JP2005255992A - ルテニウム錯体及びその用途 - Google Patents
ルテニウム錯体及びその用途 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005255992A JP2005255992A JP2005034623A JP2005034623A JP2005255992A JP 2005255992 A JP2005255992 A JP 2005255992A JP 2005034623 A JP2005034623 A JP 2005034623A JP 2005034623 A JP2005034623 A JP 2005034623A JP 2005255992 A JP2005255992 A JP 2005255992A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- group
- alkyl group
- ruthenium complex
- general formula
- compound
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 0 **1(*2ccccc2-c2cccc*2C1)N Chemical compound **1(*2ccccc2-c2cccc*2C1)N 0.000 description 1
- DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N c1cc(ccc2c3nccc2)c3nc1 Chemical compound c1cc(ccc2c3nccc2)c3nc1 DGEZNRSVGBDHLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N c1ccnc(-c2ncccc2)c1 Chemical compound c1ccnc(-c2ncccc2)c1 ROFVEXUMMXZLPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02E—REDUCTION OF GREENHOUSE GAS [GHG] EMISSIONS, RELATED TO ENERGY GENERATION, TRANSMISSION OR DISTRIBUTION
- Y02E10/00—Energy generation through renewable energy sources
- Y02E10/50—Photovoltaic [PV] energy
- Y02E10/542—Dye sensitized solar cells
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P70/00—Climate change mitigation technologies in the production process for final industrial or consumer products
- Y02P70/50—Manufacturing or production processes characterised by the final manufactured product
Landscapes
- Photovoltaic Devices (AREA)
- Hybrid Cells (AREA)
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Nitrogen Condensed Heterocyclic Rings (AREA)
- Nitrogen And Oxygen Or Sulfur-Condensed Heterocyclic Ring Systems (AREA)
Abstract
【課題】 本発明は、ストークスシフト値が大きな発光特性を有し、蛍光性色素に代わる新しいタイプの燐光発光性色素として好適に使用できる新規ルテニウム錯体を提供することを課題とする。
【解決手段】 本発明のルテニウム錯体は、一般式(I)
(L1 nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。L1は、以下の構造を有する2座配位子を示す。
【化1】
Qは、直鎖もしくは分枝鎖状アルキレン基等を、Aは、水素原子等を、Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。Z−は、ハロゲン化物イオン、PF6 −、BF4 −、ClO4 −、BR3 4 −又はR3SO3 −を示す。R3は、アルキル基等を示す。L2及びL3は、同一又は異なって、以下の構造から選ばれる2座配位子を示す。
【化2】
ここでR1及びR2は前記に同じ。]
で表される。
【選択図】 なし
【解決手段】 本発明のルテニウム錯体は、一般式(I)
(L1 nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。L1は、以下の構造を有する2座配位子を示す。
【化1】
Qは、直鎖もしくは分枝鎖状アルキレン基等を、Aは、水素原子等を、Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。Z−は、ハロゲン化物イオン、PF6 −、BF4 −、ClO4 −、BR3 4 −又はR3SO3 −を示す。R3は、アルキル基等を示す。L2及びL3は、同一又は異なって、以下の構造から選ばれる2座配位子を示す。
【化2】
ここでR1及びR2は前記に同じ。]
で表される。
【選択図】 なし
Description
本発明は、ルテニウム錯体及びその用途に関する。
従来、蛍光性色素は、染料又は顔料として利用されてきたが、エレクトロニクス技術の進歩に伴い、情報記録、表示材料等の様々な分野に使用されつつある。このため、実用的な用途に応じて蛍光性色素に様々な性能が求められている。
一般に、蛍光は、短寿命であり、またストークスシフト値が(光励起のピーク波長と光放射のピーク波長の差)が小さい特性を有している。そのため、蛍光性色素が使用される用途に、制限を受ける場合がある。
本発明は、蛍光性色素に代わる新しいタイプの燐光発光性色素として好適に使用できる新規ルテニウム錯体を提供することを課題とする。
本発明者らは、上記課題を解決すべく鋭意研究を重ねた結果、下記一般式(I)で表されるルテニウム錯体を合成することに成功した。そして、斯かるルテニウム錯体が、ストークスシフト値が大きな発光特性を有し、耐久性に優れた燐光発光性色素として好適に使用できることを見い出した。本発明は、斯かる知見に基づき完成されたものである。
本発明は、下記1〜18に示すルテニウム錯体、色素、顔料ないし染料、色素増感金属酸化物半導体電極及び太陽電池を提供する。
1.一般式(I)
(L1 nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。
(L1 nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。
L1は、以下の構造を有する2座配位子を示す。
ここで、Qは、直鎖もしくは分枝鎖状アルキレン基、C1〜C8アルキル基で置換されていてもよいアリーレン基、又はC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいヘテロアリーレン基を示す。
Aは、水素原子、OR1基、アルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アシル基、エステル基又はNR1R2基を示す。
R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、又はC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。
Z−は、ハロゲン化物イオン、PF6 −、BF4 −、ClO4 −、BR3 4 −又はR3SO3 −を示す。
R3は、アルキル基、水酸基、又はC1〜C8アルキル基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
L2及びL3は、同一又は異なって、以下の構造から選ばれる2座配位子を示す。
ここでR1及びR2は前記に同じ。]
で表されるルテニウム錯体。
で表されるルテニウム錯体。
2.一般式(I)において、QがC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいアリーレン基、AがOR1基(R1はアルキル基)又はアルキル基、Z−がハロゲン化物イオンである上記1に記載のルテニウム錯体。
3.一般式(I)において、Qがアリーレン基、AがOR1基(R1は炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)又は炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、Z−がハロゲン化物イオンである上記1に記載のルテニウム錯体。
4.一般式(I)において、Qがフェニレン基、AがOR1基(R1は炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)又は炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、Z−がハロゲン化物イオンである上記1に記載のルテニウム錯体。
5.一般式(I)において、Qがフェニレン基、AがOR1基(R1は炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)又は炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、Z−が塩素イオンである上記1に記載のルテニウム錯体。
6.一般式(I)において、nが3、mが0、pが0である上記1〜5のいずれかに記載のルテニウム錯体。
7.一般式(I)において、nが2、mが1、pが0である上記1〜5のいずれかに記載のルテニウム錯体。
8.一般式(I)において、nが1、mが2、pが0である上記1〜5のいずれかに記載のルテニウム錯体。
9.一般式(I)において、Xが酸素原子である上記6〜8のいずれかに記載のルテニウム錯体。
10.上記1〜9のいずれかに記載のルテニウム錯体からなる色素。
11.上記1〜9のいずれかに記載のルテニウム錯体を含む顔料ないし染料。
12.本発明は、一般式(I’)
(L1’ nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I’)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。
(L1’ nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I’)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。
L1’は、以下の構造を有する2座配位子を示す。
ここで、Qは、直鎖もしくは分枝鎖状アルキレン基、C1〜C8アルキル基で置換されていてもよいアリーレン基、又はC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいヘテロアリーレン基を示す。
Aは、水素原子、OR1基、アルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アシル基、エステル基又はNR1R2基を示す。
R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、又はC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
X’は、酸素原子、硫黄原子又は−NR1を示す。R1は前記に同じ。
Z−は、ハロゲン化物イオン、PF6 −、BF4 −、ClO4 −、BR3 4 −又はR3SO3 −を示す。
R3は、アルキル基、水酸基、又はC1〜C8アルキル基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
L2及びL3は、同一又は異なって、以下の構造から選ばれる2座配位子を示す。
ここでR1及びR2は前記に同じ。]
で表されるルテニウム錯体を、導電性表面に形成された金属酸化物半導体膜に吸着させてなる色素増感金属酸化物半導体電極。
で表されるルテニウム錯体を、導電性表面に形成された金属酸化物半導体膜に吸着させてなる色素増感金属酸化物半導体電極。
13.一般式(I’)のルテニウム錯体が、QがC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいアリーレン基、AがOR1基(R1はアルキル基)、アルキル基、エステル基又はNR1R2基(R1及びR2は、アルキル基又はフェニル基)、Z−がハロゲン化物イオン又はPF6 −を示すルテニウム錯体である、上記12に記載の電極。
14.一般式(I’)のルテニウム錯体が、Qがアリーレン基、AがOR1基(R1は炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基又はNR1R2基(R1及びR2は、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基又はフェニル基)、Z−がハロゲン化物イオン又はPF6 −を示すルテニウム錯体である、上記12に記載の電極。
15.一般式(I’)のルテニウム錯体が、Qがフェニレン基、AがOR1基(R1は炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基又はNR1R2基(R1及びR2は、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基又はフェニル基)、Z−がハロゲン化物イオン又はPF6 −を示すルテニウム錯体である、上記12に記載の電極。
16.一般式(I’)のルテニウム錯体が、Qがフェニレン基、AがOR1基(R1は炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基又はNR1R2基(R1及びR2は、炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基又はフェニル基)、Z−が塩素イオン又はPF6 −を示すルテニウム錯体である、上記12に記載の電極。
17.一般式(I’)のルテニウム錯体が、nが3、mが0、pが0を示すルテニウム錯体である上記12〜16のいずれかに記載の電極。
18.一般式(I’)のルテニウム錯体が、nが1、mが2、pが0を示すルテニウム錯体である上記12〜16のいずれかに記載の電極。
19.一般式(I’)のルテニウム錯体が、Xが酸素原子又は−NR1(R1は水素原子)を示すルテニウム錯体である上記12〜18のいずれかに記載の電極。
20.上記12〜19のいずれかに記載の電極を備えた太陽電池。
本明細書において、上記一般式(I)及び(I’)に示される各基は、より具体的にはそれぞれ次の通りである。
Qで示される直鎖もしくは分枝鎖状のアルキレン基としては、例えば、炭素数1〜10の直鎖もしくは分枝鎖状アルキレン基を挙げることができる。このような炭素数1〜10の直鎖もしくはは分枝鎖状アルキレン基の具体例として、メチレン、エチレン、プロピレン、ブチレン、ペンチレン、ヘキシレン、オクチレン、デセン等及びこれらの位置異性体等を例示できる。
Qで示されるC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいアリーレン基としては、例えば、C1〜C8アルキル基で置換されていてもよい、炭素数6〜14のアリーレン基を挙げることができる。炭素数6〜14のアリーレン基の具体例として、フェニレン、ナフチレン、アントラセンジイル、ピレンジイル等及びこれらの位置異性体等を例示できる。これらのアリーレン基の炭素原子上に置換するC1〜C8アルキル基は炭素数1〜8の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘキシル等が挙げられる。
Qで示されるヘテロアリーレン基としては、例えば、フランジイル、チオフェンジイル、ピロールジイル、イミダゾールジイル、ピラゾールジイル、ピリジンジイル、ピラジンジイル、ピリミジンジイル、ピリダジンジイル及びそれらの位置異性体等を例示できる。これらのヘテロアリーレン基の炭素原子上にはC1〜C8アルキル基が置換していてもよい。C1〜C8アルキル基は炭素数1〜8の直鎖又は分枝鎖状アルキル基であり、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル等が挙げられる。
Aで示されるOR1基としては、例えば、水酸基、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基)、フェニル環上にC1〜C8アルキル基が置換していてもよいフェノキシ基等が挙げられる。炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルコキシ基の具体例として、メトキシ、エトキシ、n−プロポキシ、イソプロポキシ、n−ブトキシ、イソブトキシ、sec−ブトキシ、tert−ブトキシ、n−ペンチルオキシ、n−ヘキシルオキシ、n−オクチルオキシ、2−エチルヘキシルオキシ、n−デシルオキシ等を例示できる。フェニル環上にC1〜C8アルキル基が置換していてもよいフェノキシ基の具体例として、フェノキシ、メチルフェノキシ、エチルフェノキシ、n−プロピルフェノキシ等を例示できる。C1〜C8アルキル基の置換位置は、オルト位、メタ位及びパラ位のいずれでもよい。
Aで示されるアルキル基としては、例えば、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)を挙げることができる。このような炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基の具体例として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、n−デシル等を例示できる。
Aで示されるハロゲン原子は、弗素原子、塩素原子、臭素原子又は沃素原子である。
Aで示されるアシル基としては、例えば、アセチル、プロピオニル、ベンゾイル等を挙げることができる。
Aで示されるエステル基としては、例えば、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基)を挙げることができる。このような炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルコキシカルボニル基の具体例として、メトキシカルボニル、エトキシカルボニル等を例示できる。
Aで示されるNR1R2基としては、例えば、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基(好ましくは炭素数1〜6の直鎖又は分枝鎖状アルキル基)及び置換基として炭素数1〜8の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を有することのあるフェニルからなる群より選ばれた置換基が1個又は2個置換していてもよいアミノ基を挙げることができる。
炭素数1〜8の直鎖又は分枝鎖状アルキル基としては、例えば、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘキシル等が挙げられる。
置換基として炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を有することのあるフェニルとしては、例えば、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、クメニル、エチルフェニル、n−プロピルフェニル、n−ブチルフェニル、n−ヘキシルフェニル、n−オクチルフェニル等が挙げられる。上記アルキル基の置換位置は、オルト位、メタ位及びパラ位のいずれでもよい。
NR1R2基の具体例としては、例えば、アミノ、メチルアミノ、エチルアミノ、n−プロピルアミノ、イソプロピルアミノ、n−ブチルアミノ、イソブチルアミノ、tert−ブチルアミノ、n−ペンチルアミノ、n−ヘキシルアミノ、ジメチルアミノ、ジエチルアミノ、メチルエチルアミノ、ジ(n−プロピル)アミノ、ジ(イソプロピル)アミノ、ジ(n−ブチル)アミノ、ジ(イソブチル)アミノ、ジ(tert−ブチル)アミノ、ジ(n−ペンチル)アミノ、ジ(n−ヘキシル)アミノ、フェニルアミノ、ジフェニルアミノ、(メチル)(フェニル)アミノ等を例示できる。
Zで示されるハロゲン化物イオンは、F−、Cl−、Br−又はI−である。
R3で示されるアルキル基としては、例えば、炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基を挙げることができる。このような炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基の具体例として、メチル、エチル、n−プロピル、イソプロピル、n−ブチル、イソブチル、sec−ブチル、tert−ブチル、n−ペンチル、ネオペンチル、n−ヘキシル、n−オクチル、2−エチルヘキシル、n−デシル等を例示できる。
R3で示されるC1〜C8アルキル基及びハロゲン原子からなる群より選ばれた少なくとも1種の置換基で置換されていてもよいフェニル基としては、例えば、フェニル環上にハロゲン置換もしくは無置換の炭素数1〜10の直鎖又は分枝鎖状アルキル基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1個(好ましくは1〜3個)の置換基を有し又は有しないフェニル基を挙げることができる。このようなフェニル基の具体例として、フェニル、トリル、キシリル、メシチル、クメニル、エチルフェニル、n−プロピルフェニル、n−ブチルフェニル、n−ヘキシルフェニル、n−オクチルフェニル、トリフルオロメチルフェニル、クロロフェニル、フルオロフェニル等を例示できる。置換基の置換位置は、オルト位、メタ位及びパラ位のいずれでもよい。
一般式(I)で表されるルテニウム錯体のうち、好ましい化合物としては、例えば、一般式(Ia)〜(Ic)で表される化合物を挙げることができる。
[式中、Q、A、X及びZ−は前記に同じ。]
本発明のルテニウム錯体の製造方法を、一般式(Ia)の化合物、即ち、一般式(L1 3Ru)2+・2Z−[L1及びZ−は前記に同じ]で表される化合物の製造方法を例にとり、以下に説明する。
本発明のルテニウム錯体の製造方法を、一般式(Ia)の化合物、即ち、一般式(L1 3Ru)2+・2Z−[L1及びZ−は前記に同じ]で表される化合物の製造方法を例にとり、以下に説明する。
本発明の一般式(Ia)で表されるルテニウム錯体のうち、Z−がハロゲン化物イオン(例えば、Cl−)を示す化合物(以下、「化合物(Ia−1)」という)は、例えば、下記反応式−1に示す方法により製造される。
[式中、Q、A及びXは前記に同じ。]
一般式(2)の化合物と一般式(3)との化合物との反応は、例えばこれらの化合物を適当な溶媒(例えば、エタノール)に溶解し、これを例えば70℃〜溶媒の沸点以下に加熱することにより行われる。一般式(2)の化合物と一般式(3)との化合物との使用割合としては、例えば、前者1モルに対して後者を0.3〜0.5モル程度とするのがよい。
一般式(2)の化合物と一般式(3)との化合物との反応は、例えばこれらの化合物を適当な溶媒(例えば、エタノール)に溶解し、これを例えば70℃〜溶媒の沸点以下に加熱することにより行われる。一般式(2)の化合物と一般式(3)との化合物との使用割合としては、例えば、前者1モルに対して後者を0.3〜0.5モル程度とするのがよい。
本発明の一般式(Ia)で表されるルテニウム錯体のうち、Z−がPF6 −を示す化合物(以下、「化合物(Ia−2)」という)は、例えば、上記反応式−1に示す方法で得られた化合物(Ia−1)から塩交換反応により製造される。また、化合物(Ia−2)から塩交換反応により化合物(Ia−1)を製造できる。
[式中、Q、A及びXは前記に同じ。]
本発明の一般式(Ia)で表されるルテニウム錯体のうち、Z−がBF4 −、ClO4 −、B(R3)4 −又は(R3)SO3 −を示す化合物も、上記反応式−2に示すような塩交換反応を適用することにより化合物(Ia−1)から容易に製造される。
本発明の一般式(Ia)で表されるルテニウム錯体のうち、Z−がBF4 −、ClO4 −、B(R3)4 −又は(R3)SO3 −を示す化合物も、上記反応式−2に示すような塩交換反応を適用することにより化合物(Ia−1)から容易に製造される。
上記反応式−1において、出発原料として使用される化合物(2)のうち、Xが酸素原子を示す化合物(2a)は、例えば、下記反応式−3に示す方法により製造される。
[式中、Q及びAは前記に同じ。Yは、水素原子、水酸基、メルカプト基、ハロゲン原子又はアミノ基を示す。]
上記反応式−3において、出発原料として使用される化合物(4)及び化合物(5)は、入手が容易な公知の化合物である。
上記反応式−3において、出発原料として使用される化合物(4)及び化合物(5)は、入手が容易な公知の化合物である。
化合物(4)と化合物(5)との反応は、例えば、化合物(4)を化合物(5)に溶解し、これを120〜140℃程度に加熱することにより行われる。化合物(5)は、化合物(4)に対して等モル程度使用するのがよい。
反応式−1において、化合物(2)と共に、下記に示す化合物(6)〜化合物(8)を適宜組み合わせた混合物を出発原料として使用することにより、所望の本発明ルテニウム錯体(I)を製造できる。
[上記一般式(8)において、R1及びR2は前記に同じ。]
例えば、一般式(Ib)の化合物は、一般式(2)の化合物と式
例えば、一般式(Ib)の化合物は、一般式(2)の化合物と式
で表される化合物とを反応させることにより製造される。
また、一般式(Ic)の化合物は、一般式(2)の化合物と式
で表される化合物とを反応させることにより製造される。
これらの反応は、前記化合物(2)と化合物(3)との反応に準じて行われる。
X’が−NR1を示し、Z−がハロゲン化物イオン(例えば、Cl−)を示す一般式(I’a)で表されるルテニウム錯体(以下、「化合物(I’a−1)」という)は、例えば、下記反応式−4に示す方法により製造される。
[式中、Q、A及びR1は前記に同じ。]
化合物(9)と化合物(3)との反応は、例えば、前記化合物(2)と化合物(3)との反応と同様の反応条件下に行われる。
化合物(9)と化合物(3)との反応は、例えば、前記化合物(2)と化合物(3)との反応と同様の反応条件下に行われる。
Z−がハロゲン化物イオン以外のイオンを示す化合物は、上記で述べた塩交換反応に従い、化合物(I’a−1)から容易に製造できる。
反応式−4において、出発原料として用いられる化合物(9)は、例えば、下記反応式−5に示す方法により製造される。
[式中、Q及びAは前記に同じ。R1’は水素原子以外のR1を示す。X1はハロゲン原子を示す。]
化合物(10)と化合物(11)との反応は、例えば、酢酸アンモニウムの存在下、酢酸中で70〜90℃程度に加熱することにより行われる。化合物(11)は、化合物(10)に対して等モル程度使用するのがよい。斯くしてR1が水素原子を示す一般式(9)の化合物(化合物(9a))が製造される。
化合物(10)と化合物(11)との反応は、例えば、酢酸アンモニウムの存在下、酢酸中で70〜90℃程度に加熱することにより行われる。化合物(11)は、化合物(10)に対して等モル程度使用するのがよい。斯くしてR1が水素原子を示す一般式(9)の化合物(化合物(9a))が製造される。
R1’が水素原子以外の基を示す一般式(9)の化合物(化合物(9b))は、化合物(9)に化合物(12)を反応させることにより製造される。化合物(9)と化合物(12)との反応には、公知のアルキル化の反応条件を広く適用できる。
反応式−4において、化合物(9)と共に、下記に示す化合物(6)〜化合物(8)を適宜組み合わせた混合物を出発原料として使用することにより、所望の本発明ルテニウム錯体(I’)を製造できる。
上記各反応式において生成する各々の化合物は、この分野で公知の単離及び精製手段に従い、反応混合物から単離され、精製される。このような単離及び精製手段としては、例えば、抽出、濃縮、濾過、カラムクロマトグラフィー等が挙げられる。
色素
本発明のルテニウム錯体は、燐光発光性色素としての好ましい性質を有している。本発明のルテニウム錯体は、ストークスシフト値が大きな発光特性を有し、色変換色素として好適に使用できる。即ち、本発明ルテニウム錯体色素のMLCT(metal to ligand charge transfer)に由来する幅広い吸収帯は、有機EL素子の青色ないし青緑色の発光体と重なっており、燐光は600nmを中心とする赤色発光帯であることから、通常の色変換法で複数の色素を用いて行われている青色ないし青緑色から赤色への変換を、単一の色素で行うことができる。
本発明のルテニウム錯体は、燐光発光性色素としての好ましい性質を有している。本発明のルテニウム錯体は、ストークスシフト値が大きな発光特性を有し、色変換色素として好適に使用できる。即ち、本発明ルテニウム錯体色素のMLCT(metal to ligand charge transfer)に由来する幅広い吸収帯は、有機EL素子の青色ないし青緑色の発光体と重なっており、燐光は600nmを中心とする赤色発光帯であることから、通常の色変換法で複数の色素を用いて行われている青色ないし青緑色から赤色への変換を、単一の色素で行うことができる。
本発明ルテニウム錯体には、配位子に蛍光性複素環化合物が組み込まれている。この配位子の吸収帯に相当する紫外光でルテニウム錯体を励起した場合には、配位子励起によって放出される蛍光(430〜450nm付近)と燐光(600nm付近)の二波長が観測される。これは、蛍光発光帯がMLCT吸収帯と重なることから、配位子励起によって放出される蛍光の一部が再吸収され、燐光へと変換されることによるものと考えられる。この現象を利用すれば、単一の色素で二波長の色変換が可能になる。従って、本発明ルテニウム錯体を色変換色素として使用する際に、一波長変換とするか二波長変換とするかの制御は、励起光を選択することにより行い得る。
本発明ルテニウム錯体は、紫外領域から可視領域に亘る広い領域の光を効率よく吸収できる色素になり得る。また、上記で述べたように、本発明ルテニウム錯体色素の光励起には、幅広いMCLT吸収帯に相当する可視領域の光に加えて、配位子(蛍光性複素環化合物)の吸収帯がある紫外領域の光を有効に使用することができる。このことより、ストークスシフト値の大きい幅広い波長変換が可能となるばかりでなく、目的に応じた各種の蛍光性複素環化合物を配位子として組み込むことにより、波長変換の幅を容易に広げることができる。
従って、本発明は、一般式(I)のルテニウム錯体からなる色素を提供する。
本発明ルテニウム錯体は、有機EL用の色変換色素としての利用に限定されず、波長変換用色素、燐光発光体等として使用できる。より具体的な用途としては、色素レーダー用発光体、農園芸用フィルム用色素、燐光発光材料等を例示できる。
顔料ないし染料
本発明の一般式(I)のルテニウム錯体は、これらを適当な溶剤に分散又は溶解させることにより、顔料又は染料とすることができる。
本発明の一般式(I)のルテニウム錯体は、これらを適当な溶剤に分散又は溶解させることにより、顔料又は染料とすることができる。
溶剤としては、顔料及び染料の分野で使用される公知の溶剤を広く使用できる。
顔料用溶剤としては、具体的には、n−ペンタン、n−ヘキサン、n−ヘプタン等の脂肪族炭化水素系溶剤、ベンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼン等の芳香族炭化水素系溶媒、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン等のケトン系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテル、セロソルブ、エチルカルビノール等のグリコールエーテル系溶剤、プロピレングリコールモノメチルエーテルエチルアセテート、ブチルセルソロブエチルアセテート、ブチルカルビノールエチルアセテート等のアセテート系溶剤を例示できる。染料用溶剤としては、低分子量の通常の有機溶剤、グリコール、グリコールエーテル系溶剤等を例示できる。
顔料及び染料における本発明ルテニウム錯体の含有割合は、特に限定されるものではないが、顔料及び染料中に、通常5〜30重量%程度、好ましくは8〜15重量%程度である。
本発明の顔料ないし染料は、この分野で通常知られている方法に従い製造される。
金属酸化物半導体電極及び太陽電池
本発明の一般式(I’)で表されるルテニウム錯体は、紫外領域から可視領域に亘る広い領域の光を効率よく吸収できる性質を有している。従って、本発明の一般式(I’)で表されるルテニウム錯体は、太陽光のような広い領域の光を効率よく吸収することができ、また、熱及び光に安定であることから、本発明の一般式(I’)で表されるルテニウム錯体を金属酸化物半導体電極表面に吸着した電極を使用することにより、高効率で光電変換し得る太陽電池を提供できる。
本発明の一般式(I’)で表されるルテニウム錯体は、紫外領域から可視領域に亘る広い領域の光を効率よく吸収できる性質を有している。従って、本発明の一般式(I’)で表されるルテニウム錯体は、太陽光のような広い領域の光を効率よく吸収することができ、また、熱及び光に安定であることから、本発明の一般式(I’)で表されるルテニウム錯体を金属酸化物半導体電極表面に吸着した電極を使用することにより、高効率で光電変換し得る太陽電池を提供できる。
例えば、本発明の一般式(I’)で表されるルテニウム錯体を導電性表面(例えば、導電性ガラス表面)に形成した金属酸化物半導体膜(例えば、二酸化チタン多孔質膜)に吸着させて可視光応答性の電極を製造し、該電極と、導電性ガラス表面に白金を蒸着した対電極との間に電解質溶液をはさみ、太陽電池とすることができる。
本発明のルテニウム錯体は、以下に示す優れた特性を備えている。
(1) 本発明のルテニウム錯体は、分子設計で光吸収及び蛍光波長(発光波長)の適正化が図られたものである。
(2) 本発明のルテニウム錯体は、二波長発光(配位子由来発光及びMLCT由来発光)が可能な化合物である。
(3) 本発明のルテニウム錯体は、ストークスシフト値が大きく、耐久性に優れており、燐光発光性色素として使用できる。
(4) 置換基(Q及びA)の種類及び対アニオンの種類を選択することにより溶解性を制御できる。
(5) 本発明のルテニウム錯体は、耐熱性及び耐光性に優れている。
(6) 本発明のルテニウム錯体は、安価で入手容易な化合物から簡易に製造され得る。
(1) 本発明のルテニウム錯体は、分子設計で光吸収及び蛍光波長(発光波長)の適正化が図られたものである。
(2) 本発明のルテニウム錯体は、二波長発光(配位子由来発光及びMLCT由来発光)が可能な化合物である。
(3) 本発明のルテニウム錯体は、ストークスシフト値が大きく、耐久性に優れており、燐光発光性色素として使用できる。
(4) 置換基(Q及びA)の種類及び対アニオンの種類を選択することにより溶解性を制御できる。
(5) 本発明のルテニウム錯体は、耐熱性及び耐光性に優れている。
(6) 本発明のルテニウム錯体は、安価で入手容易な化合物から簡易に製造され得る。
本発明のルテニウム錯体は、例えば、青色ないし青緑色から赤色への色変換効率に優れており、色変換フィルタの製造に好適に使用される。
また、本発明のルテニウム錯体は、色素増感型太陽電池を製造するための色素;有機太陽電池等の光電変換色素;有機エレクトロルミネッセンス、色素レーザー等の発光性色素、農園芸用フィルム用色素、燐光発光材料等として使用できる。
更に詳しく説明すると、本発明のルテニウム錯体は、有機燐光性色素であって、染料、顔料等の着色材料として、また有機電界発光素子の発光材料等として使用できる。
本発明のルテニウム錯体並びにこれらの包接錯体は、有機蛍光性色素として、種々の用途、例えば各種表示機器における蛍光変換膜用、色素レーザ用、調光用、エネルギー変換用、表示用等に用いられる。
上記蛍光変換膜の具体的な用途としては、PDP(プラズマディスプレイ)、ELD(エレクトロルミネッセンスディスプレイ)、LED(発光ダイオード)、VFD(蛍光表示管)等が挙げられる。
以下に参考例及び実施例を掲げて、本発明をより一層明らかにする。尚、以下において「Ph」とあるのはフェニル基を意味する。
参考例1
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OH]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.5g、2.379×10−3モル)、4−ヒドロキシベンズアルデヒド(0.290g、2.379×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.934g、3.806×10−2モル)を酢酸40mlに溶解させ、80℃で6時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、塩化メチレンを加えて、生成物を析出させて濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OH]の黄色粉末結晶0.526g(収率71%)を得た。
融点:271−275℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
6.99(2H,d)、7.75−7.83(2H,m)、8.13(2H,d)、8.91(2H,d)、9.03(2H,d)、9.97(1H,s)
IRスペクトル(KBr):3126、3398cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
312(22700)、325(23700)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:421nm(励起波長325nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OH]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.5g、2.379×10−3モル)、4−ヒドロキシベンズアルデヒド(0.290g、2.379×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.934g、3.806×10−2モル)を酢酸40mlに溶解させ、80℃で6時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、塩化メチレンを加えて、生成物を析出させて濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OH]の黄色粉末結晶0.526g(収率71%)を得た。
融点:271−275℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
6.99(2H,d)、7.75−7.83(2H,m)、8.13(2H,d)、8.91(2H,d)、9.03(2H,d)、9.97(1H,s)
IRスペクトル(KBr):3126、3398cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
312(22700)、325(23700)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:421nm(励起波長325nm)。
参考例2
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=CN]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.4g、1.90×10−3モル)、4−シアノベンズアルデヒド(0.25g、1.90×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.346g、3.04×10−2モル)を酢酸40mlに溶解させ、80℃で6時間反応させた。反応溶液中に析出した生成物を濾取し、濾物を水、次いでジエチルエーテルで洗浄後、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=CN]の黄色粉末結晶0.28g(収率45.6%)を得た。
融点:174−175℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.86(2H,br)、8.09(2H,d)、8.43(2H,d)、8.91(2H,d)、9.05(2H,br)
IRスペクトル(KBr):1611、2225、3397cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
246(21200)、278(21100)、345(20800)、368(17100)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:404nm(励起波長368nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=CN]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.4g、1.90×10−3モル)、4−シアノベンズアルデヒド(0.25g、1.90×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.346g、3.04×10−2モル)を酢酸40mlに溶解させ、80℃で6時間反応させた。反応溶液中に析出した生成物を濾取し、濾物を水、次いでジエチルエーテルで洗浄後、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=CN]の黄色粉末結晶0.28g(収率45.6%)を得た。
融点:174−175℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.86(2H,br)、8.09(2H,d)、8.43(2H,d)、8.91(2H,d)、9.05(2H,br)
IRスペクトル(KBr):1611、2225、3397cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
246(21200)、278(21100)、345(20800)、368(17100)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:404nm(励起波長368nm)。
参考例3
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COOH]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.4g、1.90×10−3モル)、4−カルボキシベンズアルデヒド(0.286g、1.90×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.346g、3.04×10−2モル)を酢酸40mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応溶液中に析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COOH]の黄色粉末結晶0.405g(収率62.5%)を得た。
融点:316−317℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.84−7.87(2H,m)、8.14(2H,d)、8.36−8.38(2H,m)、8.98−9.05(4H,m)
IRスペクトル(KBr):1618、1699、3126、3395cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
226(22800)、279(27100)、325(21600)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:429nm(励起波長325nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COOH]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.4g、1.90×10−3モル)、4−カルボキシベンズアルデヒド(0.286g、1.90×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.346g、3.04×10−2モル)を酢酸40mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応溶液中に析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COOH]の黄色粉末結晶0.405g(収率62.5%)を得た。
融点:316−317℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.84−7.87(2H,m)、8.14(2H,d)、8.36−8.38(2H,m)、8.98−9.05(4H,m)
IRスペクトル(KBr):1618、1699、3126、3395cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
226(22800)、279(27100)、325(21600)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:429nm(励起波長325nm)。
参考例4
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(C2H5)2]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(3.85g、1.832×10−2モル)、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド(3.25g、1.832×10−2モル)及び酢酸アンモニウム(22.6g、2.931×10−1モル)を酢酸300mlに溶解させ、80℃で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(C2H5)2]の黄色結晶6.655g(収率83.8%)を得た。
融点:276−279℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.16(6H,t)、3.42−3.47(4H,m)、6.86(2H,d)、7.81−7.84(2H,m)、8.09(2H,d)、8.91(2H,dd)、9.01(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):2969、3124cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
234(25800)、292(32300)、347(31400)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:452nm(励起波長347nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(C2H5)2]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(3.85g、1.832×10−2モル)、4−ジエチルアミノベンズアルデヒド(3.25g、1.832×10−2モル)及び酢酸アンモニウム(22.6g、2.931×10−1モル)を酢酸300mlに溶解させ、80℃で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(C2H5)2]の黄色結晶6.655g(収率83.8%)を得た。
融点:276−279℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.16(6H,t)、3.42−3.47(4H,m)、6.86(2H,d)、7.81−7.84(2H,m)、8.09(2H,d)、8.91(2H,dd)、9.01(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):2969、3124cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
234(25800)、292(32300)、347(31400)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:452nm(励起波長347nm)。
参考例5
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(Ph)2]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(2.8g、9.515×10−3モル)、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド(2.6g、9.515×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(11.74g、1.522×10−1モル)を酢酸140mlに溶解させ、80℃で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(Ph)2]の黄色結晶3.25g(収率73.7%)を得た。
融点:275−278℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.12−7.16(8H,m)、7.38(4H,t)、7.83(2H,br)、8.17(2H,d)、8.91(2H,dd)、9.03(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):3062cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
234(29800)、289(33500)、363(35300)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:421nm(励起波長363nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(Ph)2]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(2.8g、9.515×10−3モル)、4−ジフェニルアミノベンズアルデヒド(2.6g、9.515×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(11.74g、1.522×10−1モル)を酢酸140mlに溶解させ、80℃で2時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(Ph)2]の黄色結晶3.25g(収率73.7%)を得た。
融点:275−278℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.12−7.16(8H,m)、7.38(4H,t)、7.83(2H,br)、8.17(2H,d)、8.91(2H,dd)、9.03(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):3062cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
234(29800)、289(33500)、363(35300)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:421nm(励起波長363nm)。
参考例6
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.5g、2.379×10−3モル)、4−エトキシベンズアルデヒド(0.357g、2.379×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.934g、3.806×10−2モル)を酢酸50mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の黄色結晶0.577g(収率71.3%)を得た。
融点:340−341℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.39(3H,t)、4.12−4.17(2H,m)、7.17(2H,d)、7.82−7.85(2H,m)、8.24(2H,d)、8.93(2H,dd)、9.03(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):1611、3421cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
312(22700)、325(23700)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:421nm(励起波長325nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.5g、2.379×10−3モル)、4−エトキシベンズアルデヒド(0.357g、2.379×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.934g、3.806×10−2モル)を酢酸50mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の黄色結晶0.577g(収率71.3%)を得た。
融点:340−341℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.39(3H,t)、4.12−4.17(2H,m)、7.17(2H,d)、7.82−7.85(2H,m)、8.24(2H,d)、8.93(2H,dd)、9.03(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):1611、3421cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
312(22700)、325(23700)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:421nm(励起波長325nm)。
参考例7
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(3.0g、1.427×10−2モル)、4−tert−ブチルベンズアルデヒド(2.32g、21.427×10−2モル)及び酢酸アンモニウム(17.6g、2.283×10−1モル)を酢酸200mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の黄色結晶3.006g(収率60%)を得た。
融点:247−250℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.36(9H,s)、7.62(2H,d)、7.81−7.85(2H,m)、8.25(2H,d)、8.96(2H,d)、9.03(2H,d)
IRスペクトル(KBr):2960、3174cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
311(21700)、324(22000)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:414nm(励起波長324nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(3.0g、1.427×10−2モル)、4−tert−ブチルベンズアルデヒド(2.32g、21.427×10−2モル)及び酢酸アンモニウム(17.6g、2.283×10−1モル)を酢酸200mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の黄色結晶3.006g(収率60%)を得た。
融点:247−250℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.36(9H,s)、7.62(2H,d)、7.81−7.85(2H,m)、8.25(2H,d)、8.96(2H,d)、9.03(2H,d)
IRスペクトル(KBr):2960、3174cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
311(21700)、324(22000)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:414nm(励起波長324nm)。
参考例8
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=ピレン,A=H]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.5g、2.379×10−3モル)、ピレンカルバアルデヒド(0.548g、2.379×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.934g、3.806×10−2モル)を酢酸70mlに溶解させ、80℃で6時間反応させた。塩化メチレンを加えて、生成物を析出させて濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=ピレン,A=H]の黄色結晶0.98g(収率98%)を得た。
融点:233−235℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.88−7.91(2H,m)、8.17(1H,t)、8.31−8.33(2H,m)、8.39−8.41(3H,m)、8.53−8.55(1H,m)、8.72(1H,d)、9.05−9.09(4H,m)、9.59(1H,d)
IRスペクトル(KBr):3138cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
234(25800)、292(32300)、347(31400)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:428(励起波長347nm)、451nm(励起波長347nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=ピレン,A=H]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(0.5g、2.379×10−3モル)、ピレンカルバアルデヒド(0.548g、2.379×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(2.934g、3.806×10−2モル)を酢酸70mlに溶解させ、80℃で6時間反応させた。塩化メチレンを加えて、生成物を析出させて濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=ピレン,A=H]の黄色結晶0.98g(収率98%)を得た。
融点:233−235℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.88−7.91(2H,m)、8.17(1H,t)、8.31−8.33(2H,m)、8.39−8.41(3H,m)、8.53−8.55(1H,m)、8.72(1H,d)、9.05−9.09(4H,m)、9.59(1H,d)
IRスペクトル(KBr):3138cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
234(25800)、292(32300)、347(31400)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:428(励起波長347nm)、451nm(励起波長347nm)。
参考例9
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(1.07g、5.09×10−3モル)、4−ホルミル安息香酸n−ブチルエステル(1.05g、5.09×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(6.28g、8.14×10−2モル)を酢酸200mlに溶解させ、80℃で5時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9]の白色結晶1.665g(収率82.0%)を得た。
融点:320−322℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
0.94(3H,t)、1.43−1.46(2H,m)、1.70−1.73(2H,m)、4.29−4.32(2H,m)、7.82−7.85(2H,m)、8.15(2H,d)、8.39(2H,d)、8.92(2H,d)、9.04(2H,d)
IRスペクトル(KBr):1611、2925cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
342(21000)、367(15000)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:404nm(励起波長367nm)。
一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9]の合成
[1,10]フェナントロリン−5,6−ジオン(1.07g、5.09×10−3モル)、4−ホルミル安息香酸n−ブチルエステル(1.05g、5.09×10−3モル)及び酢酸アンモニウム(6.28g、8.14×10−2モル)を酢酸200mlに溶解させ、80℃で5時間反応させた。反応終了後、反応混合物を減圧濃縮し、飽和炭酸ナトリウム水溶液を用いて中和し、塩化メチレンで抽出を行った。塩化メチレン抽出液を水洗した後、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9]の白色結晶1.665g(収率82.0%)を得た。
融点:320−322℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
0.94(3H,t)、1.43−1.46(2H,m)、1.70−1.73(2H,m)、4.29−4.32(2H,m)、7.82−7.85(2H,m)、8.15(2H,d)、8.39(2H,d)、8.92(2H,d)、9.04(2H,d)
IRスペクトル(KBr):1611、2925cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
342(21000)、367(15000)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:404nm(励起波長367nm)。
参考例10
一般式(2a)のオキサゾールフェナントロリン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の合成
5−(メトキシイミノ)[1,10]フェナントロリン−6−オン(1.000g、4.180×10−3モル)を4−エトキシベンジルアルコール(3ml,4.180×10−3モル)に溶解させ、130℃で7時間反応させた。反応溶液をシリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール/酢酸=2/2/1)に付して分離精製することにより、一般式(2a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の白色結晶0.744g(収率51.8%)を得た。
融点:176℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.37(3H,t)、4.11−4.16(2H,m)、7.15(2H,d)、7.85−7.90(2H,m)、8.21(2H,d)、8.74−8.81(2H,dd)、9.11−9.12(2H,m)
IRスペクトル(KBr):1608cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
225(25200)、276(31600)、318(20200)、323(20500)、330(21900)、356(5600)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:402nm(励起波長356nm)。
一般式(2a)のオキサゾールフェナントロリン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の合成
5−(メトキシイミノ)[1,10]フェナントロリン−6−オン(1.000g、4.180×10−3モル)を4−エトキシベンジルアルコール(3ml,4.180×10−3モル)に溶解させ、130℃で7時間反応させた。反応溶液をシリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール/酢酸=2/2/1)に付して分離精製することにより、一般式(2a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5]の白色結晶0.744g(収率51.8%)を得た。
融点:176℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.37(3H,t)、4.11−4.16(2H,m)、7.15(2H,d)、7.85−7.90(2H,m)、8.21(2H,d)、8.74−8.81(2H,dd)、9.11−9.12(2H,m)
IRスペクトル(KBr):1608cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
225(25200)、276(31600)、318(20200)、323(20500)、330(21900)、356(5600)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:402nm(励起波長356nm)。
参考例11
一般式(2a)のオキサゾールフェナントロリン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の合成
5−(メトキシイミノ)[1,10]フェナントロリン−6−オン(3.6g、1.505×10−2モル)を(4−tert−ブチルフェニル)メタノール(7.4g,4.515×10−2モル)に溶解させ、150℃で7時間反応させた。反応溶液をシリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=5/1)に付して分離精製することにより、一般式(2a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の白色結晶2.636g(収率49.54%)を得た。
融点:200−202℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.35(9H,s)、7.68(2H,d)、7.86−7.91(2H,m)、8.24(2H,dd)、8.78(1H,dd)、8.84(1H,dd)、9.12−9.14(2H,m)
IRスペクトル(KBr):1615、2963cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
326(28700)、341(16700)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:394nm(励起波長341nm)。
一般式(2a)のオキサゾールフェナントロリン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の合成
5−(メトキシイミノ)[1,10]フェナントロリン−6−オン(3.6g、1.505×10−2モル)を(4−tert−ブチルフェニル)メタノール(7.4g,4.515×10−2モル)に溶解させ、150℃で7時間反応させた。反応溶液をシリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=5/1)に付して分離精製することにより、一般式(2a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9]の白色結晶2.636g(収率49.54%)を得た。
融点:200−202℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.35(9H,s)、7.68(2H,d)、7.86−7.91(2H,m)、8.24(2H,dd)、8.78(1H,dd)、8.84(1H,dd)、9.12−9.14(2H,m)
IRスペクトル(KBr):1615、2963cm−1
光吸収特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
326(28700)、341(16700)
蛍光特性(測定溶媒:1,4−ジオキサン)
λem:394nm(励起波長341nm)。
実施例1
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、ジクロロテトラキスジメチルスルホキシドルテニウム(RuCl2(DMSO)4)(0.2g、4.130×10−4モル)及び参考例6で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5](0.466g、1.363×10−3モル)をエタノール150mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を水30ml中に注いだ後、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥し、アルミナカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=2/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ia)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.423g(収率72.3%)を得た。
融点:350℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.35(3H,t)、4.05−4.11(2H,m)、7.02(2H,d)、7.61−7.65(2H,m)、7.82(2H,d)、8.25(2H,d)、8.91(2H,d)
IRスペクトル(KBr):1612、3397cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
208(66500)、295(123600)、331(70300)、485(20500)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:450、601nm(励起波長331nm)
601nm(励起波長485nm)。
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、ジクロロテトラキスジメチルスルホキシドルテニウム(RuCl2(DMSO)4)(0.2g、4.130×10−4モル)及び参考例6で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5](0.466g、1.363×10−3モル)をエタノール150mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を水30ml中に注いだ後、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥し、アルミナカラム(展開溶媒:塩化メチレン/メタノール=2/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ia)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.423g(収率72.3%)を得た。
融点:350℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.35(3H,t)、4.05−4.11(2H,m)、7.02(2H,d)、7.61−7.65(2H,m)、7.82(2H,d)、8.25(2H,d)、8.91(2H,d)
IRスペクトル(KBr):1612、3397cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
208(66500)、295(123600)、331(70300)、485(20500)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:450、601nm(励起波長331nm)
601nm(励起波長485nm)。
(ii)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=PF6]の製造
上記(i)で得られた一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]0.2gをエタノール150mlに溶解させ、4%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾過し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=PF6]の赤色粉末結晶0.121g(収率57%)を得た。
融点:315℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.38(3H,t)、4.13−4.18(2H,m)、7.20(2H,d)、7.77−7.81(2H,m)、8.03(2H,d)、8.23(2H,d)、9.04(2H,d)
IRスペクトル(KBr):846、1611、3387cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
209(42400)、294(139200)、328(78300)、479(21700)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:451、598nm(励起波長328nm)
598nm(励起波長479nm)。
上記(i)で得られた一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]0.2gをエタノール150mlに溶解させ、4%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾過し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=PF6]の赤色粉末結晶0.121g(収率57%)を得た。
融点:315℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.38(3H,t)、4.13−4.18(2H,m)、7.20(2H,d)、7.77−7.81(2H,m)、8.03(2H,d)、8.23(2H,d)、9.04(2H,d)
IRスペクトル(KBr):846、1611、3387cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
209(42400)、294(139200)、328(78300)、479(21700)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:451、598nm(励起波長328nm)
598nm(励起波長479nm)。
実施例2
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=PF6]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.3g、6.20×10−4モル)及び参考例4で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(C2H5)2](0.638g、1.86×10−3モル)をエタノール300mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を水30ml中に注ぎ、次いで5%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾過し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=PF6]の赤色粉末結晶0.75g(収率95%)を得た。
融点:345℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.15(6H,t)、3.41−3.48(4H,m)、6.58(2H,d)、7.75−7.78(2H,m)、8.07(4H,d)、9.03(2H,d)
IRスペクトル(KBr):844、3126cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
255(50000)、296(66100)、358(84000)、482(20100)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:508nm(励起波長358nm)。
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=PF6]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.3g、6.20×10−4モル)及び参考例4で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(C2H5)2](0.638g、1.86×10−3モル)をエタノール300mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を水30ml中に注ぎ、次いで5%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾過し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=PF6]の赤色粉末結晶0.75g(収率95%)を得た。
融点:345℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.15(6H,t)、3.41−3.48(4H,m)、6.58(2H,d)、7.75−7.78(2H,m)、8.07(4H,d)、9.03(2H,d)
IRスペクトル(KBr):844、3126cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
255(50000)、296(66100)、358(84000)、482(20100)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:508nm(励起波長358nm)。
(ii)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=Cl]の製造
上記(i)で得られた一般式(Ia’)のルテニウム錯体[X=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=PF6]0.3gをエタノール200mlに溶解させ、6%NaCl水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.151g(収率52.7%)を得た。
融点:311℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.07(6H,br)、3.39(4H,br)、6.61(2H,br)、7.62(2H,br)、7.91(4H,br)、8.89(2H,br)
IRスペクトル(KBr):3015cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
253(57200)、296(82200)、358(95400)、485(22900)。
上記(i)で得られた一般式(Ia’)のルテニウム錯体[X=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=PF6]0.3gをエタノール200mlに溶解させ、6%NaCl水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(C2H5)2,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.151g(収率52.7%)を得た。
融点:311℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.07(6H,br)、3.39(4H,br)、6.61(2H,br)、7.62(2H,br)、7.91(4H,br)、8.89(2H,br)
IRスペクトル(KBr):3015cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
253(57200)、296(82200)、358(95400)、485(22900)。
実施例3
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=PF6]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.3g、6.20×10−4モル)及び参考例5で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(Ph)2](0.861g、1.86×10−3モル)をエタノール300mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を水30ml中に注ぎ、次いで5%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=PF6]の赤色粉末結晶1.118g(収率96%)を得た。
融点:353℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.14−7.19(8H,m)、7.38−7.42(4H,m)、7.80(2H,br)、8.05(2H,br)、8.18(2H,br)、9.05(2H,br)
IRスペクトル(KBr):843、3126cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
211(115600)、288(94900)、368(94300)、481(22800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:432nm(励起波長368nm)。
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=PF6]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.3g、6.20×10−4モル)及び参考例5で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=N(Ph)2](0.861g、1.86×10−3モル)をエタノール300mlに溶解させ、80℃で24時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応混合物を水30ml中に注ぎ、次いで5%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=PF6]の赤色粉末結晶1.118g(収率96%)を得た。
融点:353℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.14−7.19(8H,m)、7.38−7.42(4H,m)、7.80(2H,br)、8.05(2H,br)、8.18(2H,br)、9.05(2H,br)
IRスペクトル(KBr):843、3126cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
211(115600)、288(94900)、368(94300)、481(22800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:432nm(励起波長368nm)。
(ii)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=Cl]の製造
上記(i)で得られた一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=PF6]0.3gをエタノール200mlに溶解させ、6%NaCl水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾過し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.151g(収率52.7%)を得た。
融点:349℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.13(8H,br)、7.37(4H,br)、7.75(2H,br)、8.01(2H,br)、8.31(2H,br)、8.98(2H,br)
IRスペクトル(KBr):3063cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
210(79100)、290(12900)、366(64100)、484(14700)。
上記(i)で得られた一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=PF6]0.3gをエタノール200mlに溶解させ、6%NaCl水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾過し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=N(Ph)2,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.151g(収率52.7%)を得た。
融点:349℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
7.13(8H,br)、7.37(4H,br)、7.75(2H,br)、8.01(2H,br)、8.31(2H,br)、8.98(2H,br)
IRスペクトル(KBr):3063cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
210(79100)、290(12900)、366(64100)、484(14700)。
実施例4
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.2g、4.13×10−4モル)及び参考例7で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9](0.437g、1.24×10−3モル)をエタノール200mlに溶解させ、80℃で8時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応物を水30ml中に注いだ後、析出した結晶を濾過し、減圧乾燥し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/2)に付して分離精製することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.277g(収率58%)を得た。
融点:385℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.29(9H,s)、7.56(2H,br)、7.72(2H,br)、8.00(2H,br)、8.26(2H,br)、9.07(2H,br)
IRスペクトル(KBr):3063cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
211(48100)、294(99000)、329(51700)、480(15700)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:432、603nm(励起波長329nm)
603nm(励起波長480nm)。
(i)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.2g、4.13×10−4モル)及び参考例7で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=tert−C4H9](0.437g、1.24×10−3モル)をエタノール200mlに溶解させ、80℃で8時間反応させた。反応終了後、放冷し、反応物を水30ml中に注いだ後、析出した結晶を濾過し、減圧乾燥し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/2)に付して分離精製することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.277g(収率58%)を得た。
融点:385℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.29(9H,s)、7.56(2H,br)、7.72(2H,br)、8.00(2H,br)、8.26(2H,br)、9.07(2H,br)
IRスペクトル(KBr):3063cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
211(48100)、294(99000)、329(51700)、480(15700)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:432、603nm(励起波長329nm)
603nm(励起波長480nm)。
(ii)一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=PF6]の製造
上記(i)で得られた一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]0.200gをエタノール150mlに溶解させ、4%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=PF6]の赤色粉末結晶0.121g(収率57%)を得た。
融点:382℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.37(9H,s)、7.67(2H,br)、7.81(2H,br)、8.06(2H,br)、8.23(2H,br)、9.07(2H,br)
IRスペクトル(KBr):847、3135cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
223(56000)、292(129600)、328(58300)、476(19500)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:433、595nm(励起波長328nm)
595nm(励起波長476nm)。
上記(i)で得られた一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]0.200gをエタノール150mlに溶解させ、4%NH4PF6水溶液150mlを加え、析出した生成物を濾取し、減圧乾燥することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=PF6]の赤色粉末結晶0.121g(収率57%)を得た。
融点:382℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.37(9H,s)、7.67(2H,br)、7.81(2H,br)、8.06(2H,br)、8.23(2H,br)、9.07(2H,br)
IRスペクトル(KBr):847、3135cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
223(56000)、292(129600)、328(58300)、476(19500)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:433、595nm(励起波長328nm)
595nm(励起波長476nm)。
実施例5
一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.285g、5.89×10−4モル)及び参考例9で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9](0.700g、1.77×10−3モル)をエタノール250mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.580g(収率73.0%)を得た。
融点:362℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
0.93(3H,t)、1.37−1.46(2H,m)、1.65−1.72(2H,m)、4.25−4.29(2H,m)、7.75(2H,br)、8.04−8.10(4H,br)、8.52(2H,d)、9.15(2H,br)
IRスペクトル(KBr):1613、2957cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
303(93000)、361(79000)、488(30000)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:417、575nm(励起波長303nm)
417、575nm(励起波長361nm)
575nm(励起波長488nm)。
一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.285g、5.89×10−4モル)及び参考例9で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9](0.700g、1.77×10−3モル)をエタノール250mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(I’)のルテニウム錯体[n=3,X’=NH,Q=フェニレン,A=COO−n−C4H9,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.580g(収率73.0%)を得た。
融点:362℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
0.93(3H,t)、1.37−1.46(2H,m)、1.65−1.72(2H,m)、4.25−4.29(2H,m)、7.75(2H,br)、8.04−8.10(4H,br)、8.52(2H,d)、9.15(2H,br)
IRスペクトル(KBr):1613、2957cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
303(93000)、361(79000)、488(30000)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:417、575nm(励起波長303nm)
417、575nm(励起波長361nm)
575nm(励起波長488nm)。
実施例6
下記式(I’−a)で表されるルテニウム錯体の製造
下記式(I’−a)で表されるルテニウム錯体の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、ビスビピリジルルテニウム錯体(Ru(bipy)2Cl2、0.300g、5.765×10−4モル)及び参考例6で得られた一般式(9a)のイミダゾフェナントレン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5](0.196g、5.765×10−4モル)をエタノール200mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、アルミナカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール:1/1)に付して分離精製することにより、上記式(I’−a)で表されるルテニウム錯体の赤色粉末結晶0.430g(収率86.0%)を得た。
融点:320−325℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.35(3H,t)、4.04−4.09(2H,m)、6.95(2H,d)、7.35(2H,t)、7.55−7.58(4H,m)、7.664−7.72(4H,m)、7.87(2H,d)、8.07(2H,td)、8.18(2H,td)、8.28(2H,d)、8.81−8.87(4H,m)、8.95(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):1608、3072cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
289(111000)、332(42800)、427(13800)、465(15800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:469、585nm(励起波長289nm)
469、585nm(励起波長332nm)
585nm(励起波長427nm)
585nm(励起波長465nm)。
融点:320−325℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.35(3H,t)、4.04−4.09(2H,m)、6.95(2H,d)、7.35(2H,t)、7.55−7.58(4H,m)、7.664−7.72(4H,m)、7.87(2H,d)、8.07(2H,td)、8.18(2H,td)、8.28(2H,d)、8.81−8.87(4H,m)、8.95(2H,dd)
IRスペクトル(KBr):1608、3072cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
289(111000)、332(42800)、427(13800)、465(15800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:469、585nm(励起波長289nm)
469、585nm(励起波長332nm)
585nm(励起波長427nm)
585nm(励起波長465nm)。
実施例7
一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.2g、4.130×10−4モル)及び参考例10で得られた一般式(2)のイミダゾフェナントレン化合物[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5](0.468g、1.363×10−3モル)をエタノール100mlに溶解させ、80℃で7時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.268g(収率54.4%)を得た。
融点:185℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.34(3H,t)、4.11−4.17(2H,m)、7.20(2H,d)、7.83(2H,d)、8.15(2H,d)、8.30(2H,d)、9.03(2H,d)
IRスペクトル(KBr):1609cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
222(48300)、288(119100)、328(60700)、460(25700)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:427nm(励起波長288nm)
579nm(励起波長330nm)
579nm(励起波長459nm)。
一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.2g、4.130×10−4モル)及び参考例10で得られた一般式(2)のイミダゾフェナントレン化合物[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5](0.468g、1.363×10−3モル)をエタノール100mlに溶解させ、80℃で7時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=1/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.268g(収率54.4%)を得た。
融点:185℃
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.34(3H,t)、4.11−4.17(2H,m)、7.20(2H,d)、7.83(2H,d)、8.15(2H,d)、8.30(2H,d)、9.03(2H,d)
IRスペクトル(KBr):1609cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
222(48300)、288(119100)、328(60700)、460(25700)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:427nm(励起波長288nm)
579nm(励起波長330nm)
579nm(励起波長459nm)。
実施例8
一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.425g、8.77×10−4モル)及び参考例11で得られた一般式(2)のイミダゾフェナントレン化合物[X=O,Q=フェニレン,A=tert−C4H9](0.93g、2.63×10−3モル)をエタノール200mlに溶解させ、80℃で4.5時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=3/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.66g(収率61.1%)を得た。
融点:375℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.36(9H,s)、7.73(2H,d)、7.87−7.88(2H,br)、8.17−8.19(2H,br)、8.33(2H,d)、9.08−9.11(2H,m)
IRスペクトル(KBr):1615、2964、3049、3422cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
285(135200)、324(48500)、458(20800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:404nm(励起波長285nm)
404、578nm(励起波長324nm)
578nm(励起波長458nm)。
実施例9
一般式(Ic)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、RuCl2(DMSO)4(0.425g、8.77×10−4モル)及び参考例11で得られた一般式(2)のイミダゾフェナントレン化合物[X=O,Q=フェニレン,A=tert−C4H9](0.93g、2.63×10−3モル)をエタノール200mlに溶解させ、80℃で4.5時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、シリカゲルカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール=3/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ia)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=tert−C4H9,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.66g(収率61.1%)を得た。
融点:375℃(分解)
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.36(9H,s)、7.73(2H,d)、7.87−7.88(2H,br)、8.17−8.19(2H,br)、8.33(2H,d)、9.08−9.11(2H,m)
IRスペクトル(KBr):1615、2964、3049、3422cm−1
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
285(135200)、324(48500)、458(20800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:404nm(励起波長285nm)
404、578nm(励起波長324nm)
578nm(励起波長458nm)。
実施例9
一般式(Ic)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、ビスビピリジルルテニウム錯体(Ru(bipy)2Cl2、0.300g、5.765×10−4モル)及び参考例10で得られた一般式(2a)のオキサゾールフェナントロリン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5](0.196g、5.765×10−4モル)をエタノール50mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、アルミナカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール:1/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ic)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の橙色粉末結晶0.397g(収率79.9%)を得た。
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.38(3H,t)、4.16−4.21(2H,m)、7.24(2H,d)、7.33(2H,br)、7.57−7.6(4H,m)、7.82(2H,br)、7.98(2H,td)、8.08−8.23(6H,m)、8.33(2H,d)、8.84−8.90(4H,m)、9.06−9.09(2H,m)
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
287(67100)、432(11600)、454(12800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:588nm(励起波長287nm)
588nm(励起波長432nm)
588nm(励起波長454nm)。
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.38(3H,t)、4.16−4.21(2H,m)、7.24(2H,d)、7.33(2H,br)、7.57−7.6(4H,m)、7.82(2H,br)、7.98(2H,td)、8.08−8.23(6H,m)、8.33(2H,d)、8.84−8.90(4H,m)、9.06−9.09(2H,m)
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
287(67100)、432(11600)、454(12800)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:588nm(励起波長287nm)
588nm(励起波長432nm)
588nm(励起波長454nm)。
実施例10
一般式(Ib)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
一般式(Ib)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の製造
遮光、アルゴン雰囲気下、モノビピリジルルテニウム錯体(Ru(bipy)(DMSO)2Cl2、0.013g、2.683×10−5モル)及び参考例10で得られた一般式(2a)のオキサゾールフェナントロリン化合物[Q=フェニレン,A=OC2H5](0.023g、6.709×10−5モル)をエタノール3mlに溶解させ、80℃で4時間反応させた。反応終了後、反応混合物を放冷し、減圧濃縮し、アルミナカラム(展開溶媒:塩化メチレン/エタノール:1/1)に付して分離精製することにより、一般式(Ib)のルテニウム錯体[X=O,Q=フェニレン,A=OC2H5,Z=Cl]の赤色粉末結晶0.020g(収率74.0%)を得た。
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.37(3H,t)、4.13−4.19(2H,m)、7.22(4H,d)、7.40(2H,t)、7.73−7.80(4H,m)、8.01−8.17(4H,m)、8.24−8.32(6H,m)、8.81−9.12(8H,m)
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
287(84000)、329(35300)、431(14400)、459(16200)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:421、583nm(励起波長287nm)
421、583nm(励起波長329nm)
583nm(励起波長431nm)
583nm(励起波長459nm)。
1H−NMRスペクトル(DMSO−d6)δppm:
1.37(3H,t)、4.13−4.19(2H,m)、7.22(4H,d)、7.40(2H,t)、7.73−7.80(4H,m)、8.01−8.17(4H,m)、8.24−8.32(6H,m)、8.81−9.12(8H,m)
光吸収特性(測定溶媒:エタノール)
λmax/nm(εmax/dm3mol−1cm−1):
287(84000)、329(35300)、431(14400)、459(16200)
蛍光/燐光特性(測定溶媒:エタノール)
λem:421、583nm(励起波長287nm)
421、583nm(励起波長329nm)
583nm(励起波長431nm)
583nm(励起波長459nm)。
Claims (5)
- 一般式(I)
(L1 nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。
L1は、以下の構造を有する2座配位子を示す。
Aは、水素原子、OR1基、アルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アシル基、エステル基又はNR1R2基を示す。
R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、又はC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
Xは、酸素原子又は硫黄原子を示す。
Z−は、ハロゲン化物イオン、PF6 −、BF4 −、ClO4 −、BR3 4 −又はR3SO3 −を示す。
R3は、アルキル基、水酸基、又はC1〜C8アルキル基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
L2及びL3は、同一又は異なって、以下の構造から選ばれる2座配位子を示す。
で表されるルテニウム錯体。 - 請求項1に記載のルテニウム錯体からなる色素。
- 請求項1に記載のルテニウム錯体を含む顔料ないし染料。
- 一般式(I’)
(L1’ nL2 mL3 pRu)2+・2Z− (I’)
[式中、nは1〜3の整数、mは0〜2の整数、pは0又は1を示す。但し、n+m+p=3を満足するものとする。
L1’は、以下の構造を有する2座配位子を示す。
Aは、水素原子、OR1基、アルキル基、シアノ基、カルボキシル基、ハロゲン原子、アシル基、エステル基又はNR1R2基を示す。
R1及びR2は、同一又は異なって、水素原子、アルキル基、又はC1〜C8アルキル基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
X’は、酸素原子、硫黄原子又は−NR1を示す。R1は前記に同じ。
Z−は、ハロゲン化物イオン、PF6 −、BF4 −、ClO4 −、BR3 4 −又はR3SO3 −を示す。
R3は、アルキル基、水酸基、又はC1〜C8アルキル基及びハロゲン原子からなる群より選ばれる少なくとも1種の置換基で置換されていてもよいフェニル基を示す。
L2及びL3は、同一又は異なって、以下の構造から選ばれる2座配位子を示す。
で表されるルテニウム錯体を、導電性表面に形成された金属酸化物半導体膜に吸着させてなる色素増感金属酸化物半導体電極。 - 請求項4に記載の色素増感金属酸化物半導体電極を備えた太陽電池。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2005034623A JP2005255992A (ja) | 2004-02-13 | 2005-02-10 | ルテニウム錯体及びその用途 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004036862 | 2004-02-13 | ||
JP2005034623A JP2005255992A (ja) | 2004-02-13 | 2005-02-10 | ルテニウム錯体及びその用途 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005255992A true JP2005255992A (ja) | 2005-09-22 |
Family
ID=35082033
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2005034623A Pending JP2005255992A (ja) | 2004-02-13 | 2005-02-10 | ルテニウム錯体及びその用途 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005255992A (ja) |
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006269373A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Osaka Univ | 色素増感太陽電池 |
WO2008004580A1 (fr) | 2006-07-05 | 2008-01-10 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Cellule solaire sensible à la coloration |
WO2008140069A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
WO2008140114A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
WO2008140115A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
WO2008143059A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
WO2008142976A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子材料 |
JP2008311608A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-12-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
WO2009047993A1 (ja) * | 2007-10-13 | 2009-04-16 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
WO2011013474A1 (ja) | 2009-07-31 | 2011-02-03 | 株式会社Adeka | シッフベース型化合物及び該化合物を含有する色素材料 |
WO2020116995A1 (ko) * | 2018-12-06 | 2020-06-11 | 엘티소재주식회사 | 헤테로고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002216776A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Sony Corp | 光電気化学デバイス |
JP2003003083A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 金属錯体色素、光電極及び色素増感型太陽電池 |
US20040209117A1 (en) * | 2003-04-17 | 2004-10-21 | Xerox Corporation | Organic light emitting devices |
US20040265628A1 (en) * | 2003-04-17 | 2004-12-30 | Suning Wang | Organic luminescent compounds and methods of making and using same |
JP2005259687A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-09-22 | Kochi Univ | 色変換フィルタおよびそれを用いた有機elディスプレイ |
-
2005
- 2005-02-10 JP JP2005034623A patent/JP2005255992A/ja active Pending
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2002216776A (ja) * | 2001-01-18 | 2002-08-02 | Sony Corp | 光電気化学デバイス |
JP2003003083A (ja) * | 2001-06-20 | 2003-01-08 | Toyota Central Res & Dev Lab Inc | 金属錯体色素、光電極及び色素増感型太陽電池 |
US20040209117A1 (en) * | 2003-04-17 | 2004-10-21 | Xerox Corporation | Organic light emitting devices |
US20040265628A1 (en) * | 2003-04-17 | 2004-12-30 | Suning Wang | Organic luminescent compounds and methods of making and using same |
JP2005259687A (ja) * | 2004-02-13 | 2005-09-22 | Kochi Univ | 色変換フィルタおよびそれを用いた有機elディスプレイ |
Non-Patent Citations (1)
Title |
---|
JPN6010061533, Chemical Research in Chinese Universities, 2002, Vol.18,No.4, p.469−470 * |
Cited By (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006269373A (ja) * | 2005-03-25 | 2006-10-05 | Osaka Univ | 色素増感太陽電池 |
WO2008004580A1 (fr) | 2006-07-05 | 2008-01-10 | Nippon Kayaku Kabushiki Kaisha | Cellule solaire sensible à la coloration |
JPWO2008140069A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2010-08-05 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
JP5482201B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2014-05-07 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
WO2008140115A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
WO2008143059A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
WO2008142976A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-27 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子材料 |
JP2008311608A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-12-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
JP2008311607A (ja) * | 2007-05-16 | 2008-12-25 | Konica Minolta Holdings Inc | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
US10017691B2 (en) | 2007-05-16 | 2018-07-10 | Konica Minolta, Inc. | Organic electroluminescent element, display device and lighting device |
WO2008140069A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
JP5653617B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2015-01-14 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
JP5564942B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2014-08-06 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
JP5278314B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2013-09-04 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置、照明装置及び有機エレクトロルミネッセンス素子材料 |
JP5547476B2 (ja) * | 2007-05-16 | 2014-07-16 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、有機エレクトロルミネッセンス素子材料、表示装置及び照明装置 |
WO2008140114A1 (ja) * | 2007-05-16 | 2008-11-20 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
JP5273052B2 (ja) * | 2007-10-13 | 2013-08-28 | コニカミノルタ株式会社 | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
WO2009047993A1 (ja) * | 2007-10-13 | 2009-04-16 | Konica Minolta Holdings, Inc. | 有機エレクトロルミネッセンス素子、表示装置及び照明装置 |
US8758897B2 (en) | 2009-07-31 | 2014-06-24 | Adeka Corporation | Schiff base type color conversion layer, light absorbing layer, and filter |
US8568884B2 (en) | 2009-07-31 | 2013-10-29 | Adeka Corporation | Schiff base type compound and coloring material containing the same |
WO2011013474A1 (ja) | 2009-07-31 | 2011-02-03 | 株式会社Adeka | シッフベース型化合物及び該化合物を含有する色素材料 |
WO2020116995A1 (ko) * | 2018-12-06 | 2020-06-11 | 엘티소재주식회사 | 헤테로고리 화합물 및 이를 포함하는 유기 발광 소자 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005255992A (ja) | ルテニウム錯体及びその用途 | |
JP6861644B2 (ja) | 発光デバイス及び化合物 | |
CN106318380B (zh) | 一种四苯基乙烯衍生物离子络合物及制备方法 | |
Zhang et al. | Highly efficient TADF OLEDs with low efficiency roll-off based on novel acridine–carbazole hybrid donor-substituted pyrimidine derivatives | |
TW201006911A (en) | Novel organic electroluminescent compounds and organic electroluminescent device using the same | |
Yu et al. | AIE-active difluoroboronated acylhydrozone dyes (BOAHY) emitting across the entire visible region and their photo-switching properties | |
CN101405365A (zh) | 包含芴基团的电致发光化合物及使用该化合物的有机电致发光器件 | |
Zhan et al. | Aggregation-induced emission and reversible mechanochromic luminescence of carbazole-based triphenylacrylonitrile derivatives | |
JP2019509977A (ja) | 発光性化合物 | |
CN102510858A (zh) | 芳香族胺衍生物及使用该衍生物的有机电致发光元件 | |
Zhang et al. | Synthesis, crystal Structures and aggregation-induced emission enhancement of aryl-substituted cyclopentadiene derivatives | |
CN115160379B (zh) | 一种圆偏振发光材料及应用、发光显示器件及显示装置 | |
Meesala et al. | Synthesis, structures and electrochemical and photophysical properties of anilido-benzoxazole boron difluoride (ABB) complexes | |
JP4759737B2 (ja) | 複素多環化合物及び色素 | |
Wen et al. | Triphenylethylene-based fluorophores: Facile preparation and full-color emission in both solution and solid states | |
WO2008010532A1 (fr) | Composé ou sel de celui-ci, procédés destinés à les produire, composés azo aromatiques, et matériau fluorescent | |
CN110615783B (zh) | 一类以吡嗪并茚酮为电子受体的电致发光材料及应用 | |
WO2012066686A1 (ja) | 遷移金属錯体及びその用途 | |
KR20200126890A (ko) | 축합 다환 화합물 및 그 제조방법과 용도 | |
Monteiro et al. | Photophysical properties of unsymmetric meso-substituted porphyrins synthesized via the Suzuki coupling reaction | |
JP6249210B2 (ja) | 有機蛍光材料 | |
Meti et al. | Facile synthesis of phenothiazine-pyrazine-based donor-acceptor-donor regioisomers: Influence of molecular geometry on aggregation-induced emission | |
CN101445510B (zh) | 基于吡啶大环冠醚的均二苯乙烯化合物 | |
Ooyama et al. | Synthesis and photophysical properties of structural isomers of novel 2, 10-disubstituted benzofuro [2, 3-e] naphthoxazole-type fluorescent dyes | |
TWI675035B (zh) | 一種有機金屬配合物發光材料 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20071220 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20101026 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20101027 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20110517 |