の走査型電子顕微鏡による写真(日立S5000)を観察した結果、光触媒含有層は、膜厚が0.5μmであるのに対し、主に0.4〜0.9μmの最大直径を有する、オルガノポリシロキサンと酸化チタンとの混合物からなる微粒子状有機無機混合物で構成され、微細空孔が形成されているもののその境界部が不明確であった。
また、露光部の表面張力50mN/mの液体(純正化学株式会社製、ぬれ指数標準液No.50)との接触角を同様にして測定した結果、15度であった。
実施例1と同様に光触媒含有層上に着色層を形成した後、同様に着色層の剥離試験を行った結果、部分的に着色層が光触媒含有層から剥離が見られ、良好な着色層の密着性が得られなかった。
[Comparative Example 1]
A photocatalyst containing layer was formed under the same conditions as in Example 1 except that the dilution ratio of isopropyl alcohol in forming the photocatalyst containing layer composition was 1.5 times.
As a result of cutting this substrate and observing a photograph (Hitachi S5000) of the cut portion with a scanning electron microscope, the photocatalyst-containing layer has a thickness of 0.5 μm, whereas it is mainly 0.4 to 0.9 μm. Although it is composed of a fine-grained organic-inorganic mixture composed of a mixture of an organopolysiloxane and titanium oxide having a maximum diameter of 5 mm, fine pores are formed but the boundary portion is unclear.
Further, the contact angle with a liquid having a surface tension of 50 mN / m (made by Pure Chemical Co., Ltd., Wetting Index Standard Solution No. 50) was measured in the same manner, and as a result, it was 15 degrees.
After forming a colored layer on the photocatalyst-containing layer in the same manner as in Example 1, as a result of performing a peel test on the colored layer in the same manner, the colored layer was partially peeled from the photocatalyst-containing layer, and a good colored layer was obtained. Adhesion was not obtained.

[比較例2]
実施例1と同様に光触媒含有層を形成した後、ゴムローラーで100kg/cm3の圧力で10回圧延処理を行った。同様に、断裁部の走査型電子顕微鏡による写真(日立S5000)を観察した結果、光触媒含有層は、膜厚は3μmと変化は見られなかったが、微粒子状有機無機混合物が圧縮され、その境界が不鮮明になった。
この光触媒含有層に、実施例1と同様にエネルギーを照射し、露光部の表面張力50mN/mの液体(純正化学株式会社製、ぬれ指数標準液No.50)との接触角を同様にして測定した結果、20度であった。また上記光触媒含有層上に実施例1と同様に着色層を形成した後、実施例1と同様に着色層の剥離試験を行った結果、部分的に着色層が光触媒含有層から剥離が見られ、良好な着色層の密着性が得られなかった。
[Comparative Example 2]
After forming the photocatalyst-containing layer in the same manner as in Example 1, rolling was performed 10 times with a rubber roller at a pressure of 100 kg / cm 3 . Similarly, as a result of observing a photograph (Hitachi S5000) of the cutting part with a scanning electron microscope, the photocatalyst-containing layer did not change with a film thickness of 3 μm, but the particulate organic-inorganic mixture was compressed and its boundary Became unclear.
The photocatalyst-containing layer was irradiated with energy in the same manner as in Example 1, and the contact angle with a liquid having a surface tension of 50 mN / m (made by Junsei Chemical Co., Ltd., wetting index standard solution No. 50) was similarly set. As a result of measurement, it was 20 degrees. In addition, after forming a colored layer on the photocatalyst-containing layer in the same manner as in Example 1, a colored layer peeling test was performed in the same manner as in Example 1. As a result, the colored layer was partially detached from the photocatalyst-containing layer. Good adhesion of the colored layer was not obtained.

本発明のカラーフィルタの一例を示す概略断面図である。It is a schematic sectional drawing which shows an example of the color filter of this invention. 本発明に用いられる光触媒含有層を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the photocatalyst content layer used for this invention. 本発明に用いられる光触媒含有層の液体との接触角を低下させる工程を示した説明図である。It is explanatory drawing which showed the process of reducing the contact angle with the liquid of the photocatalyst content layer used for this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1…基材
2…遮光部
3…光触媒含有層
4…着色層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Base material 2 ... Light-shielding part 3 ... Photocatalyst containing layer 4 ... Colored layer

Claims (6)

基材と、前記基材上に形成された遮光部と、前記基材および前記遮光部を覆うように形成され、光触媒およびオルガノポリシロキサンを含有する光触媒含有層と、前記光触媒含有層上に形成された着色層とを有するカラーフィルタであって、
前記光触媒含有層が微細空孔と、微粒子状有機無機複合材料とを有することを特徴とするカラーフィルタ。
A base material, a light-shielding part formed on the base material, a photocatalyst-containing layer containing a photocatalyst and an organopolysiloxane formed so as to cover the base material and the light-shielding part, and formed on the photocatalyst-containing layer A color filter having a colored layer,
The color filter, wherein the photocatalyst-containing layer has fine pores and a particulate organic-inorganic composite material.
前記微粒子状有機無機複合材料の最大長径が0.03μm〜0.3μmの範囲内のものを含むことを特徴とする請求項1に記載のカラーフィルタ。   2. The color filter according to claim 1, wherein the particulate organic-inorganic composite material includes one having a maximum major axis in the range of 0.03 μm to 0.3 μm. 前記光触媒含有層が、前記光触媒含有層表面の隣接する凸部を結んだ線から30nm以上の深さを有する表面微細空孔を有することを特徴とする請求項1または請求項2に記載のカラーフィルタ。   3. The color according to claim 1, wherein the photocatalyst-containing layer has surface fine pores having a depth of 30 nm or more from a line connecting adjacent convex portions on the surface of the photocatalyst-containing layer. filter. 前記光触媒含有層が、前記光触媒含有層表面の隣接する凸部を結んだ線から30nmの深さにおける孔径が10nm〜30nmの範囲内である前記表面微細空孔を有することを特徴とする請求項3に記載のカラーフィルタ。   The photocatalyst-containing layer has the surface fine pores having a pore diameter in a range of 10 nm to 30 nm at a depth of 30 nm from a line connecting adjacent convex portions on the surface of the photocatalyst containing layer. The color filter according to 3. 前記着色層が、少なくとも熱硬化性樹脂と、染料もしくは顔料とを有することを特徴とする請求項1から請求項4に記載のカラーフィルタ。   The color filter according to claim 1, wherein the colored layer includes at least a thermosetting resin and a dye or a pigment. 前記着色層が、少なくとも紫外線硬化性樹脂と、染料もしくは顔料とを有することを特徴とする請求項1から請求項4に記載のカラーフィルタ。
The color filter according to claim 1, wherein the colored layer includes at least an ultraviolet curable resin and a dye or a pigment.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN103135353A (en) * 2011-12-05 2013-06-05 奇美实业股份有限公司 Resin composition, liquid crystal display device, color filter and method for manufacturing the same

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