JP2005218997A - ガス発生装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 気化しない原料が加熱部上に滞留せず、耐食性、耐久性に優れたガス発生装置を提供する。
【解決手段】 シリカガラスからなる反応容器２と、前記反応容器の外側または前記反応容器の内側に配設されたヒータ３と、前記反応容器は、反応容器内部に収容され、ヒータからの熱を受け原料を加熱する、貫通孔を有する多孔質シリカガラスからなる加熱部５と、前記加熱部より上方向位置に設けられた、気化させる原料を反応容器に導入する原料導入口２ａと、前記加熱部より下方向位置に設けられたキャリアガス導入口２ｂと、気化したガスとキャリアガスとが混合した混合ガスを反応容器の外部に導出する混合ガス導出口２ｃとを備えている。
【選択図】 図１

Description

本発明は、液体や固体の原料を導入し、加熱、気化させ、更にキャリアガスと混合し、混合ガスを発生させるガス発生装置に関する。

従来から、ガス発生装置は各種分野において用いられており、その一例を挙げれば、過酸化水素ガスを用いた殺菌装置等に用いられている。このガス発生装置を説明するにあたり、前記した過酸化水素ガスを用いた殺菌装置を例にとって説明する。
図８は、この殺菌装置を示した構成概略図であり、この殺菌装置５０は、ガス発生装置である気化装置５１を中心に構成され、過酸化水素水５８はタンク５７に貯留され、タンク５７に圧縮エアーを供給することによって前記タンク５７の内部を加圧し、前記過酸化水素５８を押し出す構造になっている。

過酸化水素５８の気化装置５１内への噴霧は、二流体ノズル５４によって行なわれる。二流体ノズル５４には過酸化水素ライン５９と圧縮エアーライン６４が接続されており、それぞれ開閉バルブ５５、５６の開閉により過酸化水素水、エアーを流す構造になっている。前記バルブ５５、５６は、制御装置６３によって開閉操作される。
前記過酸化水素ライン５９及び圧縮エアーライン６４には、予熱ヒータ６２が取り付けており、これにより予め過酸化水素水及びエアーを加熱するように構成されている。

また圧縮エアーライン６４には除菌フィルター６０が設置されている。気化装置５１の内部には、気化ヒータ５２が設けられており、これによって過酸化水素水を加熱し、気化させる。気化装置５１及びガス導管６５には結露防止用ヒータ５３が設けられており、これにより一端気化したガスの再凝縮を抑えている。容器６７には、ガス導管６５を介して殺菌ノズル６６から過酸化水素ガスが吹き付けられる。
そして、過酸化水素ガスが容器６７に吹き付けられると、過酸化水素ガスと容器６７との温度差によって容器６７表面に過酸化水素の凝縮膜が形成され、殺菌がなされる。

特開平１０−１５２１１６号公報（第２欄４５行乃至第３欄第１６行）

ところで、従来のガス発生装置（気化装置）にあっては、その底面に気化ヒータが配置されると共に、圧縮エアーと過酸化水素水を供給する二流体ノズルが配置され、ヒータの上方からヒータに向けて噴霧するように構成されている。そして、噴霧された過酸化水素水を前記ヒータによって加熱することによって、所定の過酸化水素ガスが得られる。
そのため、二流体ノズルに供給される過酸化水素水が多い場合には、気化しない過酸化水素水がヒータ上に滞留し、所望の混合ガスを得ることができないという技術的課題があった。

また、特許文献１に示されたガス発生装置（気化装置）にあっては、ヒータの構成が明らかではないが、前記ヒータは、過酸化水素水等の原料及び原料が気化したガスに侵食されないものでなければならない。このヒータの侵食を防止するために保護部材等で覆えば、熱効率が劣る虞があるという技術的課題があった。

これら技術的課題を解決するために、本願発明者らは鋭意研究し、気化させる液体あるいは固体の原料を加熱部に供給し、気化後、キャリアガスと混合するという新規な構成を採用し、気化しない原料が加熱部上に滞留しないガス発生装置を完成するに至った。また、ヒータが気化したガス等で侵食されることのないガス発生装置を完成するに至った。

本発明は、気化しない原料が加熱部上に滞留せず、耐食性、耐久性に優れたガス発生装置を提供することを目的とする。

本発明は上記技術的課題を解決するためになされたものであり、本発明にかかるガス発生装置は、シリカガラスからなる反応容器と、前記反応容器の外側または前記反応容器の内側に配設されたヒータと、反応容器内部に収容され、ヒータからの熱を受け原料を加熱する、貫通孔を有する多孔質シリカガラスからなる加熱部と、前記加熱部より上方向位置に設けられた、気化させる原料を反応容器に導入する原料導入口と、前記加熱部より下方向位置に設けられた、キャリアガスを反応容器に導入するキャリアガス導入口と、気化したガスとキャリアガスとが混合した混合ガスを反応容器の外部に導出する混合ガス導出口とを備えることを特徴としている。

このように構成されているため、原料は加熱部上面に供給され、気化する。特に、前記加熱部が貫通孔を有する多孔質シリカガラスで構成されているため、加熱部上面で気化しなかった原料（液体原料）が加熱部内部に侵入する。その結果、原料は広面積の加熱部と接することになり（加熱面積が増加し）、原料の気化がより一層促進される。しかも、加熱部より下方向位置からキャリアガスが導入されるため、気化したガスとの混合が促進され、均一な混合ガスが得られる。
更に、反応容器、加熱部がシリカガラス体で構成されているため、赤外線、遠赤外線の透過性が良く、内部に侵入した原料（液体原料）も直接加熱できるため、熱効率に優れ、さらに不純物が混入しにくく、耐食性、耐久性に優れたガス発生装置を得ることができる。

ここで、前記ヒータが、加熱部に埋設されていることが望ましい。
このように、ヒータを加熱部に埋設することにより、熱効率をさらに向上させることができる。この場合のヒータは、シリカガラス管中にカーボンワイヤー発熱体が封入されたヒータであることが望ましい。シリカガラス管にカーボンワイヤー発熱体が封入されたヒータである場合には、シリカガラス管で覆っているために、前記した反応容器、加熱部と同様に、不純物が混入しにくく、耐食性、耐久性のあるガス発生装置を得ることができる。

また、前記加熱部の上面が凹状の曲面形状に形成されていることが望ましい。このように、加熱部の上面が凹状の曲面形状に形成されているため、特に固体状の原料をその中央部に集めることができ、安定して、気化させることができる。
尚、前記加熱部が、気孔率５０％〜８０％、気孔径が０．１ｍｍ〜２．５ｍｍの多孔質シリカガラスで構成されていることが、前記加熱部内部に液体原料をより効率的に侵入させ、かつ加熱、気化させる観点から好ましい。

更に、前記原料導入口から加熱部の上面近傍、あるいは加熱部内部まで延びる原料導入パイプが設けられ、原料が加熱部上面近傍あるいは加熱部内部に供給されることが望ましい。このように構成することによって、原料の飛散を防止し、原料をその中央部に集めることができ、安定して、気化させることができる。

また、前記反応容器の加熱部より下方向位置に、残存した原料を排出する原料排出口が設けられていることが望ましい。このように構成することにより、気化しなかった原料を反応容器の外に排出することができる。
なお、熱効率を向上のため、前記反応容器の外側、あるいは反応容器の外側に設けられたヒータの外側に、反射部材あるいは断熱部材が設けられていることが好ましい。

本発明によれば、気化しない原料が加熱部上に滞留せず、耐食性、耐久性に優れたガス発生装置を得ることができる。

本発明の一実施形態について、図１乃至図３に基づいて説明する。なお、図１はガス発生装置の概略構成図、図２は、図１に示した変形例を示すガス発生装置の概略構成図、図３は、図１に示した変形例を示すガス発生装置の概略構成図である。
図１に示すように、このガス発生装置１は、シリカガラスからなる反応容器２と、前記反応容器２の外側に配設されたヒータ３とを備えている。また、このヒータ３の外側には、熱効率向上のため、熱反射板４が設けられている。尚、この熱反射板４の代わりに断熱材を設けても良い。
また、前記反応容器２には、貫通孔を有する多孔質シリカガラスからなる加熱部５が収容されている。この加熱部５は、前記ヒータ３からの熱を受け、原料を加熱し、気化させる機能を有している。

前記加熱部５の多孔質シリカガラスとしては、気孔率５０％〜８０％、気孔径が０．１ｍｍ〜２．５ｍｍのものが用いられている。
気孔率５０％未満の場合には、前記加熱部５内部への液体原料（特に水の場合）の拡散が十分でなくなる傾向があり、また８０％を超えると前記加熱部５内部での液体原料（特に水の場合）の滞留が十分でなくなる傾向がある。
このように、前記加熱部内部に液体原料をより効率的に侵入させ、かつ加熱、気化させる観点から、加熱部の多孔質シリカガラス体としては、気孔率５０％〜８０％、気孔径が０．１ｍｍ〜２．５ｍｍのものが好ましい。
なお、この多孔質シリカガラス体の製造方法は、特に限定されるものではなく、前記した性状を有する多孔質シリカガラスを得ることができる方法であれば良い。

また、前記反応容器２における加熱部５より上方向位置に、気化させる原料を内部に導入する原料導入口２ａが設けられている。また、前記加熱部５より下方向位置にキャリアガス導入口２ｂが設けられ、気化したガスと混合するキャリアガスを導入できるように構成されている。更に、気化したガスとキャリアガスとが混合した混合ガスを反応容器２の外部に導出する混合ガス導出口２ｃが設けられている。更にまた、前記反応容器２の加熱部５より下方向位置に、原料を排出する原料排出口２ｄが設けられ、気化しなかった原料を反応容器２の外部に排出することができるように構成されている。
尚、図中の符号６は加熱部５の温度を測定する熱電対である。

次に、このように構成されたガス混合装置の動作、作用について説明する。
まず、ヒータ３により加熱部５を加熱し、所定温度に達した状態で、原料導入口２ａから固体あるいは液体の原料を導入する。導入された原料は加熱部５によって加熱され、気化する。このとき、キャリアガスがキャリアガス導入口２ｂから反応容器２の内部に導入され、加熱部５を通過して気化したガスと混合する。しかも、加熱部５より下方向位置からキャリアガスが導入されるため、気化したガスとの混合が促進され、均一な混合ガスとなり、前記混合ガスは混合ガス導出口２ｃから導出される。

前記加熱部５が貫通孔を有する多孔質シリカガラスで構成されているため、気化しなかった原料（液体原料）は加熱部５の内部に侵入する。その結果、加熱面積が増加し、原料の気化がより一層促進される。
また、高温に加熱された加熱部５（多孔質シリカガラス）に、低温の液体や固体の原料が落下しても、反応容器（シリカガラス）や加熱部の（多孔質シリカガラス）の熱膨張係数が小さいために、割れ難いという利点がある。
更に、反応容器２、加熱部５がシリカガラスで構成されているため、赤外線、遠赤外線の透過性が良く、内部に侵入した原料（液体原料）を直接加熱でき、しかも、不純物が混入しにくく、耐食性、耐久性に優れている。

また、図２に示すように、前記加熱部５の上面５ａを凹状の曲面形状に形成し、原料導入口２ａから加熱部５の上面５ａの近傍まで延びる原料導入パイプ８を設け、前記原料を加熱部５の上面５ａの近傍に供給できるように構成しても良い。
このように、加熱部５の上面５ａが凹状の曲面形状に形成されている場合には、固体の原料を無秩序に散乱することなく、その中央部に集めることができ、より安定して気化させることができる。また、原料導入パイプ８の先端部が、加熱部５の上面５ａの近傍に位置しているため、液体原料の飛散を抑制でき、さらに安定して気化させることができる。

また、図３に示すように、加熱部５に凹部５ｂを形成し、原料導入パイプ８の先端部を加熱部の内部に挿入しても良い。このように構成することにより、気化させたい液体原料や固体原料を効率よく、一箇所に投入することができ、前記した場合と同様に、安定して、気化させることができる。
尚、前記凹部５ｂの径は、原料導入パイプ８径の１１０〜１５０％に形成され、前記原料導入パイプ８の先端部を凹部５ｂの略中間に位置するように挿入するのが好ましい。この場合、気化する量と投入量の調整により、凹部５ｂと原料導入パイプ８との間に空隙が、常に存在するように液体や固体を投入することが望ましい。

また、前記加熱部５の上面５ａを凹状の曲面形状に形成した場合、また原料導入パイプ８を原料導入口２ａから加熱部５の上面５ａの近傍、あるいは加熱部内部にまで延設した場合には、原料を加熱部５の中央部で溶融、気化させることにより、キャリアガスを加熱部（多孔質シリカガラス）の外周辺部から安定的に通気させることができる。その結果、混合ガスを安定的に得ることができる。

次に、本発明にかかる第二の実施形態について、図４乃至図７に基づいて説明する。なお、この実施形態にあっては、ヒータを加熱部に埋設した点に特徴があり、他の構成は図１に示した構成と同等であるため、その詳細な説明は省略する。
即ち、第一の実施形態にあっては、反応容器２の外側からヒータ３によって加熱部５（多孔質シリカガラス）を加熱するため、加熱部５（多孔質シリカガラス）が所定温度まで昇温するのに時間を要するものであった。また、ヒータ３からの赤外光・遠赤外光が、直接に原料である液体や固体に照射されても、昇温が遅い加熱部５（多孔質シリカガラス）との接触部において昇温が妨げられ、気化ガスが発生するまでに時間を要した。

そのため、この第二の実施形態では、ヒータ１０を加熱部５（多孔質シリカガラス）に埋設する構成を採用し、気化させたい原料である液体や固体を急速昇温させることを可能にした。尚、この第２の実施形態にあっては、ヒータ１０が加熱部５に埋設されているため、第一の実施形態に比べて、加熱効率をより向上させることもできる。

具体的には、図４に示すように、このヒータ１０は、シリカガラス管１１中にカーボンワイヤー発熱体１２が封入されたヒータであり、その外観形状はＭ字状に形成されている。そして、ヒータの一部が前記加熱部５の内部に埋設されている。なお、ヒータの外観形状は、Ｍ字状に限定されるものではなく、任意の形状を採用できるが、加熱部５との接触面積を増加させる形状であることが、急速昇温させる点から好ましい。

また、前記ヒータ１０は、シリカガラス管１１にカーボンワイヤー発熱体１２が封入されたヒータであるため、不純物が混入しにくく、耐食性、耐久性を備えている。また、前記カーボンワイヤー発熱体１２は、封止端子部１３において、電力を供給する外側接続線１４と接続されている。

更に、このカーボンワイヤー発熱体１２について図５に基づいて説明すると、図５に示すように、前記カーボンワイヤー発熱体１２は、カーボン繊維を束ねた繊維束を複数本編み上げてなる編紐または組紐から構成されている。カーボンワイヤー発熱体１２としては、直径５乃至１５μｍ程度のカーボン単繊維、例えば直径７μｍのカーボン単繊維を約８００乃至３５００本程度束ねた繊維束を１０束程度用いて直径１．０〜２．５ｍｍの編紐、あるいは組紐形状に編み込んだものが好適である。

また、このカーボンワイヤー発熱体１２の編み込みスパンは、２乃至５ｍｍ程度が好ましく、更に、カーボンワイヤー発熱体１２表面におけるカーボン単繊維の毛羽立ち１２ａは長さ０．５乃至２．５ｍｍ程度である。
このように、カーボン単繊維の毛羽立ち１２ａが形成され、実質的にこの毛羽立ち１２ａによってガラス部材と接触するため、カーボンワイヤー発熱体２１の本体部分との接触面積を少なくでき、シリカ（ＳｉＯ₂ ）とカーボン（Ｃ）との反応を最小限にし、耐久性を向上させることができる。

また、発熱性状の均質性、耐久安定性等の観点及びダスト発生回避上の観点から、カーボンワイヤー発熱体１２を構成するカーボン単繊維は、高純度であることが好ましく、カーボン単繊維中に含まれる不純物量が灰分（ＪＩＳ Ｒ ７２２３−１９７９）として１０ｐｐｍ以下、特に、３ｐｐｍ以下であることが好ましい。
なお、カーボンワイヤー発熱体２１の固有抵抗値は、１０００℃で、２〜２０Ω／ｍであることが好ましい。抵抗が２〜２０Ω／ｍであるために電流を５Ａ〜１５Ａとし、電圧を１００Ｖ程度とすることができる。このため電流が小さく抑えられ、ピンチングシールされた封止端子部に負担をかけないですむ。更に、電圧を１００Ｖ以下にすることで、電源装置をコンパクトにできる。

このようなカーボンワイヤー発熱体１２が用いられるのは、例えば従来の金属ヒータに比べて、熱容量が低いため急速昇降温させることができるからである。特に、加熱部５がガラス体で構成されているため、急速昇降温が可能である。また、カーボンワイヤー発熱体１２の抵抗は金属ヒータと異なり常温で高く、高温になると低くなる傾向がある。その結果、急速昇温した際にも過電流が流れることがなく、ヒューズが切れる等の事故を防止できる。更に、カーボンワイヤー発熱体１２はカーボン単繊維を組み上げたものであるため切断され難く、数本切れても抵抗値に変化がないため、ガス発生装置のヒータとしては好適である。

次に、ヒータ１０の封止端子部１３について、図６、７に基づいて説明する。なお、図６は封止端子部１３の先端部分を示し、図７は封止端子部１３の後端部分を示している。
図６、７に示すように、カーボンワイヤー発熱体１２の端部を収容するガラス管１６と、前記ガラス管１５に圧縮されて収容され、前記カーボンワイヤー発熱体１２の端部を挟持するワイヤーカーボン部材１６とを備えている。このガラス管１６はガラス管１１の内部に収納されている。
なお、カーボンワイヤー発熱体１２の端部を挟持するワイヤーカーボン部材１５は、カーボンワイヤー発熱体１２と同質のものが用いられ、前記したカーボンワイヤー発熱体１２を２乃至４の複数本まとめて束にし、更にこの束を三束用いてワイヤーカーボン部材１５としている。

また、封止端子部１３の後端部分は、前記ガラス管１６に端部が収容され、圧縮されたワイヤーカーボン部材１５に挟持された電力供給用のＭｏ（モリブデン）からなる内側接続線１７と、前記内側接続線１７と電気的に接続されるＭｏ（モリブデン）箔１８と、このＭｏ（モリブデン）箔１８に電気的に接続されるＭｏ（モリブデン）からなる外側接続線１４とを備えている。そして、Ｍｏ（モリブデン）箔１８は前記ガラス管１１に対していわゆるピンチングシールされている。

このように後端部分がピンチングシールされるため、前記シリカガラス管１１は密閉される。なお、シリカガラス管１１の内部には窒素ガスが充填され、カーボンワイヤー発熱体１２等の酸化を抑制している。
また、このヒータ１０にあっては、シリカガラス管１１で覆っているために、前記した反応容器２、加熱部５と同様に、不純物が混入しにくく、耐食性、耐久性に優れている。
更に、前記したようにヒータ１０が加熱部５に埋設されているため、加熱部（多孔質シリカガラス）が所定温度まで、短時間で昇温させることができる。また、ヒータ１０からの赤外光・遠赤外光が、直接に原料である液体や固体に照射することができ、急速昇温ができ、気化ガスが短時間で発生させることができる。

図１に示した反応容器２（容器外形φ３０ｍｍ、肉厚１．５ｍｍ）を製作し、更に熱電対６を下部より加熱部５の中心まで届くように、シリカガラスからなる原料導入パイプ８を設置した。またヒータ効率を向上させるために、ヒータ３の外側にＣｒ／Ｔｉｎ／ＴｉＯ₂を蒸着したシリカ円筒（反射板４）を配置し、ヒータ３より反応容器２の外へ逃げる熱ロスを抑制した。反応容器２には、下部にキャリアガス導入管１ｂを配置し、キャリアガスは加熱部５の貫通孔を通過して、混合ガス導出口２ｃより反応容器２の外部に気化されたガスと共に導出した。また、反応容器２の下部に、残存した原料等を貯留する空間を設け、さらにその液体を抜き取ることができるように原料排出口２ｄ及び弁７を設置した。

そして、６％、１５％、３０％の過酸化水素水を原料導入口１ｃより毎分０．１、０．５、１リットルを加熱部５（多孔質シリカガラス）上に滴下した。そのときの熱電対制御温度を１５０℃とした。また、キャリアガスとして、空気を毎分５リットル導入した。
その結果、どの場合においても、空気と過酸化水素水の混合ガスを円滑に導出することができ、容器下部へ過酸化水素水が溜まることはなかった。

実施例１の装置を用い、熱電対温度が３００℃になるように制御し、原料導入口１ａより毎分１０ｇの尿素粉末を落下させた。また、この時、粉末を導入するにあたり、混合ガスが原料導入口１ａへ逆流しないように粉体ストッカーを密閉容器とした。また、下部よりキャリアガスとして、窒素ガスを毎分５リットルで導入した。
その結果、粉末の尿素は加熱部５（多孔質シリカガラス）表面で液化し、加熱部５（多孔質シリカガラス）へ拡散しながら侵入し、円滑に分解、気化し、キャリアガスと共に混合ガスとなって、混合ガス導入口２ｃから導出することができた。

実施例１の加熱部５の上面にＲ＝３０ｍｍの球面加工を施した。それ以外は、実施例１の装置と同一構成とした。この装置を用い、熱電対温度が３００℃になるように制御し、原料導入口２ａより毎分１０ｇの尿素粒（粒径１ｍｍ）を落下させた。また、この時、尿素粒を導入するにあたり、混合ガスが原料導入口２ａへ逆流しないように粒体ストッカーを密閉容器とした。また、下部よりキャリアガスとして、窒素ガスを毎分５リットルで導入した。
その結果、尿素粒は、加熱部５（多孔質シリカガラス）表面で飛散することなく、中央部に集中して液化し、加熱部５（多孔質シリカガラス）内部へ広がりながら侵入し、円滑に分解、気化し、キャリアガスと共に混合ガスとなって、混合ガス導出口２ｃより外部に導出された。

尚、加熱部５の上面が平坦な場合には、キャリアガスの通気量（フロート式流量計）が設定値毎分５リットルに対し、４．６〜５．１リットル毎分と乱れたが、この実施例の場合のようにＲ＝３０ｍｍの球面加工が施された加熱部の場合、４．９〜５．０リットル毎分と略一定であった。

図４に示した反応容器（容器外形φ１００ｍｍ、肉厚１．５ｍｍ）を製作し、更に熱電対を側面より加熱部の中心まで届くように設置した。また、カーボンワイヤーヒータ１０を加熱部５に埋設した。それ以外は、実施例１に示したガス混合装置と同一の構成とした。
そして、６％、１５％、３０％の過酸化水素水を原料導入口２ａより毎分０．１、０．５、１リットルを加熱部に滴下した。そのときの熱電対制御温度を１５０℃とした。また、キャリアガスとして、空気を毎分５リットル導入した。
その結果、どの場合においても，空気と過酸化水素水の混合ガスを円滑に導出でき、容器下部に過酸化水素水が溜まることはなかった。
さらに、実施例１と比較し、安定した気化ガスが発生するまでの時間が、前記実施例１では１分間要したのに対し、１５秒で安定した混合ガスを導出することができた。

実施例４の装置を用い、熱電対温度が３００℃になるように制御し、原料導入口２ａより毎分１０ｇの尿素粉末を落下させた。また、この時、粉末を導入するにあたり、混合ガスが原料導入口２ａへ逆流しないように、粉体ストッカーを密閉容器とした。また、下部よりキャリアガスとして、窒素ガスを毎分５リットルで導入した。
その結果、実施例１の装置にあっては、混合ガスが安定して発生するまで３分間要したのに対し、この実施例４の装置にあっては２０秒で安定させることができた。

このガス発生装置は、前記したように過酸化水素水を気化し、活性酸素を発生させ、殺菌消毒装置などに使用できる。また、尿素固体を溶融・気化させ、キャリアガスと共に混合ガスを発生させることができ、内燃機関の排気浄化装置等に使用できる。このように、このガス発生装置は各種分野において広く用いることができる。

図１は、本発明にかかる第一の実施形態を表した概略構成図である。 図２は、図１に示されたガス発生装置の変形例を示す概略構成図である。 図３は、図１に示されたガス発生装置の変形例を示す概略構成図である。 図４は、本発明にかかる第二の実施形態を表した概略構成図である。 図５は、カーボンワイヤー発熱体を示した図である。 図６は、ヒータ部の封止端子部の要部断面図である。 図７は、ヒータ部の封止端子部のピンチングシールの状態を示す斜視図である。 図８は、従来のガス発生装置を示す概略構成図である。

符号の説明

１ ガス発生装置
２ 反応容器
２ａ 原料導入口
２ｂ キャリアガス導入口
２ｃ 混合ガス導出口
２ｄ 原料排出口
３ ヒータ
４ 熱反射板
５ 加熱部
５ａ 上面
５ｂ 凹部
６ 熱電対
７ 弁
８ 原料導入パイプ
１０ ヒータ（カーボンワイヤーヒータ）
１１ シリカガラス管
１２ カーボンワイヤー発熱体

Claims (8)

1. シリカガラスからなる反応容器と、前記反応容器の外側または前記反応容器の内側に配設されたヒータと、反応容器内部に収容され、ヒータからの熱を受け原料を加熱する、貫通孔を有する多孔質シリカガラスからなる加熱部と、前記加熱部より上方向位置に設けられた、気化させる原料を反応容器に導入する原料導入口と、前記加熱部より下方向位置に設けられた、キャリアガスを反応容器に導入するキャリアガス導入口と、気化したガスとキャリアガスとが混合した混合ガスを反応容器の外部に導出する混合ガス導出口と
   を備えることを特徴とするガス発生装置。
2. 前記ヒータが加熱部に埋設されていることを特徴とする請求項１に記載されたガス発生装置。
3. 前記ヒータがシリカガラス管中にカーボンワイヤー発熱体が封入されたヒータであることを特徴とする請求項２に記載されたガス発生装置。
4. 前記加熱部の上面が凹状の曲面形状に形成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載されたガス発生装置。
5. 前記加熱部が、気孔率５０％〜８０％、気孔径０．１ｍｍ〜２．５ｍｍの多孔質シリカガラスで構成されていることを特徴とする請求項１乃至請求項４のいずれかに記載されたガス発生装置。
6. 前記原料導入口から加熱部の上面近傍、あるいは加熱部内部まで延びる原料導入パイプが設けられ、原料が加熱部上面近傍あるいは加熱部内部に供給されることを特徴とする請求項１乃至請求項５のいずれかに記載されたガス発生装置。
7. 前記反応容器の加熱部より下方向位置に、残存した原料を排出する原料排出口が設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項６のいずれかに記載されたガス発生装置。
8. 前記反応容器の外側あるいは反応容器の外側に設けられたヒータの外側に、反射部材あるいは断熱部材が設けられていることを特徴とする請求項１乃至請求項７のいずれかに記載されたガス発生装置。

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