JP2005244107A - Method of manufacturing wiring board - Google Patents

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JP2005244107A JP2004055029A JP2004055029A JP2005244107A JP 2005244107 A JP2005244107 A JP 2005244107A JP 2004055029 A JP2004055029 A JP 2004055029A JP 2004055029 A JP2004055029 A JP 2004055029A JP 2005244107 A JP2005244107 A JP 2005244107A
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Sumio Ota
純雄 太田
Toshiya Asano
俊哉 浅野
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing a wiring board which can prevent the overflowing of a back resin to the surface of a core substrate and thereby can form a laminate flat in manufacturing the wiring board, by a method wherein the core substrate is stored in the storage of a jig having the storage which is extended through from the surface to the backside of the jig, and has a size corresponding to the size of the core substrate, and then the back resin is attached to the backside to form the laminate on the surface. <P>SOLUTION: A first principal plane (surface) of the core substrate and a first principal plane (surface) of the jig are coated with an insulating material, and a heat curing material which constitutes a back insulation layer is attached to a second principal plane (backside) of the core substrate. The insulating material applied on the surfaces prevents the heat curing material attached between the second principal plane of the core substrate and the storage of the jig from overflowing from between the side faces of the jig and the core substrate to the surface. Thereafter, the laminate is formed. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、配線基板の製造方法に関する。   The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board.

微細な配設をするための配線基板として、両面プリント配線基板をコア層とし、これに薄い絶縁性樹脂層と導体層を交互に積み上げて形成するビルドアップ基板が開発された。そして導体回路のファインパターン化に対する設計のし易さや、低重量化などのために、このビルドアップ工法が普及している。   As a wiring board for fine arrangement, a build-up board has been developed in which a double-sided printed wiring board is used as a core layer, and thin insulating resin layers and conductor layers are alternately stacked thereon. This build-up method has become widespread for ease of design for fine patterning of conductor circuits and weight reduction.

プリント配線板は、金属箔張りの積層板の表面に回路形成を行うなどして製造される。この積層板は、プリプレグを用いて作製される。プリプレグは、一般に、ガラス布やアラミド繊維布等の基材にエポキシ樹脂やポリイミド樹脂などの合成樹脂を含浸し、乾燥させて半硬化させて得られたものである。プリプレグは、有機樹脂製のフィルム体であって、加熱されると樹脂成分が粘性液体になって時間の経過とともに漸次硬化する特性を有している。その為、これによって、積層された各層の基板セグメント同士を接着して一体化することができる。   The printed wiring board is manufactured by forming a circuit on the surface of a metal foil-clad laminate. This laminated board is produced using a prepreg. A prepreg is generally obtained by impregnating a base material such as a glass cloth or an aramid fiber cloth with a synthetic resin such as an epoxy resin or a polyimide resin, followed by drying and semi-curing. The prepreg is a film body made of an organic resin and has a characteristic that when heated, the resin component becomes a viscous liquid and gradually cures with time. Therefore, this makes it possible to bond and integrate the substrate segments of the stacked layers.

多層配線板の製造は、内層回路が形成された内層用基板にプリプレグを介して銅箔等の外層用金属箔を積層して積層体とし、この積層体を加熱加圧することによって得られる多層板を用いて行われることが多い。   The multilayer wiring board is manufactured by laminating an outer layer metal foil such as a copper foil via a prepreg on an inner layer substrate on which an inner layer circuit is formed, and then heating and pressing the laminated body. It is often performed using.

多層配線板としては、多層板の外層用金属箔に加工を施して外層回路を形成すると共に、プリプレグが硬化して形成された絶縁層に孔をあけてビアホールを形成し、このビアホールにめっきを施して外層回路と内層回路を導通させて製造されるものがある。   As a multilayer wiring board, the outer layer metal foil of the multilayer board is processed to form an outer layer circuit, a hole is formed in the insulating layer formed by curing the prepreg, and the via hole is plated. Some are manufactured by conducting the outer layer circuit and the inner layer circuit.

ビルドアップ法により製造する多層プリント配線板は、従来の積層方式の多層プリント配線板に比較して高い配線設計自由度を有するものであるが、この特徴を活かして高性能プリント配線板として用いられるために、層間絶縁層の更なる薄手化、回路パターンの平坦性の向上が要求されている。ビルドアップ多層配線基板は、セラミック製または樹脂製のコア基板の両面上に樹脂絶縁層を積層した両面積層の多層基板や、コア基板の片面上に樹脂絶縁層を積層した片面積層の多層配線基板がある(特許文献1)。   A multilayer printed wiring board manufactured by the build-up method has a higher degree of freedom in wiring design than a conventional multilayer printed wiring board, but it is used as a high-performance printed wiring board taking advantage of this feature. Therefore, it is required to further reduce the thickness of the interlayer insulating layer and improve the flatness of the circuit pattern. The build-up multilayer wiring board is a double-sided multilayer board in which resin insulation layers are laminated on both sides of a ceramic or resin core board, or a single-area multilayer wiring board in which a resin insulation layer is laminated on one side of the core board. (Patent Document 1).

複数の配線基板を一挙に製造する配線基板の製造方法において、複数のコア基板を配置する収容部を有する加工用治具を使用する方法がある(特許文献2)。この方法では、複数のコア基板を用意し、配線基板の反りを防止するために、その複数のコア基板を加工用治具の収容部に収容し、ビルドアップ層を形成する。この治具表面には、複数のコア基板を収容する収容部が開口しており、収容部の深さは、コア基板の厚さと同一である。この加工用治具の収容部に複数のコア基板を並べて、加工用治具の治具表面と各コア基板のコア表面とを面一にし、その後、第一絶縁層形成工程において、治具表面と各コア表面とを覆うように、第一樹脂絶縁層を形成する。   In a method of manufacturing a wiring board that manufactures a plurality of wiring boards at once, there is a method of using a processing jig having a housing portion in which a plurality of core boards are arranged (Patent Document 2). In this method, a plurality of core substrates are prepared, and in order to prevent warping of the wiring substrate, the plurality of core substrates are accommodated in an accommodating portion of a processing jig to form a buildup layer. A housing portion for housing a plurality of core substrates is opened on the surface of the jig, and the depth of the housing portion is the same as the thickness of the core substrate. A plurality of core substrates are arranged in the processing jig housing portion so that the jig surface of the processing jig and the core surface of each core substrate are flush with each other. A first resin insulation layer is formed so as to cover each core surface.

特開2001−36237号公報JP 2001-36237 A 特開2003−133687号公報JP 2003-133687 A

さらにこのような治具を2つ用いて、裏面同士を裏面樹脂により貼り合わせ、効率よくビルドアップ層を形成する方法がある。しかしながらコア基板と治具の収容部との間から裏面樹脂がコア基板表面へはみ出てしまい、平坦にビルドアップ層を形成できないという問題や、またデラミネーション(層間剥離)が生じる原因となるという問題があった。   Furthermore, there is a method of using two such jigs and bonding the back surfaces together with a back surface resin to efficiently form a build-up layer. However, there is a problem that the resin on the back surface protrudes from the space between the core substrate and the jig housing part and the build-up layer cannot be formed flatly, and also causes delamination. was there.

ここで従来の製造方法を図7を用いて説明する。配線基板の製造過程において使用する加工用治具の断面図を図7(a)に示す。加工用治具100には、コア収容部101が形成されている。加工用治具100の厚さは、コア収容部101に収容されるコア基板70と同一である。加工用治具100は、金属または高分子材料からなる。またコア収容部101に収容する配線基板を形成するためのコア基板70は、セラミックからなる。加工用治具100と加工用治具200(加工用治具200は、加工用治具100と同一のもの)とを用意し、図7(a)に示すように、それぞれの加工用治具100,200のコア基板収容部101,201にコア基板70を収容する。   Here, a conventional manufacturing method will be described with reference to FIG. FIG. 7A shows a cross-sectional view of a processing jig used in the manufacturing process of the wiring board. A core accommodating portion 101 is formed in the processing jig 100. The thickness of the processing jig 100 is the same as that of the core substrate 70 accommodated in the core accommodating portion 101. The processing jig 100 is made of a metal or a polymer material. The core substrate 70 for forming the wiring substrate accommodated in the core accommodating portion 101 is made of ceramic. A processing jig 100 and a processing jig 200 (the processing jig 200 is the same as the processing jig 100) are prepared, and as shown in FIG. The core substrate 70 is accommodated in the core substrate accommodating portions 101 and 201 of 100 and 200.

図7(b)に示すように、加工用治具100,200にコア基板70を収容した場合の断面図を示す。コア基板70は、加工用治具100,200の収容部101,201に収容され、それぞれのコア基板70の第一主表面CP1と加工用治具100,200の第一主表面JP1、コア基板70の第二主表面CP2と加工用治具100,200の第二主表面JP2とは、面一となる。そして、第一加工用治具100の第二主表面JP2とコア基板70の第二主表面CP2を覆う形態で、絶縁樹脂層を形成するために、樹脂12を付着し、さらに離型シート13を付着する。同様に第二加工用治具200の第二主表面JP2とコア基板70の第二主表面CP2を覆う形態で、絶縁樹脂層を形成するために、樹脂12を付着し、さらに離型シート13を付着する。   As shown in FIG. 7B, a cross-sectional view when the core substrate 70 is accommodated in the processing jigs 100 and 200 is shown. The core substrate 70 is accommodated in the accommodating portions 101 and 201 of the processing jigs 100 and 200, the first main surface CP1 of each core substrate 70, the first main surface JP1 of the processing jigs 100 and 200, the core substrate. The second main surface CP2 of 70 and the second main surface JP2 of the processing jigs 100 and 200 are flush with each other. Then, in order to form an insulating resin layer in a form covering the second main surface JP2 of the first processing jig 100 and the second main surface CP2 of the core substrate 70, a resin 12 is attached, and a release sheet 13 is further formed. Adhere. Similarly, in order to form an insulating resin layer in a form covering the second main surface JP2 of the second processing jig 200 and the second main surface CP2 of the core substrate 70, the resin 12 is adhered, and the release sheet 13 is further formed. Adhere.

そして、図7(c)に示すように、第一加工用治具100の第二主表面JP2と、第二加工用治具200の第二主表面JP2とを対向させて、離型シート13を挟んで、これらを接着する。この後、第一加工用治具100の第一主表面JP1側と、第二加工用治具200の第一主表面JP1側に、それぞれビルドアップ層を形成する。しかしながら、加工用治具100,200と、その収容部101,201に収容されたコア基板との間に隙間60が生じ、そこから裏面樹脂が第一主表面側に流れ出すという不具合が生じる。ここにビルドアップ層を形成すると、樹脂61の流れ出しにより、平坦にビルドアップ層が形成できず、デラミネーションが生じる原因となる。そこでこれを防ぐためには、この流れ出した樹脂61を除去する工程が必要となり、工程が増えることから、コストアップにもつながっていた。   7C, the second main surface JP2 of the first processing jig 100 and the second main surface JP2 of the second processing jig 200 are opposed to each other, so that the release sheet 13 Adhere these together. Thereafter, build-up layers are formed on the first main surface JP1 side of the first processing jig 100 and the first main surface JP1 side of the second processing jig 200, respectively. However, a gap 60 is generated between the processing jigs 100 and 200 and the core substrate accommodated in the accommodating portions 101 and 201, and the back surface resin flows out from the gap to the first main surface side. If a build-up layer is formed here, the build-up layer cannot be formed flatly due to the flow-out of the resin 61, causing delamination. Therefore, in order to prevent this, a process for removing the resin 61 that has flowed out is required, and the number of processes increases, leading to an increase in cost.

そこで本発明の課題は、コア基板を治具の収容部に収容し、裏面に裏面樹脂を付着し、表面にビルドアップ層を形成する配線基板の製造において、コア基板表面への裏面樹脂のはみ出しを防止し、もって積層体を平坦に形成することのできる配線基板の製造方法を提供することである。   Accordingly, an object of the present invention is to accommodate the core substrate in the jig housing portion, attach the back resin to the back surface, and form a build-up layer on the front surface, so that the back resin protrudes from the core substrate surface. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a wiring board capable of preventing the occurrence of the problem and thereby forming a laminate in a flat manner.

課題を解決するための手段および発明の効果Means for Solving the Problems and Effects of the Invention

上記課題を解決するための本発明の配線基板の製造方法は、
コア基板の第一主表面上に、絶縁体層および配線層を有する積層体を形成する配線基板の製造方法であって、
第一治具主表面と第二治具主表面との間を貫通し、コア基板の大きさに対応した収容部を有する治具に、コア基板を収容し、
コア基板の第二主表面と治具の収容部との間に付着した熱硬化型材料が、治具とコア基板の側面との間隙からはみ出すことを防ぐために、コア基板の第一主表面と第一治具主表面とを、絶縁材料で被覆して、
コア基板の第二主表面に裏面絶縁層を形成する熱硬化型高分子材料を付着し、
ビルドアップ層を形成する。
The manufacturing method of the wiring board of the present invention for solving the above problems is as follows.
On the first main surface of the core substrate, a method for manufacturing a wiring substrate for forming a laminate having an insulating layer and a wiring layer,
The core substrate is accommodated in a jig having an accommodating portion corresponding to the size of the core substrate, penetrating between the first jig main surface and the second jig main surface,
In order to prevent the thermosetting material adhering between the second main surface of the core substrate and the housing portion of the jig from protruding from the gap between the jig and the side surface of the core substrate, Cover the first jig main surface with an insulating material,
A thermosetting polymer material that forms a back insulating layer is attached to the second main surface of the core substrate,
Form a build-up layer.

コア基板の厚さと同一の深さの収容部を有した治具に、コア基板を収容して、コア基板と治具の第一主表面を絶縁材料で覆う。絶縁材料としては、フィルム状のものを使用すると、作業性がよく、利便がよい。これにより、第二主表面に熱硬化型材料を付着することによって、第一主表面側のコア基板と治具の収容部との隙間から、その熱硬化型材料がはみ出すことを防ぐことができる。そして第一ビルドアップ層を平坦に形成することができ、コア基板と第一ビルドアップ層との密着の信頼性を向上することができる。   The core substrate is accommodated in a jig having an accommodating portion having the same depth as the thickness of the core substrate, and the first main surface of the core substrate and the jig is covered with an insulating material. When an insulating material is used, it is easy to work and convenient. Thereby, by attaching the thermosetting material to the second main surface, the thermosetting material can be prevented from protruding from the gap between the core substrate on the first main surface side and the housing portion of the jig. . And a 1st buildup layer can be formed flatly and the reliability of the close_contact | adherence with a core board | substrate and a 1st buildup layer can be improved.

本発明の配線基板の第二の製造方法は、コア基板の第一主表面上に、絶縁体層および配線層を有する積層体を形成する配線基板の製造方法であって、
第一治具主表面と第二治具主表面との間を貫通し、コア基板の大きさに対応した収容部を有する治具に、コア基板を収容し、
コア基板の第二主表面と治具の収容部との間に付着した熱硬化型材料が、治具とコア基板の側面との間隙からはみ出すことを防ぐために、コア基板の第一主表面と第一治具主表面とを、絶縁材料で被覆して、
コア基板の第二主表面に裏面絶縁層を形成する熱硬化型材料を付着し、さらに離型シートを付着し、
コア基板を収容した2つの治具の第二治具主表面を対向させて、貼り合わせ、
積層体を形成する。
The second manufacturing method of the wiring board of the present invention is a manufacturing method of a wiring board that forms a laminate having an insulator layer and a wiring layer on the first main surface of the core substrate,
The core substrate is accommodated in a jig having an accommodating portion corresponding to the size of the core substrate, penetrating between the first jig main surface and the second jig main surface,
In order to prevent the thermosetting material adhering between the second main surface of the core substrate and the housing portion of the jig from protruding from the gap between the jig and the side surface of the core substrate, Cover the first jig main surface with an insulating material,
A thermosetting material that forms a back surface insulating layer is attached to the second main surface of the core substrate, and further a release sheet is attached,
The second jig main surfaces of the two jigs containing the core substrate are opposed to each other and bonded together.
A laminate is formed.

2つの治具のそれぞれの収容部にコア基板を収容して、第二主表面側同士を、
貼り合わせることで、この後の工程を効率よく行うことができる。なお第二治具主表面を対向させて、貼り合わせると、裏面絶縁層と離型シートを挟んで貼り合わせることになる。前述の方法と同様に、第一主表面側に絶縁材料を付着して(フィルム状のものを使用するとよい)、治具とコア基板の第一主表面側からの熱硬化型材料のはみ出しを防ぐことができる。絶縁材料を第一主表面に貼り付け第一ビルドアップ層を形成することで、コア基板と第一ビルドアップ層との密着性を向上することができる。
The core substrate is accommodated in the accommodating portions of the two jigs, and the second main surface sides are
By bonding, the subsequent steps can be performed efficiently. When the second jig main surface is opposed and bonded together, it is bonded with the back surface insulating layer and the release sheet interposed therebetween. In the same manner as described above, an insulating material is attached to the first main surface side (it is preferable to use a film-like material), and the thermosetting material protrudes from the jig and the first main surface side of the core substrate. Can be prevented. By sticking the insulating material to the first main surface to form the first buildup layer, the adhesion between the core substrate and the first buildup layer can be improved.

絶縁材料としては、熱硬化型樹脂を使用する。熱硬化型樹脂を第一主表面に貼り付け、熱処理を施すことで、第一ビルドアップ層を形成することができる。絶縁材料は、例えばエポキシ樹脂とシリカフィラーからなる。そしてフィルム状の絶縁材料を用いることができる。フィルム状絶縁材料は、コア基板に貼り付け、熱処理によってビルドアップ層とするのに作業性がよく、コア基板との密着性の点からも都合がよい。   A thermosetting resin is used as the insulating material. A first buildup layer can be formed by attaching a thermosetting resin to the first main surface and applying heat treatment. The insulating material is made of, for example, an epoxy resin and a silica filler. A film-like insulating material can be used. The film-like insulating material is easy to attach to the core substrate and forms a build-up layer by heat treatment, and is convenient from the viewpoint of adhesion to the core substrate.

本発明の製造工程では、コア基板の第二主表面に付着された裏面絶縁層を形成する熱硬化型材料と、コア基板の第一主表面に貼り付けられた絶縁材料とを、同時に熱硬化処理することができる。これによって工程を簡略化することができ、製造コストを削減することができる。   In the manufacturing process of the present invention, the thermosetting material for forming the back surface insulating layer attached to the second main surface of the core substrate and the insulating material attached to the first main surface of the core substrate are simultaneously thermoset. Can be processed. As a result, the process can be simplified and the manufacturing cost can be reduced.

図1(a)に本発明により製造する配線基板1の断面図、(b)にそのコア基板70を示す。この配線基板1は、略板状であり、コア基板本体2が4層のセラミック層からなる。コア基板70の第一主表面CP1側には、エポキシ樹脂等からなる第一ビルドアップ層15が形成され、さらにエポキシ樹脂等からなるソルダーレジスト層29が形成されている。一方、コア基板70の第二主表面CP2側には、エポキシ樹脂等からなる裏面絶縁層12が形成されている。   FIG. 1A is a cross-sectional view of a wiring board 1 manufactured according to the present invention, and FIG. The wiring substrate 1 is substantially plate-shaped, and the core substrate body 2 is composed of four ceramic layers. On the first main surface CP1 side of the core substrate 70, a first buildup layer 15 made of an epoxy resin or the like is formed, and a solder resist layer 29 made of an epoxy resin or the like is further formed. On the other hand, a back insulating layer 12 made of an epoxy resin or the like is formed on the second main surface CP2 side of the core substrate 70.

コア基板70には、これを貫通する略円柱状のスルーホール5が所定の位置に多数形成され、その内部には、スルーホール導体3がそれぞれ形成されている。高分子材料からなるビルドアップ絶縁層15とソルダーレジスト層29との間には、ビルドアップ配線層21が形成されて、積層体(ビルドアップ層)が形成されている。コア配線層10とビルドアップ配線層21とを接続するために、ビルドアップ絶縁層15には、銅メッキ製のビア導体16が形成されている。   A large number of substantially cylindrical through holes 5 penetrating the core substrate 70 are formed at predetermined positions, and through hole conductors 3 are formed therein. A buildup wiring layer 21 is formed between the buildup insulating layer 15 made of a polymer material and the solder resist layer 29 to form a laminate (buildup layer). In order to connect the core wiring layer 10 and the buildup wiring layer 21, a copper plated via conductor 16 is formed in the buildup insulating layer 15.

ビルドアップ配線層21上の所定の位置には、ソルダーレジスト層29を貫通し配線基板の第一主表面30を突出するように、配線基板1に電子部品を実装するためのハンダ接続部(ハンダバンプ)31が形成されている。このハンダバンプ31は、例えばSn−Ag系などの低融点合金からなる。   Solder connection portions (solder bumps) for mounting electronic components on the wiring board 1 are formed at predetermined positions on the build-up wiring layer 21 so as to penetrate the solder resist layer 29 and protrude the first main surface 30 of the wiring board. ) 31 is formed. The solder bump 31 is made of a low melting point alloy such as Sn—Ag.

またコア基板70の裏面側、つまり第二主表面CP2側でコア配線層11の所定の位置には、無機繊維と熱硬化型高分子材料との複合材料により、裏面絶縁層(裏面樹脂層)12が形成されている。複合材料としては、ガラス繊維または炭素繊維を含有した樹脂が挙げられる。つまりプリプレグを使用することができる。例えばエポキシ樹脂を使用することもできる。この裏面絶縁層12の所定の位置には、第二主表面32に開口する開口部14が形成され、コア配線層11の一部が露出している。このコア配線層11は、その表面にNiおよびAuメッキが被覆され、マザーボードなどのプリント基板との接続端子となる。   Further, at a predetermined position of the core wiring layer 11 on the back surface side of the core substrate 70, that is, on the second main surface CP2 side, a back surface insulating layer (back surface resin layer) is formed by a composite material of inorganic fibers and a thermosetting polymer material. 12 is formed. Examples of the composite material include resins containing glass fiber or carbon fiber. That is, a prepreg can be used. For example, an epoxy resin can be used. At a predetermined position of the back surface insulating layer 12, an opening 14 that opens to the second main surface 32 is formed, and a part of the core wiring layer 11 is exposed. The core wiring layer 11 is coated with Ni and Au plating on its surface, and serves as a connection terminal to a printed board such as a mother board.

本発明の配線基板の製造過程において使用する加工用治具100の断面図を図2(a)に、平面図を図2(b)に示す。加工用治具は、コア収容部101が形成されている。本実施例においては、コア収容部101は、4つ形成されているが、これに限定されない。加工用治具100の厚さは、コア収容部101に収容されるコア基板70と同一である。加工用治具100は、金属または高分子材料からなるが、特にコストの面から高分子材料で形成することが望ましい。   FIG. 2A shows a cross-sectional view of the processing jig 100 used in the process of manufacturing the wiring board of the present invention, and FIG. The processing jig has a core housing portion 101 formed therein. In the present embodiment, four core housing parts 101 are formed, but the present invention is not limited to this. The thickness of the processing jig 100 is the same as that of the core substrate 70 accommodated in the core accommodating portion 101. The processing jig 100 is made of a metal or a polymer material, but it is desirable that the processing jig 100 be made of a polymer material particularly from the viewpoint of cost.

本発明において、コア収容部101に収容する配線基板を形成するためのコア基板70は、セラミックからなる。コア基板70を作製する際に、電気抵抗の低い銅を使った配線を内部に形成しつつセラミックを焼成するが、高温で処理をすると配線が溶ける原因となるため、特に低温焼成セラミックが望ましい。   In the present invention, the core substrate 70 for forming the wiring substrate accommodated in the core accommodating portion 101 is made of ceramic. When the core substrate 70 is manufactured, the ceramic is fired while forming a wiring using copper having a low electric resistance inside. However, if the treatment is performed at a high temperature, the wiring is melted.

次に本発明の製造工程を説明する。図3(a)に示すように、加工用治具100のコア基板収容部101にコア基板70を収容する。図3(b)に、加工用治具100にコア基板70を収容した場合の断面図を示す。図3(c)は、加工用治具の4つの収容部に4つのコア基板が収容された場合の平面図を示す。コア基板70は、加工用治具100の収容部101に収容され、それぞれのコア基板70の第一主表面CP1と加工用治具100の第一主表面JP1、コア基板70の第二主表面CP2と加工用治具100の第二主表面JP2とは、面一となる。   Next, the manufacturing process of the present invention will be described. As shown in FIG. 3A, the core substrate 70 is accommodated in the core substrate accommodating portion 101 of the processing jig 100. FIG. 3B shows a cross-sectional view when the core substrate 70 is accommodated in the processing jig 100. FIG. 3C is a plan view when four core substrates are accommodated in the four accommodating portions of the processing jig. The core substrate 70 is accommodated in the accommodating portion 101 of the processing jig 100, the first main surface CP1 of each core substrate 70, the first main surface JP1 of the processing jig 100, and the second main surface of the core substrate 70. CP2 and second main surface JP2 of processing jig 100 are flush with each other.

以上のように、加工用治具の収容部にコア基板を収容し、このような加工用治具を2つ用意する。図4(a)に示すように、まず第一加工用治具100の第一主表面JP1とコア基板70の第一主表面CP1を覆う形態で、無機フィラーを含むフィルムタイプの熱硬化性樹脂15(例えばエポキシとシリカフィラーからなる)を仮接着する。また同様に、第二加工用治具200の第一主表面CP1とコア基板70の第一主表面CP1とを覆う形態で、熱硬化性樹脂フィルム15を仮接着する。   As described above, the core substrate is accommodated in the accommodating portion of the processing jig, and two such processing jigs are prepared. As shown in FIG. 4A, first, a film-type thermosetting resin containing an inorganic filler in a form covering the first main surface JP1 of the first processing jig 100 and the first main surface CP1 of the core substrate 70. 15 (for example, made of epoxy and silica filler) is temporarily bonded. Similarly, the thermosetting resin film 15 is temporarily bonded so as to cover the first main surface CP1 of the second processing jig 200 and the first main surface CP1 of the core substrate 70.

図4(b)に示すように、その後、第一加工用治具100の第二主表面CP2とコア基板70の第二主表面CP2を覆う形態で、絶縁樹脂層を形成するために、樹脂12を付着し、さらに離型シート13を付着する。同様に第二加工用治具200の第二主表面JP2とコア基板70の第二主表面CP2とを覆う形態で、絶縁樹脂層を形成するために、樹脂12を付着し、さらに離型シート13を付着する。   As shown in FIG. 4B, a resin is then used to form an insulating resin layer in a form covering the second main surface CP2 of the first processing jig 100 and the second main surface CP2 of the core substrate 70. 12 is adhered, and a release sheet 13 is further adhered. Similarly, in order to form an insulating resin layer in a form covering the second main surface JP2 of the second processing jig 200 and the second main surface CP2 of the core substrate 70, a resin 12 is attached, and a release sheet is further formed. 13 is attached.

そして、図4(c)に示すように、第一加工用治具100の第二主表面JP2と、第二加工用治具200の第二主表面JP2とを対向させて、離型シート13を挟んで、これらを接着する。続いて、裏面絶縁層13と第一ビルドアップ層15となる熱硬化性樹脂フィルムとを同時に真空熱プレスにより加熱処理する。   And as shown in FIG.4 (c), the 2nd main surface JP2 of the 1st processing jig | tool 100 and the 2nd main surface JP2 of the 2nd processing jig | tool 200 are made to oppose, and the release sheet 13 is provided. Adhere these together. Subsequently, the back insulating layer 13 and the thermosetting resin film to be the first buildup layer 15 are simultaneously heat-treated by vacuum hot pressing.

図5にコア基板70を収容した2つの加工用治具100,200の接着工程(図4)の拡大図を示す。図5(a)に示すように、第一加工治具100とコア基板70との第一主表面JP1,CP1には、第一ビルドアップ層を形成するための熱硬化性樹脂フィルム15が貼り付けられている。第一加工用治具100とコア基板70との第二主表面JP2,CP2には、裏面絶縁層を形成するための熱硬化性樹脂12が付着され、さらに離型シート13が付着されている。裏面絶縁層を形成するための熱硬化性樹脂は、加工用治具とコア基板の間隙60にも流れ入っている。   FIG. 5 shows an enlarged view of the bonding process (FIG. 4) of the two processing jigs 100 and 200 accommodating the core substrate 70. As shown in FIG. 5A, the thermosetting resin film 15 for forming the first buildup layer is attached to the first main surfaces JP1 and CP1 of the first processing jig 100 and the core substrate 70. It is attached. A thermosetting resin 12 for forming a back surface insulating layer is attached to the second main surfaces JP2 and CP2 of the first processing jig 100 and the core substrate 70, and a release sheet 13 is further attached. . The thermosetting resin for forming the back surface insulating layer also flows into the gap 60 between the processing jig and the core substrate.

第二加工用治具200についても同様である。これら第一加工用治具100と第二加工用治具200の第二主表面側JP2を対向させて、図5(b)に示すように離型シート13を挟んで、密着させる。その後、真空熱プレスにより、加熱硬化処理を行う。第一加工用治具100と第二加工用治具200とのそれぞれの第一主表面JP1側に、第一ビルドアップ層を形成するための熱硬化性樹脂フィルム15が、貼り付けられているため、加工用治具100,200とコア基板70との間隙60から、第一主表面JP1側に裏面絶縁層を形成する熱硬化性樹脂が流れ出すことを防ぐことができる。   The same applies to the second processing jig 200. The first main surface side JP2 of the first processing jig 100 and the second processing jig 200 are opposed to each other, and the release sheet 13 is sandwiched between them as shown in FIG. Thereafter, heat curing treatment is performed by vacuum hot pressing. A thermosetting resin film 15 for forming the first buildup layer is attached to the first main surface JP1 side of each of the first processing jig 100 and the second processing jig 200. Therefore, it is possible to prevent the thermosetting resin forming the back surface insulating layer from flowing out from the gap 60 between the processing jigs 100 and 200 and the core substrate 70 on the first main surface JP1 side.

続いて、第一主表面に、ビルドアップ層や配線層、ソルダーレジスト層を形成し、配線基板を製造する。図4に続く工程を図6に示す。図6(a)は、図4(c)の拡大図であり、図4(c)の基板70には、既にスルーホール5やコア配線層10が形成され、その上に、第一ビルドアップ層15が形成されている。すなわち図6(a)に示すように、加工用治具100,200にコア基板70が収容され、第一ビルドアップ層15が形成されている。そして図6(b)に示すように、コア基板の第一主表面上の第一ビルドアップ層15に、銅メッキ性のビア導体16を形成し、さらにソルダーレジスト層29を形成する。続いて、ソルダーレジスト層29を貫通し、第一主表面30を突出するようにハンダバンプ31を形成する。   Subsequently, a buildup layer, a wiring layer, and a solder resist layer are formed on the first main surface to manufacture a wiring board. The process following FIG. 4 is shown in FIG. FIG. 6A is an enlarged view of FIG. 4C. In the substrate 70 of FIG. 4C, the through hole 5 and the core wiring layer 10 are already formed, and the first buildup is formed thereon. Layer 15 is formed. That is, as shown in FIG. 6A, the core substrate 70 is accommodated in the processing jigs 100 and 200, and the first buildup layer 15 is formed. Then, as shown in FIG. 6B, a copper-plated via conductor 16 is formed on the first buildup layer 15 on the first main surface of the core substrate, and a solder resist layer 29 is further formed. Subsequently, solder bumps 31 are formed so as to penetrate the solder resist layer 29 and protrude the first main surface 30.

その後、第一加工用治具100と第二加工用治具200とを離型シート13において引き剥がし、裏面絶縁層12の所定の位置に開口部14を形成することにより、図1(a)の配線基板1が完成する。   Thereafter, the first processing jig 100 and the second processing jig 200 are peeled off from the release sheet 13 to form an opening 14 at a predetermined position of the back surface insulating layer 12, whereby FIG. The wiring board 1 is completed.

以上のように、第一ビルドアップ層を予め治具表面に仮接着することにより、裏面樹脂の第一主表面への流れだしがなくなる。また一対の接着と第一ビルドアップ層の形成を同時に行うため、プロセスの簡略化にもつながる。工程プロセスの簡略化により、コストを低減することができる。またコア基板とビルドアップ材との密着の信頼性を向上することができる。   As described above, by temporarily adhering the first buildup layer to the jig surface in advance, there is no flow of the back resin to the first main surface. Further, since the pair of adhesion and the formation of the first buildup layer are performed at the same time, the process can be simplified. Cost can be reduced by simplifying the process. In addition, the reliability of adhesion between the core substrate and the buildup material can be improved.

本発明の製造工程による配線基板の断面図。Sectional drawing of the wiring board by the manufacturing process of this invention. 本発明の製造工程において使用する加工用治具の断面図と平面図。Sectional drawing and top view of the jig | tool for a process used in the manufacturing process of this invention. 本発明の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of this invention. 図3に続く本発明の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of this invention following FIG. 図4における製造工程の拡大図。The enlarged view of the manufacturing process in FIG. 図4に続く本発明の製造工程を説明する図。The figure explaining the manufacturing process of this invention following FIG. 従来の製造工程を説明する図。The figure explaining the conventional manufacturing process.

符号の説明Explanation of symbols

1 配線基板
13 離型シート
15 熱硬化性樹脂フィルム(第一ビルドアップ層)
70 コア基板
100,200 加工用治具
101,201 収容部
1 Wiring board 13 Release sheet 15 Thermosetting resin film (first buildup layer)
70 Core substrate 100, 200 Processing jig 101, 201 Housing

Claims (4)

コア基板の第一主表面上に、絶縁体層および配線層を有する積層体を形成する配線基板の製造方法であって、
第一治具主表面と第二治具主表面との間を貫通し、前記コア基板の大きさに対応した収容部を有する治具に、前記コア基板を収容し、
コア基板の第二主表面と前記治具の収容部との間に付着した熱硬化型材料が、前記治具と前記コア基板の側面との間隙からはみ出すことを防ぐために、前記コア基板の第一主表面と前記第一治具主表面とを、絶縁材料で被覆して、
前記コア基板の第二主表面に裏面絶縁層を形成する熱硬化型材料を付着し、
積層体を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
On the first main surface of the core substrate, a method for manufacturing a wiring substrate for forming a laminate having an insulating layer and a wiring layer,
The core substrate is accommodated in a jig having an accommodating portion corresponding to the size of the core substrate, penetrating between the first jig main surface and the second jig main surface,
In order to prevent the thermosetting material adhering between the second main surface of the core substrate and the housing portion of the jig from protruding from the gap between the jig and the side surface of the core substrate, One main surface and the first jig main surface are coated with an insulating material,
Adhering a thermosetting material forming a back insulating layer on the second main surface of the core substrate,
A method of manufacturing a wiring board, comprising forming a laminate.
コア基板の第一主表面上に、絶縁体層および配線層を有する積層体を形成する配線基板の製造方法であって、
第一治具主表面と第二治具主表面との間を貫通し、前記コア基板の大きさに対応した収容部を有する治具に、前記コア基板を収容し、
コア基板の第二主表面と前記治具の収容部との間に付着した熱硬化型材料が、前記治具と前記コア基板の側面との間隙からはみ出すことを防ぐために、前記コア基板の第一主表面と前記第一治具主表面とを、絶縁材料で被覆して、
前記コア基板の第二主表面に裏面絶縁層を形成する熱硬化型材料を付着し、さらに離型シートを付着し、
前記コア基板を収容した2つの前記治具の前記第二治具主表面を対向させて、貼り合わせ、
積層体を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。
On the first main surface of the core substrate, a method for manufacturing a wiring substrate for forming a laminate having an insulating layer and a wiring layer,
The core substrate is accommodated in a jig having an accommodating portion corresponding to the size of the core substrate, penetrating between the first jig main surface and the second jig main surface,
In order to prevent the thermosetting material adhering between the second main surface of the core substrate and the housing portion of the jig from protruding from the gap between the jig and the side surface of the core substrate, One main surface and the first jig main surface are coated with an insulating material,
Adhering a thermosetting material for forming a back surface insulating layer on the second main surface of the core substrate, further attaching a release sheet,
The second jig main surfaces of the two jigs containing the core substrate are opposed to each other and bonded together,
A method of manufacturing a wiring board, comprising forming a laminate.
前記絶縁材料は、エポキシ樹脂とシリカフィラーからなる請求項1または2に記載の配線基板の製造方法。   The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the insulating material includes an epoxy resin and a silica filler. 前記コア基板の前記第二主表面に付着された裏面絶縁層を形成する熱硬化型材料と、前記コア基板の前記第一主表面に貼り付けられた絶縁材料とを、同時に熱硬化処理する請求項1ないし3のいずれか1項に記載の配線基板の製造方法。   The thermosetting material for forming a back surface insulating layer attached to the second main surface of the core substrate and the insulating material attached to the first main surface of the core substrate are simultaneously thermoset processed. Item 4. The method for manufacturing a wiring board according to any one of Items 1 to 3.
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