JP2005204601A - しいたけ菌床上面発生のための培養管理方法 - Google Patents

Abstract

【課題】 しいたけ菌の培養途中において、菌床上面のみ選択的に発生させる方法において、一定期間２３〜３５℃に保つ高温管理等を必要とすることなく、比較的簡潔で且つ確実に菌床上面からのみきのこを発生させることのできる方法を提供する。
【解決手段】 本発明しいたけ菌床上面発生のための培養管理方法は、しいたけ菌床栽培の培養途中であって、菌床全体に菌糸が蔓延して培地の養分を分解・吸収し始める頃ではあるが、原基は殆ど形成されていない段階において、栽培容器の菌床側面及び底面部分との隙間に給水等して、菌床側面及び底面部分に沿った木材組織の内部を飽水状態としたまま培養を継続し、当該飽水状態によって菌床側面及び底面からのきのこの発生を抑制し、菌床上面からのみきのこを発生させることを特徴とする。
【選択図】 図１

Description

本発明は、しいたけ菌床栽培の培養及び発生準備工程において、しいたけ菌床の上面に特定してしいたけ菌を発生させるしいたけ菌床の培養管理方法に関する。

菌床上面に特定してきのこを発生させる方法においては、特許文献１（以下先行技術１という）がある。その内容は、「菌床の培養終了後に栽培容器上部を取り除いて菌床の容器の間隙に給水し、更に一定期間２３〜３５℃の温度で管理することで、菌床底面や側面のきのこの発芽を開始できる状態の菌床を操作して底面や側面の発芽を抑制し、上面のみの原基を生かす方法」を旨としている。即ち、培養が完了して充分熟成した原基を有する状態に至った菌床を対象とし、これに高温処理を施すことで菌床の底面や側面の発芽を抑制しようとする方法である。

しかし、この方式では、
（ａ）すでに充分熟成した原基の発芽を抑制することがポイントになるため、給水のタイミングが遅れたり、２３〜３５℃の高温が維持ができない等の僅かの刺激でもあると、上面以外からもきのこが発芽してしまう難点があり、
（ｂ）さらに、一定数量の菌床を２３〜３５℃の高温に維持管理するには、栽培室全体に専用の温度管理施設が必要とされるので、大型の暖房施設等を設ける等の必要が生じ、経済的に負担が非常に大きいものとなり、
（ｂ）昼夜を通しての菌床の温度管理には、繊細な配慮と複雑な管理体制が不可欠となり、人的な労働環境にも負担の大なるものとなる、
等の問題を生じる。
特願3087171号

本発明は従来のかかる問題を解決するためになされたもので、一定期間２３〜３５℃に保つ高温管理等を必要とすることなく、比較的簡潔で且つ確実に菌床上面からのみきのこを発生させることのできる方法を開発しようとするものである。

上記目的を達成するために、請求項１記載のしいたけ菌床上面発生のための培養管理方法は、しいたけ菌床栽培の培養途中であって、菌床全体に菌糸が蔓延して培地の養分を分解・吸収し始める頃ではあるが、原基は殆ど形成されていない段階において、栽培容器の菌床側面及び底面部分との隙間に給水等して、菌床側面及び底面部分に沿った木材組織の内部を飽水状態としたまま培養を継続し、当該飽水状態によって菌床側面及び底面からのきのこの発生を抑制し、菌床上面からのみきのこを発生させることを特徴とする。

請求項２記載の発明は、しいたけ菌床栽培の培養途中であって原基のほぼ未形成段階において、栽培容器の上面に給水用穴を配備することを特徴とする。

本発明は以上のように構成されるので、しいたけ菌床栽培の栽培培養途中であって原基のほぼ未形成段階において、培容器の菌床側面及び底面部分との隙間に給水等して木材組織内部を飽水状態とするので、水分の過剰により空気が過少となり、菌糸が窒息状態となり、菌床側面及び底面からのきのこの発生が抑制され、菌床上面からのみ選択的にきのこが発生する。このとき、菌床を２３〜３５℃の高温に維持管理する必要がなく、暖房等の大型施設を不要とし、設備の簡略化が可能となる。
形成された原基からのきのこの発生は、上面のみに選択的に集中され底面及び側面から出るのが除かれる分、一個々の個重が重く、ボリュームのある高品質のきのこが得られ、同時に、収穫の手間が少なく、高単価で販売できるので収益性の非常に良いものとなる。

請求項２記載の発明によれば、栽培袋上面を切除せずに栽培容器の上面に給水用穴を開けて給水するようにすれば、上面が過乾燥となることもなく、散水を行わずとも良いので効率的となる。

本発明のしいたけ菌床の培養管理方法は、次の（イ）〜（ハ）の工程から成る。
（イ）初期菌糸成長による培養工程
菌床の水分を適当に保ち、菌床の細胞間隙にある自由水を利用して菌糸が伸び、温度も20±1℃の菌糸の成長に適した環境とし、菌床内での菌糸の成長を促す。しかし、未だ原基は充分には形成されていない段階にある。
この段階とは、僅かの原基は存しても良いが、刺激が与えられてもきのこ発生の殆ど見られない状態の段階をいう。
（ロ）菌床側面及び底面部分の木材組織の飽水状態化工程
次に、菌床全体に菌糸が蔓延し、培地の養分を分解・吸収し始める頃ではあるが、未だ原基は形成されていない段階となったら、栽培容器１の上面を全開放若しくは一部開放させて、菌床の底面及び側面にかけて水を満した状態とする。
即ち、菌床の底面及び側面から水分が吸収され、その菌床の細胞組織内は飽水状態となり、水分の過剰により空気が過少となり、菌糸が窒息状態となるようにする。
しかし、このとき菌床の底面及び側面から水分が吸収されるが、その吸収は菌床の底面及び側面の辺縁部にとどまり、菌床内部にまで深く浸透するものではない。従って、菌床内部にあっては、引き続き菌糸の成長に適した温度と水分量等の環境が保たれ、菌糸の順調な成長により、徐々に菌床上面に原基が形成されていく。ここで上面とは、水の浸らない上部も含む意味である。
上記の状態で菌床上面に充分原基が形成されるまで20±1℃の環境で培養を継続する。
（ハ）低温刺激工程
栽培容器１を低温に保ち、その低温刺激により原基の発芽を促す。
（ニ）きのこの発生工程
上記（ロ）で述べた通り、栽培容器の底面及び側面の辺縁部には原基が未成熟であるので、ここからきのこの発生はない。
一方、上面は適切な水分と温度の環境にあるから、ここからきのこが勢いよく発芽する。
即ち、菌床側面及び底面からのきのこの発生を抑制し、菌床上面からのみ選択的にきのこが発生するものとなる。
しかも、形成された原基からのきのこの発生は、上面に集中されるので、底面及び側面から出る無駄がない分、一個の個重の重い、高品質のきのこが得られる。
更に、当該上面を、散水等で湿度を適湿に保てば、益々個重の大きな、高品質のきのこが得られるものとなる。

次いで、上記工程からなる本発明の実施の形態を、図１、図２および表１に基づいて説明する。

（その１）第１図に示すような菌床１０を用意した。この菌床１０は、栽培容器１にポリプリピレン製袋にフィルター２が装着された栽培袋を使用し、横２０ｃｍ、縦１２ｃｍ、高さ１７ｃｍ重量約２，７００ｇの角型に培地を成型し、常法により殺菌、冷却、接種を行った。種菌は北研600号を使用した。培養は20±1℃で、６０日間管理し、同環境で栽培袋上方に穴を開けて袋内部に給水して菌床の底部及び側面が水に浸かる状態とし、さらに同環境で４０日間培養を継続した。その後15℃の発生室に移動して栽培袋上部を切り取り、菌床同士の設置間隔を１cm取り、きのこの発生を行なった。このとき、輪ゴム１０の位置より上部の菌床上面８に水９が登らないように排水孔１１を設けた。
即ち、上記（イ）の工程を20±1℃で６０日間管理し、（ロ）の工程を栽培袋の上方に穴を開ける方法を用い、20±1℃で４０日間管理し、（ハ）の工程を１５℃で行い、（ニ）の工程で菌床同士の間隔を１ｃｍとしてきのこの発生を行ったものである。

（その２）その１と同様の菌床を、培養は20±1℃で、４０日間管理し、同環境で栽培袋上方に穴を開けて袋内部に給水して菌床の底部及び側面が水に浸かる状態とし、さらに同環境で６０日間培養を継続した。その後15℃の発生室に移動して栽培袋上部を切り取り、菌床同士の設置間隔を１cm取り、きのこの発生を行なった。
即ち、上記（イ）の工程を20±1℃で４０日間管理し、（ロ）の工程を栽培袋の上方に穴を開ける方法を用い、20±1℃で６０日間管理し、（ハ）の工程を１５℃で行い、（ニ）の工程で菌床同士の間隔を１ｃｍとしてきのこの発生を行ったものである。

（その３）その１と同様の菌床を、培養は20±1℃で、６０日間管理し、同環境で栽培袋上面を切り取り、菌床側面と栽培袋フィルムの間隙に給水した後散水を毎日１回として、さらに同環境で４０日間培養を継続した。その後15℃の発生室に移動して栽培袋上部を切り取り、菌床同士の設置間隔を１cm取り、きのこの発生を行った。
即ち、上記（イ）の工程を20±1℃で６０日間管理し、（ロ）の工程を、栽培袋上面を切り取り、菌床側面と栽培袋フィルムの間隙に給水した後散水を毎日１回行う方法を用い、20±1℃で４０日間管理し、（ハ）の工程を１５℃で行い、（ニ）の工程で菌床同士の間隔を１ｃｍとしてきのこの発生を行ったものである。

（対照例１）その１と同様の菌床を、培養は20±1℃で、１００日間管理し、同環境で栽培袋上面を切り取り、15℃の発生室に移動し、菌床側面と栽培フィルムの間隙に給水して菌床同士の設置間隔を１cm取り、きのこの発生を行なった。
即ち、上記（イ）の工程を20±1℃で１００日間管理し、（ロ）の工程を行わず、（ハ）の工程を１５℃で行い、（ニ）の工程で菌床同士の間隔を１ｃｍとしてきのこの発生を行ったものであり、培養が終了し完熟した菌床に高温処理を行わずに給水して栽培を行った方法である。

（対照例２）その１と同様の菌床を、培養は20±1℃で、１００日間管理し、１０１日目から１１５日目までを２５℃とした。２５℃の環境で栽培袋上面を切り取り、菌床同士の設置間隔を１cmとして菌床側面と栽培フィルムの間隙に給水し、１日に１回の散水をしながら１５日間管理して、２０℃と２５℃の管理期間に合わせて１１５日間とした。その後温度を１５℃に低下させて、きのこの発生を行った。
即ち、上記（イ）の工程を20±1℃で１００日間管理し、（ロ）の工程を、２５℃で１５０日間管理し、栽培袋上面を切り取り菌床側面と栽培袋フィルムの間隙に給水し、１日１回の散水を行う方法を用い、（ハ）の工程を１５℃で行い、（ニ）の工程で菌床同士の間隔を１ｃｍとしてきのこの発生を行ったものであり、高温処理による抑制処理を施した背景技術に記載した栽培方法であり、先行技術１に基づく栽培方法である。

その結果を表１に示す。

上記試験の結果、対照例１は側面からの発芽数が多数であるのに対し、本発明処理を施したその１〜３には側面からの発芽は殆ど見られなかった。又、高温処理を施した対照例２も側面からの発芽は少なかった。このことから、本発明方法には著しい原基の発芽抑制効果が認められ、且つ、高温処理を施さずとも高温処理を施した対照例２と同等の発芽抑制効果のあることが確認された。

本発明は以上のように構成されるので、しいたけ菌床栽培の途中であって原基のほぼ未形成段階において、菌床側面及び底面部分との隙間には給水等して木材組織内部を飽水状態とするので、水分の過剰により空気が過少となり、菌糸が窒息状態となり、菌床側面及び底面からのきのこの発生が抑制される。
一方、該底面及び側面の辺縁部を除いた菌床内部では、引き続き菌糸の成長に適した温度と水分量等の環境が保たれ、菌糸の順調な成長で徐々に菌床上面に原基が形成されていくので、低温刺激後には開放された菌床上面からのみ選択的にきのこが発生する。
そして、上記工程にあって菌床を２３〜３５℃の高温に維持管理する必要はまったくなく、大型の暖房施設等を設ける等の必要は生じず、簡潔な栽培施設で足り、設備の簡略化が可能となる。
又、繊細な温度管理への神経を要さないので、工程の簡略化につながる。

更に、容器上面においては原基形成の初期段階から充分な空気が供給されるため優良な原基形成が行われるので、生育するきのこの品質を向上させ得る。

さらに、栽培袋上部を切除せずに栽培容器の上面に給水用穴を開けて給水するようにすれば、上面が過乾燥となることもなく、散水を行わずとも良いので効率的となる。

又、形成された原基からのきのこの発生は、上面のみに選択的に集中され底面及び側面から出るのが除かれる分、一個々の個重が重く、ボリュームのある高品質のきのこが得られ、同時に、収穫の手間が少なく、高単価で販売できるので収益性の非常に良いものとなる。

本発明は、しいたけ菌床の上面に特定してきのこを発生させるしいたけ菌床の培養管理方法に利用できるものであるが、同様の原理でハタケジメジ等にも応用の可能なものである。

本発明の１実施例を示す栽培容器の一形態図 しいたけ菌床上面発生のための培養成長させる一形態図

符号の説明

１ 栽培容器
２ フィルター
３ 菌床
４ 原基ができていない未熟な菌床
５ 給水用穴
６ 給水ホース
７ 給水
８ 菌床上面
９ 水
１０ 輪ゴム
１１ 排水孔
１２ しいたけ

Claims (2)

1. しいたけ菌床栽培の培養途中であって、菌床全体に菌糸が蔓延して培地の養分を分解・吸収し始める頃ではあるが、原基は殆ど形成されていない段階において、
   栽培容器の菌床側面及び底面部分との隙間に給水等して、菌床側面及び底面部分に沿った木材組織の内部を飽水状態としたまま培養を継続し、
   当該飽水状態によって菌床側面及び底面からのきのこの発生を抑制し、菌床上面からのみきのこを発生させることを特徴とするしいたけ菌床の培養管理方法。
2. しいたけ菌床栽培の培養途中であって原基のほぼ未形成段階において、栽培容器の上面に給水用穴を配備する請求項１記載のしいたけ菌床の養管理方法。

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