JP2005222729A - 有機薄膜蒸着方法 - Google Patents
有機薄膜蒸着方法 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005222729A JP2005222729A JP2004026904A JP2004026904A JP2005222729A JP 2005222729 A JP2005222729 A JP 2005222729A JP 2004026904 A JP2004026904 A JP 2004026904A JP 2004026904 A JP2004026904 A JP 2004026904A JP 2005222729 A JP2005222729 A JP 2005222729A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- substrate
- mask
- glass substrate
- thin film
- back surface
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000007736 thin film deposition technique Methods 0.000 title description 3
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 126
- 230000002093 peripheral effect Effects 0.000 claims abstract description 10
- 239000010409 thin film Substances 0.000 claims description 23
- 238000007740 vapor deposition Methods 0.000 claims description 21
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 10
- 238000000151 deposition Methods 0.000 claims description 5
- 239000000696 magnetic material Substances 0.000 claims description 5
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 3
- 238000007789 sealing Methods 0.000 claims description 3
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 2
- 239000011368 organic material Substances 0.000 claims description 2
- 239000011521 glass Substances 0.000 abstract description 76
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 3
- 238000001312 dry etching Methods 0.000 description 1
- 238000005401 electroluminescence Methods 0.000 description 1
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 1
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 1
- 238000000427 thin-film deposition Methods 0.000 description 1
Images
Landscapes
- Electroluminescent Light Sources (AREA)
- Physical Vapour Deposition (AREA)
Abstract
【解決手段】 ガラス基板1の裏面に接して押えるための押え板4の、ガラス基板1の裏面と接する面の外周部にSUSシート9で覆うようにしてOリング8を設け、SUSシート9、Oリング8を介して押え板4をガラス基板1の裏面に圧接させる。
【選択図】 図1
Description
2 マスク
4 押え板
5 磁石板
8 Oリング(シール部材)
9 SUSシート(金属製シート)
Claims (2)
- 基板の被蒸着面である表面を下側にして水平に配置し、所定パターン状に開孔された磁性材からなるマスクを前記基板の表面に対して位置合わせして、前記基板の表面と反対側の裏面側に設けた磁石による磁気吸引力で前記マスクを前記基板の表面に密着させた後に、前記基板の表面の下方から蒸発された有機材料を前記マスクの開孔を通して前記基板の表面に蒸着させる有機薄膜蒸着方法において、
前記基板の裏面と前記磁石との間に前記基板の裏面に接して押えるための押え板を有し、前記押え板の前記基板の裏面と接する面の外周部に弾性を有するシール部材を突出するようにして取り付け、
前記基板の表面に前記マスクを密着させるときに、前記シール部材を介して前記押え板を前記基板の裏面に圧接させて、前記押え板の前記シール部材と反対側の面に前記磁石を近接又は当接させる、
ことを特徴とする有機薄膜蒸着方法。 - 前記押え板の前記シール部材を取り付けた面に、少なくとも前記シール部材を覆うようにして極薄の金属製シートを密着させる、
ことを特徴とする請求項1に記載の有機薄膜蒸着方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004026904A JP4478472B2 (ja) | 2004-02-03 | 2004-02-03 | 有機薄膜蒸着方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004026904A JP4478472B2 (ja) | 2004-02-03 | 2004-02-03 | 有機薄膜蒸着方法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005222729A true JP2005222729A (ja) | 2005-08-18 |
JP4478472B2 JP4478472B2 (ja) | 2010-06-09 |
Family
ID=34998212
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004026904A Expired - Lifetime JP4478472B2 (ja) | 2004-02-03 | 2004-02-03 | 有機薄膜蒸着方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4478472B2 (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005248249A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2007119895A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 蒸着装置 |
JP2008007857A (ja) * | 2006-06-02 | 2008-01-17 | Sony Corp | アライメント装置、アライメント方法および表示装置の製造方法 |
WO2010106958A1 (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-23 | 株式会社アルバック | 位置合わせ方法、蒸着方法 |
JP2010209459A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機elデバイス製造装置及び成膜装置並びに有機elデバイス製造方法及び成膜方法 |
WO2016167358A1 (ja) * | 2015-04-17 | 2016-10-20 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着パターンの形成方法、押さえ板一体型の押し込み部材、蒸着装置及び有機半導体素子の製造方法 |
US10053766B2 (en) | 2014-11-05 | 2018-08-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask frame assembly and method of manufacturing the same |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR102081282B1 (ko) * | 2013-05-27 | 2020-02-26 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착용 기판이동부, 이를 포함하는 증착장치, 이를 이용한 유기발광 디스플레이 장치 제조방법 및 유기발광 디스플레이 장치 |
-
2004
- 2004-02-03 JP JP2004026904A patent/JP4478472B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2005248249A (ja) * | 2004-03-04 | 2005-09-15 | Ulvac Japan Ltd | 成膜装置及び成膜方法 |
JP4549697B2 (ja) * | 2004-03-04 | 2010-09-22 | 株式会社アルバック | 成膜装置及び成膜方法 |
JP2007119895A (ja) * | 2005-10-31 | 2007-05-17 | Toshiba Matsushita Display Technology Co Ltd | 蒸着装置 |
JP2008007857A (ja) * | 2006-06-02 | 2008-01-17 | Sony Corp | アライメント装置、アライメント方法および表示装置の製造方法 |
JP2010209459A (ja) * | 2009-02-13 | 2010-09-24 | Hitachi High-Technologies Corp | 有機elデバイス製造装置及び成膜装置並びに有機elデバイス製造方法及び成膜方法 |
WO2010106958A1 (ja) * | 2009-03-18 | 2010-09-23 | 株式会社アルバック | 位置合わせ方法、蒸着方法 |
US10053766B2 (en) | 2014-11-05 | 2018-08-21 | Samsung Display Co., Ltd. | Mask frame assembly and method of manufacturing the same |
WO2016167358A1 (ja) * | 2015-04-17 | 2016-10-20 | 大日本印刷株式会社 | 蒸着パターンの形成方法、押さえ板一体型の押し込み部材、蒸着装置及び有機半導体素子の製造方法 |
US10947616B2 (en) | 2015-04-17 | 2021-03-16 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Method for forming vapor deposition pattern, pressing-plate-integrated type pressing member, vapor deposition apparatus, and method for producing organic semiconductor element |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4478472B2 (ja) | 2010-06-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4773834B2 (ja) | マスク成膜方法およびマスク成膜装置 | |
JP4553124B2 (ja) | 真空蒸着方法及びelディスプレイ用パネル | |
US7771789B2 (en) | Method of forming mask and mask | |
US20100112194A1 (en) | Mask fixing device in vacuum processing apparatus | |
JP4781893B2 (ja) | 磁気マスクホルダー | |
JP4971723B2 (ja) | 有機発光表示装置の製造方法 | |
US7396558B2 (en) | Integrated mask and method and apparatus for manufacturing organic EL device using the same | |
JP4058149B2 (ja) | 真空成膜装置のマスク位置合わせ方法 | |
KR20170103089A (ko) | 유기발광소자의 증착장치 | |
CN109837510B (zh) | 成膜装置及使用其的有机el显示装置的制造方法 | |
JP2007046099A (ja) | マスクホルダ及び基板ホルダ | |
KR100665788B1 (ko) | 증착장치 | |
US20100273387A1 (en) | Processing Apparatus and Method of Manufacturing Electron Emission Element and Organic EL Display | |
JP2004259598A (ja) | 真空蒸着方法及び真空蒸着装置、並びにこの真空蒸着方法により製造したelパネル | |
JP4478472B2 (ja) | 有機薄膜蒸着方法 | |
JP2010086809A (ja) | 保持装置、マスクのアライメント方法、基板処理装置、電子放出素子ディスプレイの生産方法及び有機elディスプレイの生産方法 | |
JP2006233257A (ja) | マスク保持機構および成膜装置 | |
CN101090996B (zh) | 成膜装置的基板安装方法以及成膜方法 | |
JP2013055039A (ja) | El発光装置の製造方法および蒸着装置 | |
CN110777327B (zh) | 掩模装置的制造装置 | |
JP2013209697A6 (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
JP2013209697A (ja) | 成膜装置および成膜方法 | |
JP2008198500A (ja) | 有機elディスプレイの製造方法および製造装置 | |
CN107604307A (zh) | 待蒸镀基板与掩模板的贴合方法、蒸镀方法、显示基板的制备方法 | |
JP2005256094A (ja) | 成膜装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20070115 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A821 Effective date: 20070518 |
|
RD02 | Notification of acceptance of power of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7422 Effective date: 20070518 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20091211 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20091222 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20100202 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20100309 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20100315 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 4478472 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130319 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20160319 Year of fee payment: 6 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
R250 | Receipt of annual fees |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R250 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |