JP2003209355A - Circuit board and method for manufacturing the same - Google Patents

Circuit board and method for manufacturing the same

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JP2003209355A
JP2003209355A JP2002005898A JP2002005898A JP2003209355A JP 2003209355 A JP2003209355 A JP 2003209355A JP 2002005898 A JP2002005898 A JP 2002005898A JP 2002005898 A JP2002005898 A JP 2002005898A JP 2003209355 A JP2003209355 A JP 2003209355A
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Japan
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metal foil
connection electrode
wiring board
base material
wiring
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JP2002005898A
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Minoru Ogawa
稔 小川
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Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method for manufacturing a circuit board in which a wiring circuit of a metal foil having a fine pattern can be inexpensively formed by a dry process. <P>SOLUTION: The method for manufacturing the circuit board comprises the steps of forming a connecting electrode 12 for connecting a via on an insulation resin film 11, then disposing a metal foil 13a for forming a wiring circuit 13 on the resin film 11, aligning a pressing jig 14 having a protruding shape 14a simulating to the wiring pattern of the circuit 13 to be disposed on the foil 13a, and sandwiching the jig 14 between hot platens 15a and 15b. Thus, the foil 13a is punched according to a wiring pattern by the shaped pattern 14a of the jig 14, and hot pressed on an upper surface of the electrode 12 and the film 11 around the electrode 12. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、絶縁樹脂基材上に
配線回路とビア接続用の接続電極とが設けられた配線基
板の製造方法、およびその配線基板に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method of manufacturing a wiring board in which a wiring circuit and connection electrodes for via connection are provided on an insulating resin base material, and a wiring board thereof.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来より、例えばエポキシ系樹脂等の熱
硬化性樹脂の基板上に、Cu等の金属箔により配線回路
を形成し、ICベアチップ等の電子部品を搭載した配線
基板が広く使用されている。また、このような樹脂基板
を積層した積層配線基板では、樹脂基板上に設けた貫通
穴に導電性ペーストを充填して形成した電極によって、
配線基板間のビア接続を行う方法が用いられることが多
くなっている。
2. Description of the Related Art Conventionally, a wiring board is widely used in which a wiring circuit is formed by a metal foil such as Cu on a substrate of thermosetting resin such as epoxy resin, and electronic parts such as IC bare chips are mounted. ing. In addition, in a laminated wiring board in which such resin substrates are laminated, an electrode formed by filling a through hole provided on the resin substrate with a conductive paste,
A method of making via connection between wiring boards is often used.

【0003】また、近年では、配線基板の材料として熱
可塑性樹脂が注目されている。熱可塑性樹脂は、配線パ
ターン等の成型が容易であり、また熱による再融着性を
有することから、配線基板とICチップ、および配線基
板同士を、接着剤を使用せずに強固に固着することが可
能となる。
In recent years, thermoplastic resins have been attracting attention as a material for wiring boards. Since the thermoplastic resin is easy to mold a wiring pattern and the like and has a re-fusion property due to heat, the wiring board, the IC chip, and the wiring boards are firmly fixed to each other without using an adhesive. It becomes possible.

【0004】[0004]

【発明が解決しようとする課題】ところで、配線基板上
に電子部品を搭載する場合には、配線回路との電気的接
続を行うためには通常、はんだを使用する。ただし、導
電性ペーストによって形成した接続電極上に電子部品を
搭載する場合は、導電性ペーストとはんだとの接着性が
悪いことから、接続電極の上面に金属箔を形成し、この
金属箔と電子部品とをはんだにより接合する方法がとら
れる。
By the way, when an electronic component is mounted on a wiring board, solder is usually used for electrical connection with a wiring circuit. However, when mounting an electronic component on the connection electrode formed by the conductive paste, because the adhesiveness between the conductive paste and the solder is poor, a metal foil is formed on the upper surface of the connection electrode, and the metal foil and the electronic A method of joining parts with solder is adopted.

【0005】しかし、従来、金属箔による配線回路を形
成するには、エッチングやメッキ等の薬剤を用いたウェ
ットプロセスにより行われるのが一般的であった。この
ため、配線基板の製造のために廃液処理設備が必要とさ
れ、作業環境上の問題や薬液流出事故の可能性等が考え
られることから、これに代わる製造方法が求められてい
た。
However, conventionally, a wiring circuit made of a metal foil has generally been formed by a wet process using a chemical such as etching or plating. For this reason, a waste liquid treatment facility is required for manufacturing the wiring board, and there is a possibility of a work environment problem and a possibility of a chemical liquid outflow accident. Therefore, an alternative manufacturing method has been demanded.

【0006】例えば、特表2000−509909号公
報では、配線回路の材料に特殊銅箔を用い、この特殊銅
箔を金型により打ち抜き、熱可塑性樹脂基材に転写す
る、いわゆるアイボンディング法が提案されている。し
かし、この方法では、ウェットプロセスによる環境等に
対する問題点は解決されるものの、微細配線を必要とす
る製品を製造するためには、金型の形成に要するコスト
が膨大になり、少量多品種生産等には適さない。
[0006] For example, Japanese Patent Publication No. 2000-509909 proposes a so-called eye bonding method in which a special copper foil is used as a material for a wiring circuit, the special copper foil is punched out by a die and transferred to a thermoplastic resin substrate. Has been done. However, although this method solves the problems related to the environment due to the wet process, in order to manufacture products that require fine wiring, the cost required to form the mold becomes enormous, and small-quantity high-mix production Not suitable for etc.

【0007】本発明は、このような課題に鑑みてなされ
たものであり、微細なパターンを有する金属箔による配
線回路を、ドライプロセスにより低コストで形成するこ
とが可能な、配線基板の製造方法を提供することを目的
とする。
The present invention has been made in view of the above problems, and is a method for manufacturing a wiring board, which allows a wiring circuit made of a metal foil having a fine pattern to be formed at a low cost by a dry process. The purpose is to provide.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明では上記課題を解
決するために、絶縁樹脂基材上に配線回路とビア接続用
の接続電極とが設けられた配線基板の製造方法におい
て、前記絶縁樹脂基材に前記接続電極の形状に対応する
ビア穴を形成し、前記ビア穴に導電性ペーストを充填し
て前記接続電極を形成し、前記配線回路の形状を模した
凸型形状を有する押し込み治具を用いて、前記絶縁樹脂
基材に金属箔を熱プレスして前記金属箔を前記接続電極
と接触させ、前記絶縁樹脂基材上の前記押し込み治具で
押し込まれていない部分に付着した余分な前記金属箔を
除去する、ことを特徴とする配線基板の製造方法が提供
される。
In order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method for manufacturing a wiring board in which a wiring circuit and a connection electrode for via connection are provided on an insulating resin base material. A via hole corresponding to the shape of the connection electrode is formed on the base material, the via hole is filled with a conductive paste to form the connection electrode, and an indentation cure having a convex shape imitating the shape of the wiring circuit is formed. Using a tool, a metal foil is hot pressed onto the insulating resin base material to bring the metal foil into contact with the connection electrode, and an extra portion attached to a portion of the insulating resin base material that is not pressed by the pressing jig. A method for manufacturing a wiring board is provided, characterized in that the metal foil is removed.

【0009】このような配線基板の製造方法では、配線
回路の形状を模した凸型形状を有する押し込み治具によ
り、絶縁樹脂基材に金属箔を熱プレスすることにより、
絶縁樹脂基材上に配線回路の配線パターンに従って金属
箔が打ち抜かれ、その後に絶縁樹脂基材上の余分な金属
箔を除去することによって、配線回路が形成される。
In such a method of manufacturing a wiring board, a metal foil is hot-pressed onto an insulating resin base material by a pressing jig having a convex shape imitating the shape of a wiring circuit.
The metal foil is punched on the insulating resin base material according to the wiring pattern of the wiring circuit, and then the excess metal foil on the insulating resin base material is removed to form the wired circuit.

【0010】また、例えば、一方の面と他方の面の粗度
が異なる金属箔を使用し、粗度の大きい面が接続電極と
接触するように金属箔を押し込むことにより、金属箔と
接続電極との接続性が高まる。
Further, for example, by using a metal foil having different roughness on one surface and the other surface, and pushing the metal foil so that the surface having a large roughness contacts the connecting electrode, the metal foil and the connecting electrode are pressed. Connectivity with

【0011】さらに、例えば、金属フィラーを含有する
導電性ペーストを使用して接続電極を形成した場合に、
金属箔の少なくとも一方の面に、絶縁樹脂基材に対する
熱プレスが可能な温度以下で金属フィラーと合金化する
材料の層を設け、この材料の層が接続電極と接触するよ
うに金属箔を押し込むようにしてもよい。この場合、絶
縁樹脂基材上に付着した金属箔に対して、押し込み治具
により押し込まれた部分と、押し込まれていない部分と
の間に、大きな付着強度差が生じる。
Further, for example, when a connection electrode is formed using a conductive paste containing a metal filler,
At least one surface of the metal foil is provided with a layer of a material which is alloyed with a metal filler at a temperature below the temperature at which the insulating resin base material can be hot pressed, and the metal foil is pressed so that the layer of this material contacts the connecting electrode. You may do it. In this case, with respect to the metal foil adhered on the insulating resin base material, a large difference in adhesion strength occurs between a portion pushed by the pushing jig and a portion not pushed.

【0012】[0012]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図1は、本発明の配線基板の第1
の実施形態例を示す断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 shows a first wiring board of the present invention.
It is sectional drawing which shows the example of embodiment.

【0013】図1に示す配線基板1は、樹脂フィルム1
1上に、ビア接続用の接続電極12と、配線回路13と
がそれぞれ複数形成された構成をなす。樹脂フィルム1
1は、熱可塑性樹脂を含有する材料、または熱硬化性樹
脂により、例えば50〜200μmの厚さのフィルム状
に形成された絶縁性の基材である。熱可塑性樹脂材料と
しては、例えば、PEEK(ポリエーテルエーテルケト
ン)、PEK(ポリエーテルケトン)、PEI(ポリエ
ーテルイミド)、PPS(ポリフェニレンサルファイ
ド)等の比較的高耐熱な樹脂材料が使用可能である。ま
た、熱硬化性樹脂材料としては、FR4、FR5といっ
たガラスエポキシ材等の樹脂材料が使用可能である。さ
らに、このような熱硬化性樹脂材料の中に、上記の熱可
塑性樹脂材料を混合したもの等を使用してもよい。な
お、熱可塑性樹脂あるいはこれを含有する材料の場合
は、後述するように、ガラス転移温度以上で融点未満の
温度領域に熱融着温度域を有する材料が望ましい。
The wiring board 1 shown in FIG. 1 is a resin film 1.
A plurality of connection electrodes 12 for via connection and a plurality of wiring circuits 13 are formed on each of the wirings 1. Resin film 1
Reference numeral 1 is an insulating base material formed of a material containing a thermoplastic resin or a thermosetting resin into a film shape having a thickness of 50 to 200 μm, for example. As the thermoplastic resin material, for example, a relatively high heat resistant resin material such as PEEK (polyetheretherketone), PEK (polyetherketone), PEI (polyetherimide), PPS (polyphenylene sulfide) or the like can be used. . Further, as the thermosetting resin material, a resin material such as glass epoxy material such as FR4 and FR5 can be used. Further, such a thermosetting resin material may be mixed with the above-mentioned thermoplastic resin material, or the like. In the case of a thermoplastic resin or a material containing the same, a material having a heat fusion temperature range in a temperature range not lower than the glass transition temperature and lower than the melting point is desirable, as described later.

【0014】接続電極12は、樹脂フィルム11上に貫
通させて形成されたビア穴11aの内部に、導電性ペー
ストを充填し、固化することによってなる。この導電性
ペーストとしては、例えば、Ag粒子やCu粒子等の高
導電性フィラーを含有した熱可塑性バインダを用いるこ
とが望ましい。この場合、自己融着性を有するため、複
数の樹脂フィルム11を積層した場合に、特に表面処理
を要さずに、他の樹脂フィルム11上の接続電極12や
配線回路13との電気的導通を容易にとることができ
る。
The connection electrode 12 is formed by filling the inside of a via hole 11a formed through the resin film 11 with a conductive paste and solidifying it. As this conductive paste, it is desirable to use, for example, a thermoplastic binder containing a highly conductive filler such as Ag particles or Cu particles. In this case, since it has a self-bonding property, when a plurality of resin films 11 are laminated, electrical conduction with the connection electrodes 12 and the wiring circuits 13 on another resin film 11 is not particularly required. Can be taken easily.

【0015】また、配線回路13は、接続電極12の形
成部の上面に、Cu等の金属箔13aが埋設されること
によってなる。金属箔13aは、表面の高さが樹脂フィ
ルム11の表面と同じか、それより低く設けられ、これ
により配線回路13は、樹脂フィルム11の表面から突
出しないように形成される。また、この金属箔13aと
して、例えば、一方の面と他方の面の面粗さが異なるも
のを使用し、面粗さの大きい面を接続電極12と接触さ
せることにより、接続電極12との電気的接続性を向上
させるとともに、接着強度を高めることが可能となる。
The wiring circuit 13 is formed by embedding a metal foil 13a of Cu or the like on the upper surface of the formation portion of the connection electrode 12. The height of the surface of the metal foil 13a is equal to or lower than that of the surface of the resin film 11, so that the wiring circuit 13 is formed so as not to project from the surface of the resin film 11. Further, as the metal foil 13a, for example, one having a surface roughness different from that of the other surface is used, and a surface having a large surface roughness is brought into contact with the connection electrode 12 so that the electrical connection with the connection electrode 12 is reduced. It is possible to improve the adhesiveness as well as the physical connectivity.

【0016】以上の配線基板1は、複数を積層して使用
することができる。その場合、樹脂フィルム11を熱可
塑性樹脂を含有する材料によって形成したことにより、
樹脂フィルム11同士を熱融着により接合することが可
能となる。従って、積層時に接着剤を使用する必要がな
くなり、材料コストが抑制されるとともに、製造効率が
高まる。また、接着剤で固着する場合と比較して、固着
部の環境温度に対する信頼性が高められる。
A plurality of the wiring boards 1 described above can be stacked and used. In that case, since the resin film 11 is made of a material containing a thermoplastic resin,
The resin films 11 can be joined together by heat fusion. Therefore, it is not necessary to use an adhesive at the time of stacking, the material cost is suppressed, and the manufacturing efficiency is improved. Further, as compared with the case of fixing with an adhesive, the reliability of the fixing portion with respect to the environmental temperature is improved.

【0017】なお、上記の配線基板1では、例として、
ビア接続用の接続電極12の上面にのみ、配線回路13
が形成されている場合を示したが、配線回路13は、こ
れ以外の樹脂フィルム11の表面にも形成されていてよ
い。
In the above wiring board 1, as an example,
The wiring circuit 13 is provided only on the upper surface of the connection electrode 12 for via connection.
Although the wiring circuit 13 is formed, the wiring circuit 13 may be formed on the surface of the resin film 11 other than this.

【0018】次に、本発明の配線基板の具体的な製造工
程の例について説明する。なお、本製造工程例では、樹
脂フィルム11として熱可塑性樹脂を含有する絶縁性の
樹脂材料を使用する。
Next, an example of a specific manufacturing process of the wiring board of the present invention will be described. In this manufacturing process example, an insulating resin material containing a thermoplastic resin is used as the resin film 11.

【0019】まず、例えば厚さ100μmの平坦なフィ
ルム状の樹脂フィルム11を形成する。この樹脂フィル
ム11は、上述したように、比較的高耐熱な単体の熱可
塑性樹脂材料を使用するか、あるいはガラスエポキシ材
等の熱硬化性樹脂の中に、上記の熱可塑性樹脂材料を混
合したもの等が使用される。また、高耐熱、高剛性で、
等方性を有する材料が好ましく、さらに、加熱成形時の
樹脂収縮を抑制するための補強フィラーを含有する材料
がより好ましい。
First, a flat film-like resin film 11 having a thickness of 100 μm, for example, is formed. As described above, the resin film 11 uses a single thermoplastic resin material having relatively high heat resistance, or a thermosetting resin such as a glass epoxy material mixed with the thermoplastic resin material. Things are used. Also, with high heat resistance and high rigidity,
A material having isotropic property is preferable, and a material containing a reinforcing filler for suppressing resin shrinkage during heat molding is more preferable.

【0020】次に、この樹脂フィルム11上の所定位置
に、ドリルまたはレーザ等を用いて、接続電極12を形
成するためのビア穴11aを形成する。そして、形成さ
れたビア穴11aに、導電性ペーストを例えばスキージ
等により充填する。導電性ペーストとしては、例えば、
Ag粒子やCu粒子等の高導電性フィラーを含有した熱
可塑性バインダを用いる。また、後述するように、金属
箔13aの接続電極12との接触面の表面粗度Rmax
より、平均粒径の小さい高導電性フィラーを含有するこ
とが望ましい。その後、例えば、80度の温度下で乾燥
させた後、150度の熱処理を施すことで、導電性ペー
ストを固化させる。以上により、接続電極12が形成さ
れる。
Next, a via hole 11a for forming the connection electrode 12 is formed at a predetermined position on the resin film 11 by using a drill, a laser or the like. Then, the formed via hole 11a is filled with a conductive paste using, for example, a squeegee. As the conductive paste, for example,
A thermoplastic binder containing a highly conductive filler such as Ag particles or Cu particles is used. Further, as described later, the surface roughness Rmax of the contact surface of the metal foil 13a with the connection electrode 12 is increased.
Therefore, it is desirable to contain a highly conductive filler having a small average particle size. After that, for example, after drying at a temperature of 80 degrees, heat treatment at 150 degrees is performed to solidify the conductive paste. By the above, the connection electrode 12 is formed.

【0021】次に、図2は、樹脂フィルム11上に配線
回路13を形成するための構成を示す断面図である。接
続電極12が形成された樹脂フィルム11に、金属箔1
3aによる配線回路13を形成するためには、配線回路
13の配線パターンに沿って金属箔13aを打ち抜くた
めの押し込み治具14を使用する。この押し込み治具1
4には、例えばステンレス板に、フォトリソマスクでエ
ッチング加工することにより、配線回路13の配線パタ
ーンを模した凸型形状部14aが形成されている。な
お、図2の例では、配線回路13が接続電極12の上面
に、接続電極12の幅よりわずかに大きく形成される場
合を示しており、従って、押し込み治具14の凸型形状
部14aも、これに応じた回路パターン幅を有してい
る。
Next, FIG. 2 is a sectional view showing a structure for forming the wiring circuit 13 on the resin film 11. The metal foil 1 is formed on the resin film 11 on which the connection electrodes 12 are formed.
In order to form the wiring circuit 13 of 3a, a pushing jig 14 for punching the metal foil 13a along the wiring pattern of the wiring circuit 13 is used. This pushing jig 1
4, a convex shape portion 14a imitating the wiring pattern of the wiring circuit 13 is formed on the stainless plate by etching with a photolithographic mask, for example. Note that the example of FIG. 2 shows a case where the wiring circuit 13 is formed on the upper surface of the connection electrode 12 to be slightly larger than the width of the connection electrode 12. Therefore, the convex shape portion 14a of the pushing jig 14 is also formed. , And has a circuit pattern width corresponding to this.

【0022】また、配線回路13を形成する金属箔13
aとしては、例えば厚さ9μmの電解銅箔を使用する。
この金属箔13aは、一方の面の粗度が他方より高く加
工されている。
Further, the metal foil 13 forming the wiring circuit 13
As a, for example, an electrolytic copper foil having a thickness of 9 μm is used.
The metal foil 13a is processed so that the roughness of one surface thereof is higher than that of the other surface.

【0023】次に、図2に示すように、樹脂フィルム1
1上に、金属箔13aをはさんで、上記の押し込み治具
14を位置合わせして配置する。このとき、金属箔13
aについては、粗度の高い面が樹脂フィルム11の側と
なるように配置する。そして、これらを熱盤15aおよ
び15bによって上下から抑え込み、押し込み治具14
を樹脂フィルム11に熱プレスする。
Next, as shown in FIG. 2, the resin film 1
The metal foil 13a is sandwiched between the pressing jigs 1 and 1, and the pushing jig 14 is aligned and arranged. At this time, the metal foil 13
About a, it arrange | positions so that the surface with high roughness may become the resin film 11 side. Then, these are pressed down from above and below by the hot plates 15a and 15b, and the pushing jig 14 is pressed.
Is hot pressed onto the resin film 11.

【0024】このときの温度は、樹脂フィルム11の有
するガラス転移温度以上、融点未満であることが望まし
い。ただし、完成した配線基板1を積層する場合におけ
る、樹脂フィルム11の融着性や相互合い精度の著しい
低下を防止するために、上記の熱プレス時の温度はガラ
ス転移温度をわずかに上回る温度とされることがより望
ましい。
The temperature at this time is preferably higher than the glass transition temperature of the resin film 11 and lower than the melting point. However, in order to prevent the fusion property of the resin film 11 and the accuracy of mutual engagement from significantly lowering when the completed wiring board 1 is laminated, the temperature during the hot pressing is slightly higher than the glass transition temperature. It is more desirable to be done.

【0025】なお、上記の熱プレスの際に、金属箔13
aの打ち抜き性の向上と、接続電極12を構成する導電
性ペーストの熱盤15bへの付着抑制を図るためには、
樹脂フィルム11および接続電極12の下面と熱盤15
bとの間に、熱プレス時の温度以下で樹脂フィルム11
より弾性率が低いような離型フィルムを配置することが
より好適である。
During the above hot pressing, the metal foil 13
In order to improve the punchability of a and suppress the adhesion of the conductive paste forming the connection electrode 12 to the hot platen 15b,
The lower surface of the resin film 11 and the connection electrode 12 and the heating plate 15
Between b and the resin film 11 below the temperature during hot pressing
It is more preferable to dispose a release film having a lower elastic modulus.

【0026】図3は、樹脂フィルム11上に配線回路1
3が形成される様子を示した断面図である。図3(A)
では、上記の方法により、熱盤15aおよび15bによ
る熱プレスが行われている状態を示している。この図3
(A)に示すように、押し込み治具14によって、配線
回路13の配線パターンの部分においてのみ金属箔13
aが打ち抜かれて、接続電極12が形成された部分の上
部で、金属箔13aが樹脂フィルム11内に埋設され
る。このとき、導電性ペーストや樹脂フィルム11の融
着性により、金属箔13aが接続電極12やその周辺の
樹脂フィルム11に接着される。
In FIG. 3, the wiring circuit 1 is formed on the resin film 11.
3 is a cross-sectional view showing how 3 is formed. FIG. Figure 3 (A)
Shows a state in which the hot pressing by the hot plates 15a and 15b is performed by the above method. This Figure 3
As shown in (A), the metal foil 13 is formed only on the wiring pattern portion of the wiring circuit 13 by the pushing jig 14.
The metal foil 13a is embedded in the resin film 11 above the portion where the connection electrode 12 is formed by punching out a. At this time, the metal foil 13a is adhered to the connection electrode 12 and the resin film 11 around the connection electrode 12 due to the fusion property of the conductive paste and the resin film 11.

【0027】従って、この後、図3(B)に示すように
樹脂フィルム11から押し込み治具14を取り外すと、
樹脂フィルム11上には配線パターンの位置にのみ金属
箔13aが埋設されて、配線回路13が転写される。ま
た、その他の部分の金属箔13aは、例えばピール等を
使用した機械的方法により容易に剥がれる。しかし、こ
の状態では、樹脂フィルム11の表面に、余分な金属箔
13aが付着している場合があるため、この後に、樹脂
フィルム11の表面を研磨し、余分な金属箔13aを機
械的に完全に除去してもよい。
Therefore, after that, when the pushing jig 14 is removed from the resin film 11 as shown in FIG.
The metal foil 13a is embedded only on the position of the wiring pattern on the resin film 11, and the wiring circuit 13 is transferred. Further, the metal foil 13a in the other portion can be easily peeled off by a mechanical method using, for example, peel. However, in this state, since the excess metal foil 13a may be attached to the surface of the resin film 11, after that, the surface of the resin film 11 is polished to mechanically remove the excess metal foil 13a. May be removed.

【0028】この後、完成した配線基板1を積層する場
合は、樹脂フィルム11のガラス転移温度以上、融点未
満の温度に加熱して、各配線基板1をプレスし、樹脂フ
ィルム11同士や樹脂フィルム11と接続電極12の導
電性ペーストとを熱融着させる。
After that, when laminating the completed wiring boards 1, the wiring boards 1 are pressed by heating them to a temperature not lower than the glass transition temperature of the resin film 11 and lower than the melting point thereof. 11 and the conductive paste of the connection electrode 12 are heat-sealed.

【0029】ところで、上記の押し込み治具14に形成
された凸型形状部14aの高さは、金属箔13aの厚さ
と同じか、それ以上であればよい。しかし、押し込み治
具14を樹脂フィルム11上にプレスした際に、金属箔
13aを配線パターンの形状に良好に打ち抜くことがで
きるように、凸型形状部14aの高さは金属箔13aの
厚みや伸び特性等に応じて設定されることが望ましい。
金属箔13aとして電解銅箔を用いた場合には、凸型形
状部14aの高さを金属箔13aの厚さの3倍以上とす
ることが結果的に望ましい。例えば、厚さが9μmの電
解銅箔を用いた場合は、凸型形状部14aの高さを30
〜50μmとすることが望ましい。この結果、打ち抜か
れた金属箔13aの表面は、樹脂フィルム11の表面よ
り低い位置となる。
By the way, the height of the convex shaped portion 14a formed on the pushing jig 14 may be equal to or greater than the thickness of the metal foil 13a. However, when the pressing jig 14 is pressed onto the resin film 11, the height of the convex-shaped portion 14a is set so that the metal foil 13a can be satisfactorily punched into the shape of the wiring pattern. It is desirable to set it according to the elongation characteristics and the like.
When an electrolytic copper foil is used as the metal foil 13a, it is consequently desirable that the height of the convex shape portion 14a is three times or more the thickness of the metal foil 13a. For example, when the electrolytic copper foil having a thickness of 9 μm is used, the height of the convex shape portion 14a is 30
It is desirable that the thickness be ˜50 μm. As a result, the surface of the punched metal foil 13a is positioned lower than the surface of the resin film 11.

【0030】以上のように、本発明の配線基板1の製造
方法では、押し込み治具14を使用して、樹脂フィルム
11上に金属箔13aを押し込むことにより、樹脂フィ
ルム11上に配線回路13の配線パターンに従って金属
箔13aが打ち抜かれ、転写されて、配線回路13が形
成される。従って、ドライプロセスにより、環境に与え
る影響が抑制されながら、金属箔13aによる配線回路
13を容易に形成することが可能である。
As described above, in the method of manufacturing the wiring board 1 according to the present invention, the metal jig 13a is pressed onto the resin film 11 by using the pressing jig 14, so that the wiring circuit 13 is formed on the resin film 11. The metal foil 13a is punched and transferred according to the wiring pattern to form the wiring circuit 13. Therefore, the dry process makes it possible to easily form the wiring circuit 13 using the metal foil 13a while suppressing the influence on the environment.

【0031】また、押し込み治具14には、フォトリソ
マスク工程等により配線回路13の配線パターンを模し
た凸型形状を、容易に形成することが可能であり、さら
に、例えば、従来のアイボンディング法のように高価な
打ち抜き金型や受け金型が必要とされないので、低コス
トで、かつ微細な配線パターンの配線回路13を形成す
ることが可能となる。
Further, it is possible to easily form a convex shape imitating the wiring pattern of the wiring circuit 13 on the pushing jig 14 by a photolithographic mask process or the like, and further, for example, a conventional eye bonding method. Since an expensive punching die or receiving die is not required, it is possible to form the wiring circuit 13 having a fine wiring pattern at low cost.

【0032】また、一方の面の粗度が他方より高い金属
箔13aを使用し、粗度の大きい面を接続電極12や樹
脂フィルム11に固着させたことにより、これらの間の
接着力が高まる。また、接続電極12に使用した導電性
ペーストに含まれる金属フィラーの平均粒径を、接続電
極12に接触している金属箔13aの表面粗度Rmax
より小さくしたことにより、金属箔13aと接続電極1
2との電気的な接続性が高まる。従って、接続電極12
上に設けられた配線回路13に、電子部品を搭載する際
には、はんだを用いて高い接着性が得られ、電気的およ
び機械的接続を確実に行うことが可能となる。
Further, by using the metal foil 13a having one surface having a higher roughness than the other surface and fixing the surface having a large roughness to the connection electrode 12 or the resin film 11, the adhesive force between them is increased. . In addition, the average particle diameter of the metal filler contained in the conductive paste used for the connection electrode 12 is defined as the surface roughness Rmax of the metal foil 13 a in contact with the connection electrode 12.
By making it smaller, the metal foil 13a and the connection electrode 1
The electrical connectivity with 2 is enhanced. Therefore, the connection electrode 12
When mounting an electronic component on the wiring circuit 13 provided above, high adhesiveness can be obtained by using solder, and electrical and mechanical connection can be reliably performed.

【0033】また、樹脂フィルム11として熱可塑性樹
脂を含有する材料を使用したことにより、その熱成形性
を利用して、配線回路13のパターン形状を押し込み治
具14により容易に樹脂フィルム11へ埋設することが
可能となる。さらに、この後に配線基板1を積層する際
に、各樹脂フィルム11間を接着剤を用いず、熱融着に
より強固に接着することが可能となり、製造コストが抑
制され、効率的な製造が可能となる。
Further, since the material containing the thermoplastic resin is used as the resin film 11, the pattern shape of the wiring circuit 13 is easily embedded in the resin film 11 by the pressing jig 14 by utilizing its thermoformability. It becomes possible to do. Further, when the wiring board 1 is subsequently laminated, it is possible to firmly bond the resin films 11 by heat fusion without using an adhesive, which suppresses the manufacturing cost and enables efficient manufacturing. Becomes

【0034】なお、樹脂フィルム11として熱硬化性樹
脂材料を使用した場合には、作製された配線基板1を積
層する際に、樹脂フィルム11同士の接着のために接着
剤が必要となる。
When a thermosetting resin material is used as the resin film 11, an adhesive agent is required to bond the resin films 11 to each other when laminating the manufactured wiring boards 1.

【0035】ところで、上記の配線基板1の製造工程で
は、押し込み治具14を用いた樹脂フィルム11に対す
る金属箔13aの熱プレスの後、樹脂フィルム11上に
付着した余分な金属箔が機械的方法により除去される
が、このとき、接着すべき部分の金属箔13aと接続電
極12との接着強度に対して、不要部分の金属箔13a
と樹脂フィルム11との接着強度差が乏しいことから、
機械的方法では不要部分のみの正確な除去が困難であっ
た。そこで、以下の第2の実施形態例では、熱プレス時
の温度以下で導電性ペーストとの合金化が可能な材料を
金属箔にコーティングすることにより、必要な部分の接
着力を高め、不要部分のみを除去しやすくした配線基板
について説明する。
By the way, in the manufacturing process of the wiring board 1 described above, after the metal foil 13a is hot-pressed to the resin film 11 using the pushing jig 14, the excess metal foil attached to the resin film 11 is mechanically processed. However, in this case, the metal foil 13a of the unnecessary portion is not added to the adhesive strength between the metal foil 13a of the portion to be bonded and the connection electrode 12.
Since there is little difference in the adhesive strength between the resin film 11 and
It was difficult to remove only unnecessary parts accurately by mechanical methods. Therefore, in the following second embodiment, by coating the metal foil with a material that can be alloyed with the conductive paste at a temperature equal to or lower than the temperature at the time of hot pressing, the adhesive force of the necessary portion is increased and the unnecessary portion is removed. A description will be given of a wiring board that makes it easy to remove only the above.

【0036】図4は、本発明の配線基板の第2の実施形
態例を示す断面図である。図4に示す配線基板2の基本
的構成は、上記の第1の実施形態例と同様である。すな
わち、配線基板2は、高耐熱な熱可塑性樹脂を含有する
樹脂フィルム21上に、ビア接続用の接続電極22と、
配線回路23とがそれぞれ複数形成された構成をなす。
FIG. 4 is a sectional view showing a second embodiment of the wiring board of the present invention. The basic configuration of the wiring board 2 shown in FIG. 4 is similar to that of the above-described first embodiment. That is, the wiring board 2 includes the connection electrode 22 for via connection and the connection electrode 22 on the resin film 21 containing the high heat resistant thermoplastic resin.
A plurality of wiring circuits 23 are respectively formed.

【0037】接続電極22は、高導電性フィラーとして
Ag粒子を含有した熱可塑性バインダによる導電性ペー
ストで形成される。また、この接続電極22の上面に設
けられた配線回路23は、2つの金属層によってなる多
層金属箔23aによって形成される。
The connection electrode 22 is formed of a conductive paste made of a thermoplastic binder containing Ag particles as a highly conductive filler. Further, the wiring circuit 23 provided on the upper surface of the connection electrode 22 is formed by the multilayer metal foil 23a including two metal layers.

【0038】ここで、図5は、上記の配線基板2におい
て使用する多層金属箔23aの断面を示す図である。多
層金属箔23aは、2つの金属層23bおよび23cに
よって構成される。このうち、金属層23bは、多層金
属箔23aのベースとなる金属箔であり、例えば上記の
第1の実施形態例で用いたものと同じ電解銅箔によって
なる。この金属層23bは、一方の面の粗度が高くなさ
れている。
Here, FIG. 5 is a view showing a cross section of the multilayer metal foil 23a used in the wiring board 2 described above. The multilayer metal foil 23a is composed of two metal layers 23b and 23c. Of these, the metal layer 23b is a metal foil that serves as a base of the multilayer metal foil 23a, and is made of, for example, the same electrolytic copper foil as that used in the above-described first embodiment. The roughness of one surface of the metal layer 23b is high.

【0039】一方、金属層23cは、接続電極22を構
成する導電性ペーストに含まれる高導電性フィラーと合
金化する、比較的低融点の金属によって構成される。例
えば、高導電性フィラーとしてAg粒子が用いられた場
合は、金属層23cとしてSnを使用することができ
る。
On the other hand, the metal layer 23c is made of a metal having a relatively low melting point which is alloyed with the highly conductive filler contained in the conductive paste forming the connection electrode 22. For example, when Ag particles are used as the highly conductive filler, Sn can be used as the metal layer 23c.

【0040】このような多層金属箔23aでは、電解銅
箔によってなる金属層23bの粗化面に、蒸着やスパッ
タ、めっき等によりSnをコーティングし、金属層23
cを形成する。このコーティングにより、金属層23b
の粗化面の有する粗度が平均化され、金属層23cの表
面の粗度は低下する。これにより、樹脂フィルム21上
に熱プレスした際に、樹脂フィルム21との接着強度を
低下させることができる。その一方、金属層23cは金
属層23bの粗化面にコーティングされているため、こ
れらの接着強度は高くなる。
In such a multi-layer metal foil 23a, Sn is coated on the roughened surface of the metal layer 23b made of electrolytic copper foil by vapor deposition, sputtering, plating or the like to form the metal layer 23.
form c. By this coating, the metal layer 23b
The roughness of the roughened surface is averaged, and the roughness of the surface of the metal layer 23c decreases. This can reduce the adhesive strength with the resin film 21 when the resin film 21 is hot pressed. On the other hand, since the metal layer 23c is coated on the roughened surface of the metal layer 23b, the adhesive strength between them is increased.

【0041】このようなコーティングの後、さらに、金
属層23bおよび23cの間で合金反応を起こすために
必要な温度で、加熱処理を行う。金属層23bおよび2
3cがそれぞれCu、Snの場合は、これらが合金化す
る230度の温度で加熱処理される。これにより、金属
層23bおよび23cの間の界面ビール強度を確保し、
熱プレスの後の余分な多層金属箔23aの除去の際に、
金属層23bと金属層23cとが剥離することを防止す
る。
After such coating, heat treatment is further performed at a temperature necessary for causing an alloy reaction between the metal layers 23b and 23c. Metal layers 23b and 2
When 3c is Cu and Sn, respectively, they are heat-treated at a temperature of 230 degrees at which they are alloyed. This ensures the interfacial beer strength between the metal layers 23b and 23c,
When removing the excess multilayer metal foil 23a after hot pressing,
The metal layer 23b and the metal layer 23c are prevented from peeling off.

【0042】以上の多層金属箔23aを使用した配線基
板2の製造工程について、次に説明する。図6は、樹脂
フィルム21上に配線回路23を形成するための構成を
示す断面図である。
The manufacturing process of the wiring board 2 using the above-mentioned multilayer metal foil 23a will be described below. FIG. 6 is a cross-sectional view showing a structure for forming the wiring circuit 23 on the resin film 21.

【0043】本発明の第2の実施形態例である配線基板
2の製造工程は、上記の第1の実施形態例の場合と基本
的に同じであり、まず、熱可塑性樹脂を含有する絶縁性
の樹脂材料を用いて、例えば厚さ100μmの平坦なフ
ィルム状の樹脂フィルム21を形成する。次に、この樹
脂フィルム21上の所定位置に、ドリルまたはレーザ等
を用いて、接続電極22を形成するためのビア穴21a
を形成する。そして、形成されたビア穴21aに、高導
電性フィラーとしてAg粒子を含有する導電性ペースト
を充填する。その後、乾燥および熱処理を施して、導電
性ペーストを固化させ、接続電極22を形成する。
The manufacturing process of the wiring board 2 according to the second embodiment of the present invention is basically the same as that of the above first embodiment. First, the insulating property containing a thermoplastic resin is used. Using the resin material of, a flat film-shaped resin film 21 having a thickness of 100 μm, for example, is formed. Next, a via hole 21a for forming the connection electrode 22 is formed at a predetermined position on the resin film 21 by using a drill or a laser.
To form. Then, the formed via hole 21a is filled with a conductive paste containing Ag particles as a highly conductive filler. Then, it is dried and heat-treated to solidify the conductive paste to form the connection electrode 22.

【0044】次に、図6に示すように、例えばステンレ
ス板に、配線回路23の配線パターンを模した凸型形状
部24aがエッチング加工により形成された押し込み治
具24を用意する。この凸型形状部24aは、30〜5
0μmの高さを有している。そして、樹脂フィルム21
の上に多層金属箔23aを配置し、さらに押し込み治具
24を位置合わせして配置して、これらを熱盤25aお
よび25bで挟み込む。このとき、金属層23cがコー
ティングされた面が樹脂フィルム21と対向するよう
に、多層金属箔23aを配置する。また、熱盤25aお
よび25bの温度は、樹脂フィルム21の有するガラス
転移温度以上、融点未満とするが、なるべく温度を高め
過ぎず、ガラス転移温度をわずかに上回る温度とするこ
とが望ましい。ただし、後述するように、このとき、金
属層23cのSnと導電性ペーストの含有するAgとの
合金化反応が生じる温度である必要がある。
Next, as shown in FIG. 6, for example, a pushing jig 24 in which a convex shape portion 24a simulating the wiring pattern of the wiring circuit 23 is formed by etching on a stainless plate is prepared. This convex shaped portion 24a is 30 to 5
It has a height of 0 μm. And the resin film 21
A multi-layer metal foil 23a is placed on top of this, and a pushing jig 24 is further positioned and placed, and these are sandwiched by hot plates 25a and 25b. At this time, the multilayer metal foil 23a is arranged so that the surface coated with the metal layer 23c faces the resin film 21. Further, the temperatures of the heating plates 25a and 25b are set to be equal to or higher than the glass transition temperature of the resin film 21 and lower than the melting point, but it is preferable that the temperature is not too high and the temperature is slightly higher than the glass transition temperature. However, as described later, at this time, the temperature needs to be a temperature at which an alloying reaction between Sn of the metal layer 23c and Ag contained in the conductive paste occurs.

【0045】図7は、樹脂フィルム21上に配線回路2
3が形成される様子を示した断面図である。図7(A)
に示すように、熱盤25aおよび25bによって挟み込
むと、押し込み治具24の凸型形状部24aによって多
層金属箔23aが打ち抜かれ、樹脂フィルム21および
接続電極22に対して熱プレスされて、配線回路23の
配線パターンが樹脂フィルム21上に転写される。この
とき、導電性ペーストや樹脂フィルム21の融着性によ
り、多層金属箔23aが接続電極22やその周辺の樹脂
フィルム11に接着する。また、これとともに、多層金
属箔23aにコーティングされた金属層23cのSn
と、接続電極22をなす導電性ペーストに含まれたAg
との合金反応が生じ、多層金属箔23aと接続電極22
との接着力が高まる。
In FIG. 7, the wiring circuit 2 is formed on the resin film 21.
3 is a cross-sectional view showing how 3 is formed. FIG. FIG. 7 (A)
As shown in FIG. 5, when sandwiched by the heating plates 25a and 25b, the multilayer metal foil 23a is punched out by the convex shape portion 24a of the pushing jig 24, and is heat pressed to the resin film 21 and the connection electrode 22 to form the wiring circuit. The wiring pattern 23 is transferred onto the resin film 21. At this time, the multi-layer metal foil 23a adheres to the connection electrode 22 and the resin film 11 around the connection electrode 22 due to the fusion property of the conductive paste and the resin film 21. Along with this, Sn of the metal layer 23c coated on the multilayer metal foil 23a
And Ag contained in the conductive paste forming the connection electrode 22.
An alloy reaction occurs with the multi-layer metal foil 23a and the connection electrode 22.
The adhesive strength with

【0046】この後、図7(B)に示すように、押し込
み治具24が取り外された後、樹脂フィルム21上にお
ける配線回路23の形成部以外の部分に付着した余分な
多層金属箔23aを剥離させる。ところで、多層金属箔
23aの樹脂フィルム21との接触面は、金属層23c
のコーティングにより粗度が低められていることから、
樹脂フィルム21との接着強度は小さい。一方、多層金
属箔23aの金属層23cと導電性ペーストとが合金化
されているため、接続電極22の上面では多層金属箔2
3aとの接着力が局所的に大きくなっている。
After that, as shown in FIG. 7B, after the pushing jig 24 is removed, the extra multilayer metal foil 23a attached to the portion other than the portion where the wiring circuit 23 is formed on the resin film 21 is removed. Peel off. By the way, the contact surface of the multilayer metal foil 23a with the resin film 21 is the metal layer 23c.
Since the roughness is lowered by the coating of
The adhesive strength with the resin film 21 is small. On the other hand, since the metal layer 23c of the multilayer metal foil 23a and the conductive paste are alloyed, the multilayer metal foil 2 is formed on the upper surface of the connection electrode 22.
The adhesive force with 3a is locally increased.

【0047】従って、樹脂フィルム21上に付着した多
層金属箔23aは、例えばピール等を使用した機械的方
法により容易に剥がれ、樹脂フィルム21上には、多層
金属箔23aによって配線回路23が正確な形状で形成
される。また、多層金属箔23aは、事前の加熱処理に
より金属層23bおよび23cの間の合金化処理がなさ
れているため、余分な多層金属箔23aの剥離時に、接
続電極22と接着した金属層23cが金属層23bと剥
離してしまうことがない。
Therefore, the multi-layer metal foil 23a adhered on the resin film 21 is easily peeled off by a mechanical method using, for example, peeling, and the multi-layer metal foil 23a forms the wiring circuit 23 on the resin film 21 accurately. Formed in shape. Further, since the multilayer metal foil 23a is subjected to the alloying treatment between the metal layers 23b and 23c by the heat treatment in advance, when the extra multilayer metal foil 23a is peeled off, the metal layer 23c bonded to the connection electrode 22 is It does not peel off from the metal layer 23b.

【0048】さらに、上記のように、接続電極22上と
その他の部分で接着力に大きな差が生じていることか
ら、余分な多層金属箔23aが機械的方法により容易に
剥離されるので、この後にさらに余分な多層金属箔23
aを完全に除去するために、樹脂フィルム21の表面を
研磨する必要性が低下し、作業効率が高まる。
Further, as described above, since there is a large difference in adhesive force between the connection electrode 22 and other portions, the excess multilayer metal foil 23a is easily peeled off by a mechanical method. Later extra multi-layer metal foil 23
The necessity of polishing the surface of the resin film 21 to completely remove a is reduced, and the work efficiency is increased.

【0049】以上により、本実施形態例の配線基板2で
は、正確な形状を有する配線回路23を容易に形成する
ことが可能となるので、高品質の配線基板2を効率よ
く、安定的に製造することが可能となる。
As described above, in the wiring board 2 of the present embodiment, the wiring circuit 23 having an accurate shape can be easily formed, so that the high-quality wiring board 2 can be manufactured efficiently and stably. It becomes possible to do.

【0050】なお、上記の製造工程において、配線回路
23の転写は、樹脂フィルム21の有するガラス転移温
度以上の温度の下で行われるが、このとき、多層金属箔
23aの金属層23cと導電性ペーストとの合金反応が
生じる必要がある。従って、金属層23c、および導電
性ペーストに含まれる高導電性フィラーの各材料の組み
合わせは、これらが合金化する温度が、熱プレスが可能
な温度である樹脂フィルム21のガラス転移温度と同程
度か、それ以下となるように選択されることが望まし
い。
In the above manufacturing process, the transfer of the wiring circuit 23 is performed at a temperature not lower than the glass transition temperature of the resin film 21, and at this time, the metal layer 23c of the multi-layer metal foil 23a and the conductive property are obtained. An alloying reaction with the paste needs to occur. Therefore, in the combination of each material of the metal layer 23c and the highly conductive filler contained in the conductive paste, the temperature at which these are alloyed is about the same as the glass transition temperature of the resin film 21 at which hot pressing is possible. It is desirable to select it to be less than or equal to it.

【0051】ところで、以上の第1および第2の実施形
態例では、金属箔13aおよび多層金属箔23aの上面
が、それぞれ樹脂フィルム11および21の表面より低
い位置となるように配線回路13および23が形成され
ていた。このような構造で、かつ、樹脂フィルム11お
よび21が熱可塑性樹脂を含有する材料により形成され
ている場合には、配線回路13および23の形成後に樹
脂フィルム11および21の表面を再び熱プレスするこ
とにより、金属箔13aおよび多層金属箔23aをさら
に強固に接着することができる。
By the way, in the above first and second embodiments, the wiring circuits 13 and 23 are arranged so that the upper surfaces of the metal foil 13a and the multilayer metal foil 23a are located lower than the surfaces of the resin films 11 and 21, respectively. Had been formed. In such a structure and when the resin films 11 and 21 are made of a material containing a thermoplastic resin, the surfaces of the resin films 11 and 21 are hot pressed again after the wiring circuits 13 and 23 are formed. As a result, the metal foil 13a and the multilayer metal foil 23a can be bonded more firmly.

【0052】以下、上記の第2の実施形態例について、
熱プレスを再び行う場合の工程を説明する。図8は、配
線回路23の形成後に再び熱プレスを行う工程について
説明するための断面図である。
The following is a description of the second embodiment described above.
The process for performing hot pressing again will be described. FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a step of performing hot pressing again after forming the wiring circuit 23.

【0053】図8に示すように、樹脂フィルム21上に
配線回路23が形成された配線基板2を、再び熱盤25
aおよび25bにより挟み込み、プレスする。このとき
の温度は、樹脂フィルム21の有するガラス転移温度以
上、融点未満とすることが望ましい。
As shown in FIG. 8, the wiring board 2 having the wiring circuit 23 formed on the resin film 21 is mounted on the heating plate 25 again.
It is sandwiched by a and 25b and pressed. The temperature at this time is preferably higher than or equal to the glass transition temperature of the resin film 21 and lower than the melting point.

【0054】ここで、図9は、再度の熱プレスが行われ
た配線回路23の周囲を拡大した断面図である。図9
(A)は、再度の熱プレスを行う直前の配線回路23の
形成状態を示している。この図9(A)のように、配線
回路23は、多層金属箔23aの上面が、樹脂フィルム
21の上面より低くなるように形成されている。この状
態から再び熱プレスが行われると、図9(B)に示すよ
うに、圧力によって樹脂フィルム21が熱変形し、その
厚さが縮小されるとともに、配線回路23の形成部の両
側の樹脂フィルム21が押しつぶされる。これにより、
多層金属箔23aの両端部の上面を樹脂フィルム21の
樹脂材料が包み込むような構造となり、多層金属箔23
aは樹脂フィルム21から極めて剥離しにくくなる。
Here, FIG. 9 is an enlarged sectional view of the periphery of the wiring circuit 23 on which the hot pressing is performed again. Figure 9
(A) shows the formation state of the wiring circuit 23 immediately before performing the hot pressing again. As shown in FIG. 9A, the wiring circuit 23 is formed such that the upper surface of the multilayer metal foil 23 a is lower than the upper surface of the resin film 21. When hot pressing is performed again from this state, as shown in FIG. 9B, the resin film 21 is thermally deformed by the pressure and its thickness is reduced, and the resin on both sides of the formation portion of the wiring circuit 23 is reduced. The film 21 is crushed. This allows
The structure is such that the resin material of the resin film 21 wraps the upper surfaces of both ends of the multilayer metal foil 23a.
It is extremely difficult for a to be separated from the resin film 21.

【0055】このような再度の熱プレスの工程は、上記
の第1の実施形態例の場合に適用しても、同様に金属箔
13aの樹脂フィルム11からの剥離を防止する効果が
得られる。ただし、第2の実施形態例の場合では、多層
金属箔23aの樹脂フィルム21側の面には、金属層2
3cのコーティングにより表面粗度を低下させる加工が
なされていることから、金属層23cと接続電極22と
は合金化により強固な接着力が得られているものの、金
属層23cの両端部では、樹脂フィルム21との接着力
が低くなっている。従って、押し込み治具24による熱
プレスで配線回路23が形成された図9(A)に示す状
態のままでは、多層金属箔23aの両端部が剥離して、
例えばこの配線回路23上に電子部品がはんだ付けされ
た際に、高い接続性を得られない可能性がある。従っ
て、図8および図9に示したような再度の熱プレスの工
程は、特に第2の実施形態例に対して適用すると、効果
的である。
Even if the second hot pressing step is applied to the case of the first embodiment, the effect of preventing the metal foil 13a from peeling off from the resin film 11 can be obtained. However, in the case of the second embodiment, the metal layer 2 is formed on the surface of the multilayer metal foil 23a on the resin film 21 side.
Since the metal layer 23c and the connecting electrode 22 are alloyed with each other to obtain a strong adhesive force because the surface roughness is reduced by the coating of 3c, the resin is The adhesive strength with the film 21 is low. Therefore, in the state shown in FIG. 9 (A) in which the wiring circuit 23 is formed by hot pressing with the pushing jig 24, both ends of the multilayer metal foil 23a are peeled off,
For example, when an electronic component is soldered on the wiring circuit 23, high connectivity may not be obtained. Therefore, the re-hot-pressing step as shown in FIGS. 8 and 9 is effective when applied to the second embodiment in particular.

【0056】また、押し込み治具により配線回路が形成
された配線基板を、さらに積層して積層配線基板を作製
する場合には、上記の再度の熱プレスを積層時に同時に
行うことが可能である。ここで、図10は、複数の配線
基板を積層する工程を示す断面図である。
When a wiring board on which a wiring circuit is formed by a pushing jig is further laminated to produce a laminated wiring board, the above-mentioned hot pressing can be performed simultaneously at the time of lamination. Here, FIG. 10 is a cross-sectional view showing a step of stacking a plurality of wiring boards.

【0057】図10では、4枚の配線基板3、4、5お
よび6が積層される様子を示している。各配線基板3〜
6は、ともに熱可塑性樹脂材料を含有する樹脂フィルム
上に、導電性ペーストによる接続電極や、金属箔による
配線回路が形成された構成を有している。なお、この例
では配線回路を単層の金属箔により形成しているが、接
続電極側の面に、導電性ペーストと合金化させることが
可能な材料をコーティングした多層金属箔を使用しても
よい。
FIG. 10 shows how four wiring boards 3, 4, 5 and 6 are laminated. Each wiring board 3 ~
No. 6 has a configuration in which a connection electrode made of a conductive paste and a wiring circuit made of a metal foil are formed on a resin film containing a thermoplastic resin material. Although the wiring circuit is formed of a single-layer metal foil in this example, a multilayer metal foil coated with a material capable of alloying with the conductive paste on the surface of the connection electrode may also be used. Good.

【0058】積層の際には、図10(A)に示すよう
に、これらの配線基板3〜6を位置合わせして配置し、
熱盤35aおよび35bによって挟み込んで、熱プレス
を行う。これにより、図10(B)に示すように、各配
線基板3〜6は、隣接する樹脂フィルム同士が熱融着す
ることによって一体化されるとともに、隣接する接続電
極同士や、接続電極と配線回路とが、導電性ペーストの
熱融着性により接続される。
At the time of stacking, as shown in FIG. 10A, these wiring boards 3 to 6 are aligned and arranged,
It is sandwiched by the hot plates 35a and 35b, and hot pressed. As a result, as shown in FIG. 10B, the wiring boards 3 to 6 are integrated by heat-bonding the adjacent resin films to each other, and the adjacent connection electrodes and the connection electrodes and the wiring are connected to each other. The circuit is connected by the heat-sealing property of the conductive paste.

【0059】また、積層前において、金属箔の表面が、
各配線基板3〜6の表面より内側となるように配線回路
が形成されていた場合には、積層時の熱プレスにより、
上記の図8および図9で説明した場合と同様に、樹脂フ
ィルムが圧縮され、金属箔の両端部が樹脂フィルムの樹
脂材料によって包み込まれるように保持される。これに
より、金属箔の樹脂フィルムからの剥離が防止される。
Before lamination, the surface of the metal foil is
When the wiring circuit is formed so as to be inside from the surface of each wiring board 3 to 6, by hot pressing at the time of stacking,
Similar to the case described with reference to FIGS. 8 and 9, the resin film is compressed and both ends of the metal foil are held so as to be wrapped by the resin material of the resin film. Thereby, peeling of the metal foil from the resin film is prevented.

【0060】ところで、樹脂フィルム同士が接着される
面では、金属箔の表面と樹脂フィルムの表面とが同じ高
さとなるように配線基板が形成された場合でも、積層後
の配線基板3〜6の内部では、熱変形した樹脂フィルム
および導電性ペーストが配線回路の周囲に隙間なく配置
されて、金属箔が包み込まれる。しかし、積層後に表層
となる面、すなわち配線基板3の上面および配線基板6
の下面に形成された配線回路では、金属箔の剥離を防止
する必要性が高い。従って、積層時に表層となる配線基
板3および6については、特に、押し込み治具による熱
プレス時に金属箔を樹脂フィルム内に埋設するように配
線回路を形成しておくことが好ましい。
By the way, even when the wiring boards are formed such that the surfaces of the metal foils and the surfaces of the resin films have the same height on the surfaces where the resin films are adhered to each other, the wiring boards 3 to 6 after the lamination are stacked. Inside, the heat-deformed resin film and the conductive paste are arranged around the wiring circuit without a gap, and the metal foil is wrapped therein. However, the surface that becomes the surface layer after stacking, that is, the upper surface of the wiring board 3 and the wiring board 6
In the wiring circuit formed on the lower surface of, it is highly necessary to prevent the peeling of the metal foil. Therefore, regarding the wiring boards 3 and 6 which become the surface layer when laminated, it is particularly preferable to form the wiring circuit so that the metal foil is embedded in the resin film at the time of hot pressing by the pushing jig.

【0061】なお、以上で説明した熱可塑性樹脂材料を
含有する樹脂フィルムを使用した配線基板の製造工程で
は、積層する各配線基板への金属箔の熱プレス時と、こ
の配線基板への再度の熱プレス時、または積層時の2回
に渡って加熱が行われる。従って、熱履歴による樹脂フ
ィルムの融着性低下を防止するためには、最初の熱プレ
ス時は、樹脂フィルムの弾性力が低下し始める、材料樹
脂のガラス転移温度をわずかに上回る温度下で行い、そ
の後の再度の熱プレス時または積層時には、より融点に
近い温度下で行うことが望ましい。
In the manufacturing process of the wiring board using the resin film containing the thermoplastic resin material described above, during the heat pressing of the metal foil on each wiring board to be laminated, Heating is performed twice during hot pressing or during lamination. Therefore, in order to prevent the fusion property of the resin film from decreasing due to heat history, the elastic force of the resin film begins to decrease at the time of the first hot pressing, and the temperature is slightly higher than the glass transition temperature of the material resin. During the subsequent hot pressing or lamination, it is desirable that the temperature be closer to the melting point.

【0062】しかしながら、積層された樹脂フィルムの
有する接着強度は、耐熱性が高いことが望ましい。この
ためには、金属箔の熱プレス工程の前における樹脂フィ
ルムの状態で非晶性を有し、かつ融点未満の温度で結晶
化するような材料を、樹脂フィルムとして使用すること
がより望ましい。
However, the adhesive strength of the laminated resin films is preferably high in heat resistance. For this purpose, it is more desirable to use as the resin film a material that is amorphous in the state of the resin film before the hot pressing step of the metal foil and crystallizes at a temperature lower than the melting point.

【0063】このような材料を使用した場合、ガラス転
移温度をわずかに上回る温度下で熱プレスの工程を行
い、再度の熱プレスまたは積層の最終工程を、分解温度
未満のさらなる高温下で行う。これによって、最終工程
において樹脂フィルムが結晶化されるため、完成した配
線基板の耐熱性が高められる。特に、配線基板を積層す
る場合には、各配線基板の樹脂フィルムが一体化される
際に結晶化が進むため、完成した多層の配線基板の間
で、温度に対して安定した強い接着力を得ることが可能
となる。
When such a material is used, the step of hot pressing is carried out at a temperature slightly above the glass transition temperature, and the final step of hot pressing or lamination again is carried out at a further elevated temperature below the decomposition temperature. As a result, the resin film is crystallized in the final step, so that the heat resistance of the completed wiring board is improved. In particular, when wiring boards are laminated, crystallization progresses when the resin films of the wiring boards are integrated, so that a stable and strong adhesive force against temperature is provided between the completed multilayer wiring boards. It becomes possible to obtain.

【0064】また、このような非晶性材料による樹脂フ
ィルムを使用した場合にも、金属箔として導電性ペース
トとの合金化が可能な多層金属箔を使用することが可能
である。この場合、多層金属箔の樹脂フィルム側の金属
層には、熱プレスが可能な温度以下で、導電性ペースト
に含まれる金属フィラーとの合金化が生じるような材料
を用いる必要がある。
Also, when a resin film made of such an amorphous material is used, it is possible to use, as the metal foil, a multilayer metal foil capable of being alloyed with the conductive paste. In this case, for the metal layer on the resin film side of the multilayer metal foil, it is necessary to use a material that causes alloying with the metal filler contained in the conductive paste at a temperature at which hot pressing is possible or lower.

【0065】[0065]

【発明の効果】以上説明したように、本発明の配線基板
の製造方法では、配線回路の形状を模した凸型形状を有
する押し込み治具により、絶縁樹脂基材に金属箔を熱プ
レスすることにより、絶縁樹脂基材上に配線回路の配線
パターンに従って金属箔が打ち抜かれ、その後に絶縁樹
脂基材上の余分な金属箔を除去することによって、配線
回路が形成される。従って、ドライプロセスにより微細
な配線パターンを低コストで形成することが可能とな
る。
As described above, in the method for manufacturing a wiring board of the present invention, the metal foil is hot-pressed onto the insulating resin base material by the pushing jig having the convex shape imitating the shape of the wiring circuit. Thus, the metal foil is punched on the insulating resin base material in accordance with the wiring pattern of the wiring circuit, and then the excess metal foil on the insulating resin base material is removed to form the wiring circuit. Therefore, a fine wiring pattern can be formed at low cost by the dry process.

【0066】また、例えば、一方の面と他方の面の面粗
さが異なる金属箔を使用し、面粗さの大きい面が接続電
極と接触するように金属箔を押し込むことにより、金属
箔と接続電極との接続性が高まる。
Further, for example, by using a metal foil having different surface roughness on one surface and the other surface, and pushing the metal foil so that the surface having a large surface roughness contacts the connection electrode, The connectivity with the connection electrode is enhanced.

【0067】さらに、例えば、金属フィラーを含有する
導電性ペーストを使用して接続電極を形成した場合に、
金属箔の少なくとも一方の面に、絶縁樹脂基材に対する
熱プレスが可能な温度以下で金属フィラーと合金化する
材料の層を設け、この材料の層が接続電極と接触するよ
うに金属箔を押し込むようにしてもよい。この場合、絶
縁樹脂基板上に付着した金属箔に対して、押し込み治具
により押し込まれた部分と、押し込まれていない部分と
の間に、大きな付着強度差が生じる。従って、絶縁樹脂
基材上の余分な金属箔を機械的方法で容易に正確に除去
することが可能となり、作業効率が高まるとともに、高
品質の製品を安定的に製造することが可能となる。
Further, for example, when the connection electrode is formed by using a conductive paste containing a metal filler,
At least one surface of the metal foil is provided with a layer of a material which is alloyed with a metal filler at a temperature below the temperature at which the insulating resin base material can be hot pressed, and the metal foil is pressed so that the layer of this material contacts the connecting electrode. You may do it. In this case, with respect to the metal foil attached on the insulating resin substrate, a large difference in adhesion strength occurs between the portion pressed by the pushing jig and the portion not pressed. Therefore, the excess metal foil on the insulating resin base material can be easily and accurately removed by a mechanical method, the work efficiency is improved, and a high-quality product can be stably manufactured.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の配線基板の第1の実施形態例を示す断
面図である。
FIG. 1 is a sectional view showing a first embodiment of a wiring board according to the present invention.

【図2】本発明の第1の実施形態例において、樹脂フィ
ルム上に配線回路を形成するための構成を示す断面図で
ある。
FIG. 2 is a cross-sectional view showing a configuration for forming a wiring circuit on a resin film in the first embodiment example of the present invention.

【図3】本発明の第1の実施形態例において、樹脂フィ
ルム上に配線回路が形成される様子を示した断面図であ
る。
FIG. 3 is a cross-sectional view showing how a wiring circuit is formed on a resin film in the first embodiment example of the present invention.

【図4】本発明の配線基板の第2の実施形態例を示す断
面図である。
FIG. 4 is a sectional view showing a second embodiment of a wiring board according to the present invention.

【図5】本発明の第2の実施形態例において使用する多
層金属箔の断面を示す図である。
FIG. 5 is a view showing a cross section of a multilayer metal foil used in a second embodiment of the present invention.

【図6】本発明の第2の実施形態例において、樹脂フィ
ルム上に配線回路を形成するための構成を示す断面図で
ある。
FIG. 6 is a cross-sectional view showing a configuration for forming a wiring circuit on a resin film in the second embodiment example of the present invention.

【図7】本発明の第2の実施形態例において、樹脂フィ
ルム上に配線回路を形成する工程を示す断面図である。
FIG. 7 is a cross-sectional view showing a step of forming a wiring circuit on a resin film in the second embodiment example of the present invention.

【図8】本発明の第2の実施形態例について、配線回路
の形成後に再び熱プレスを行う工程を説明するための断
面図である。
FIG. 8 is a cross-sectional view for explaining a step of performing hot pressing again after the formation of the wiring circuit in the second embodiment example of the present invention.

【図9】再度の熱プレスが行われた配線回路の周囲を拡
大した断面図である。
FIG. 9 is an enlarged cross-sectional view of the periphery of the wiring circuit on which the hot pressing is performed again.

【図10】複数の配線基板を積層する工程を示す断面図
である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing a step of stacking a plurality of wiring boards.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……配線基板、11……樹脂フィルム、11a……ビ
ア穴、12……接続電極、13……配線回路、13a…
…金属箔、14……押し込み治具、14a……凸型形状
部、15a、15b……熱盤
1 ... Wiring board, 11 ... Resin film, 11a ... Via hole, 12 ... Connection electrode, 13 ... Wiring circuit, 13a ...
... Metal foil, 14 ... Pushing jig, 14a ... Convex shape part, 15a, 15b ... Hot platen

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 絶縁樹脂基材上に配線回路とビア接続用
の接続電極とが設けられた配線基板の製造方法におい
て、 前記絶縁樹脂基材に前記接続電極の形状に対応するビア
穴を形成し、前記ビア穴に導電性ペーストを充填して前
記接続電極を形成し、 前記配線回路の形状を模した凸型形状を有する押し込み
治具を用いて、前記絶縁樹脂基材に金属箔を熱プレスし
て前記金属箔を前記接続電極と接触させ、 前記絶縁樹脂基材上の前記押し込み治具で押し込まれて
いない部分に付着した余分な前記金属箔を除去する、 ことを特徴とする配線基板の製造方法。
1. A method of manufacturing a wiring board in which a wiring circuit and a connection electrode for via connection are provided on an insulating resin base material, wherein a via hole corresponding to the shape of the connection electrode is formed in the insulating resin base material. Then, the via holes are filled with a conductive paste to form the connection electrodes, and a metal foil is heated on the insulating resin base material by using a pressing jig having a convex shape imitating the shape of the wiring circuit. A wiring board, characterized in that the metal foil is pressed to bring the metal foil into contact with the connection electrode, and the excess metal foil attached to a portion of the insulating resin base material that is not pressed by the pressing jig is removed. Manufacturing method.
【請求項2】 前記導電性ペーストは、熱可塑性樹脂を
含有することを特徴とする請求項1記載の配線基板の製
造方法。
2. The method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the conductive paste contains a thermoplastic resin.
【請求項3】 前記金属箔は一方の面と他方の面の粗度
が異なり、粗度の大きい面が前記接続電極と接触するよ
うに熱プレスされることを特徴とする請求項1記載の配
線基板の製造方法。
3. The metal foil according to claim 1, wherein one surface and the other surface have different roughness, and the surface having a high roughness is hot pressed so as to come into contact with the connection electrode. Wiring board manufacturing method.
【請求項4】 前記導電性ペーストは、前記金属箔の接
触する面の表面粗度Rmaxよりも平均粒径が小さい金
属フィラーを含有することを特徴とする請求項3記載の
配線基板の製造方法。
4. The method for manufacturing a wiring board according to claim 3, wherein the conductive paste contains a metal filler having an average particle size smaller than a surface roughness Rmax of a surface of the metal foil in contact with the metal paste. .
【請求項5】 前記導電性ペーストは金属フィラーを含
有し、 前記金属箔の少なくとも前記接続電極と接触する面に
は、前記絶縁樹脂基材に対する熱プレスが可能な温度以
下で前記金属フィラーと合金化する材料の層が設けられ
ていることを特徴とする請求項1記載の配線基板の製造
方法。
5. The conductive paste contains a metal filler, and at least a surface of the metal foil in contact with the connection electrode is alloyed with the metal filler at a temperature not higher than a temperature at which the insulating resin base material can be hot pressed. 2. The method for manufacturing a wiring board according to claim 1, further comprising a layer of a material to be formed.
【請求項6】 前記合金化する材料の層は、前記接続電
極との接触面の面粗さが、前記金属箔の前記接続電極側
の面より低くされていることを特徴とする請求項5記載
の配線基板の製造方法。
6. A layer of the material to be alloyed has a surface roughness of a contact surface with the connection electrode lower than that of a surface of the metal foil on the connection electrode side. A method for manufacturing a wiring board as described above.
【請求項7】 前記絶縁樹脂基材は、熱可塑性樹脂を含
有することを特徴とする請求項1記載の配線基板の製造
方法。
7. The method of manufacturing a wiring board according to claim 1, wherein the insulating resin base material contains a thermoplastic resin.
【請求項8】 前記押し込み治具の凸型形状の高さが前
記金属箔の厚さより大きく形成されている場合に、前記
絶縁樹脂基材上の前記余分な金属箔を除去した後、前記
絶縁樹脂基材を再度、熱プレスすることを特徴とする請
求項7記載の配線基板の製造方法。
8. When the height of the convex shape of the pushing jig is formed to be larger than the thickness of the metal foil, after removing the excess metal foil on the insulating resin substrate, the insulating The method for manufacturing a wiring board according to claim 7, wherein the resin base material is hot-pressed again.
【請求項9】 絶縁樹脂基材上に配線回路とビア接続用
の接続電極とが設けられた配線基板において、 前記絶縁樹脂基材は熱可塑性樹脂を含有する材料によっ
てなり、 前記接続電極は、前記絶縁樹脂基材に形成されたビア穴
に、金属フィラーを含有する導電性ペーストが充填され
ることによってなり、 前記配線回路は、前記絶縁樹脂基材に対する熱プレスが
可能な温度以下で前記金属フィラーと合金化する材料の
層が一方の面に設けられた金属箔が使用され、前記合金
化する材料の層が前記接続電極に接触するように、前記
金属箔が前記絶縁樹脂基材に埋設されてなる、 ことを特徴とする配線基板。
9. A wiring board in which a wiring circuit and a connection electrode for via connection are provided on an insulating resin base material, wherein the insulating resin base material is made of a material containing a thermoplastic resin, and the connection electrode comprises: The via hole formed in the insulating resin base material is filled with a conductive paste containing a metal filler, and the wiring circuit includes the metal at a temperature not higher than a temperature at which the insulating resin base material can be hot pressed. A metal foil having a layer of a material alloying with the filler provided on one surface is used, and the metal foil is embedded in the insulating resin base material so that the layer of the alloying material contacts the connection electrode. A wiring board characterized by:
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