JP2005209886A - 基板処理システムにおける基板処理の管理方法及び基板処理システム - Google Patents
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Abstract
【課題】 ウェハ上にパターンを形成する塗布現像処理システムにおいて,パターンに関する不具合の発生を低減する。
【解決手段】 塗布現像処理システム1において,定期的に検査用のウェハUを処理して,ウェハU上にパターンを形成する。このウェハUのパターンの線幅を,検査ステーション3の線幅測定装置20において測定し,その測定結果を蓄積装置160に蓄積する。制御装置161では,蓄積装置160に蓄積された測定情報に基づいて,塗布現像処理システム1で形成されるパターンの線幅の経時的な傾向を導出する。そして,制御装置161は,当該線幅の傾向に基づいて,今後塗布現像処理システムで処理されるウェハの線幅が一定になるように,露光装置5の露光条件の設定を変更する。この結果,塗布現像処理システム1におけるパターンの線幅に関する不具合の発生が低減される。
【選択図】 図1
【解決手段】 塗布現像処理システム1において,定期的に検査用のウェハUを処理して,ウェハU上にパターンを形成する。このウェハUのパターンの線幅を,検査ステーション3の線幅測定装置20において測定し,その測定結果を蓄積装置160に蓄積する。制御装置161では,蓄積装置160に蓄積された測定情報に基づいて,塗布現像処理システム1で形成されるパターンの線幅の経時的な傾向を導出する。そして,制御装置161は,当該線幅の傾向に基づいて,今後塗布現像処理システムで処理されるウェハの線幅が一定になるように,露光装置5の露光条件の設定を変更する。この結果,塗布現像処理システム1におけるパターンの線幅に関する不具合の発生が低減される。
【選択図】 図1
Description
本発明は,基板処理システムにおける基板処理の管理方法及び基板処理システムに関する。
例えば半導体デバイスの製造プロセスにおけるフォトリソグラフィー工程では,ウェハの表面にレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布処理,露光処理されたウェハに対して現像を行う現像処理等の複数の処理が行われ,ウェハ上のレジスト膜に所定のパターンが形成される。このパターンを形成する処理は,通常各種処理装置が多数搭載された一の塗布現像処理システムにおいて,ウェハを枚葉式に連続的に処理することにより行われている。
また,近年では,前記塗布現像処理システムに,レジスト膜に形成されたパターンの線幅を検査する線幅検査装置や,前記パターンの重ね合わせを検査する重ね合わせ検査装置等の各種検査装置を搭載したものが提案されている。この塗布現像処理システムでは,上記パターン形成処理が終了したウェハが前記各種検査装置に搬送され,当該検査装置において検査された後に,塗布現像処理システムから搬出される。そして,上記検査で,パターンに関する不具合が検出された場合には,例えばその不具合を解消できる露光装置の設定等を変更して不具合を解消するようにしていた(例えば,特許文献1,2参照。)。
しかしながら,上述のように,塗布現像処理システムにおいてウェハに対して所定の検査を行い,不具合が生じた場合に各種設定を変更すると,結局ウェハの処理に不具合が生じてからの事後的な対応になるため,不具合の発生そのものを低減するには有効ではない。それ故,長期的にみて塗布現像処理システムにおけるウェハ処理が安定的に行われてはいなかった。また,上記塗布現像処理システムでは,例えば各検査装置に対するウェハの搬送や各検査装置でのウェハの検査に時間を要し,一枚のウェハが塗布現像処理システム内に滞在する時間が長くなっていた。このため,塗布現像処理システムにおけるウェハの処理効率の低下していた。検査に要する時間を短縮するために,例えばウェハの検査を複数枚に一枚の割合で行うことが考えられるが,この場合,不具合が発生してからその不具合の検出までに時間がかかることがあり,不良のウェハが多く生産される恐れがあり,歩留まりの低下を招く結果となる。
本発明は,かかる点に鑑みてなされたものであり,ウェハなどの基板上にパターンを形成する塗布現像処理システムなどの基板処理システムにおいて,パターンに関する不具合の発生を低減し,従来のような検査に要する時間を低減できる基板処理システムにおける基板処理の管理方法及び基板処理システムを提供することをその目的とする。
上記目的を達成するために,本発明によれば,基板処理システムにおいてフォトリソグラフィー工程によって基板上に所定のパターンを形成し,当該パターンに関する所定の測定を行う測定工程を有し,前記測定工程を,複数の基板に対して定期的に行い,さらに,前記複数の基板に対する前記各測定結果を蓄積する工程と,前記蓄積された測定結果に基づいて,前記基板処理システムで形成される前記パターンに関する前記基板処理システムの特性を導出する工程と,前記基板処理システムの特性に基づいて前記フォトリソグラフィー工程における露光処理の設定を変更する工程と,を有することを特徴とする基板処理システムにおける基板処理の管理方法が提供される。
発明者によって,同じ処理設定であっても基板処理システムで形成されるパターンの状態が刻々と変化し,その変化に一定の傾向があることが確認された。本発明によれば,定期的に行われた所定の測定の蓄積結果から,基板処理システムのいわゆる「くせ」である特性を導出し,当該特性に基づいて,パターンの状態に影響を与える露光処理の設定を変更する。こうすることにより,例えば予め基板処理システムの特性を検出しておき,その特性に合わせて,基板上に適正なパターンが形成されるように露光処理の設定を変更していくことができる。この結果,基板処理システムにおいてパターンに関する不具合の発生を低減することができ,安定した基板処理を行うことができる。また,一度,基板処理システムの特性を把握すれば,基板のパターンに関する検査を頻繁に行わなくても不具合が生じ難いので,基板の検査に要するトータルの時間を低減することができる。
前記測定工程では,前記パターンの線幅を測定し,前記基板処理システムの特性は,前記線幅の経時的な傾向であってもよい。また,前記線幅の経時的な傾向に基づいて前記露光処理における少なくとも露光量又は露光焦点のいずれか一方の設定を変更するようにしてもよい。かかる場合,線幅に影響を与える露光量や露光焦点を変更して,例えば基板上に形成されるパターンの線幅が許容範囲を越えないように基板処理システムにおける基板処理を管理することができる。
前記測定工程では,前記パターンの重ね合わせのずれ量を測定し,前記基板処理システムの特性は,前記重ね合わせのずれの経時的な傾向であってもよい。
本発明は,フォトリソグラフィー工程によって基板上に所定のパターンを形成する基板処理システムであって,基板上に形成された前記パターンに関する所定の測定を,複数の基板に対して定期的に行う測定装置と,前記測定装置の測定結果を蓄積する蓄積装置と,前記蓄積された測定結果に基づいて,この基板処理システムで行われる基板処理に関する前記基板処理システムの特性を導出し,当該基板処理システムの特性に基づいて前記フォトリソグラフィー工程における露光処理の設定を変更する制御装置と,を備えたことを特徴とする。
本発明によれば,前記蓄積装置に蓄積された測定結果から,この基板処理システム固有の基板処理に関する特性を検出できる。そして,その特性に合わせて露光処理の設定を変更できるので,基板上に適正なパターンが形成されるように基板処理システムを管理することができる。この結果,基板処理システムで形成されるパターンに関する不具合の発生を低減することができ,基板処理を安定的に行うことができる。また,一度,基板処理システムの特性を把握してしまえば,その後パターンに関する検査を頻繁に行う必要がないので,当該検査に要する時間を低減することができる。
前記測定装置は,前記パターンの線幅を測定するものであり,前記基板処理システムの特性は,前記線幅の経時的な傾向であってもよい。また,前記制御装置は,前記線幅の経時的な傾向に基づいて前記露光処理における少なくとも露光量又は露光焦点のいずれか一方の設定を変更できてもよい。
前記測定装置は,前記パターンの重ね合わせのずれ量を測定するものであり,前記基板処理システムの特定は,前記重ね合わせのずれの経時的な傾向であってもよい。
本発明によれば,基板処理システムにおける基板処理の不具合の発生を低減し,基板処理を安定的に行うことができる。
以下,本発明の好ましい実施の形態について説明する。図1は,本実施の形態にかかる基板処理システムとしての塗布現像処理システム1の構成の概略を示す平面図であり,図2は,塗布現像処理システム1の正面図であり,図3は,塗布現像処理システム1の背面図である。
塗布現像処理システム1は,図1に示すように例えば25枚のウェハWをカセット単位で外部から塗布現像処理システム1に対して搬入出したり,カセットCに対してウェハWを搬入出したりするカセットステーション2と,ウェハWに対し所定の検査を行う検査ステーション3と,塗布現像工程の中で枚葉式に所定の処理を施す各種処理装置を多段配置してなる処理ステーション4と,この処理ステーション4に隣接して設けられている露光装置5との間でウェハWの受け渡しを行うインターフェイス部6とを一体に接続した構成を有している。
カセットステーション2では,カセット載置台7上の所定の位置に複数のカセットCをX方向(図1中の上下方向)に沿って一列に載置できる。カセットステーション2には,搬送路8上をX方向に沿って移動可能なウェハ搬送体9が設けられている。ウェハ搬送体9は,上下方向にも移動可能であり,カセットC内に上下方向に配列されたウェハWに対して選択的にアクセスできる。ウェハ搬送体9は,鉛直方向の軸周り(θ方向)に回転可能であり,後述する検査ステーション3側の受け渡し部10に対してもアクセスできる。
検査ステーション3には,検査のための複数の測定装置が多段に配置された,例えば2つの測定装置群H1,H2を備えている。第1の測定装置群H1は,例えば検査ステーション3のX方向負方向(図1の下方向)側に配置され,第2の測定装置群H2は,例えば検査ステーション3のX方向正方向(図1の上方)側に配置されている。検査ステーション3のカセットステーション2側には,カセットステーション2との間でウェハWを受け渡しするための受け渡し部10が配置されている。この受け渡し部10には,例えばウェハWを載置する載置部10aが設けられている。第1の測定装置群H1と第2の測定査装置群H2との間には,例えば搬送路11上をX方向に沿って移動可能なウェハ搬送装置12が設けられている。ウェハ搬送装置12は,例えば上下方向に移動可能でかつθ方向にも回転自在であり,測定装置群H1,K2内の後述する各測定装置,受け渡し部10及び処理ステーション4側の後述する第3の処理装置群G3の各処理装置に対してアクセスできる。
第1の測定装置群H1には,例えば図2に示すようにウェハW上に形成されたパターンの線幅を測定する,本実施の形態における測定装置としての線幅測定装置20,ウェハ表面上の欠陥を検出する欠陥検出装置21が下から順に2段に重ねられている。
第2の測定装置群H2には,例えば図3に示すようにウェハW上の膜の膜厚を測定する膜厚測定装置22及びウェハW上に形成されたパターンの重ね合わせを検査する重ね合わせ検査装置23が下から順に2段に重ねられている。
処理ステーション4は,図1に示すように複数の処理装置が多段に配置された,例えば5つの処理装置群G1〜G5を備えている。処理ステーション4のX方向負方向(図1中の下方向)側には,検査ステーション3側から第1の処理装置群G1,第2の処理装置群G2が順に配置されている。処理ステーション4のX方向正方向(図1中の上方向)側には,検査ステーション3側から第3の処理装置群G3,第4の処理装置群G4及び第5の処理装置群G5が順に配置されている。
第3の処理装置群G3と第4の処理装置群G4の間には,第1の搬送装置30が設けられている。第1の搬送装置30は,隣接する第1の処理装置群G1,第3の処理装置群G3及び第4の処理装置群G4内の各装置に対しアクセスしてウェハWを搬送できる。第4の処理装置群G4と第5の処理装置群G5の間には,第2の搬送装置31が設けられている。第2の搬送装置31は,第2の処理装置群G2,第4の処理装置群G4及び第5の処理装置群G5に対して選択的にアクセスしてウェハWを搬送できる。
図2に示すように第1の処理装置群G1には,ウェハWに所定の液体を供給して処理を行う液処理装置,例えばウェハWにレジスト液を塗布してレジスト膜を形成するレジスト塗布装置40,41,42,露光処理時の光の反射を防止する反射防止膜を形成するボトムコーティング装置43,44が下から順に5段に重ねられている。第2の処理装置群G2には,液処理装置,例えばウェハWを現像処理する現像処理装置50〜54が下から順に5段に重ねられている。また,第1の処理装置群G1及び第2の処理装置群G2の最下段には,各処理装置群G1及びG2内の前記液処理装置に各種処理液を供給するためのケミカル室60,61がそれぞれ設けられている。
例えば図3に示すように第3の処理装置群G3には,温調装置70,ウェハWの受け渡しを行うためのトランジション装置71,精度の高い温度管理下でウェハWを加熱処理する高精度温調装置72〜74及びウェハWを高温で加熱処理する高温度熱処理装置75〜78が下から順に9段に重ねられている。
第4の処理装置群G4では,例えば高精度温調装置80,レジスト塗布処理後のウェハWを加熱処理するプリベーキング装置81〜84及び現像処理後のウェハWを加熱処理するポストベーキング装置85〜89が下から順に10段に重ねられている。
第5の処理装置群G5では,ウェハWを熱処理する複数の熱処理装置,例えば高精度温調装置90〜93,露光後のウェハWを加熱処理するポストエクスポージャーベーキング装置94〜99が下から順に10段に重ねられている。
図1に示すように第1の搬送装置30のX方向正方向側には,複数の処理装置が配置されており,例えば図3に示すようにウェハWを疎水化処理するためのアドヒージョン装置100,101,ウェハWを加熱処理する加熱処理装置102,103が下から順に4段に重ねられている。図1に示すように第2の搬送装置31のX方向正方向側には,例えばウェハWの外周部のみを選択的に露光する周辺露光装置104が配置されている。
インターフェイス部6には,例えば図1に示すようにX方向に向けて延伸する搬送路110上を移動するウェハ搬送体111と,バッファカセット112が設けられている。ウェハ搬送体111は,Z方向に移動可能でかつθ方向にも回転可能であり,インターフェイス部6に隣接した露光装置5と,バッファカセット112及び第5の処理装置群G5に対してアクセスしてウェハWを搬送できる。
上述の線幅測定装置20は,例えば図4に示すようにウェハWを水平に載置する載置台120を備えている。載置台120は,例えばX−Yステージを構成しており,水平方向のX方向とY方向に移動できる。載置台120の上方には,載置台120上に載置されたウェハWに対して斜方向から光を照射する光照射部121と,光照射部121から照射されウェハWで反射した光を検出する検出部122が設けられている。検出部122で検出した光の情報は,測定部123に出力できる。測定部123は,取得した光の情報に基づいて,ウェハW上に形成されている所定のパターンから反射した反射光の光強度分布を測定することができる。
線幅測定装置20は,例えば線幅を測定するための情報の処理を行う制御機構124を備えている。制御機構124は,例えば算出部125,記憶部126及び解析部127を有している。算出部125は,例えばレジスト膜の光学定数やレジスト膜のパターン形状,構造等の既知の情報に基づいて,線幅の異なる複数の仮想パターンから反射する反射光の計算上の各光強度分布を算出できる。記憶部126は,算出部125で算出されている前記仮想パターンに対する計算上の各光強度分布を記憶してそのライブラリを作成できる。
測定部123で測定されたウェハW上の実際のパターンに対する光強度分布は,解析部127に出力できる。解析部127は,測定部123から出力された実際のパターンの光強度分布と前記記憶部126のライブラリ内に記憶されている仮想パターンの光強度分布とを照合し,光強度分布が適合する仮想パターンを選択し,その仮想パターンの線幅を実際のパターンの線幅と推定して線幅を測定できる。
図5に示すように,重ね合わせ検査装置23の筐体23a内には,ウェハWを水平に支持しその向きも変えることができる回転載置台140が設けられている。回転載置台140の上方には,回転載置台140上のウェハWの表面の画像情報を検出する撮像部材としてのCCDカメラ141が設けられている。CCDカメラ141の側方には,照明部材としてのブラックライト142が設けられている。CCDカメラ141により撮像された画像情報は,例えばデータ処理部143に出力される。データ処理部143では,出力された画像情報を解析してパターンのウェハWに対する重ね合わせのずれ量を測定できる。この重ね合わせのずれ量は,例えばパターンがウェハ面に対してX,Y方向にずれているシフト誤差,パターンがウェハ面に対して回転方向にずれている回転誤差,ウェハ面に転写したパターンの倍率誤差,ウェハ面内にパターンの歪みがあるウェハ直交度誤差,ウェハ面内のパターンの局所的な回転誤差,倍率誤差及び直交度誤差などの複数のパラメータ(誤差要因)の誤差からなり,データ処理部143では,これらの各パラメータの誤差を計測し,当該誤差に基づいて重ね合わせの適否を判断できる。
上述の露光装置5は,例えば図6に示すようにウェハWを所定の位置に載置する載置台150と,載置台150上に載置されたウェハWに対して光を照射する光学系151と,前記載置台150と光学系151との間に配置され,所定のパターンが面付けされたマスク152を備えている。露光装置5は,光学系151からマスク152を介して載置台150上のウェハWに対して光を照射して,ウェハWを所定のパターンに露光することができる。また,露光装置5は,露光制御部153を有し,露光制御部153は,予め設定されている例えば光学系151のウェハWに対する露光位置,露光量及び露光焦点等の露光条件に従って露光処理を制御できる。
また,塗布現像処理システム1は,例えば図1に示すように検査ステーション3の各種測定装置で測定された各測定情報を蓄積する蓄積装置160を備えている。例えば蓄積装置160は,上述の線幅測定装置20で測定された線幅の測定結果や重ね合わせ検査装置23で測定された重ね合わせのずれ量の測定結果を蓄積できる。蓄積装置160において蓄積された情報は,例えば塗布現像処理システム1の制御装置161に出力できる。制御装置161は,取得した蓄積情報に基づいて,この塗布現像処理システム1の特性を導出し,当該特性に基づいて例えば露光装置5の露光条件の設定を変更できる。例えば制御装置161は,前記線幅の測定結果や重ね合わせのずれ量の測定結果から線幅の経時的な傾向や重ね合わせのずれ量の経時的な傾向を導出し,かかる傾向に基づいて露光装置5の露光位置,露光量及び露光焦点等を変更できる。
次に,以上のように構成された塗布現像処理システム1で行われるウェハ処理について説明する。先ず,図1に示すウェハ搬送体9によって,カセット載置台7上のカセットC内のウェハWが一枚取り出され,検査ステーション3の受け渡し部10に受け渡される。受け渡し部10に受け渡されたウェハWは,ウェハ搬送装置12によって処理ステーション4の第3の処理装置群G3に属する温調装置70に搬送される。温調装置70に搬送されたウェハWは,温度調節された後,第1の搬送装置30によって例えばボトムコーティング装置43に搬送され,反射防止膜が形成され,さらに,加熱処理装置102,高温度熱処理装置75,高精度温調装置80に順次搬送され,各処理装置において所定の処理が施される。その後ウェハWは,第1の搬送装置30によってレジスト塗布装置40に搬送され,ウェハW上にレジスト液が塗布されレジスト膜が形成される。
レジスト膜が形成されたウェハWは,第1の搬送装置30によってプリベーキング装置81に搬送され,加熱処理が施された後,第2の搬送装置31によって周辺露光装置104,高精度温調装置93に順次搬送され,各装置において所定の処理が施される。その後,ウェハWは,ウェハ搬送体111によってインターフェイス部6を介して露光装置5に搬送され,ウェハW上のレジスト膜に所定のパターンが露光される。露光処理の終了したウェハWは,再びインターフェイス部6を介して処理ステーション4内に戻され,第2の搬送装置31によってポストエクスポージャーベーキング装置94,高精度温調装置91に順次搬送され,所定の処理が施された後,現像処理装置50に搬送されて現像処理が施される。この現像処理により,レジスト膜が選択的に溶解され,レジスト膜にパターンが形成される。
現像処理の終了したウェハWは,第2の搬送装置31によってポストベーキング装置85に搬送され加熱処理が施された後,第1の搬送装置30によって高精度温調装置72に搬送され冷却処理が施される。その後,ウェハWは,第1の搬送装置30によってトランジション装置71に搬送され,例えばウェハ搬送装置12によって受け渡し部10に受け渡され,受け渡し部10からウェハ搬送体9によってカセットCに戻され,塗布現像処理システム1における一連のパターン形成処理が終了する。
次に,塗布現像処理システム1におけるウェハ処理を管理する方法について説明する。先ず,例えば検査用のウェハUが,一定期間,定期的に塗布現像処理システム1に流されて処理され,各ウェハU上に形成されたパターンの線幅が測定される。この際,ウェハUは,例えば上述した通常のウェハ処理と同様にカセットステーション2のカセットC内に収容され,当該カセットCから処理ステーション4内の各種処理装置と露光装置5に順次搬送され,各装置において所定の処理が施されてウェハU上に所定のパターンが形成される。そして,例えば処理ステーション4において現像処理後の加熱処理,その後の冷却処理が終了したウェハUは,処理ステーション4のトランジション装置71からウェハ搬送装置12によって例えば検査ステーション3の線幅測定装置20に搬送される。
線幅測定装置20に搬送されたウェハUは,図4に示すように載置台120上に載置され,ウェハU上に形成されているパターンに光照射部121から光が照射される。検出部122は,パターンからの反射光を検出し,測定部123でその反射光の光強度分布が測定される。制御機構124において,その実際のパターンに対する光強度分布と,予め算出されている複数の仮想パターンに対する計算上の光強度分布とが照合され,適合する仮想パターンの線幅が実際のパターンの線幅と推定される。このようにして,ウェハU上のパターンの線幅が測定される。
線幅測定が終了したウェハUは,例えば第1の測定装置群H1に属する欠陥検出装置21,第2の測定装置群H2に属する膜厚測定装置22,重ね合わせ測定装置23に順に搬入され,各装置において所定の測定,検査が行われる。検査ステーション3における検査が終了したウェハWは,カセット載置台9のカセットC内に戻される。
このようなウェハUに対する検査が,塗布現像処理システム1の設定を変えずに例えば毎日一回,一ヶ月間行われ,その各ウェハUの線幅の測定結果は逐次蓄積装置160に蓄積される。この毎日一回の検査は,例えば複数枚のウェハUに対して行われ,それらのウェハUの線幅の平均値がその日の測定結果として蓄積装置160に蓄積される。
例えば一ヶ月間の検査が終了し,ウェハUの複数の線幅測定結果が蓄積されると,その線幅測定結果が制御装置161に出力される。制御装置161では,当該線幅測定結果が解析され,図7に示すように塗布現像処理システム1の特性としての線幅の経時的な傾向Aが導出される。制御装置161では,例えば線幅の傾向Aに基づいて,線幅が一定になるための露光装置5における露光量と露光焦点の設定の補正値が算出される。この補正値は,例えば線幅が測定された間隔と同じように日毎のものが算出される。例えば傾向Aのように線幅が減少傾向にある場合には,露光量を増やして線幅を広げる必要があるため,露光量の設定の補正値は,日々増加するものになる。
そして,制御装置161によって,補正値に基づいて塗布現像処理システム1で行われる露光処理の露光量と露光焦点の設定が変更される。この設定の変更は,例えば継続してウェハ処理が行われている塗布現像処理システム1に対して毎日設定を更新する形で行われてもよいし,予め作成された長期的な設定プログラムによって塗布現像処理システム1の初めの稼働時に行われてもよい。この露光量と露光焦点の設定の変更により,塗布現像処理システム1で行われるウェハ処理の傾向が矯正され,塗布現像処理システム1で形成されるパターンの線幅が長期的に一定に維持される。
以上の実施の形態によれば,塗布現像処理システム1により形成されたパターンの線幅の測定を定期的に行い,その測定結果を蓄積している。そして,当該蓄積された線幅測定の情報から,塗布現像処理システム1固有の線幅の傾向Aを導出し,その傾向Aに基づいて露光量や露光焦点の設定を変更している。それ故,塗布現像処理システム1が有する特性に起因する線幅の変動が修正され,塗布現像処理システム1において長期に渡って適正な線幅を形成することができる。この結果,線幅に関する不具合の発生率が減少し,ウェハ処理が安定的に行われる。また,一度,塗布現像処理システム1の特性を把握し,それに基づいて処理設定を変更すれば,不具合が発生する可能性が低いので,頻繁にウェハ処理の検査を行う必要がない。それ故,検査に要するトータルの時間を低減し,塗布現像処理システム1における処理効率を向上できる。なお,上記実施の形態では,線幅の傾向Aに基づいて露光装置5の露光量と露光焦点の設定を変更していたが,いずれか一方のみを変更するようにしてもよい。
以上の実施の形態では,パターンの線幅に関する塗布現像処理システム1の特性を導出し補正していたが,パターンの重ね合わせのずれについての特性を導出して補正してもよい。かかる場合,例えば塗布現像処理システム1においてパターンが形成された検査用のウェハUが,定期的に重ね合わせ検査装置23に搬送され,回転載置台140に載置され,CCDカメラ141によりウェハUの表面の画像情報が検出される。データ処理部143において,画像情報が処理される。この画像情報の処理により,例えば上述したシフト誤差,回転誤差,倍率誤差,直交度誤差などの複数のパラメータで表される重ね合わせのずれ量が測定される。この重ね合わせのずれ量の測定結果は,蓄積装置160に出力され蓄積される。制御装置161では,蓄積装置160に蓄積された測定結果に基づいて,各パラメータの経時的な傾向が導出され,当該各パラメータの傾向に基づいて,各パラメータに対応する露光条件の設定の補正値が算出される。そして,塗布現像処理システム1でウェハ処理が行われる際に,制御装置161により,前記補正値に従って露光装置5における露光条件の設定が変更される。例えばシフト誤差や回転誤差などのパラメータの傾向に対しては,露光装置5の光学系153と載置台150上のウェハWとの相対的な位置設定が変更され,例えば倍率誤差,直交度誤差などのパラメータの傾向に対しては,露光装置5の光学系153のレンズ収差などの設定が変更される。こうすることによって,塗布現像処理システム1の特性に起因する重ね合わせのずれの傾向が矯正され,塗布現像処理システム1においてパターンの重ね合わせが適正に行われる。
以上の実施の形態で記載したウェハUの定期的な検査は,毎日行われていたが,その間隔は任意に選択できる。また,その期間も一ヶ月に限られず任意に選択できる。さらに以上の実施の形態では,塗布現像処理システム1において,通常のウェハ処理と別に,検査用のウェハUに処理を施し,当該ウェハUを検査していたが,通常のウェハWの処理の際に,検査ステーション3において所定の検査を行い,その際の測定結果を蓄積して塗布現像処理システム1の特性を検出してもよい。
以上の実施の形態は,本発明の一例を示すものであり,本発明はこの例に限らず種々の態様を採りうるものである。例えば,上記実施の形態で記載した塗布現像処理システム1は,装置の種類や数,配置など他の構成を有するものであってもよい。また,上記実施の形態では,塗布現像処理システム1の特性として,線幅の傾向や重ね合わせのずれの傾向を検出していたが,ウェハW上に形成される膜の膜厚や欠陥の傾向を検出して,その傾向に基づいて露光処理の設定を変更してもよい。さらに,ウェハW上の異物(パーティクル)の数や位置を測定するパーティクル測定装置(図示せず)を,例えば検査ステーション3の測定装置群内に配置し,当該パーティクル測定装置を用いてウェハW上の異物の数や位置の傾向を検出して,その傾向に基づいて露光装置の設定を変更してもよい。また,本発明は,ウェハ以外の基板,例えばFPD(フラットパネルディスプレイ)基板,マスク基板,レクチル基板などの他の基板にも適用できる。
本発明は,基板上にパターンを形成する基板処理システムにおいてパターンに関する不具合の発生を低減する際に有用である。
1 塗布現像処理システム
3 検査ステーション
5 露光装置
20 線幅測定装置
23 重ね合わせ検査装置
160 蓄積装置
161 制御装置
W,U ウェハ
3 検査ステーション
5 露光装置
20 線幅測定装置
23 重ね合わせ検査装置
160 蓄積装置
161 制御装置
W,U ウェハ
Claims (8)
- 基板処理システムにおいてフォトリソグラフィー工程によって基板上に所定のパターンを形成し,当該パターンに関する所定の測定を行う測定工程を有し,
前記測定工程を,複数の基板に対して定期的に行い,
さらに,前記複数の基板に対する前記各測定結果を蓄積する工程と,
前記蓄積された測定結果に基づいて,前記基板処理システムで形成される前記パターンに関する前記基板処理システムの特性を導出する工程と,
前記基板処理システムの特性に基づいて前記フォトリソグラフィー工程における露光処理の設定を変更する工程と,を有することを特徴とする,基板処理システムにおける基板処理の管理方法。 - 前記測定工程では,前記パターンの線幅を測定し,
前記基板処理システムの特性は,前記線幅の経時的な傾向であることを特徴とする,請求項1に記載の基板処理システムにおける基板処理の管理方法。 - 前記線幅の経時的な傾向に基づいて前記露光処理における少なくとも露光量又は露光焦点のいずれか一方の設定を変更することを特徴とする,請求項2に記載の基板処理システムにおける基板処理の管理方法。
- 前記測定工程では,前記パターンの重ね合わせのずれ量を測定し,
前記基板処理システムの特性は,前記重ね合わせのずれの経時的な傾向であることを特徴とする,請求項1に記載の基板処理システムにおける基板処理の管理方法。 - フォトリソグラフィー工程によって基板上に所定のパターンを形成する基板処理システムであって,
基板上に形成された前記パターンに関する所定の測定を,複数の基板に対して定期的に行う測定装置と,
前記測定装置の測定結果を蓄積する蓄積装置と,
前記蓄積された測定結果に基づいて,この基板処理システムで形成される前記パターンに関する前記基板処理システムの特性を導出し,当該基板処理システムの特性に基づいて前記フォトリソグラフィー工程における露光処理の設定を変更する制御装置と,を備えたことを特徴とする,基板処理システム。 - 前記測定装置は,前記パターンの線幅を測定するものであり,
前記基板処理システムの特性は,前記線幅の経時的な傾向であることを特徴とする,請求項5に記載の基板処理システム。 - 前記制御装置は,前記線幅の経時的な傾向に基づいて前記露光処理における少なくとも露光量又は露光焦点のいずれか一方の設定を変更できることを特徴とする,請求項6に記載の基板処理システム。
- 前記測定装置は,前記パターンの重ね合わせのずれ量を測定するものであり,
前記基板処理システムの特定は,前記重ね合わせのずれの経時的な傾向であることを特徴とする,請求項5に記載の基板処理システム。
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JP2004014794A JP2005209886A (ja) | 2004-01-22 | 2004-01-22 | 基板処理システムにおける基板処理の管理方法及び基板処理システム |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2008177567A (ja) * | 2007-01-22 | 2008-07-31 | Asml Netherlands Bv | 測定方法、検査装置およびリソグラフィ装置 |
JP2009283716A (ja) * | 2008-05-22 | 2009-12-03 | Tokyo Electron Ltd | 塗布、現像装置、塗布、現像方法及び記憶媒体 |
-
2004
- 2004-01-22 JP JP2004014794A patent/JP2005209886A/ja active Pending
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