JP4691763B2 - Method for manufacturing printed wiring board - Google Patents

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Description

【0001】
【技術分野】
本発明は,電子部品等を搭載するプリント配線板及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来技術】
多層の導体パターンを有するプリント配線板は,従来,たとえば,セミアディティブ法を利用した以下の方法により製造されていた。
まず,図12(a)に示すごとく,絶縁樹脂層94の表面に導体パターン97を設けた配線基板99を準備し,その表面にBステージの樹脂絶縁層93を形成する。図12(b)に示すごとく,樹脂絶縁層93の表面に,銅箔92を貼着したキャリア91を積層する。このとき,樹脂絶縁層93に対して銅箔92が向かい合うようにする。次に,これらを厚み方向から加圧しながら熱圧着して,樹脂絶縁層93を硬化させる。
【0003】
次いで,図12(c)に示すごとく,銅箔92からキャリア91を剥離する。次いで,レーザー等により,銅箔92及び絶縁樹脂層93に,下層の導体パターン97と通じるビアホール90を形成する。次に,図12(d)に示すごとく,銅箔92の表面に,パターン形成用穴950を有するレジスト層95を形成する。次いで,図13(a)に示すごとく,パターン形成用穴950及びビアホール90の中に銅メッキを析出させて,金属メッキパターン層96を形成する。
【0004】
次いで,図13(b)に示すごとく,レジスト層95を除去する。これにより,銅箔92における,レジスト層95下に配置されていた部分が露出する。次いで,銅箔92の露出部分をエッチングにより除去する。これにより,配線基板94の表面に,金属メッキパターン層96とその下部に残った銅箔92とからなる導体パターン91が形成される。
その後,図13(c)に示すごとく,導体パターン91の表面に絶縁樹脂層98を配置し加熱圧着する。
以上により,プリント配線板9が得られる。
【0005】
【解決しようとする課題】
しかしながら,上記従来のプリント配線板の製造方法においては,図13に示すごとく,形成すべき導体パターンの配線密度(単位面積当たりのパターン面積)が小さい部位にはメッキが比較的厚く析出するが,導体パターンの配線密度が大きい部位に析出するメッキは比較的薄い。このため,導体パターン91を均一厚みに形成することが困難である。また,その表面を覆う絶縁樹脂層98の厚みも不均一となる。
また,導体パターンを均一な厚みにしても,その厚み分が絶縁樹脂層から突出する。このため,基板表面を平坦にすることはできない。
【0006】
更に,図13(c)に示すごとく,導体パターン91の高さにバラツキがあると,その上に別個の配線基板を積層したときに,プリント配線板9の厚みにバラツキが生じてしまう。
【0007】
本発明はかかる従来の問題点に鑑み,パターン形成用のメッキ厚みの制御が不要で均一厚みのプリント配線板及びその製造方法を提供しようとするものである。
【0008】
【課題の解決手段】
請求項1の発明は,キャリアの表面に金属層を形成すると共に,該金属層における上記キャリア側と反対側の表面には予め粗化処理により粗化面を形成してなる金属層形成工程と,
上記キャリアの金属層形成側に金属メッキにより導体パターンを形成するメッキ工程と,
上記キャリアの導体パターン形成側に絶縁樹脂層を形成する樹脂層形成工程と,
上記絶縁樹脂層を硬化させる硬化工程と,
上記絶縁樹脂層の表面から上記キャリア及び上記金属層を除去する除去工程とを含み,
かつ,上記キャリアの厚みは20〜100μmであり,
また上記金属層の除去はエッチングにより行ない,上記絶縁樹脂層における上記導体パターン形成側表面全体を上記金属層の粗化面が転写されてなる粗化面とすると共に該粗化面を表面に露出させてなることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。
【0009】
本発明においては,キャリアの導体パターン形成側に絶縁樹脂層を形成している。絶縁樹脂層は半硬化状態(Bステージ)の樹脂からなるため,絶縁樹脂層は,キャリア及び導体パターンにより形成される凹凸面に追従して,導体パターン間を埋めて,キャリア表面にまで達する。このため,絶縁樹脂層の表面は,導体パターンと略同一高さを有することになる。この状態で絶縁樹脂層を硬化させ,その後,キャリア及び金属層を除去すると,導体パターンの表面及び絶縁樹脂層の表面が,連続した略同一面として現れる。
したがって,本製造方法によれば,導体パターンの厚みは,パターン形成面に全く影響を与えず,略同一面上に導体パターン及び絶縁樹脂層を形成することができる。ゆえに,パターン形成用のメッキ厚みの制御が不要となる。
特に,本発明においては,また上記金属層の除去はエッチングにより行ない,上記絶縁樹脂層における上記導体パターン形成側表面全体を上記金属層の粗化面が転写されてなる粗化面とすると共に該粗化面を表面に露出させてなる。
【0010】
また,金属層はエッチングにより除去する。これにより,絶縁樹脂層におけるパターン形成側表面全体が,上記金属層の粗化面が転写された粗化面を形成する。また,該粗化面は表面に露出することとなる。
このため,絶縁樹脂層の表面に更に絶縁樹脂層を積層する場合にも,該絶縁樹脂層との接着性が向上する。
【0011】
また,キャリアの導体パターン側に絶縁樹脂層を形成すると,導体パターンは,キャリアとの対向面を除いて,絶縁樹脂層の中に埋設されることになる。そのため,導体パターンの高さにかかわらず,同一厚みのプリント配線板を製造することができる。
【0012】
キャリアは,プリント配線板の製造の際に形状を保持し得るものであれば特に限定はないが,たとえば,銅などの金属板,合成樹脂板,補強材入り合成樹脂板などがある。
キャリアの厚みは,20〜100μmである。20μm未満の場合には,形状保持機能及び強度が低下するおそれがあり,また,Bステージの絶縁樹脂層が加熱中に液状化し流動する時に,パターンの相対的位置関係を保持できなくなるおそれがある。100μmを超える場合には,キャリアに要するコストが高くなるおそれがある。
【0013】
キャリアの表面に形成する金属層は,その後のメッキ形成時に電気リードの役目を果たす。金属層としては,たとえば,銅,アルミニウム,ニッケル,ハンダなどの導電性材料を用いることができる。
【0014】
金属層の表面には,粗化処理を施すことができる。粗化処理は,金属層におけるキャリア側の表面に施すことが好ましい。これにより,金属層とキャリアとの密着性が向上する。また,粗化処理は,金属層におけるキャリア側と反対側の表面に施す。
【0015】
キャリアの表面に金属層を形成する方法としては,厚みが5μm以下の接着材により金属箔を接着する方法,金属キャリア表面に1μm以下の接着材を塗布した後,メッキ法によって金属層を析出させる方法がある。
【0016】
そして,金属層とキャリアとの接着強度は,2N/cm以下が好ましい。2N/cmを超える場合には,キャリア剥離工程の際に,導体パターンがキャリアから剥離せずに,付着したまま,次工程に運ばれるおそれがあるからである。中でも更に0.05〜0.5N/cmの範囲の密着強度の場合には,より好ましい効果を発揮できる。0.05N/cmより小さいと,キャリアと金属層との間にメッキ液等の液が染み込んで剥がれたり,機械的な取り扱いが不便となるからである。
【0017】
上記キャリアの金属層形成側に金属メッキにより導体パターンを形成するにあたっては,たとえば,レジストによりパターン非形成部分を被覆し,電気メッキ処理を行う。
絶縁樹脂層としては,半硬化状態(Bステージ)の樹脂,たとえば,プリプレグなどを用いる。樹脂成分としては,エポキシ系樹脂,フェノール樹脂,ビスマレイミドトレアジン樹脂,ポリフェニレン樹脂,ポリフェニレンエーテル樹脂,ポリイミド系樹脂などの熱硬化性樹脂あるいはそれらの混合物を用いることができる。絶縁樹脂層には,ガラスクロス,ガラスファイバーなどの補強材を含んでいてもよい。
【0018】
絶縁樹脂層の厚みは,導体パターンの厚みよりも厚いことが好ましい。これにより,導体パターンの厚みにかかわらず,均一厚みのプリント配線板を製造することができる。
絶縁樹脂層の厚みは,導体パターンの厚みよりも0.005〜0.05mm厚いことが好ましい。0.005mm未満の場合には,均一厚みのプリント配線板を製造することが困難となるおそれがあり,0.05mmを超える場合には,プリント配線板の薄層化が妨げられるおそれがある。
【0019】
請求項2の発明のように,上記絶縁樹脂層の硬化は,上記絶縁樹脂層を厚み方向に加圧しながら行うことが好ましい。これにより,絶縁樹脂層を均一厚みの状態で硬化させることができる。
【0020】
キャリア及び絶縁樹脂層の加圧力は,50〜5000KPaであることが好ましい。50KPa未満の場合には,導体パターンが上記絶縁樹脂層に埋め込まれないおそれがあり,5000KPaを超える場合には,キャリアとBステージの絶縁性樹脂とが密着してしまい,後にキャリアが絶縁樹脂層から剥がれなくなるからである。キャリアと絶縁樹脂層とは,部分的に接着しても良いが,接着する面積は導体パターン表面の最大80%までが良好に剥がれる面積である。そして,導体パターン高さの20%以上が埋め込まれていることが好ましい。これにより,キャリアを剥す時に,導体パターンがキャリアに付着したまま,次工程に運ばれることが無くなる。
【0021】
キャリアの導体パターン形成側に絶縁樹脂層を形成するときには,絶縁樹脂層の表面を,銅板,ステンレス板のような硬い板により支持することが好ましい。これにより,絶縁樹脂層の表面を平坦にすることができる。また,キャリア側に硬い板を配置することが好ましい。これにより,キャリアの変形を抑えることができる。
【0022】
上記金属層の表面から上記キャリアを除去するにあたっては,手でキャリアを剥離する方法がある。この場合,キャリアと金属層との密着強度は2N/cm以下であることが好ましい。これにより,キャリアを手で容易に剥離することができる。
上記絶縁樹脂層の表面から金属層を除去するにはエッチングを行い,この際に導体パターン表面の金属層を除去してもよい。
【0023】
絶縁樹脂層を硬化させる硬化工程と,絶縁樹脂層の表面からキャリア及び金属層を除去する除去工程とは,いずれを先に行ってもよい。除去工程を先に行い,絶縁樹脂層が未硬化のままで,他の積層板を積層し,一括して加熱圧着して多層プリント配線板を得ることもできる。
【0024】
請求項3の発明は,キャリアの表面に金属層を形成すると共に,該金属層における上記キャリア側と反対側の表面には予め粗化処理により粗化面を形成してなる金属層形成工程と,
上記キャリアの金属層形成側に金属メッキにより導体パターンを形成するメッキ工程と,
上記キャリアの導体パターン形成側に絶縁樹脂層を形成して積層板を得る樹脂層形成工程と,
別個の配線基板に,上記積層板における上記絶縁樹脂層の側を対向させながら,上記配線基板と上記積層板とを積層する積層工程と,
上記配線基板及び上記積層板を厚み方向に加圧しながら上記絶縁樹脂層を硬化させる硬化工程と,
上記絶縁樹脂層の表面から上記キャリア及び上記金属層を除去する除去工程とを含み,
かつ,上記キャリアの厚みは20〜100μmであり,
また上記金属層の除去はエッチングにより行ない,上記絶縁樹脂層における上記導体パターン形成側表面全体を上記金属層の粗化面が転写されてなる粗化面とすると共に該粗化面を表面に露出させてなることを特徴とするプリント配線板の製造方法である。
【0025】
本発明においては,キャリアの表面に導体パターン及び絶縁樹脂層を形成したものを積層板とし,これを別個の配線基板に積層している。この状態でこれらを加圧すると,積層板における絶縁樹脂層が,別個の配線基板の表面形状に追従する。このため,本製造方法によれば,配線基板に対して絶縁樹脂層を平行に積層圧着することができる。
したがって,導体パターンの厚みにかかわらず,略同一厚みの多層のプリント配線板を製造することができる。
【0026】
また,金属層のエッチングを行うことによって,その下に存在していた絶縁樹脂層及び導体パターンの表面が,連続した略同一粗化面として現れる。したがって,本製造方法によれば,導体パターンの厚みは,パターン形成面に全く影響を与えず,略同一面上に導体パターン及び絶縁樹脂層を形成することができる。ゆえに,パターン形成用のメッキ厚みの制御が不要となる。また,本製造方法を繰り返すことにより,均一厚みの多層のプリント配線板を製造することができる。
【0027】
また,絶縁樹脂層における導体パターン形成側の表面全体は,粗化面である。そのため,その表面に配線基板を積層する場合に,アンカー効果による優れた接着性を発揮することができる。
【0028】
積層板は,請求項1における金属層形成工程,メッキ工程及び樹脂層形成工程と同様の工程を行うことにより製造する。
絶縁樹脂層を硬化させる硬化工程と,絶縁樹脂層の表面からキャリア及び金属層を除去する除去工程とは,いずれを先に行ってもよい。除去工程を先に行い,絶縁樹脂層が未硬化のままで,他の積層板を積層し,一括して加熱圧着して多層プリント配線板を得ることもできる。
【0029】
積層板の平面方向には,X方向と,該X方向と直交するY方向とがある。このX方向とY方向の絶縁樹脂層の硬化時の収縮率の差は,±0.5%以内であることが好ましい。0.5%を超える場合には,配線基板に形成した導体パターンと,キャリアに形成した導体パターンとの相対位置にズレが生じ,両者間にスルーホールを形成したときに導通不良が発生するおそれがある。また,プリント配線板が変形することがある。
【0030】
別個の配線基板は,導体パターンを有する基板であり,例えば,絶縁樹脂層の表面または内部に導体パターンを形成したものである。絶縁樹脂層は,積層前に硬化されているものでも,また未硬化のものであってもよい。別個の配線基板は,請求項1における金属層形成工程,メッキ工程及び樹脂層形成工程を行い,さらに絶縁樹脂層を半硬化状態または完全硬化の状態でキャリアの除去を行うことにより作製される。更に,金属層の除去をしてもよい。
【0031】
配線基板の絶縁樹脂層が未硬化である場合には,該絶縁樹脂層の硬化時の収縮率Aと,キャリアに形成した絶縁樹脂層の硬化時の収縮率Bとの差(A−B)が,±0.5%以内であることが好ましい。0.5%を超える場合には,配線基板に形成した導体パターンと,キャリアに形成した導体パターンとの相対位置にズレが生じ,両者間にスルーホールを形成したときに導通不良が発生するおそれがある。
金属層を除去した後には,スルーホールを形成することもできる。
【0032】
なお,絶縁樹脂層と,その表面に形成した導体パターンとを有するプリント配線板において,
上記導体パターンの表面は,上記絶縁樹脂層の表面よりも上に出て,両表面の間に僅かな段差が形成されている略同一粗化面を構成しており,
かつ上記段差は導体パターンの厚みの80%以内であることを特徴とするプリント配線板ある。
【0033】
本発明のプリント配線板においては,絶縁樹脂層と導体パターンとが略同一粗化面を形成している。このため,プリント配線板の表面に別個の配線基板を積層したときに,均一な厚みのまま多層化することができる。
また,絶縁樹脂層における導体パターン形成側の表面全体は,粗化面である。そのため,その粗化面に絶縁樹脂層や金属層を積層したとき,アンカー効果による優れた接着性を発揮することができる。これにより,ソルダーレジストのような保護膜,及びオーバーモールド樹脂,アンダーフィル樹脂などの封止樹脂に対する密着性も良くなる。もちろん,ワイヤーボンディングのワイヤー,異方性導電性樹脂,ハンダボールなどの接続端子の接続性も向上する。
【0034】
上記の「略同一粗化面」とは,導体パターンと絶縁樹脂層とが粗化面を形成しており,且つ,導体パターンの厚みの一部が絶縁樹脂層に埋まって導体パターン表面が絶縁樹脂層表面からわずかに出ている場合をいう。
この場合には,絶縁樹脂層表面と導体パターン表面との間に,段差が形成されることになる。その段差は,導体パターンの厚みの多くとも80%以内である。これにより,絶縁樹脂層と導体パターンとが略同一面を形成することができる。
粗化面の面粗さ(Rmax.)は,0.2〜5μmであることが好ましい。これにより,良好な密着性を実現することができる。
【0035】
次に,上記導体パターンの外側表面は,上記導体パターンの内部側表面よりも広いことが好ましい。これにより,導体パターンの幅が広くなり,ワイヤーなどのボンディング性が向上する。
【0036】
また,上記絶縁樹脂層の表面には,別個の配線基板が積層圧着されていることが好ましい。これにより,プリント配線板の多層化及び高密度配線化を実現することができる。
【0037】
また,上記プリント配線板は,熱拡散板又は筐体に接着されていることが好ましい。これにより,プリント配線板の放熱性が向上する。
本発明のプリント配線板は,電子部品を搭載するための搭載部を設けることができる。導体パターンには,たとえば,ワイヤー,半田バンプなどの端子接合をすることができる。
【0038】
【発明の実施の形態】
実施形態例1
本発明の実施形態に係るプリント配線板について,図1〜図8を用いて説明する。
本例のプリント配線板8は,図7に示すごとく,絶縁樹脂層1と,その表面に形成した導体パターン2とを有する。導体パターン2の外表面は,絶縁樹脂層1の表面と略同一粗化面10を構成している。
【0039】
次に,プリント配線板の製造方法について説明する。
まず,図1に示すごとく,キャリア3の表面に金属層22を形成する。キャリア3は,厚み0.07mmの銅板である。金属層22は,厚み0.003mmの銅箔である。金属層22におけるキャリア3側と反対側の面に,粗化面221を形成する。
【0040】
次に,図2に示すごとく,キャリア3の金属層形成側に,感光性のレジスト膜4を被覆し,パターン形成部分をマスクしながら光照射して,パターン形成部分を除いて,パターン非形成部分を光硬化させる。次いで,現像を行い,パターン形成部分を除去して,パターン形成用穴40を開口させる。
次に,図3に示すごとく,電気銅メッキ処理を行い,パターン形成用穴40の中に,厚み約0.02mmの導体パターン2を形成する。
次に,図4に示すごとく,レジスト膜4を薄膜処理により除去する。
【0041】
次に,図5に示すごとく,キャリア3の導体パターン2形成側に,絶縁樹脂層1を形成する。絶縁樹脂層1は,Bステージのプリプレグからなる。プリプレグは,ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させたものである。ガラスクロスの繊維束は,X方向とY方向の単位長さ当たりに同じ本数が配置されている。X方向を構成している繊維束の繊維密度とY方向のそれとは,同じである。絶縁樹脂層1の厚みは0.06mmであり,導体パターン2の厚みよりも大きい。
【0042】
次に,絶縁樹脂層1の表面に,ステンレス板のような硬い板を配置し,この状態で,絶縁樹脂層1及びキャリア3を,厚み方向に900KPaの加圧力で加圧しながら,185℃で加熱する。これにより,絶縁樹脂層1を硬化させる。
このときのキャリア3と金属層22との密着強度は0.1N/cmであった。そして,次に,図6に示すごとく,手でキャリア3を金属層22の表面から除去する。
次に,図7に示すごとく,エッチングにより金属層22を除去する。このとき,金属層22下の,導体パターン2及び絶縁樹脂層1の表面が現れ,段差の少ない略同一粗化面10となる。導体パターン2は少なくとも厚み0.018mmは残す。
以上により,プリント配線板8が得られる。
【0043】
本例においては,キャリア3の導体パターン2形成側に絶縁樹脂層1を形成している。絶縁樹脂層1はBステージの樹脂からなるため軟質であり,絶縁樹脂層1は,キャリア3と導体パターン2とにより形成される凹凸面に追従する。このため,絶縁樹脂層1は,導体パターン2と略同一高さの表面を形成することになる。この状態で絶縁樹脂層1を硬化させ,キャリア3を除去すると,導体パターン2及び絶縁樹脂層1の表面が略同一粗化面10として現れる。
したがって,略同一粗化面上に導体パターン2及び絶縁樹脂層1を形成することができ,パターン形成用のメッキ厚みの制御が不要となる。
【0044】
また,キャリア3の導体パターン2側に絶縁樹脂層1を形成すると,導体パターン2は,キャリア3との対向面を除いて,絶縁樹脂層1の中に埋設されることになる。そのため,導体パターンの高さにかかわらず,略同一厚みのプリント配線板8を製造することができる。
また,図3,図7に示すごとく,絶縁樹脂層1には金属層22の粗化面221が転写されている。このため,ソルダーレジストや封止樹脂に体する絶縁樹脂層1の密着性が著しく改善される。
【0045】
また,図8(d)に示すごとく,導体パターン2の外側表面27を内部側表面28よりも広くすることもできる。即ち,図8(a)に示すごとく,レジスト膜4のパターン形成用穴40に,外側にいくにつれて徐々に開口径が狭くなるようにテーパー41を付ける。この場合,図8(b)に示すごとく,パターン形成用穴40の中に形成される導体パターン2が,外側にいくにつれて徐々に大きくなるため,図8(c),図8(d)に示すごとく,外側表面27が内部側表面28よりも広い導体パターン2が形成される。もちろん,導体パターン2の形状を逆の形状にすることも可能である。
【0046】
実施形態例2
本例においては,4層の導体パターンを積層したプリント配線板の製造方法について説明する。
まず,図9(a)に示すごとく,配線基板83と,その上面及び下面に配置するための積層板84とを準備する。
配線基板83を製造するにあたっては,ガラスクロスにエポキシ樹脂を含浸させた絶縁樹脂層6の表面に銅箔を貼着し,エッチングを行い導体パターン7を形成する。絶縁樹脂層6は,予め完全硬化したものである。
【0047】
積層板84は,キャリア3に金属層22,導体パターン2及び絶縁樹脂層1を形成したものである。積層板84を製造するにあたっては,実施形態例1の図1〜図5に示した方法と同様の工程を行うが,加圧力を100KPaで125℃で加熱して溶融状態を経て半硬化(Bステージ)の状態としている点が相違する。この段階では絶縁樹脂層1は,Bステージのままとする。
【0048】
次に,図9(b)に示すごとく,配線基板83の上面および下面に,積層板84を積層する。このとき,積層板84における絶縁樹脂層1の側を,配線基板83に対向させる。
次に,図9(c)に示すごとく,これらを,厚み方向から2500KPaの加圧力を加えながら,185℃で加熱する。これにより,配線基板83の上面および下面に,絶縁樹脂層1及び導体パターン2を加圧硬化させる。
このときのキャリア3と金属層22の密着強度は0.2N/cmであった。
【0049】
そして,次に,図9(d)に示すごとく,手でキャリア3を金属層22から剥離する。
次いで,図9(e)に示すごとく,エッチングにより,金属層22を除去する。
次に,ドリルにてスルーホール80を穿設し,メッキ処理を行いスルーホールに導通性を付与する。なお,このドリル穴明けは,キャリア3を剥離した直後に行うこともできる。
以上により,4層の導体層を有するプリント配線板85が得られる。
【0050】
本例においては,図9(b)に示すごとく,別個の配線基板83に,Bステージの絶縁樹脂層1を積層している。この状態でこれらを厚み方向に加圧すると,絶縁樹脂層1が,別個の配線基板83の表面形状にも追従する。このため,本製造方法によれば,配線基板83に対して絶縁樹脂層1を平行方向に積層圧着することができる。したがって,導体パターン2の厚みにかかわらず,同一厚みのプリント配線板85を製造することができる。
【0051】
本例のプリント配線板85は,導体パターン2,7,7,2を4層積層しているが,それ以上の多層でもよい。この場合にも,図9に示すごとく,本例の製造方法を繰り返すことにより,均一厚みで表面が平坦な多層のプリント配線板を製造することができる。
なお,配線基板83の片側にのみ積層板84を配置して積層圧着すれば,3層の導体層を有するプリント配線板を得ることができる。
【0052】
実施形態例3
本例のプリント配線板の製造方法は,図10に示すごとく,ほぼ実施形態例2と同様であるが,絶縁樹脂層1がBステージのままで積層板84を配線基板83の両面に積層し(図10(a),(b)),その後加熱圧着している(図10(c))点が異なる。
本例においても,実施形態例2と同様の効果を得ることができる。
【0053】
実施形態例4
本例のプリント配線板の製造方法は,図11に示すごとく,実施形態例2とほぼ同様であるが,実施形態例で使用した配線基板を用いずに,2つの積層板84を積層し(図11(a)),加熱圧着している(図11(b))。2つの積層板84は,いずれも上側に導体パターン2を配置させる。図11(c)に示すごとく,得られたプリント配線板88は,その下面を熱拡散板等の導電性部品,金属製の筐体89に対して接着材などにより接着する。
【0054】
このプリント配線板88は2層の導体パターン層を持つが,下側には導体パターン層がない。すなわち,片面が絶縁された,2層配線板である。導体パターンが形成されていない面には,熱拡散板等の導電性部品,金属製の筐体89を直接貼り付けることも可能となる。これにより,コンパクトで熱拡散性の良いプリント配線板とすることが可能となる。
【0055】
【発明の効果】
本発明によれば,パターン形成用のメッキ厚みの制御が不要で均一な厚みのプリント配線板及びその製造方法を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施形態例1における,プリント配線板の製造方法を示すための説明図。
【図2】図1に続く,プリント配線板の製造方法を示すための説明図。
【図3】図2に続く,プリント配線板の製造方法を示すための説明図。
【図4】図3に続く,プリント配線板の製造方法を示すための説明図。
【図5】図4に続く,プリント配線板の製造方法を示すための説明図。
【図6】図5に続く,プリント配線板の製造方法を示すための説明図。
【図7】実施形態例1における,プリント配線板の断面説明図。
【図8】実施形態例1における,外側表面が内部側表面よりも広い導体パターンの形成方法を示すための説明図(a)〜(d)。
【図9】実施形態例2における,多層のプリント配線板の製造方法を示すための説明図(a)〜(e)。
【図10】実施形態例3のプリント配線板の製造方法の説明図(a)〜(d)。
【図11】実施形態例4のプリント配線板の製造方法の説明図(a)〜(c)。
【図12】従来例における,プリント配線板の製造方法を示すための説明図(a)〜(d)。
【図13】図12に続く,プリント配線板の製造方法を示すための説明図(a)〜(c)。
【符号の説明】
1,6...絶縁樹脂層,
10...略同一粗化面,
2,7...導体パターン,
22...金属層,
3...キャリア,
4...レジスト膜,
40...パターン形成用穴,
8,85...プリント配線板,
80...スルーホール,
83...配線基板,
84...積層板,
[0001]
【Technical field】
The present invention relates to a printed wiring board on which electronic components and the like are mounted and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
Conventionally, a printed wiring board having a multilayer conductor pattern has been manufactured by, for example, the following method using a semi-additive method.
First, as shown in FIG. 12A, a wiring board 99 provided with a conductive pattern 97 on the surface of an insulating resin layer 94 is prepared, and a B-stage resin insulating layer 93 is formed on the surface. As shown in FIG. 12B, a carrier 91 having a copper foil 92 attached is laminated on the surface of the resin insulating layer 93. At this time, the copper foil 92 is made to face the resin insulating layer 93. Next, the resin insulation layer 93 is cured by thermocompression bonding with pressure from the thickness direction.
[0003]
Next, as shown in FIG. 12 (c), the carrier 91 is peeled from the copper foil 92. Next, a via hole 90 communicating with the lower conductor pattern 97 is formed in the copper foil 92 and the insulating resin layer 93 by a laser or the like. Next, as shown in FIG. 12D, a resist layer 95 having pattern formation holes 950 is formed on the surface of the copper foil 92. Next, as shown in FIG. 13A, copper plating is deposited in the pattern formation hole 950 and the via hole 90 to form a metal plating pattern layer 96.
[0004]
Next, as shown in FIG. 13B, the resist layer 95 is removed. As a result, the portion of the copper foil 92 that has been disposed under the resist layer 95 is exposed. Next, the exposed portion of the copper foil 92 is removed by etching. As a result, a conductor pattern 91 composed of the metal plating pattern layer 96 and the copper foil 92 remaining therebelow is formed on the surface of the wiring board 94.
Thereafter, as shown in FIG. 13 (c), an insulating resin layer 98 is disposed on the surface of the conductor pattern 91 and heat-pressed.
The printed wiring board 9 is obtained as described above.
[0005]
[Problems to be solved]
However, in the conventional method for manufacturing a printed wiring board, as shown in FIG. 13, plating is deposited relatively thick on a portion where the wiring density (pattern area per unit area) of the conductor pattern to be formed is small. The plating deposited on the portion where the wiring density of the conductor pattern is high is relatively thin. For this reason, it is difficult to form the conductor pattern 91 with a uniform thickness. In addition, the thickness of the insulating resin layer 98 covering the surface is also non-uniform.
Even if the conductor pattern has a uniform thickness, the thickness protrudes from the insulating resin layer. For this reason, the substrate surface cannot be flattened.
[0006]
Furthermore, as shown in FIG. 13C, if the height of the conductor pattern 91 varies, the thickness of the printed wiring board 9 varies when a separate wiring board is laminated thereon.
[0007]
In view of the conventional problems, the present invention is intended to provide a printed wiring board having a uniform thickness without requiring control of the plating thickness for pattern formation and a method for manufacturing the same.
[0008]
[Means for solving problems]
The invention according to claim 1 is a metal layer forming step in which a metal layer is formed on the surface of the carrier, and a roughened surface is formed in advance on the surface opposite to the carrier side of the metal layer by a roughening treatment ; ,
A plating step of forming a conductor pattern by metal plating on the metal layer forming side of the carrier;
A resin layer forming step of forming an insulating resin layer on the conductor pattern forming side of the carrier;
A curing step for curing the insulating resin layer;
Removing the carrier and the metal layer from the surface of the insulating resin layer,
And the thickness of the said carrier is 20-100 micrometers,
The metal layer is removed by etching, and the entire surface of the insulating resin layer on the conductor pattern forming side is a roughened surface formed by transferring the roughened surface of the metal layer, and the roughened surface is exposed to the surface. It is a manufacturing method of the printed wiring board characterized by being made to do .
[0009]
In the present invention, an insulating resin layer is formed on the conductor pattern forming side of the carrier. Since the insulating resin layer is made of a resin in a semi-cured state (B stage), the insulating resin layer follows the uneven surface formed by the carrier and the conductor pattern, fills between the conductor patterns, and reaches the carrier surface. For this reason, the surface of the insulating resin layer has substantially the same height as the conductor pattern. When the insulating resin layer is cured in this state and then the carrier and the metal layer are removed, the surface of the conductor pattern and the surface of the insulating resin layer appear as a continuous, substantially identical surface.
Therefore, according to this manufacturing method, the thickness of the conductor pattern does not affect the pattern formation surface at all, and the conductor pattern and the insulating resin layer can be formed on substantially the same surface. Therefore, it is not necessary to control the plating thickness for pattern formation.
In particular, in the present invention, the metal layer is removed by etching, and the entire surface of the insulating resin layer on the conductor pattern forming side is a roughened surface formed by transferring the roughened surface of the metal layer. The roughened surface is exposed on the surface.
[0010]
The metal layer is removed by etching. As a result, the entire surface on the pattern forming side of the insulating resin layer forms a roughened surface to which the roughened surface of the metal layer is transferred . Further, the roughened surface is exposed on the surface .
For this reason, even when an insulating resin layer is further laminated on the surface of the insulating resin layer, adhesion with the insulating resin layer is improved.
[0011]
When the insulating resin layer is formed on the carrier pattern side of the carrier, the conductor pattern is buried in the insulating resin layer except for the surface facing the carrier. Therefore, a printed wiring board having the same thickness can be manufactured regardless of the height of the conductor pattern.
[0012]
The carrier is not particularly limited as long as it can retain the shape when the printed wiring board is manufactured, and examples thereof include a metal plate such as copper, a synthetic resin plate, and a synthetic resin plate with a reinforcing material.
The thickness of the carrier, Ru 20~100μm der. If the thickness is less than 20 μm, the shape retention function and strength may be reduced, and the relative positional relationship of the pattern may not be maintained when the B stage insulating resin layer liquefies and flows during heating. . If it exceeds 100 μm, the cost required for the carrier may increase.
[0013]
The metal layer formed on the surface of the carrier serves as an electrical lead during subsequent plating formation. As the metal layer, for example, a conductive material such as copper, aluminum, nickel, or solder can be used.
[0014]
The surface of the metal layer can be roughened. The roughening treatment is preferably performed on the surface of the metal layer on the carrier side. This improves the adhesion between the metal layer and the carrier. Also, roughening treatment, to facilities on the opposite side of the surface and the carrier side of the metal layer.
[0015]
As a method for forming a metal layer on the surface of the carrier, a method in which a metal foil is bonded with an adhesive having a thickness of 5 μm or less, and after applying an adhesive having a thickness of 1 μm or less on the surface of the metal carrier, a metal layer is deposited by plating. There is a way.
[0016]
The adhesive strength between the metal layer and the carrier is preferably 2 N / cm or less. This is because if it exceeds 2 N / cm, the conductor pattern may not be peeled off from the carrier during the carrier peeling step and may be carried to the next step while remaining attached. In particular, in the case of adhesion strength in the range of 0.05 to 0.5 N / cm, a more preferable effect can be exhibited. If it is less than 0.05 N / cm, a liquid such as a plating solution penetrates between the carrier and the metal layer and peels off, and mechanical handling becomes inconvenient.
[0017]
In forming a conductor pattern by metal plating on the metal layer forming side of the carrier, for example, a pattern non-formed portion is covered with a resist and electroplating is performed.
As the insulating resin layer, a semi-cured (B stage) resin such as a prepreg is used. As the resin component, a thermosetting resin such as an epoxy resin, a phenol resin, a bismaleimide torazine resin, a polyphenylene resin, a polyphenylene ether resin, a polyimide resin, or a mixture thereof can be used. The insulating resin layer may include a reinforcing material such as glass cloth or glass fiber.
[0018]
The insulating resin layer is preferably thicker than the conductor pattern. As a result, a printed wiring board having a uniform thickness can be manufactured regardless of the thickness of the conductor pattern.
The thickness of the insulating resin layer is preferably 0.005 to 0.05 mm thicker than the thickness of the conductor pattern. If the thickness is less than 0.005 mm, it may be difficult to produce a printed wiring board having a uniform thickness. If the thickness exceeds 0.05 mm, thinning of the printed wiring board may be hindered.
[0019]
Preferably, the insulating resin layer is cured while pressing the insulating resin layer in the thickness direction. Thereby, an insulating resin layer can be hardened in the state of uniform thickness.
[0020]
The applied pressure of the carrier and the insulating resin layer is preferably 50 to 5000 KPa. If it is less than 50 KPa, the conductor pattern may not be embedded in the insulating resin layer. If it exceeds 5000 KPa, the carrier and the insulating resin of the B stage are in close contact, and the carrier later becomes the insulating resin layer. It is because it will not peel off. The carrier and the insulating resin layer may be partially bonded, but the bonded area is an area where a maximum of 80% of the surface of the conductor pattern can be peeled off satisfactorily. And it is preferable that 20% or more of the conductor pattern height is embedded. As a result, when the carrier is peeled off, the conductor pattern remains attached to the carrier and is not carried to the next process.
[0021]
When the insulating resin layer is formed on the carrier pattern forming side of the carrier, the surface of the insulating resin layer is preferably supported by a hard plate such as a copper plate or a stainless steel plate. Thereby, the surface of the insulating resin layer can be flattened. Moreover, it is preferable to arrange a hard plate on the carrier side. Thereby, a deformation | transformation of a carrier can be suppressed.
[0022]
In removing the carrier from the surface of the metal layer, there is a method of peeling the carrier by hand. In this case, the adhesion strength between the carrier and the metal layer is preferably 2 N / cm or less. Thereby, a carrier can be easily peeled by hand.
Etching is performed to remove the metal layer from the surface of the insulating resin layer, and at this time, the metal layer on the surface of the conductor pattern may be removed.
[0023]
Any of the curing step of curing the insulating resin layer and the removing step of removing the carrier and the metal layer from the surface of the insulating resin layer may be performed first. It is also possible to carry out the removing step first, stack other laminated boards with the insulating resin layer remaining uncured, and collectively heat-press to obtain a multilayer printed wiring board.
[0024]
The invention according to claim 3 is a metal layer forming step in which a metal layer is formed on the surface of the carrier, and a roughened surface is formed in advance on the surface of the metal layer opposite to the carrier side by a roughening treatment. ,
A plating step of forming a conductor pattern by metal plating on the metal layer forming side of the carrier;
A resin layer forming step of obtaining a laminate by forming an insulating resin layer on the conductor pattern forming side of the carrier;
A laminating step of laminating the wiring board and the laminated board while facing the insulating resin layer side of the laminated board on a separate wiring board;
A curing step of curing the insulating resin layer while pressing the wiring board and the laminate in the thickness direction;
Removing the carrier and the metal layer from the surface of the insulating resin layer,
And the thickness of the said carrier is 20-100 micrometers,
The metal layer is removed by etching, and the entire surface of the insulating resin layer on the conductor pattern forming side is a roughened surface formed by transferring the roughened surface of the metal layer, and the roughened surface is exposed to the surface. It is a manufacturing method of the printed wiring board characterized by being made to do .
[0025]
In the present invention, a laminate in which a conductor pattern and an insulating resin layer are formed on the surface of a carrier is used as a laminate, and this is laminated on a separate wiring board. When these are pressed in this state, the insulating resin layer in the laminate follows the surface shape of the separate wiring board. For this reason, according to this manufacturing method, the insulating resin layer can be laminated and pressure-bonded in parallel to the wiring board.
Therefore, a multilayer printed wiring board having substantially the same thickness can be manufactured regardless of the thickness of the conductor pattern.
[0026]
Further, when the metal layer is etched, the surfaces of the insulating resin layer and the conductor pattern existing under the metal layer appear as a continuous and substantially roughened surface. Therefore, according to this manufacturing method, the thickness of the conductor pattern does not affect the pattern formation surface at all, and the conductor pattern and the insulating resin layer can be formed on substantially the same surface. Therefore, it is not necessary to control the plating thickness for pattern formation. Further, by repeating this manufacturing method, a multilayer printed wiring board having a uniform thickness can be manufactured.
[0027]
Further, the entire surface on the conductor pattern forming side in the insulating resin layer is a roughened surface. Therefore, when the wiring board is laminated on the surface, excellent adhesion due to the anchor effect can be exhibited.
[0028]
A laminated board is manufactured by performing the process similar to the metal layer formation process in Claim 1, a plating process, and a resin layer formation process.
Any of the curing step of curing the insulating resin layer and the removing step of removing the carrier and the metal layer from the surface of the insulating resin layer may be performed first. It is also possible to carry out the removing step first, stack other laminated boards with the insulating resin layer remaining uncured, and collectively heat-press to obtain a multilayer printed wiring board.
[0029]
The planar direction of the laminated plate includes an X direction and a Y direction orthogonal to the X direction. The difference in shrinkage rate when the insulating resin layer in the X direction and the Y direction is cured is preferably within ± 0.5%. If it exceeds 0.5%, the relative position between the conductor pattern formed on the wiring board and the conductor pattern formed on the carrier may be shifted, and a conduction failure may occur when a through hole is formed between the two. There is. Also, the printed wiring board may be deformed.
[0030]
The separate wiring substrate is a substrate having a conductor pattern, for example, a conductor pattern formed on the surface or inside of an insulating resin layer. The insulating resin layer may be cured before lamination or may be uncured. The separate wiring board is manufactured by performing the metal layer forming step, the plating step, and the resin layer forming step according to claim 1, and further removing the carrier in a semi-cured state or a completely cured state of the insulating resin layer. Further, the metal layer may be removed.
[0031]
When the insulating resin layer of the wiring board is uncured, the difference (AB) between the shrinkage rate A when the insulating resin layer is cured and the shrinkage rate B when the insulating resin layer formed on the carrier is cured. Is preferably within ± 0.5%. If it exceeds 0.5%, the relative position between the conductor pattern formed on the wiring board and the conductor pattern formed on the carrier may be shifted, and a conduction failure may occur when a through hole is formed between the two. There is.
After removing the metal layer, a through hole can be formed.
[0032]
In a printed wiring board having an insulating resin layer and a conductor pattern formed on the surface thereof,
The surface of the conductor pattern protrudes above the surface of the insulating resin layer and constitutes substantially the same roughened surface in which a slight step is formed between both surfaces.
And there exists a printed wiring board characterized by the said level | step difference being 80% or less of the thickness of a conductor pattern.
[0033]
In the printed wiring board of the present invention, the insulating resin layer and the conductor pattern form substantially the same roughened surface. For this reason, when a separate wiring board is laminated on the surface of the printed wiring board, it can be multilayered with a uniform thickness.
Further, the entire surface on the conductor pattern forming side in the insulating resin layer is a roughened surface. Therefore, when an insulating resin layer or a metal layer is laminated on the roughened surface, excellent adhesion due to the anchor effect can be exhibited. As a result, adhesion to a protective film such as a solder resist and a sealing resin such as an overmold resin and an underfill resin is improved. Of course, the connectivity of connection terminals such as wire bonding wires, anisotropic conductive resin, and solder balls is also improved.
[0034]
The above “substantially the same roughened surface” means that the conductor pattern and the insulating resin layer form a roughened surface, and a part of the thickness of the conductor pattern is buried in the insulating resin layer, so that the surface of the conductive pattern is insulated. The case where it protrudes slightly from the resin layer surface.
In this case, a step is formed between the surface of the insulating resin layer and the surface of the conductor pattern. The step is at most 80% of the thickness of the conductor pattern. Thereby, the insulating resin layer and the conductor pattern can form substantially the same surface.
The surface roughness (Rmax.) Of the roughened surface is preferably 0.2 to 5 μm. Thereby, favorable adhesiveness is realizable.
[0035]
Next , the outer surface of the conductor pattern is preferably wider than the inner surface of the conductor pattern. As a result, the width of the conductor pattern is widened, and bonding properties such as wires are improved.
[0036]
Moreover , it is preferable that a separate wiring board is laminated and pressure-bonded on the surface of the insulating resin layer. As a result, multilayered printed wiring boards and high density wiring can be realized.
[0037]
Further, the printed wiring board, it is preferably bonded to the heat diffusion plate, or casing. This improves the heat dissipation of the printed wiring board.
The printed wiring board of the present invention can be provided with a mounting portion for mounting electronic components. For example, terminals such as wires and solder bumps can be bonded to the conductor pattern.
[0038]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
Embodiment 1
A printed wiring board according to an embodiment of the present invention will be described with reference to FIGS.
As shown in FIG. 7, the printed wiring board 8 of this example has an insulating resin layer 1 and a conductor pattern 2 formed on the surface thereof. The outer surface of the conductor pattern 2 constitutes a roughened surface 10 that is substantially the same as the surface of the insulating resin layer 1.
[0039]
Next, a method for manufacturing a printed wiring board will be described.
First, as shown in FIG. 1, a metal layer 22 is formed on the surface of the carrier 3. The carrier 3 is a copper plate having a thickness of 0.07 mm. The metal layer 22 is a copper foil having a thickness of 0.003 mm. A roughened surface 221 is formed on the surface of the metal layer 22 opposite to the carrier 3 side.
[0040]
Next, as shown in FIG. 2, a photosensitive resist film 4 is coated on the metal layer forming side of the carrier 3 and light is irradiated while masking the pattern forming portion, and the pattern forming portion is removed and the pattern is not formed. Light cure the part. Next, development is performed, the pattern forming portion is removed, and the pattern forming hole 40 is opened.
Next, as shown in FIG. 3, electrolytic copper plating is performed to form a conductor pattern 2 having a thickness of about 0.02 mm in the pattern forming hole 40.
Next, as shown in FIG. 4, the resist film 4 is removed by thin film processing.
[0041]
Next, as shown in FIG. 5, the insulating resin layer 1 is formed on the side of the carrier 3 where the conductor pattern 2 is formed. The insulating resin layer 1 is made of a B-stage prepreg. A prepreg is a glass cloth impregnated with an epoxy resin. The same number of fiber bundles of glass cloth are arranged per unit length in the X direction and the Y direction. The fiber density of the fiber bundle constituting the X direction is the same as that of the Y direction. The thickness of the insulating resin layer 1 is 0.06 mm, which is larger than the thickness of the conductor pattern 2.
[0042]
Next, a hard plate such as a stainless steel plate is disposed on the surface of the insulating resin layer 1, and in this state, the insulating resin layer 1 and the carrier 3 are pressed at a pressure of 900 KPa in the thickness direction at 185 ° C. Heat. Thereby, the insulating resin layer 1 is hardened.
The adhesion strength between the carrier 3 and the metal layer 22 at this time was 0.1 N / cm. Then, as shown in FIG. 6, the carrier 3 is removed from the surface of the metal layer 22 by hand.
Next, as shown in FIG. 7, the metal layer 22 is removed by etching. At this time, the surfaces of the conductor pattern 2 and the insulating resin layer 1 under the metal layer 22 appear, and become substantially the same roughened surface 10 with few steps. The conductor pattern 2 leaves at least a thickness of 0.018 mm.
The printed wiring board 8 is obtained as described above.
[0043]
In this example, the insulating resin layer 1 is formed on the side of the carrier 3 where the conductor pattern 2 is formed. The insulating resin layer 1 is soft because it is made of B-stage resin, and the insulating resin layer 1 follows an uneven surface formed by the carrier 3 and the conductor pattern 2. For this reason, the insulating resin layer 1 forms a surface having substantially the same height as the conductor pattern 2. When the insulating resin layer 1 is cured in this state and the carrier 3 is removed, the surfaces of the conductor pattern 2 and the insulating resin layer 1 appear as substantially the same roughened surface 10.
Accordingly, the conductor pattern 2 and the insulating resin layer 1 can be formed on substantially the same roughened surface, and it is not necessary to control the plating thickness for pattern formation.
[0044]
When the insulating resin layer 1 is formed on the conductor pattern 2 side of the carrier 3, the conductor pattern 2 is embedded in the insulating resin layer 1 except for the surface facing the carrier 3. Therefore, the printed wiring board 8 having substantially the same thickness can be manufactured regardless of the height of the conductor pattern.
Further, as shown in FIGS. 3 and 7, the roughened surface 221 of the metal layer 22 is transferred to the insulating resin layer 1. For this reason, the adhesiveness of the insulating resin layer 1 formed on the solder resist or the sealing resin is remarkably improved.
[0045]
Further, as shown in FIG. 8D, the outer surface 27 of the conductor pattern 2 can be made wider than the inner surface 28. That is, as shown in FIG. 8A, a taper 41 is attached to the pattern forming hole 40 of the resist film 4 so that the opening diameter gradually decreases toward the outside. In this case, as shown in FIG. 8 (b), the conductor pattern 2 formed in the pattern forming hole 40 gradually increases toward the outside, and therefore, in FIGS. 8 (c) and 8 (d). As shown, the conductor pattern 2 having the outer surface 27 wider than the inner surface 28 is formed. Of course, the shape of the conductor pattern 2 can be reversed.
[0046]
Embodiment 2
In this example, a method for manufacturing a printed wiring board in which four layers of conductor patterns are laminated will be described.
First, as shown in FIG. 9A, a wiring board 83 and a laminated board 84 to be arranged on the upper and lower surfaces thereof are prepared.
In manufacturing the wiring board 83, a copper foil is attached to the surface of the insulating resin layer 6 in which a glass cloth is impregnated with an epoxy resin, and etching is performed to form the conductor pattern 7. The insulating resin layer 6 is completely cured in advance.
[0047]
The laminated plate 84 is obtained by forming the metal layer 22, the conductor pattern 2, and the insulating resin layer 1 on the carrier 3. In manufacturing the laminated board 84, the same process as the method shown in FIGS. 1 to 5 of the first embodiment is performed, but the applied pressure is heated at 125 ° C. at 100 KPa and semi-cured (B It is different in that it is in the stage) state. At this stage, the insulating resin layer 1 remains in the B stage.
[0048]
Next, as shown in FIG. 9B, a laminated plate 84 is laminated on the upper and lower surfaces of the wiring board 83. At this time, the insulating resin layer 1 side of the laminated board 84 is opposed to the wiring board 83.
Next, as shown in FIG. 9C, these are heated at 185 ° C. while applying a pressure of 2500 KPa from the thickness direction. As a result, the insulating resin layer 1 and the conductor pattern 2 are pressure-cured on the upper and lower surfaces of the wiring board 83.
At this time, the adhesion strength between the carrier 3 and the metal layer 22 was 0.2 N / cm.
[0049]
Then, as shown in FIG. 9D, the carrier 3 is peeled off from the metal layer 22 by hand.
Next, as shown in FIG. 9E, the metal layer 22 is removed by etching.
Next, the through hole 80 is drilled and plated to impart conductivity to the through hole. This drilling can also be performed immediately after the carrier 3 is peeled off.
As described above, the printed wiring board 85 having four conductor layers is obtained.
[0050]
In this example, as shown in FIG. 9B, the B-stage insulating resin layer 1 is laminated on a separate wiring board 83. When these are pressed in the thickness direction in this state, the insulating resin layer 1 follows the surface shape of the separate wiring board 83. For this reason, according to this manufacturing method, the insulating resin layer 1 can be laminated and pressure-bonded to the wiring board 83 in the parallel direction. Therefore, the printed wiring board 85 having the same thickness can be manufactured regardless of the thickness of the conductor pattern 2.
[0051]
The printed wiring board 85 of this example has four layers of conductor patterns 2, 7, 7, and 2, but it may be a multilayer having more layers. Also in this case, as shown in FIG. 9, a multilayer printed wiring board having a uniform thickness and a flat surface can be manufactured by repeating the manufacturing method of this example.
If the laminated board 84 is disposed only on one side of the wiring board 83 and laminated and crimped, a printed wiring board having three conductor layers can be obtained.
[0052]
Embodiment 3
As shown in FIG. 10, the method of manufacturing the printed wiring board of this example is substantially the same as that of the second embodiment. (FIG. 10 (a), (b)), and the point which is heat-pressed after that (FIG. 10 (c)) differs.
Also in this example, the same effects as those of the second embodiment can be obtained.
[0053]
Embodiment 4
As shown in FIG. 11, the method of manufacturing the printed wiring board of this example is substantially the same as that of the second embodiment. Fig. 11 (a)), thermocompression bonding (Fig. 11 (b)). The two laminated plates 84 have the conductor pattern 2 disposed on the upper side. As shown in FIG. 11C, the obtained printed wiring board 88 has its lower surface bonded to a conductive part such as a heat diffusing plate or a metal casing 89 with an adhesive or the like.
[0054]
Although this printed wiring board 88 has two conductor pattern layers, there is no conductor pattern layer on the lower side. That is, it is a two-layer wiring board with one side insulated. It is also possible to directly attach a conductive part such as a heat diffusing plate or a metal casing 89 to the surface where the conductor pattern is not formed. This makes it possible to obtain a printed wiring board that is compact and has good thermal diffusivity.
[0055]
【The invention's effect】
ADVANTAGE OF THE INVENTION According to this invention, the control of the plating thickness for pattern formation is unnecessary, and the printed wiring board of uniform thickness and its manufacturing method can be provided.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is an explanatory diagram for illustrating a method for manufacturing a printed wiring board in Embodiment 1;
FIG. 2 is an explanatory diagram for illustrating a printed wiring board manufacturing method following FIG. 1;
FIG. 3 is an explanatory diagram for illustrating a method for manufacturing a printed wiring board, following FIG. 2;
FIG. 4 is an explanatory diagram for illustrating a printed wiring board manufacturing method following FIG. 3;
FIG. 5 is an explanatory diagram for illustrating a printed wiring board manufacturing method following FIG. 4;
FIG. 6 is an explanatory diagram for illustrating a method for manufacturing a printed wiring board, following FIG. 5;
7 is a cross-sectional explanatory view of a printed wiring board in Embodiment 1; FIG.
8A to 8D are explanatory views (a) to (d) for illustrating a method for forming a conductor pattern having an outer surface wider than an inner surface in Embodiment 1. FIG.
FIGS. 9A to 9E are explanatory views (a) to (e) for illustrating a method for manufacturing a multilayer printed wiring board in Embodiment 2. FIGS.
10A to 10D are explanatory views (a) to (d) of a method for manufacturing a printed wiring board according to Embodiment 3.
11A to 11C are explanatory views (a) to (c) of a method for manufacturing a printed wiring board according to Embodiment 4.
FIGS. 12A to 12D are explanatory views (a) to (d) for illustrating a printed wiring board manufacturing method in a conventional example.
FIG. 13 is an explanatory diagram (a) to (c) for illustrating a method for manufacturing a printed wiring board, following FIG. 12;
[Explanation of symbols]
1,6. . . Insulating resin layer,
10. . . Approximately the same roughened surface,
2,7. . . Conductor pattern,
22. . . Metal layer,
3. . . Career,
4). . . Resist film,
40. . . Hole for pattern formation,
8, 85. . . Printed wiring board,
80. . . Through hole,
83. . . Wiring board,
84. . . Laminated board,

Claims (3)

キャリアの表面に金属層を形成すると共に,該金属層における上記キャリア側と反対側の表面には予め粗化処理により粗化面を形成してなる金属層形成工程と,
上記キャリアの金属層形成側に金属メッキにより導体パターンを形成するメッキ工程と,
上記キャリアの導体パターン形成側に絶縁樹脂層を形成する樹脂層形成工程と,
上記絶縁樹脂層を硬化させる硬化工程と,
上記絶縁樹脂層の表面から上記キャリア及び上記金属層を除去する除去工程とを含み,
かつ,上記キャリアの厚みは20〜100μmであり,
また上記金属層の除去はエッチングにより行ない,上記絶縁樹脂層における上記導体パターン形成側表面全体を上記金属層の粗化面が転写されてなる粗化面とすると共に該粗化面を表面に露出させてなることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Forming a metal layer on the surface of the carrier and forming a roughened surface in advance on the surface opposite to the carrier side of the metal layer by a roughening treatment ;
A plating step of forming a conductor pattern by metal plating on the metal layer forming side of the carrier;
A resin layer forming step of forming an insulating resin layer on the conductor pattern forming side of the carrier;
A curing step for curing the insulating resin layer;
Removing the carrier and the metal layer from the surface of the insulating resin layer,
And the thickness of the said carrier is 20-100 micrometers,
The metal layer is removed by etching, and the entire surface of the insulating resin layer on the conductor pattern forming side is a roughened surface formed by transferring the roughened surface of the metal layer, and the roughened surface is exposed to the surface. A method for producing a printed wiring board, comprising:
請求項1において,上記絶縁樹脂層の硬化は,上記絶縁樹脂層を厚み方向に加圧しながら行うことを特徴とするプリント配線板の製造方法。  2. The method for manufacturing a printed wiring board according to claim 1, wherein the curing of the insulating resin layer is performed while pressing the insulating resin layer in a thickness direction. キャリアの表面に金属層を形成すると共に,該金属層における上記キャリア側と反対側の表面には予め粗化処理により粗化面を形成してなる金属層形成工程と,
上記キャリアの金属層形成側に金属メッキにより導体パターンを形成するメッキ工程と,
上記キャリアの導体パターン形成側に絶縁樹脂層を形成して積層板を得る樹脂層形成工程と,
別個の配線基板に,上記積層板における上記絶縁樹脂層の側を対向させながら,上記配線基板と上記積層板とを積層する積層工程と,
上記配線基板及び上記積層板を厚み方向に加圧しながら上記絶縁樹脂層を硬化させる硬化工程と,
上記絶縁樹脂層の表面から上記キャリア及び上記金属層を除去する除去工程とを含み,
かつ,上記キャリアの厚みは20〜100μmであり,
また上記金属層の除去はエッチングにより行ない,上記絶縁樹脂層における上記導体パターン形成側表面全体を上記金属層の粗化面が転写されてなる粗化面とすると共に該粗化面を表面に露出させてなることを特徴とするプリント配線板の製造方法。
Forming a metal layer on the surface of the carrier and forming a roughened surface in advance on the surface opposite to the carrier side of the metal layer by a roughening treatment ;
A plating step of forming a conductor pattern by metal plating on the metal layer forming side of the carrier;
A resin layer forming step of obtaining a laminate by forming an insulating resin layer on the conductor pattern forming side of the carrier;
A laminating step of laminating the wiring board and the laminated board while facing the insulating resin layer side of the laminated board on a separate wiring board;
A curing step of curing the insulating resin layer while pressing the wiring board and the laminate in the thickness direction;
Removing the carrier and the metal layer from the surface of the insulating resin layer,
And the thickness of the said carrier is 20-100 micrometers,
The metal layer is removed by etching, and the entire surface of the insulating resin layer on the conductor pattern forming side is a roughened surface formed by transferring the roughened surface of the metal layer, and the roughened surface is exposed to the surface. A method for producing a printed wiring board, comprising:
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