JP2005256150A - メッキ処理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】電流密度の違いに伴う膜圧のばらつきを防止することができるとともに、エアーポケットの発生を有効に防止することができる新規なメッキ処理方法を提供する。
【解決手段】少なくとも内側に中空部を備えてなるとともに回転可能に支持することが可能なワーク１にメッキ処理を施すメッキ処理方法であって、上記ワーク１を回転可能に支持するハンガー２を、メッキ浴槽６内に充填された電解液６ａに浸漬させる工程と、上記ハンガー２を水平方向に移動させ、上記ワーク１を上記電解液内において回転させる工程と、を備えてなる。
【選択図】 図３

Description

本発明は、鉄などの金属を素材としたワークの表面にメッキを施す際に使用されるメッキ処理方法に関するものである。

ワークの表面にメッキを施す場合には、例えば、以下に説明するメッキ処理装置を使用しながら、以下の工程を経る方法が採用されている。上記メッキ処理装置には、脱脂槽，第1の洗浄槽，電解脱脂槽，第２の洗浄槽，電解槽，第３の洗浄槽，湯洗槽，水切り槽が連続して配置されてなるとともに、全体としてはループ状に配置されている。そして、このメッキ処理装置では、ワークを支持するハンガーが掛止されたハンガーラックと、このハンガーラックを上記各槽の配置位置に沿って移動させる搬送機構と、この搬送機構により移動させられたハンガーラックを昇降させる昇降機構とを備えている。

以下、こうしたメッキ処理装置によりワークの表面にメッキ処理を施す方法を各工程順に説明する。なお、以下の説明では、ワークの一例として、図４に示すワーク１の表面にメッキ処理する方法を例に挙げて説明する。このワーク１は、ウォーターポンプを構成する部品であり、全体形状が略円筒状に成形されてなるものであって、該ワーク１の外周面を形成する筒状部１ａと、この筒状部１ａの上部を閉塞する閉塞部１ｂと、この閉塞部１ｂに中心から下方に形成された凹部１ｃと、この凹部１ｃの中心に形成され内部は中空となされた管部１ｄとを備えている。そして、上記閉塞部１ｂには、複数の開口１ｅが軸回り方向に穿設されている。また、上記凹部１ｃを形成する底板部１ｆには、複数の開口１ｇが穿設されている。なお、上記管部１ｄは、このワーク１の中心に形成され上端は閉塞されている。

そして、上記ワーク１の表面に、上述したメッキ処理装置によってメッキ処理を施す場合には、先ず、上記脱脂槽の手前において、図５に示すように、上記ワーク１をハンガー２に支持させる。このハンガー２の正面には、正面側に突出した多数の支持部材３が形成され、この支持部材３を上記ワーク１の底板部１ｆに形成された開口１ｇに挿通することにより、該ワーク１を支持させる。そして、このように、多数のワーク１が支持されたハンガー２を、上記搬送機構により脱脂槽上に移動させるとともに、上記昇降機構により、脱脂槽内にワークを浸漬させる。そして、所定時間内における浸漬が終了すると、次いで、上記昇降機構により上記脱脂槽からワーク１を上昇させるとともに、上記搬送機構を介して第１の洗浄槽上に移動させ、該第1の洗浄槽内にワークを浸漬させる。そして、この工程が終了すると、次いで、上記昇降機構及び搬送機構を介して、上記電解脱脂槽にワークを浸漬させ、次には、同様に上記搬送機構及び昇降機構を介して、図６に示すように、上記第２の洗浄槽５０内に充填された洗浄水５０ａによりワーク１を洗浄する。また、この第２の洗浄槽５０内に充填された洗浄水５０ａによる洗浄工程が終了すると、次いで、上記搬送機構を介して、上記電解槽５１上にハンガー２を移動させる。この電解槽５１内には、所定の温度に保たれた電解液５１ａが充填されているとともに図示ないプラス電極とマイナス電極が配置されており、上記昇降機構を介して上記ハンガー２を下降させ、ワーク１を該電解液５１ａ内に所定時間浸漬させることにより、ワーク１の表面に膜が形成される。すなわち、上記電解槽５１内においてメッキ処理を施す。そして、所定時間が経過すると、再び上記昇降機構を介してハンガー２を上昇させ、再び上記搬送機構及び昇降機構を介して、上記第３の洗浄槽５２内に充填された洗浄水５２ａによりワーク１を洗浄する。そして、こうした第３の洗浄槽５２内における洗浄工程が終了すると、上記搬送機構及び昇降機構を介して上記湯洗槽における湯により洗浄し、さらに上記水切り槽において水切りをする。そして、このように水切りされたワーク１は、上記ハンガー２から取り外される。なお、このようにワーク１が取り除かれたハンガー２には、再びメッキ処理が施されていないワーク１を前述した要領で支持させる。

しかしながら、上述した従来のメッキ処理方法では、ワーク１の表面全体に均一な膜圧が形成されず、場合によっては部分的にメッキが施されないことがある。すなわち、ワーク１の表面にメッキ処理を施す上記電解槽５１には、該電解槽５１の中央部位と、壁面或いは角部近傍では電流密度が異なるため、多数のワーク１を上記ハンガー２に支持させた場合には、上記電解槽５１の中央部位に位置するワーク１と該電解槽５１の角部近傍に位置するワーク１とでは、膜圧が異なるものとなり、全てのワーク１の表面に均一にメッキ処理を施すことができない。しかも、図５を参照しながら説明したように、上記メッキ処理方法では、ワーク１は、上記開口１ｇに支持部材３を挿通することにより支持されていることから、該ワーク１の内側にエアーが溜まる。すなわち、従来のメッキ処理方法では、ワーク１にエアーポケットが発生し、該エアーポケットが発生した部位には、メッキが施されない。

そこで、本発明は、上述した従来のメッキ処理方法が有する課題を解決するために提案されたものであって、電流密度の違いに伴う膜圧のばらつきを防止することができるとともに、エアーポケットの発生を有効に防止することができる新規なメッキ処理方法を提供することを目的とするものである。

本発明は、上記目的を達成するために提案されたものであり、第１の発明（請求項１記載の発明）は、少なくとも内側に中空部を備えてなるとともに回転可能に支持することが可能なワークにメッキ処理を施すメッキ処理方法であって、上記ワークを回転可能に支持するハンガーを、メッキ浴槽内に充填された電解液に浸漬させる工程と、上記ハンガーを水平方向に移動させ、上記ワークを上記電解液内において回転させる工程と、を備えてなることを特徴とするものである。

上記第１の発明に係るメッキ処理方法では、電解液に浸漬されたワークが水平方向に移動させられると、該電解液とワークとの抵抗により、該ワークは回転させられる。こうした工程により、ワークは、水平方向に移動させられることから、電流密度が高い又は低い位置に浸漬された状態に留まることがなく、また、該水平移動に伴う回転動作により、内部に溜まったエアーが外部に排出される。

なお、上記ワークは、少なくとも内側に中空部を備えてなるとともに回転可能に支持することが可能な形状をしていれば良く、こうした条件を満たす限りにおいて特に形状が限定されるものではない。また、ハンガーをメッキ浴槽内において水平に移動させる際の速度は、少なくとも、該ワークが回転可能で内部に溜まったエアーが排出できる速度であれば良く、メッキ処理を施すワークの形状により適宜決定されるものである。

また、第２の発明（請求項２記載の発明）は、上記第１の発明において、前記ワークは、円筒部と、この円筒部の一端側を閉塞する閉塞部と、この閉塞部に形成された開口と、上記円筒部の中心から起立してなる管部とを備え、前記ハンガーには、上記ワークに形成された管部内に挿入され該ワークを回転可能に支持する支持部材が配置されてなることを特徴とするものである。

本発明によれば、メッキ浴槽内の電解液内における電流密度の違いに伴う膜圧のばらつきを防止することができるとともに、エアーポケットの発生を有効に防止することができる。すなわち、この発明によれば、メッキ浴槽内の電解液内に浸漬されたワークが、電流密度の高い部位又は低い部位に浸漬された場合であって、水平移動させられることにより電流密度の違いに影響されることなく均一な膜圧を形成することができ、さらに、こうした水平移動に伴い、ワークが回転することから、ワークの内部に溜まったエアーを排出することができるため、エアーポケットによる悪影響を有効に防止することができる。

以下、本発明を実施するための最良の形態を、図面を参照しながら詳細に説明する。

この実施の形態に係るメッキ処理方法は、図１に示すように、ワーク１をハンガー２に配置された支持部材３に対し回転可能に支持させ、図２に示すように、電解液４ａが充填されたメッキ浴槽である電解槽４内に該ワーク１を浸漬した後に、上記ハンガー２を水平方向に移動させるものである。

この実施の形態において表面にメッキ処理を施すワーク１は、先に図３を参照しながら説明したウォーターポンプを構成する部品である。また、上記ハンガー２は、図１に示すように、互いに平行となされた一方及び他方の縦杆部２ａ，２ｂと、それぞれ左端は上記一方の縦杆部２ａの下端と固定されてなり右端は上記他方の縦杆部２ｂと固定されてなる第１乃至第５の水平杆部２ｃ・・・２ｇとをそなえている。そして、上記一方及び他方の縦杆部２ａ，２ｂの上端には、図示しない昇降機構に掛止される掛止部２ｈ，２ｉが形成されている。また、上記第１乃至第５の水平杆部２ｃ・・・２ｇには、それぞれ２つの支持部材５が所定間隔を置いて固定されている。これらの支持部材５は、それぞれ上記第１乃至第５の水平杆部２ｃ・・・２ｇに溶接された固定板部５ａと、この固定板部５ａから水平に突出してなる水平突出部５ｂと、この水平突出部５ｂから鉛直方向に起立してなる起立部５ｃと、から構成されている。

以下、この実施の形態に係るメッキ処理方法に付いて詳細に説明する。先ず、上記ワーク１を、上記各支持部材５に支持させる。すなわち、図２に示すように、上記ワーク１を構成する管部１ｄの下側から上記支持部材５を構成する起立部５ｃを挿入させ、該起立部５ｃの上端を上記管部１ｄの閉塞部１ｈに当接させる。そして、こうした工程が終了すると、先に説明した脱脂槽，第1の洗浄槽，電解脱脂槽，第２の洗浄槽による各工程を経て、図３に示すように、電解槽６上にハンガー２を移動させる。この電解槽２内には、所定の温度に保たれた電解液６ａが充填されているとともに図示ないプラス電極とマイナス電極が配置されている。また、この電解槽６は、少なくとも上記ハンガー２の幅よりも長尺な長さを有するものであり、所定の膜圧がワーク１の表面に形成されるために必要な時間内ハンガー２が移動可能な長さとされている。そして、この電解槽６上に位置するはハンガー２を図示しない昇降機構により下降させ、該ハンガー２の各支持部材５に支持されたワーク１を上記電解液６ａ内に浸漬させる。そしてさらに、図示しない搬送機構を駆動させ、上記電解液６ａ内に浸漬されたワーク１を水平移動させる。なお、最も下流側に搬送されてきたハンガー２を下降させた場合には、次いで、それまで電解液６ａ内に浸漬されていた最も下流側のハンガー２を、上記昇降機構を介して上昇させておき、この最も下流側のハンガー２上昇させる工程が終了した後に、既に電解液６ａ内に浸漬されているハンガー２全体を下流側に水平移動させ、こうした水平移動が終了した後に、下流側に位置する次ぎのハンガー２を電解液６ａ内に浸漬させる。こうように、この実施の形態では、複数（６つ）のハンガー２が電解槽６内に浸漬された状態で順次水平移動するように構成されている。なお、このように、ハンガー２が電解液６ａ内に浸漬された状態で水平移動させられることにより、電流密度が高い又は低い位置に浸漬されたワーク１は、その位置から離されるとともに、電解液６ａの抵抗により、上記支持部材５を構成する起立部５ｃに支持されたワーク１は回転する。この結果、ワーク１に溜まっていたエアーは外部排出される。したがって、上記ワーク１には、均一な膜圧でメッキ処理がなされる。

なお、上記電解槽６から上昇させられたハンガー２は、図示しない搬送機構により、さらに下流側に搬送され、洗浄等の工程に移行する。

上述した実施の形態に係るメッキ処理方法からも明らかなように、このメッキ処理方法では、ワーク１を回転可能に支持するハンガー２を電解液６ａ内に浸漬した状態で水平方向に移動させ、上記ワーク１を上記電解液６ａ内において回転させる工程を採用したことから、メッキ浴槽である電解槽６内の電解液６ａ内における電流密度の違いに伴う膜圧のばらつきを防止することができるとともに、エアーポケットの発生を有効に防止することができ、エアーポケットによる悪影響を有効に防止することができる。

なお、上記実施の形態に係るメッキ処理方法では、電解液６ａが充填された電解槽６内に複数のハンガー２を浸漬させ、下流側に水平移動されたハンガー２を上昇させるとともに、こうした動作に対応して上流側のハンガー２を新たに浸漬させながら順次所定時間メッキ処理を行う方法を採用したが、一つのハンガー２を下流側から電解液６ａ内に浸漬させ、そのまま該電解液６ａ内に浸漬されたハンガー２を水平移動させ、下流側において上昇させた後に、次ぎのハンガー２を電解液６ａ内に浸漬させる方法を採用しても良い。

ハンガーと、このハンガーにワークが支持された状態を示す斜視図である。 ワークがハンガーに形成された支持部材に回動可能に支持されている状態を示す断面図である。 ワークが電解液に浸漬され水平移動させられる構成を模式的に示す模式図である。 ワークを示す斜視図である。 従来のワークの支持状態を示す断面図である。 従来のメッキ処理方法を模式的に示す模式図である。

符号の説明

１ ワーク
２ ハンガー
５ 支持部材
６ 電解槽
６ａ 電解液

Claims (2)

1. 少なくとも内側に中空部を備えてなるとともに回転可能に支持することが可能なワークにメッキ処理を施すメッキ処理方法であって、
   上記ワークを回転可能に支持するハンガーを、メッキ浴槽内に充填された電解液に浸漬させる工程と、
   上記ハンガーを水平方向に移動させ、上記ワークを上記電解液内において回転させる工程と、
   を備えてなることを特徴とするメッキ処理方法。
2. 前記ワークは、円筒部と、この円筒部の一端側を閉塞する閉塞部と、この閉塞部に形成された開口と、上記円筒部の中心から起立してなる管部とを備え、前記ハンガーには、上記ワークに形成された管部内に挿入され該ワークを回転可能に支持する支持部材が配置されてなることを特徴とする請求項１記載のメッキ処理方法。