JP2005251403A - Manufacturing method of spiral contact piece - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、IC(集積回路)等に設けられたLGAやBGAなどに接触するスパイラル接触子の製造方法に係わり、特に前記接触子の表面から三次元的に突出する凸部を備えたスパイラル接触子の製造方法に関する。 The present invention relates to a method of manufacturing a spiral contactor that contacts an LGA or BGA provided in an IC (integrated circuit) or the like, and in particular, a spiral contact provided with a convex portion protruding three-dimensionally from the surface of the contactor. The present invention relates to a child manufacturing method.
特許文献1に記載されている半導体検査装置(ICソケット)は、半導体(IC等)を外部の回路基板などに電気的に仮接続させるものである。半導体の背面側には格子状またはマトリックス状に配置された多数の球状接触子が設けられており、これに対向する絶縁基台上には多数の凹部が設けられ、この凹部内にスパイラル接触子が対向配置されている。 The semiconductor inspection apparatus (IC socket) described in Patent Document 1 is for temporarily temporarily connecting a semiconductor (IC or the like) to an external circuit board or the like. A large number of spherical contacts arranged in a lattice shape or a matrix shape are provided on the back side of the semiconductor, and a large number of concave portions are provided on the insulating base opposite to the spherical contacts. Are arranged opposite to each other.
前記半導体の背面側を前記絶縁基台に向けて押圧すると、前記球状接触子の外表面に前記スパイラル接触子が螺旋状に巻き付くように接触するため、個々の球状接触子と個々のスパイラル接触子との間の電気的接続が確実に行われるようになる。 When the back side of the semiconductor is pressed toward the insulating base, the spiral contact comes into contact with the outer surface of the spherical contact so as to be spirally wound. The electrical connection between the child is ensured.
このようなスパイラル接触子の具体的な製造方法は、特許文献1の図37ないし図40に記載されている。
スパイラル接触子では、スパイラル接触子と外部接触子との間の接触圧を高め、この間に発生する接触抵抗を低減することにより、電気的な接続特性を安定させる必要がある。このため、スパイラル接触子の表面に凸部などを形成し、この凸部と外部接触子とを点接触させることにより、すなわち前記凸部に接触圧を集中させた状態でスパイラル接触子と外部接触子とを接触させることが好ましい。 In the spiral contactor, it is necessary to stabilize the electrical connection characteristics by increasing the contact pressure between the spiral contactor and the external contactor and reducing the contact resistance generated therebetween. For this reason, a convex portion is formed on the surface of the spiral contact, and the convex contact and the external contact are point-contacted, that is, with the contact pressure concentrated on the convex portion, the spiral contact and the external contact are made. It is preferable to contact the child.
しかし、スパイラル接触子の表面に凸部を形成しようとすると、前記従来のスパイラル接触子の製造方法以外の別工程を必要とするため、製造時間が長くなり、しかも製造コストが高騰しやすいという問題があった。 However, if a convex portion is formed on the surface of the spiral contactor, a separate process other than the conventional spiral contactor manufacturing method is required, so that the manufacturing time becomes long and the manufacturing cost is likely to increase. was there.
本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、製造工程を増やすことなくスパイラル接触子の表面に凸部を形成することができ、製造コストの低減を図れるようにしたスパイラル接触子の製造方法を提供することを目的としている。 The present invention is for solving the above-described conventional problems, and it is possible to form a convex portion on the surface of the spiral contact without increasing the number of manufacturing steps, and to reduce the manufacturing cost. The object is to provide a manufacturing method.
本発明は、スパイラル接触子の製造方法は、
(a)基板の一方の面に凹部を形成する工程と、
(b)前記基板の他方の面を保護層で被覆する工程と、
(c)前記基板の一方の面にレジスト層を設ける工程と、
(d)前記レジスト層を露光・現像して前記レジスト層の一部を除去することにより、前記基板の一方の面にスパイラル状の溝部を形成する工程と、
(e)前記溝部内および前記凹部内にメッキを施すことにより、前記スパイラル接触子と、前記スパイラル接触子の表面に前記凹部に応じた凸部と、を一体で形成する工程と、
(f)前記レジスト層の残りを除去して前記スパイラル接触子の一方の面を露出させる工程と、
(g)前記スパイラル接触子の一方の面に仮止めシートを貼り付けて複数のスパイラル接触子どうしを固定する工程と、
(h)前記保護層および基板を除去することにより、前記スパイラル接触子の他方の面を露出させる工程と、
(i)前記スパイラル接触子の他方の面側の縁部に保持シートを貼り付ける工程と、
(j)前記仮止めシートを前記スパイラル接触子の一方の面から剥離させる工程と、
を有することを特徴とするものである。
The present invention provides a method for producing a spiral contact,
(A) forming a recess in one surface of the substrate;
(B) coating the other surface of the substrate with a protective layer;
(C) providing a resist layer on one surface of the substrate;
(D) forming a spiral groove on one surface of the substrate by exposing and developing the resist layer to remove a part of the resist layer;
(E) Steps of integrally forming the spiral contact and a protrusion corresponding to the recess on the surface of the spiral contact by plating in the groove and in the recess;
(F) removing the remaining resist layer to expose one surface of the spiral contact;
(G) a step of fixing a plurality of spiral contacts by attaching a temporary fixing sheet to one surface of the spiral contacts;
(H) exposing the other surface of the spiral contact by removing the protective layer and the substrate;
(I) a step of attaching a holding sheet to the edge of the other surface side of the spiral contact;
(J) peeling the temporary fixing sheet from one surface of the spiral contact;
It is characterized by having.
本発明では、前記(a)工程に示すように、あらかじめ基板上に凹部を形成しおくことにより、前記(e)工程においてスパイラル接触子の導電部と凸部とを一緒に形成することが可能となる。 In the present invention, as shown in the step (a), the conductive portion and the convex portion of the spiral contactor can be formed together in the step (e) by forming the concave portion on the substrate in advance. It becomes.
このように本発明では、前記導電部と凸部とを一緒に形成することにより、スパイラル接触子の製造工程が増加するのを抑えることができる。また前記導電部と凸部とを一体形成することができるため、使用中に前記凸部が導電部から離脱してしまったり、ひび割れてしなったりするような不具合の発生を防止できる。よって、このスパイラル接触子を使用した検査機器の精度や寿命を高めることが可能となる。 Thus, in this invention, it can suppress that the manufacturing process of a spiral contactor increases by forming the said electroconductive part and a convex part together. Further, since the conductive portion and the convex portion can be integrally formed, it is possible to prevent the occurrence of a problem that the convex portion is detached from the conductive portion or cracked during use. Therefore, it is possible to improve the accuracy and life of the inspection equipment using this spiral contact.
また、前記工程(a)において複数の凹部が形成されるものとすることができる。
上記工程では、スパイラル接触子に複数の凸部を形成することができるため、凸部が外部接触子に接触したときに、凸部が外部接触子の表面を滑るのを防止できる。よって、外部接触子に表面に凸部により接触痕などが付くのを防止できる。
Moreover, a several recessed part shall be formed in the said process (a).
In the above process, since a plurality of convex portions can be formed on the spiral contactor, it is possible to prevent the convex portion from sliding on the surface of the external contactor when the convex portion contacts the external contactor. Therefore, it is possible to prevent contact marks or the like from being formed on the surface of the external contact by the convex portion.
また、前記(g)の工程で、前記スパイラル接触子の一方の面側の縁部に保持シートを貼り付け、その後は(h)の工程のみを行うものであってもよい。 Further, in the step (g), a holding sheet may be attached to an edge portion on one surface side of the spiral contact, and thereafter only the step (h) may be performed.
上記においては、前記工程(i)および工程(j)を不要とすることができるため、さらに製造工程を簡素化することができる。 In the above, since the process (i) and the process (j) can be omitted, the manufacturing process can be further simplified.
また、前記凹部が、陥没穴または貫通孔であり、この場合の前記凹部の深さ寸法は10μmないし50μmの範囲であり、直径は10μmないし50μmの範囲が好ましい。 Further, the concave portion is a depression hole or a through hole, and the depth dimension of the concave portion in this case is in the range of 10 μm to 50 μm, and the diameter is preferably in the range of 10 μm to 50 μm.
あるいは、前記陥没穴または貫通孔が、長溝状、半球状、卵形状または小判形状のいずれかであってもよい。 Alternatively, the depressed hole or the through hole may be in a long groove shape, a hemispherical shape, an egg shape, or an oval shape.
本発明では、前記基板にCu基板を用いることができる。
さらには、前記メッキにNiメッキを用いることが可能である。
In the present invention, a Cu substrate can be used as the substrate.
Furthermore, Ni plating can be used for the plating.
本発明のスパイラル接触子の製造方法では、スパイラル状の導電部と凸部とを同じ工程で一緒に形成することができるため、製造時間の延長と製造コストの高騰を防止できる。すなわち、凸部を有するスパイラル接触子を短い製造時間で且つ低コストで製造することができる。 In the spiral contactor manufacturing method of the present invention, since the spiral conductive portion and the convex portion can be formed together in the same process, it is possible to prevent an increase in manufacturing time and an increase in manufacturing cost. That is, a spiral contact having a convex portion can be manufactured in a short manufacturing time and at a low cost.
また凸部を導電部とともに一体形成することができるため、外部接触子からの力を受けた凸部が前記導電部の表面から離脱したり、凸部にひび割れなどを生じるのを防止できる。 In addition, since the convex portion can be integrally formed with the conductive portion, it is possible to prevent the convex portion receiving the force from the external contactor from detaching from the surface of the conductive portion or causing a crack in the convex portion.
図1は電子部品の動作を確認するための試験に用いられる検査装置(接続装置)を示す斜視図、図2は、図1の2−2線における断面図を示し、電子部品が装着された状態の断面図である。 FIG. 1 is a perspective view showing an inspection device (connection device) used in a test for confirming the operation of an electronic component, and FIG. 2 is a sectional view taken along line 2-2 of FIG. It is sectional drawing of a state.
図1に示す検査装置1は、電子部品などの底面に設けられた複数の球状または平面状の外部接触子とスパイラル接触子を個別に接続し、前記電子部品の電気的な特性等を検査するための装置である。 The inspection apparatus 1 shown in FIG. 1 individually connects a plurality of spherical or planar external contacts and spiral contacts provided on the bottom surface of an electronic component or the like, and inspects the electrical characteristics and the like of the electronic component. It is a device for.
図1に示すように、検査装置10は基台11と、この基台11の一方の縁部に設けられたひんじ部13を介して回動自在に支持された蓋体12とで構成されている。前記基台11および蓋体12は絶縁性の樹脂材料などで形成されており、前記基台11の中心部には図示Z2方向に凹となる装填領域11Aが形成されている。そして、前記装填領域11A内に半導体などの電子部品Bが装着できるようになっている。また基台11の他方の縁部には、被ロック部14が形成されている。
As shown in FIG. 1, the
この検査装置10は、接続面に多数の外部接触部Cがマトリックス状(格子状または碁盤の目状)に配置された電子部品Bを検査対象とする。前記外部接触部は、例えば薄板状に形成された平面状接触子(LGA:Land Grid Array)、あるいは以下に説明するような球状接触子(BGA:Ball Grid Array)などである。
This
図2に示すように、前記装填領域11Aには所定の径寸法からなり、装填領域11Aの表面から基台11の裏面に貫通する複数のスルーホール11aが、前記電子部品Bの接続面に設けられた球状接触子である外部接触部Cに対応して設けられている。そして、個々のスルーホール11aの上面(装填領域11Aの表面)には、渦巻き状に形成されたスパイラル接触子20がそれぞれ設けられている。
As shown in FIG. 2, the
図3は複数のスパイラル接触子が保持シートに配設された状態を示す平面図、図4はスパイラル接触子の拡大平面図、図5はスパイラル接触子の側面図、図6AおよびBは図2同様の断面図を拡大して示しており、図6Aはスパイラル接触子が外部接触子に接触する前の状態、図6Bはスパイラル接触子が外部接触子に接触した後の状態を示している。 3 is a plan view showing a state in which a plurality of spiral contacts are arranged on the holding sheet, FIG. 4 is an enlarged plan view of the spiral contacts, FIG. 5 is a side view of the spiral contacts, and FIGS. FIG. 6A shows a state before the spiral contact comes into contact with the external contact, and FIG. 6B shows a state after the spiral contact comes into contact with the external contact.
図3に示すように、前記各スパイラル接触子20は装填領域11Aの表面に固定された保持シート16上に縦方向および横方向に所定の間隔を空けて複数配置されている。前記保持シート16の前記スルーホール11aに対向する位置には開孔16aがそれぞれ穿設されており、前記スパイラル接触子20の基部21の外縁の上面が、前記保持シート16によって前記開孔16aの縁部に固定されている。基部21の中心側には内縁の一部を巻き始端22aとし、この巻き始端22aから自由端側である巻き終端22bが前記スルーホール11a及び開孔16aの中心に向かって渦巻き状に延びる導電部22が片持ち状態で設けられている。そして、図4及び図5に示すように、前記導電部22の巻き終端22bの表面には図示Z1方向に三次元的に突出する凸部22cが設けられている。前記スパイラル接触子20は、前記巻き始端22aを固定端とし、自由端側である導電部22が上下(図6AにてZ1およびZ2方向)に弾性変形することが可能である。
As shown in FIG. 3, a plurality of the
図4に示すように、前記スパイラル接触子20の導電部22の幅寸法T1は、強度およびばね定数を考慮した場合、10μm〜30μmの範囲で形成したものが好ましい。また外部接触部Cが、例えば径寸法400μmの球状接触子である場合、前記スパイラル接触子20の基部21および導電部22の平均的な板厚寸法(Z方向の寸法)H1の好ましい範囲はH1=10μm〜40μmである。
As shown in FIG. 4, the width T1 of the
また前記凸部22cの好ましい形状は円柱形状、円錐台形状である。この場合、前記凸部22cのZ方向の高さ寸法H2は、H2が10μm未満であると一点接触部位が不安定となりやすく、50μmより大きくなると一点接触部位の挙動が不安定となりやすいため、H2=10μm〜50μmの範囲が好ましい。また凸部22cの先端部の平均直径rは、rが10μm未満であると加工が困難となりやすく、50μmより大きくなると接触面積が極大化するため、r=10μm〜50μmの範囲が好ましい。
Moreover, the preferable shape of the said
なお、前記凸部22cの形状は円柱形状や円錐台形状の限定されるものではなく、その他例えば半球形状、半卵形状、あるいは小判形状などであってもよい。
In addition, the shape of the
一方、図2に示すように、前記スルーホール11aの内壁面には導通部11bが形成されており、前記導通部11bの上端と前記スパイラル接触子20の前記基部21とが導電性接着材などで接続されている。またスルーホール11aの下方の開口端は前記導通部に接続された接続端子18で塞がれている。
On the other hand, as shown in FIG. 2, a
図2に示すように、前記基台11の下方には複数の配線パターンやその他の回路部品を有するプリント基板29が設けられており、前記基台11はこのプリント基板29上に固定されている。前記プリント基板29の表面には前記基台11の底面に設けられた接続端子18に対向する対向電極31が設けられており、前記各接続端子18が各対向電極31にそれぞれ接触することにより、電子部品Bとプリント基板29とが、前記スパイラル接触子20、導通部11bおよび接続端子18を介して電気的に接続される。
As shown in FIG. 2, a printed
一方、検査装置10の蓋体12の内面の中央の位置には、電子部品Bを図示下方に押し付ける凸形状の押圧部12aが前記装填領域11Aに対向して設けられている。また前記ひんじ部13と逆側となる位置にはロック部15が形成されている。
On the other hand, at the center position of the inner surface of the
前記蓋体12の内面と押圧部12aとの間には前記押圧部12aを蓋体12の内面から遠ざかる方向に付勢するコイルスプリングなどからなる付勢部材が設けられている(図示せず)。したがって、電子部品Bを前記スルーホール11a内に装着して蓋体12を閉じ、ロック部15を被ロック部14に掛止させてロックすると、電子部品Bを装填領域11Aの表面に接近する方向(Z2方向)に弾性的に押し付けることが可能となっている。
Between the inner surface of the
図6Aに示すように、前記基台11の装填領域11Aの大きさは、前記電子部品Bの外形とほぼ同じ大きさであり、電子部品Bを前記装填領域11Aに装着して蓋体12を基台11にロックすると、前記電子部品Bが装填領域11Aに位置決めされ、電子部品Bの接続面に設けられた各外部接触部Cが検査装置10内の各スパイラル接触子20に正確に対向させられる。
As shown in FIG. 6A, the size of the
図6Bに示すように、蓋体12のロック部15が基台11の被ロック部14にロックされると、電子部品Bが前記押圧部12aによって図示下方に押し付けられるため、前記外部接触部Cである各球状接触子が各スルーホール11aにそれぞれ入り込み、スパイラル接触子20がスルーホール11aの内部方向(図示Z2方向)に弾性変形させられる。
As shown in FIG. 6B, when the
このとき、図6B示すように、前記スパイラル接触子20の巻き終端22bに形成された凸部22cを外部接触部Cである球状接触子の表面に積極的に点接触させることができる。よって、スパイラル接触子20の弾性力を凸部22cに集中させることができるため、スパイラル接触子20と外部接触部Cとの間に発生する接触抵抗を必要最小限とすることが可能となり、電気的に安定した接続状態を形成することができる。
At this time, as shown in FIG. 6B, the
以下には、上記凸部22cを有するスパイラル接触子20の製造方法について説明する。
Below, the manufacturing method of the
図7は本発明のスパイラル接触子の製造方法を示す工程図である。なお、図7は一つのスパイラル接触子の製造方法を各工程ごとに示すものであるが、図7の工程を用いることにより、複数のスパイラル接触子を同時に形成することが可能である。 FIG. 7 is a process diagram showing a method for manufacturing a spiral contact according to the present invention. FIG. 7 shows a manufacturing method of one spiral contact for each process, but a plurality of spiral contacts can be formed simultaneously by using the process of FIG.
図7aに示す工程では、板厚寸法10μm〜200μm程度のCu基板41が用意され、このCu基板41上に凹部41aを形成する。前記凹部41aは、例えば円形に形成された陥没穴または貫通孔であり、前記凹部41aの深さ寸法の好ましい範囲は10μm〜50μmであり、直径の好ましい範囲は10μm〜50μmである。また前記凹部41aは円形に限られるものではない。例えば長溝状、半球状、卵形状、小判形状に形成された陥没穴または貫通孔などであってもよく、これらも凹部41aの範疇に含まれる。前記凹部41aはプレス加工機や打抜き加工機などを使用することにより、Cu基板41上の縦方向および横方向に所定のピッチでマトリックス状に複数形成される。
In the process shown in FIG. 7 a, a
図7bに示す工程では、前記Cu基板の下面(他方の面)に後の工程においてメッキ層が形成されるのを防止する保護シート(保護層)42が設けられる。前記保護シート42は、例えば複数の接着層を備えたドライフィルムなどであり、接着層を前記Cu基板41の下面(他方の面)に接着することにより、前記下面が全面的に被覆される。
In the step shown in FIG. 7b, a protective sheet (protective layer) 42 is provided on the lower surface (the other surface) of the Cu substrate to prevent a plating layer from being formed in a later step. The
図7cの工程では、前記凹部41aを含むCu基板41の上面(一方の面)にレジスト層43が設けられる。
In the step of FIG. 7c, a resist
図7dの工程では、前記液体レジスト層43に対して露光・現像により図4に示すスパイラル接触子20と同じ形状のパターンからなる溝部43aを形成する。前記露光・現像には、露光部分がスパイラル接触子20の導電部22と同じ形状で形成された図示しないマスク層を前記レジスト層43の上方に配置して前記レジスト層43を露光し現像する。
In the step of FIG. 7d, a
このとき、凹部41aはスパイラル状の溝部43aの先端部(前記巻き終端22bに表面に相当する位置)の真下に位置しており、前記凹部41aも同時に露光・現像される。なお、このときCu基板41上に残存する層がレジスト層43として機能する。
At this time, the
図7eの工程では、露光・現像後のCu基板41をメッキ浴に浸け、スパイラル状の溝部43aと凹部41a内にNiメッキ層44を施こし、スパイラル接触子20を成形する。
7E, the exposed and developed
図7fの工程では、強アルカリ溶液でレジスト層43を除去し、Cu基板41上に上面側にNiメッキ層44から形成されるスパイラル接触子20を上面側に露出させる。
In the step of FIG. 7f, the resist
図7gの工程では、スパイラル接触子20の上面に剥離可能な仮止めシート45を貼付して固定し、マトリックス状に配列された複数のスパイラル接触子20どうしを仮止め固定する。
In the process of FIG. 7g, a peelable
なお、スパイラル接触子20の仮止めは、図7gに示すように、スパイラル接触子20の基部21が固定される。
As shown in FIG. 7g, the
図7hの工程では、保護シート(保護層)42を剥離させるとともに、塩化第二銅溶液等を用いてCu基板41を溶解・除去し、スパイラル接触子20の下面側を露出させる。
In the step of FIG. 7h, the protective sheet (protective layer) 42 is peeled off, and the
図7iの工程では、複数の開孔16aが形成された保持シート16の個々の開孔16a内にスパイラル接触子20の基部21の下面側をそれぞれ本格的に固定する。
In the process of FIG. 7i, the lower surface side of the
図7jの工程では、前記仮止めシート45を剥離することにより、保持シート16に複数のスパイラル接触子20が固定されたシートが完成する。
In the step of FIG. 7j, the
上記製造方法では、スパイラル接触子20を形成する工程と凸部22cを形成する工程を同一の工程で形成することが可能であるため、製造工程数の増加を招くことがなく、製造コストの高騰を抑えることができる。
In the manufacturing method described above, the process of forming the
しかも、スパイラル接触子20と凸部22cとが同じメッキ工程で一体に形成することができるため、外部接触子からの力を受けた凸部22cがスパイラル接触子20の表面から離脱したり、凸部22cにひび割れなどを生じるのを防止できる。すなわち、品質の高いスパイラル接触子20を提供することが可能となる。
In addition, since the
上記実施の工程では、前記図7hの工程においてスパイラル接触子20を仮止め固定し、図7jの工程で凸部22cが設けられた側の面を本格的に固定するようにした製造方法を示したが、本発明は上記に限られるものではなく、図7hの工程においてスパイラル接触子20の凸部22cを有しない側の面を本確定に固定するものであってもよい。この場合には図7iおよび図7jの工程を不要とすることが可能である。
In the above embodiment, the manufacturing method is shown in which the
また上記の工程(a)では、基板41に凹部41aを1つ形成することにより、巻き終端22bに凸部22cが1つ形成されるものを示したが、本発明ではこれに限られるものではなく、基板41に複数(3〜5つ程度)の凹部41aを形成することにより、巻き終端22bに複数の凸部22cが形成されるものであってもよい。
In the above step (a), one
このようの複数の凸部22cを巻き終端22bに形成すると、前記凸部22cが外部接触子Cに接触したときに、凸部22cが外部接触子の表面を滑るのを防止しやすくできる。よって、外部接触子に表面に凸部により接触痕などが付くのを防止することが可能となる。
By forming such a plurality of
10 検査装置
16 保持シート
16a 開孔
20 スパイラル接触子
21 基部
22 導電部
22a 巻き始端
22b 巻き終端
22c 凸部
41 Cu基板
41a 凹部
42 保護シート(保護層)
43 レジスト層
44 Niメッキ層
45 仮止めシート
B 電子部品
C 外部接触部
DESCRIPTION OF
43 Resist
Claims (9)
(b)前記基板の他方の面を保護層で被覆する工程と、
(c)前記基板の一方の面にレジスト層を設ける工程と、
(d)前記レジスト層を露光・現像して前記レジスト層の一部を除去することにより、前記基板の一方の面にスパイラル状の溝部を形成する工程と、
(e)前記溝部内および前記凹部内にメッキを施すことにより、前記スパイラル接触子と、前記スパイラル接触子の表面に前記凹部に応じた凸部と、を一体で形成する工程と、
(f)前記レジスト層の残りを除去して前記スパイラル接触子の一方の面を露出させる工程と、
(g)前記スパイラル接触子の一方の面に仮止めシートを貼り付けて複数のスパイラル接触子どうしを固定する工程と、
(h)前記保護層および基板を除去することにより、前記スパイラル接触子の他方の面を露出させる工程と、
(i)前記スパイラル接触子の他方の面側の縁部に保持シートを貼り付ける工程と、
(j)前記仮止めシートを前記スパイラル接触子の一方の面から剥離させる工程と、
を有することを特徴とするスパイラル接触子の製造方法。 (A) forming a recess in one surface of the substrate;
(B) coating the other surface of the substrate with a protective layer;
(C) providing a resist layer on one surface of the substrate;
(D) forming a spiral groove on one surface of the substrate by exposing and developing the resist layer to remove a part of the resist layer;
(E) Steps of integrally forming the spiral contact and a protrusion corresponding to the recess on the surface of the spiral contact by plating in the groove and in the recess;
(F) removing the remaining resist layer to expose one surface of the spiral contact;
(G) a step of fixing a plurality of spiral contacts by attaching a temporary fixing sheet to one surface of the spiral contacts;
(H) exposing the other surface of the spiral contact by removing the protective layer and the substrate;
(I) a step of attaching a holding sheet to the edge of the other surface side of the spiral contact;
(J) peeling the temporary fixing sheet from one surface of the spiral contact;
A process for producing a spiral contact, comprising:
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
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Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004055901A JP4354846B2 (en) | 2004-03-01 | 2004-03-01 | Manufacturing method of spiral contact |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005251403A true JP2005251403A (en) | 2005-09-15 |
JP4354846B2 JP4354846B2 (en) | 2009-10-28 |
Family
ID=35031692
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004055901A Expired - Fee Related JP4354846B2 (en) | 2004-03-01 | 2004-03-01 | Manufacturing method of spiral contact |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4354846B2 (en) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008059831A (en) * | 2006-08-30 | 2008-03-13 | Alps Electric Co Ltd | Contactor |
JP2008076316A (en) * | 2006-09-23 | 2008-04-03 | Sumitomo Electric Ind Ltd | Sheet connector, semiconductor tester, and packaged semiconductor product |
JP2009025107A (en) * | 2007-07-19 | 2009-02-05 | Advanced Systems Japan Inc | Manufacturing method of convex form spiral contactor |
JP2010056048A (en) * | 2008-08-29 | 2010-03-11 | Advanced Systems Japan Inc | Spiral contactor and its manufacturing method |
JP2010118256A (en) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Advanced Systems Japan Inc | Spiral contactor and method of manufacturing the same |
-
2004
- 2004-03-01 JP JP2004055901A patent/JP4354846B2/en not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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JP2010118256A (en) * | 2008-11-13 | 2010-05-27 | Advanced Systems Japan Inc | Spiral contactor and method of manufacturing the same |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4354846B2 (en) | 2009-10-28 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
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A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060904 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080827 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Request for written amendment filed |
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TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
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A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090730 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
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FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
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