JP2005244120A - Method of manufacturing wiring board - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、配線基板の製造方法に関する。 The present invention relates to a method for manufacturing a wiring board.
微細な配設をするための配線基板として、両面プリント配線基板をコア層とし、これに薄い絶縁性樹脂層と導体層を交互に積み上げて形成するビルドアップ基板が開発された。そして導体回路のファインパターン化に対する設計のし易さや、低重量化などのために、このビルドアップ工法が普及している。 As a wiring board for fine arrangement, a build-up board has been developed in which a double-sided printed wiring board is used as a core layer, and thin insulating resin layers and conductor layers are alternately stacked thereon. This build-up method has become widespread for ease of design for fine patterning of conductor circuits and weight reduction.
プリント配線板は、金属箔張りの積層板の表面に回路形成を行うなどして製造される。この積層板は、プリプレグを用いて作製される。プリプレグは、一般に、ガラス布やアラミド繊維布等の基材にエポキシ樹脂やポリイミド樹脂などの合成樹脂を含浸し、乾燥させて半硬化させて得られたものである。プリプレグは、有機樹脂製のフィルム体であって、加熱されると樹脂成分が粘性液体になって時間の経過とともに漸次硬化する特性を有している。その為、これによって、積層された各層の基板セグメント同士を接着して一体化することができる。 The printed wiring board is manufactured by forming a circuit on the surface of a metal foil-clad laminate. This laminated board is produced using a prepreg. A prepreg is generally obtained by impregnating a base material such as a glass cloth or an aramid fiber cloth with a synthetic resin such as an epoxy resin or a polyimide resin, followed by drying and semi-curing. The prepreg is a film body made of an organic resin and has a characteristic that when heated, the resin component becomes a viscous liquid and gradually cures with time. Therefore, this makes it possible to bond and integrate the substrate segments of the stacked layers.
多層配線板の製造は、内層回路が形成された内層用基板にプリプレグを介して銅箔等の外層用金属箔を積層して積層体とし、この積層体を加熱加圧することによって得られる多層板を用いて行われることが多い。 The multilayer wiring board is manufactured by laminating an outer layer metal foil such as a copper foil via a prepreg on an inner layer substrate on which an inner layer circuit is formed, and then heating and pressing the laminated body. It is often performed using.
ビルドアップ法により製造する多層プリント配線板は、従来の積層方式の多層プリント配線板に比較して高い配線設計自由度を有するものであるが、この特徴を活かして高性能プリント配線板として用いられるために、層間絶縁層の更なる薄手化、回路パターンの平坦性の向上が要求されている。ビルドアップ多層配線基板は、セラミック製または樹脂製のコア基板の両面上に樹脂絶縁層を積層した両面積層の多層基板や、コア基板の片面上に樹脂絶縁層を積層した片面積層の多層配線基板がある(特許文献1)。 A multilayer printed wiring board manufactured by the build-up method has a higher degree of freedom in wiring design than a conventional multilayer printed wiring board, but it is used as a high-performance printed wiring board taking advantage of this feature. Therefore, it is required to further reduce the thickness of the interlayer insulating layer and improve the flatness of the circuit pattern. The build-up multilayer wiring board is a double-sided multilayer board in which resin insulation layers are laminated on both sides of a ceramic or resin core board, or a single-area multilayer wiring board in which a resin insulation layer is laminated on one side of the core board. (Patent Document 1).
しかしその片面上にのみビルドアップ層を形成した配線基板では、積層により基板の反りが増大する。さらにビルドアップ層およびコア基板の熱膨張率の差に起因して、反りが発生してしまうという問題があった。そこで配線基板の裏面に裏面樹脂を付着することにより、反りを防止する方法がある。そして、このように裏面樹脂を使用し、配線基板の反りを防止する方法を採用した場合、一対のコア基板を仮接着する時に、空洞のスルーホールを裏面樹脂で充填するという方法がある。 However, in a wiring board in which a buildup layer is formed only on one side, the warping of the board increases due to the lamination. Further, there is a problem that warpage occurs due to a difference in coefficient of thermal expansion between the buildup layer and the core substrate. Therefore, there is a method for preventing warping by attaching a back surface resin to the back surface of the wiring board. When the back surface resin is used and the method of preventing the warping of the wiring board is employed, there is a method of filling the hollow through hole with the back surface resin when temporarily bonding the pair of core substrates.
図5に従来の技術を示しながら説明する。板状のコア基板2は、表面と裏面との間を貫通する複数のスルーホール導体4と、コア基板2の表面と裏面とに形成されたコア配線層10,11とを備える。コア基板2には、複数のスルーホール3が形成され、各スルーホール3には、銅メッキ製のスルーホール導体4が形成されている。またコア基板2の裏面側でコア配線層11の所定の位置には、配線基板の反りを抑制するために、裏面絶縁層(裏面樹脂層)12が形成されている。各スルーホール導体4の内側には、裏面樹脂と同種の充填樹脂5が充填されている。
FIG. 5 will be described with reference to the prior art. The plate-
工程を簡略化するため、裏面絶縁層12形成とスルーホールの充填とを同種のプリプレグを用いた場合、図5(a)に示すように、プレス後プリプレグが表面にはみ出す。ビルドアップ層と裏面絶縁層とは、配線基板の反りを防止するため、異なる高分子材料を用いて形成されており、この状態で、第一ビルドアップ層15を、はみ出したプリプレグとは異なる樹脂を用いて形成した場合、図5(b)に示すように、第一ビルドアップ層15の平坦性が低下する原因となる。さらにこれらの樹脂間の接着性が悪く、デラミネーションの原因ともなる。そこでこれを防ぐためには、スルーホールからはみ出したプリプレグを除去する工程が必要となり、コスト高を招くことにもなる。
In order to simplify the process, when the same kind of prepreg is used for the formation of the
以上のように、このようなプロセスを採用した場合、裏面樹脂が、コア基板のビルドアップ層を形成する面に流れ出し、これを除去せずにビルドアップ層を形成すると、基板の平坦度が悪くなったり、界面にデラミネーションが生じやすくなったりする。したがってビルドアップ層を形成する前にコア基板のスルーホールから流れ出た裏面樹脂を除去しなければならなかった。 As described above, when such a process is adopted, if the back surface resin flows out to the surface of the core substrate where the buildup layer is formed and the buildup layer is formed without removing this, the flatness of the substrate is poor. Or delamination is likely to occur at the interface. Therefore, before the buildup layer was formed, the back surface resin that flowed out of the through hole of the core substrate had to be removed.
そこで本発明の課題は、積層体を有する配線基板において、空洞のスルーホールを裏面樹脂で充填する方法を採用した場合、コア基板の積層体形成面に流れ出した裏面樹脂を除去する工程を省く配線基板の製造方法を提供することである。 Accordingly, an object of the present invention is to eliminate the step of removing the backside resin that has flowed out to the laminate-forming surface of the core substrate when a method of filling a hollow through hole with a backside resin in a wiring board having a laminate is provided. It is to provide a method for manufacturing a substrate.
上記課題を解決するための本発明の配線基板の製造方法は、
コア基板に、加熱硬化型材料からなる絶縁層と配線層とを交互に積層した積層体を有する配線基板の製造方法であって、
コア基板の前記積層体を形成する第一主表面に絶縁材料を接着した後に、熱硬化型材料を含む複合材料を第二主表面に付着するとともにコア基板に形成されたスルーホールに充填し、
その後、第一主表面側に積層体を形成することを特徴とする。
The manufacturing method of the wiring board of the present invention for solving the above problems is as follows.
A method of manufacturing a wiring board having a laminate in which insulating layers and wiring layers made of a thermosetting material are alternately laminated on a core substrate,
After adhering an insulating material to the first main surface forming the laminate of the core substrate, a composite material containing a thermosetting material is attached to the second main surface and filled into a through hole formed in the core substrate,
Thereafter, a laminate is formed on the first main surface side.
コア基板の第一主表面に絶縁材料を接着することにより、裏面絶縁層を形成する熱硬化型材料を含む複合材料を第二主表面に付着し、さらにスルーホールに充填した場合に、その複合材料がスルーホールから第一主表面側に流れ出すことを防ぐことができる。これにより配線基板表面の平坦度が悪くなったり、界面にデラミネーションが生じやすくなることを防ぐことができる。つまりコア基板と第一ビルドアップ層との密着信頼性を向上することができる。 By adhering an insulating material to the first main surface of the core substrate, a composite material containing a thermosetting material that forms the back insulating layer is attached to the second main surface, and when the through hole is filled, the composite It is possible to prevent the material from flowing out from the through hole to the first main surface side. Thereby, it is possible to prevent the flatness of the surface of the wiring board from being deteriorated and the delamination from being easily generated at the interface. That is, the adhesion reliability between the core substrate and the first buildup layer can be improved.
本発明の第二の配線基板の製造方法は、
コア基板に、加熱硬化型材料からなる絶縁層と配線層とを交互に積層した積層体を有する配線基板の製造方法であって、
コア基板の前記積層体を形成する第一主表面に絶縁材料を接着した後に、熱硬化型材料を含む複合材料を第二主表面に付着するとともに、コア基板に形成されたスルーホールに充填し、
さらにその上に離型シートを付着して、2つのコア基板の第二主表面側同士を対向させてコア基板同士を接着し、
その後、第一主表面側に積層体を形成することを特徴とする。
The manufacturing method of the second wiring board of the present invention is as follows:
A method of manufacturing a wiring board having a laminate in which insulating layers and wiring layers made of a thermosetting material are alternately laminated on a core substrate,
After adhering an insulating material to the first main surface forming the laminate of the core substrate, a composite material containing a thermosetting material is attached to the second main surface, and a through hole formed in the core substrate is filled. ,
Furthermore, a release sheet is attached thereon, the second main surface sides of the two core substrates are opposed to each other, and the core substrates are bonded to each other.
Thereafter, a laminate is formed on the first main surface side.
第一主表面に絶縁材料を付着することにより、前述と同様にスルーホールから充填樹脂が第一主表面側へ流れ出すことを防ぐことができる。2つのコア基板のそれぞれの第一主表面に絶縁材料を貼り付け、第二主表面に熱硬化型材料を付着し、さらにスルーホール内を熱硬化型材料により充填した後、この2つのコア基板の第二主表面側同士を貼り合わせて、積層体を形成することにより、効率よく積層体を形成することができる。なお2つのコア基板の第二主表面側同士を対向させてコア基板同士を接着すると、離型シートを挟んで第二主表面同士が貼り合わされることになる。 By adhering the insulating material to the first main surface, the filling resin can be prevented from flowing out from the through hole to the first main surface side as described above. An insulating material is attached to the first main surface of each of the two core substrates, a thermosetting material is attached to the second main surface, and the inside of the through hole is filled with the thermosetting material. By laminating the second main surface sides of each other to form a laminate, the laminate can be formed efficiently. In addition, when the 2nd main surface sides of two core substrates are made to oppose and core substrates are adhere | attached, 2nd main surfaces will be bonded together on both sides of a release sheet.
絶縁材料としては、フィルム状のものを使用すると作業性がよい。また絶縁材料としては、熱硬化型高分子、例えば熱硬化型樹脂を用いることができる。熱硬化型樹脂を第一主表面を覆う絶縁材料として使用することにより、加熱処理をして硬化させ、これを第一ビルドアップ層とすることができる。特にシリカフィラーを含むエポキシ樹脂からなるフィルム状絶縁材料を使用することで、密着性よく接着することができるし、取り扱いも簡便でよい。 When an insulating material is used, workability is good. As the insulating material, a thermosetting polymer such as a thermosetting resin can be used. By using a thermosetting resin as an insulating material covering the first main surface, heat treatment can be performed and cured, and this can be used as the first buildup layer. In particular, by using a film-like insulating material made of an epoxy resin containing a silica filler, adhesion can be made with good adhesion, and handling can be simple.
本発明の製造工程において、コア基板の第二主表面に付着された裏面絶縁層を形成する複合材料と、コア基板の第一主表面に貼り付けられた絶縁材料とを、同時に熱硬化処理することができる。 In the manufacturing process of the present invention, the composite material for forming the back surface insulating layer attached to the second main surface of the core substrate and the insulating material attached to the first main surface of the core substrate are simultaneously thermoset. be able to.
コア基板主表面に貼り付けられた絶縁材料と、第二主表面に付着された複合材料とを同時に熱硬化処理することによって、工程を簡略化することができる。これによりコストを低減することができる。 By simultaneously thermosetting the insulating material attached to the main surface of the core substrate and the composite material attached to the second main surface, the process can be simplified. Thereby, cost can be reduced.
以下、図面に示す実施例を参照しつつ、本発明の実施形態を説明する。図1に本発明の配線基板1の断面図を示す。耐熱性樹脂板(例えば、ビスマレイミド−トリアジン樹脂板)や繊維強化樹脂板(例えばガラス繊維強化エポキシ樹脂)等で構成された板状のコア基板2と、このコア基板2の表面と裏面との間を貫通する複数のスルーホール導体4と、コア基板2の表面と裏面とに形成されたコア配線層10,11とを備える。コア基板2の表面、つまり配線層10側を第一主表面、コア基板2の裏面、つまり配線層11側を第二主表面とする。
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to examples shown in the drawings. FIG. 1 shows a cross-sectional view of a
コア基板2には、複数のスルーホール3が形成され、各スルーホール3には、銅メッキ製のスルーホール導体4が形成されている。また各スルーホール導体4の内側には、裏面樹脂と同種の充填樹脂5が充填されている。
A plurality of through
さらにコア基板2の表面側、つまり第一主表面側には、高分子材料からなる複数のビルドアップ絶縁層15,23やソルダーレジスト層29、複数のビルドアップ配線層21,27とが形成されている。ビルドアップ絶縁層15,23やソルダーレジスト層29とビルドアップ配線層21,27とが交互に積層されて、積層体(ビルドアップ層)を形成している。コア配線層10とビルドアップ配線層21,27とを接続するために、ビルドアップ絶縁層15,23には、銅メッキ製のフィルドビア導体16,24が形成されている。
Furthermore, a plurality of
ビルドアップ絶縁層15は、フィルム状の絶縁材料を加熱硬化処理することによって形成されたものである。絶縁材料としては、熱硬化性樹脂を用いるとよく、例えば、エポキシ樹脂を使用する。特に本実施例では、無機フィラーを含むエポキシ樹脂からなるフィルム状の熱硬化性樹脂を使用した。これは加熱処理をすることにより硬化し、コア基板の第一主表面との密着性を確保することができる。このフィルム状の樹脂が硬化することによりビルドアップ層15となる。
The build-up insulating
最上層のビルドアップ配線層27上の所定の位置には、ソルダーレジスト層29を貫通し配線基板の第一主表面30を突出するように、プリント配線基板に電子部品を実装するためのハンダ接続部(ハンダバンプ)31が形成されている。このハンダバンプ31は、例えばSn−Ag系などの低融点合金からなる。
Solder connection for mounting electronic components on the printed wiring board at a predetermined position on the uppermost
またコア基板2の裏面側、つまり第二主表面側でコア配線層11の所定の位置には、無機繊維と熱硬化型高分子材料との複合材料により、裏面絶縁層(裏面樹脂層)12が形成されている。複合材料としては、ガラス繊維または炭素繊維を含有した樹脂が挙げられる。つまりプリプレグを使用することができる。さらにその樹脂としては、2次元重合型(網目状高分子)の樹脂、例えば、BT(ビスマレイミド−トリアジン)樹脂を使用するとよい。または、1次元重合型(線状高分子)の樹脂、例えばエポキシ樹脂を使用することもできる。この裏面絶縁層12の所定の位置には、第二主表面32に開口する開口部14が形成され、コア配線層11の一部が露出している。このコア配線層11は、その表面にNiおよびAuメッキが被覆され、マザーボードなどのプリント基板との接続端子となる。
Further, at a predetermined position of the
裏面絶縁層12は、無機繊維と熱硬化型高分子材料との複合材料(無機繊維を含む樹脂)により形成され、コア基板2の表面に形成されたビルドアップ層による熱収縮とのバランスを保つことができ、これによって配線基板1の反りを抑制することができる。ビルドアップ層による反りを防止するという観点からは、特に2次元重合型(網目状高分子)の樹脂を使用するのが望ましい。
The back
またスルーホール5を充填する複合材料は、裏面絶縁層12を形成する複合材料と同一の樹脂により形成されている。裏面絶縁層12とスルーホール5とを同種の複合材料によって形成するため、工程を簡略化することができる。さらに第二ビルドアップ層23は、第一ビルドアップ層15や裏面絶縁層12とは、異なる複合材料を用いることで、裏面樹脂による配線基板の反り抑制効果を得ることができる。
The composite material filling the through-
図2から図4において、本発明の裏面樹脂層を形成するまでの工程を示す。まず図2(a)に示すように、耐熱性樹脂板や繊維強化樹脂板等で構成された板状のコア基板2の表面と裏面に銅箔10,11を貼り付ける。次に図2(b)に示すように、このコア基板2の所定の位置をレーザー照射か、またはドリルによって孔をあける。こうして複数のスルーホール3が形成される。
In FIG. 2 to FIG. 4, steps until the back surface resin layer of the present invention is formed are shown. First, as shown to Fig.2 (a), the copper foils 10 and 11 are affixed on the surface and back surface of the plate-shaped core board |
次にコア基板2の全面に、無電解銅メッキおよび電解銅メッキを施す。これによって図2(c)に示すように、各スルーホール3の内壁の表面にスルーホール導体4が形成される。次に、公知のフォトリソグラフィー技術、エッチング技術にて、配線層を形成する。まず銅メッキ層上に、エッチングレジスト層を形成した後、エッチングレジスト層に覆われていない銅メッキ層および銅箔をエッチングして除去する。これにより図2(d)に示すように、所定のパターンの配線層10,11が形成される。
Next, electroless copper plating and electrolytic copper plating are performed on the entire surface of the
さらに図3(a)に示すように、フィルム状の熱硬化型高分子材料15を各スルーホール3の第一主表面側の開口を塞ぐようにコア基板2の第一主表面上に貼り付ける。この熱硬化型高分子材料は、例えば、無機フィラーを含むエポキシ樹脂である。このフィルム状の熱硬化型高分子材料は、コア基板2との密着性を確保するように貼り付けることが必要である。密着して貼り付けない場合、後にスルーホール5に熱硬化型樹脂を充填した際に、はみ出す原因となったり、コア基板2とビルドアップ層15との剥離の原因となったりする。このフィルム状の無機フィラーを含むエポキシ樹脂を後に加熱処理することにより、コア基板2に接着させ第一ビルドアップ層15とする。
Further, as shown in FIG. 3A, a film-like
図3(b)に示すようにコア基板2の裏面上に裏面絶縁層12を形成する。この裏面絶縁層12は、例えばBT樹脂にガラス繊維を含有させたものである。裏面樹脂層12上には、離型シート13を取り付ける。さらに裏面樹脂層12を形成する樹脂でスルーホール5内も充填する。スルーホール5のコア基板の第一主表面側には、フィルム状の絶縁材料が貼り付けられているため、スルーホール5内の樹脂が第一主表面側にはみ出してくることはない。以上のようにフィルム状の熱硬化型樹脂を貼り付け、裏面樹脂層12を形成したコア基板2を2つ用意し、図3(c)に示すように離型シート13を挟む形態で、2つのコア基板を接合する。ここで真空熱プレスによって、裏面樹脂やスルーホール内の充填樹脂、第一ビルドアップ層の樹脂の熱処理を行う。熱処理により、裏面樹脂や充填樹脂、第一ビルドアップ層を形成するフィルム状の熱硬化性樹脂が硬化する。
As shown in FIG. 3B, the back insulating
その後、図4(a)に示すように、ビルドアップ絶縁層15中にフィルドビア導体16が形成され、さらにビルドアップ絶縁層15上にビルドアップ配線層21が形成される。以後、ビルドアップ絶縁層23、ビア導体24、ビルドアップ配線層27、絶縁層(ソルダーレジスト層)29が形成される。第2層以上のビルドアップ絶縁層は、第一ビルドアップ絶縁層15と異なる材質のものを使用する。最後にICチップを接続するためのハンダバンプ31が形成される。こうしてビルドアップ層を形成した後、図4(b)に示すように、コア基板2を離型シート13から分離する。
Thereafter, as shown in FIG. 4A, the filled via
裏面絶縁層12に開口部14を形成し、配線層11が露出している配線基板1が、図1に示すように製造される。これにより裏面側に導通を取ることができる。さらにプリント配線基板1のビルドアップ層が形成された上面は、ICチップ等を実装するために、ハンダバンプ31等を形成され、これらハンダバンプ31が互い融着しないようにソルダーレジスト層29が設けられている。ソルダーレジストは絶縁性樹脂により構成されており、これは実装されるICチップと配線層が所定の接続位置以外で短絡することを防止するためのものである。
The
ICチップをはんだを用いて配線基板の配線層に接合した後、アンダーフィルをICチップとプリント配線基板との間に充填する。このアンダーフィルは、流動性を有した状態で、ICチップとプリント配線基板との間に充填し、その後、加熱処理を行うことによって硬化させる。ICチップを実装した後、配線基板1の熱処理を行い、ICチップの接着を完了する。
After the IC chip is bonded to the wiring layer of the wiring board using solder, an underfill is filled between the IC chip and the printed wiring board. This underfill is filled between the IC chip and the printed wiring board in a fluid state and then cured by heat treatment. After mounting the IC chip, the
1 配線基板
13 離型シート
12 裏面樹脂層
15 熱硬化性フィルム(第一ビルドアップ層)
DESCRIPTION OF
Claims (4)
前記コア基板の前記積層体を形成する第一主表面に絶縁材料を接着した後に、熱硬化型材料を含む複合材料を第二主表面に付着するとともに前記コア基板に形成されたスルーホールに充填し、
その後、前記第一主表面側に前記積層体を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。 A method of manufacturing a wiring board having a laminate in which insulating layers and wiring layers made of a thermosetting material are alternately laminated on a core substrate,
After adhering an insulating material to the first main surface forming the laminate of the core substrate, a composite material including a thermosetting material is attached to the second main surface and filled in the through-hole formed in the core substrate. And
Then, the said laminated body is formed in said 1st main surface side, The manufacturing method of the wiring board characterized by the above-mentioned.
前記コア基板の前記積層体を形成する第一主表面に絶縁材料を接着した後に、熱硬化型材料を含む複合材料を第二主表面に付着するとともに、前記コア基板に形成されたスルーホールに充填し、
さらにその上に離型シートを付着して、2つの前記コア基板の前記第二主表面側同士を対向させてコア基板同士を接着し、
その後、前記第一主表面側に前記積層体を形成することを特徴とする配線基板の製造方法。 A method of manufacturing a wiring board having a laminate in which insulating layers and wiring layers made of a thermosetting material are alternately laminated on a core substrate,
After adhering an insulating material to the first main surface forming the laminate of the core substrate, a composite material including a thermosetting material is attached to the second main surface, and in the through hole formed in the core substrate. Filling,
Furthermore, a release sheet is attached thereon, the second main surface sides of the two core substrates are opposed to each other, and the core substrates are bonded to each other,
Then, the said laminated body is formed in said 1st main surface side, The manufacturing method of the wiring board characterized by the above-mentioned.
The composite material for forming the back surface insulating layer attached to the second main surface of the core substrate and the insulating material attached to the first main surface of the core substrate are simultaneously thermoset. Item 4. The method for manufacturing a wiring board according to any one of Items 1 to 3.
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