JP2005246327A - 排水処理装置 - Google Patents
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Abstract
【課題】 例えば下水の二次処理水、各種の産業廃水、原子力施設から発生する洗濯排水等の有機性排水中からCOD成分を効率的に除去することができるとともに、オゾンの使用量も少なくすることができる排水処理装置を提供すること。
【解決手段】 反応槽1に酸化反応を促進させる触媒2を充填した排水処理装置であって、反応槽1の上部に前記触媒表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段4を設け、反応槽の下部に排水を酸化反応して浄化するオゾン供給手段5を設けた。
【選択図】 図1
【解決手段】 反応槽1に酸化反応を促進させる触媒2を充填した排水処理装置であって、反応槽1の上部に前記触媒表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段4を設け、反応槽の下部に排水を酸化反応して浄化するオゾン供給手段5を設けた。
【選択図】 図1
Description
本発明は、例えば下水の二次処理水、各種の産業廃水、原子力施設から発生する洗濯排水等の有機性排水中からCOD成分を効率的に除去することができるとともに、オゾンの使用量も少なくすることができる排水処理装置に関するものである。
従来から有機性排水の処理装置として、特許文献1に示されるように、二酸化マンガンが充填された反応槽の下方からオゾンガスを散気しつつ上方から有機性排水を供給し、反応槽の底部から処理水を取り出す方式のものが知られている。
しかしながら、従来のものは反応槽内に有機性排水を充満させた状態として、その排水液中にオゾンガスを通過させて反応させるものである。この場合、オゾンは水に溶けにくく、しかもオゾンガスの液中通過スピードをコントロールすることが困難であるため、上部から未反応のオゾンガスが多く流出してしまうという現象があった。このため、別に設置されたオゾン発生器の大容量化、廃オゾン処理装置への高負荷化によりイニシャルコスト、ランニングコストがともに高くなるという問題点があった。また、環境基準が厳しくなる傾向から、より高い効率でCOD成分等を除去することができる処理装置の開発が求められているのが現状である。
特開平9−253672号公報
本発明は上記のような従来の問題点を解決して、下水の二次処理水、各種の産業廃水、原子力施設から発生する洗濯排水等の有機性排水中からCOD成分を効率的に除去することができるとともに、オゾンの有効利用を図ることができてイニシャルコストやランニングコストの低減化を達成することができる排水処理装置を提供することを目的して完成されたものである。
上記の課題を解決するためになされた本発明の排水処理装置は、反応槽に酸化反応を促進させる触媒を充填した排水処理装置であって、反応槽の上部に前記触媒表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段を設け、反応槽の下部に排水を酸化反応して浄化するオゾン供給手段を設けたことを特徴とするものである。
また、酸化反応を促進させる目的で排水の加熱手段を設けたものとすることも好ましく、更には、オゾンの溶解を促進させる目的で反応槽内の圧力を高める加圧手段を設けたものとすることも好ましい。
本発明の排水処理装置は、反応槽の上部に前記触媒表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段を設けので、排水は触媒表面を伝って流下することでより大きな表面積を確保することとなる。また、反応槽の下部に排水を酸化反応して浄化するオゾン供給手段を設けたので、下部より供給したオゾンが触媒の隙間を上昇する際に前記排水の液膜中に溶解し酸化反応によって排水を効率よく浄化処理することとなる。
以下に、図面を参照しつつ本発明の好ましい実施の形態を示す。
図1において、1は密封式の反応槽、2は酸化反応を促進させる目的で反応槽1に充填してある触媒、3は触媒2の落下防止用ネットである。
また、反応槽1の上部には前記触媒表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段4が設けられており、反応槽1の下部には排水を酸化反応して浄化するオゾン供給手段5が設けられた構造となっている。
なお、6aは反応槽上部より放出される酸素(O2)の流量を制御するための制御弁、6bは反応槽下部より放出される処理水の流量を制御するための制御弁である。
図1において、1は密封式の反応槽、2は酸化反応を促進させる目的で反応槽1に充填してある触媒、3は触媒2の落下防止用ネットである。
また、反応槽1の上部には前記触媒表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段4が設けられており、反応槽1の下部には排水を酸化反応して浄化するオゾン供給手段5が設けられた構造となっている。
なお、6aは反応槽上部より放出される酸素(O2)の流量を制御するための制御弁、6bは反応槽下部より放出される処理水の流量を制御するための制御弁である。
このような構造の装置では、排水は触媒表面を伝って流下することでより大きな表面積を確保することとなり、下部より供給したオゾンが触媒の隙間を上昇する際に前記排水の液膜中に溶解し酸化反応によって排水を効率よく浄化処理することとなる。しかも、オゾンは重いために反応槽内における上昇スピードは緩やかで、また下方部に濃縮されたオゾンが溜まって反応効率を益々高めることとなる。そして、分解反応したオゾンは酸素(O2)となって上方部より放出されるが、この中にオゾンが含まれる量は極めて少なく有効にオゾンの利用が図られることとなる。
前記排水供給手段4は、排水が触媒表面を伝って流下するように供給するものであり、噴霧式のものや滴下式のものが用いられる。一方、オゾン供給手段5は散気式のものが用いられる。
酸化反応を促進させる触媒触媒5としては、二酸化マンガン触媒を用いるが、その他、コバルト系触媒、ニッケル系触媒、銅系触媒、アルミナ系触媒、チタニア系触媒、白金・パラジウムなどの貴金属系触媒から選択されたものも使用できる。なお、二酸化マンガン触媒を用いる場合、触媒活性を高めるために反応槽1の温度を30℃〜80℃程度、望ましくは50℃〜70℃程度とすることが好適である。また、酸化剤であるオゾンは、排水に対して200ppm〜2000ppm程度、望ましくは450〜1350ppm程度の量を供給することが好適である。
また、反応槽1の温度を高める他、ヒーター等の排水の加熱手段7を設けておきオゾンによる酸化反応を促進させることもできる。
更に、反応槽内の圧力を高める加圧手段を設けた場合には、オゾンの溶解が促進されるため反応効率をより高めることができ好ましい。この加圧手段としては、例えば反応槽1の上部に設けたガス排出量を制御する制御弁6aや、反応槽1の下部に設けた処理水排出量を制御する制御弁6bを制御することで容易に圧力調整することができる。
更に、反応槽内の圧力を高める加圧手段を設けた場合には、オゾンの溶解が促進されるため反応効率をより高めることができ好ましい。この加圧手段としては、例えば反応槽1の上部に設けたガス排出量を制御する制御弁6aや、反応槽1の下部に設けた処理水排出量を制御する制御弁6bを制御することで容易に圧力調整することができる。
以上のように本発明の排水処理装置においては、反応槽1の上部に触媒2の表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段4が設けられており、反応槽1の下部に排水を酸化反応して浄化するオゾン供給手段5が設けられた構造となっているので、排水は触媒表面を伝って流下することでより大きな表面積を確保することとなり、また下部より供給したオゾンが各触媒間の隙間を上昇する際に前記排水の液膜中に溶解し酸化反応によって排水を効率よく浄化処理することとなる。しかも、オゾンは重いために反応槽内における上昇スピードも緩やかで、十分に排水の酸化反応に供せられるので、未反応のまま上方部より放出されることもなく、有効にオゾンの利用が図られることとなる。
なお、排水中に固体状懸濁成分が含まれていた場合には、反応槽1の前段もしくは後段においてフィルタ式や沈降式等の固液分離装置を設置しておき、ろ過処理により固体状懸濁成分を除去すればよい。また、コバルト、鉄、マンガン等の金属イオンが含まれていた場合は、酸化すると不溶性の水酸化コバルト等とすることができ、反応槽1の後段においてフィルタ式や沈降式等の固液分離装置で除去することが可能である。
このように、本発明は下水の二次処理水、各種の産業廃水、原子力施設から発生する洗濯排水等の有機性排水中からCOD成分を効率的に除去することができるとともに、オゾンの有効利用を図ることができてイニシャルコストやランニングコストの低減化を達成することができるものである。
下水の二次処理水を試験水として、O3供給量とCOD除去率との関係を調べた結果は、図2のグラフ(■)で示すとおりであった。
従来方式として、反応槽内に同じ試験水を充満させた状態とし、その排水液中にオゾンガスを通過させた場合のO3供給量とCOD除去率との関係を調べた結果は、図2のグラフ(◆)で示すとおりであった。
同じO3供給量であれば本発明のものが高いCOD除去率を示すことが確認され、オゾンの有効利用を図れることが立証できた。
従来方式として、反応槽内に同じ試験水を充満させた状態とし、その排水液中にオゾンガスを通過させた場合のO3供給量とCOD除去率との関係を調べた結果は、図2のグラフ(◆)で示すとおりであった。
同じO3供給量であれば本発明のものが高いCOD除去率を示すことが確認され、オゾンの有効利用を図れることが立証できた。
1 反応槽
2 触媒
4 排水供給手段
5 オゾン供給手段
6a 制御弁
6b 制御弁
7 加熱器
2 触媒
4 排水供給手段
5 オゾン供給手段
6a 制御弁
6b 制御弁
7 加熱器
Claims (3)
- 反応槽に酸化反応を促進させる触媒を充填した排水処理装置であって、反応槽の上部に前記触媒表面を伝って流下するように排水を供給する排水供給手段を設け、反応槽の下部に排水を酸化反応させて浄化するオゾン供給手段を設けたことを特徴とする排水処理装置。
- 排水の加熱手段が設けられている請求項1に記載の排水処理装置。
- 反応槽内の圧力を高める加圧手段が設けられている請求項1または2に記載の排水処理装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004063356A JP2005246327A (ja) | 2004-03-08 | 2004-03-08 | 排水処理装置 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005246327A true JP2005246327A (ja) | 2005-09-15 |
Family
ID=35027320
Family Applications (1)
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007222766A (ja) * | 2006-02-23 | 2007-09-06 | Ngk Insulators Ltd | 熱分解ガスの処理方法 |
CN104828926A (zh) * | 2015-04-17 | 2015-08-12 | 中国科学院生态环境研究中心 | 一种催化臭氧膜反应器废水深度处理设备及方法 |
CN105329987A (zh) * | 2015-11-24 | 2016-02-17 | 苏州博创环保科技有限公司 | 自催化氧化装置 |
CN108059230A (zh) * | 2017-12-22 | 2018-05-22 | 南京工业大学 | 一种用于高有机物废水处理的深度催化氧化装置 |
CN113582387A (zh) * | 2021-07-30 | 2021-11-02 | 胡思泉 | 一种污水处理用氧化催化装置以及流程 |
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2004
- 2004-03-08 JP JP2004063356A patent/JP2005246327A/ja active Pending
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