JP2005203072A - 光記録媒体 - Google Patents
光記録媒体 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005203072A JP2005203072A JP2004274704A JP2004274704A JP2005203072A JP 2005203072 A JP2005203072 A JP 2005203072A JP 2004274704 A JP2004274704 A JP 2004274704A JP 2004274704 A JP2004274704 A JP 2004274704A JP 2005203072 A JP2005203072 A JP 2005203072A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- layer
- substrate
- recording medium
- light
- optical recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
Images
Landscapes
- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
Abstract
【課題】 高温高湿や光(蛍光灯、太陽光)などの厳しい環境条件でも、優れた記録特性を維持することを可能とする光記録媒体を提供する。
【解決手段】 光記録媒体Dを信号基板Aと、ダミー基板Bとを接着層Cで貼り合わせた構成とする。信号基板Aは、記録再生用レーザ光入射面A1を有する基板1上に少なくとも、光により情報を記録する記録層、Ag又はAg合金からなる反射層、有機物系の物質からなる保護層を順次積層して形成する。ダミー基板Bは基板と遮光層とからなり、入射面B1側から波長350nmの光を照射することにより得た、入射面B1から反射層に至るまでの透過率Tを、0%≦T≦25%の範囲にする。
【選択図】 図1
【解決手段】 光記録媒体Dを信号基板Aと、ダミー基板Bとを接着層Cで貼り合わせた構成とする。信号基板Aは、記録再生用レーザ光入射面A1を有する基板1上に少なくとも、光により情報を記録する記録層、Ag又はAg合金からなる反射層、有機物系の物質からなる保護層を順次積層して形成する。ダミー基板Bは基板と遮光層とからなり、入射面B1側から波長350nmの光を照射することにより得た、入射面B1から反射層に至るまでの透過率Tを、0%≦T≦25%の範囲にする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、レーザ光の照射によって情報の記録、消去、再生を行う光記録媒体に関するものである。特に本発明は、光ディスク、光カードなどの光記録媒体において、高温高湿かつ光照射などの厳しい保存条件下でも、優れた記録特性を維持することが可能な光記録媒体を提供する。
光記録媒体は、近年のCD−RやCD−RW、またはさらに高密度化したDVD−RW、DVD−RAM、DVD−R、Blu−rayディスクなどが挙げられる。ここで「CD」はコンパクトディスク、「DVD」はデジタル多用途ディスクをそれぞれ意味する。これらの光記録媒体は光によって記録膜を昇温させて記録マークを形成させ、その記録マークを再生媒体におけるピットと見立てて、反射率変化を用いて情報としている。光記録媒体は再生専用媒体との互換性が高いことが特徴である。
光記録媒体の構造は、基板上に少なくとも、記録層、反射層を有している。この記録層材料には、アゾ系、シアニン系、フタロシアニン系などの有機色素や、SbTeを主成分とした相変化型の無機材料、無機材料を2層にしたものが知られている。また反射層は、反射率が高いAgやAlやAuを主成分としたものが材料として良く使われているが、高熱伝導率であること、広範囲な波長域で反射率が高いことから、とりわけAgやAg合金が最近良く使われている。しかしAgやAg合金材料は、SやO2との反応性が高いこと、光活性が高いこと、粒状結晶形成能が高いことで、高温高湿や光照射条件での保存安定性が著しく悪いといった欠点があった。
特許第1709731号公報(特許文献1)では有機物系保護層を反射層の上に塗布形成し、反射層を空気などの雰囲気から遮断することで、高温高湿条件での反射層の腐食を抑制することを提案している。本発明者で検討した結果、高温高湿条件での保存安定性は高かったものの、反射層にAgまたはAg合金を用いた場合には、記録面とは逆側からの反射層面に照射する光(蛍光灯や太陽光など)で記録特性の劣化が見られ、保存安定性が十分とはいい難かった。
また高温高湿条件下での保存安定性の向上を目的として、特開平7−201075号公報(特許文献2)では、AgまたはAg合金反射層と有機物保護層との間に、防食層を使用することを提案している。この公報には反射層の腐食を抑制する目的で、AgまたはAg合金反射層の上に耐食性の高い防食層を積層させた媒体構造が記載されている。しかし、特許文献2の実施例として記載されているような防食層がAl、Cu、またはそれらの合金を用いた場合では、高温高湿条件下でAgまたはAg合金反射層との界面で剥離を生じ、その後の光照射で記録特性が悪化し、高温高湿条件と光照射条件の両方の保存安定性を保つことができないことが本発明者の検討で判明した。
前述したように、反射層材料はAgまたはAg合金が好ましいが、この材料の反射層と有機物保護層が積層された条件で、反射層に光照射すると保存安定性が著しく悪くなるといった欠点があった。さらに防食層があっても、防食層材料によっては高温高湿条件と光照射条件の両方で保存安定性を両立することが難しかった。そこで本発明は、前記した問題を解決するために創案されたものであり、高温高湿かつ光照射等の厳しい保存条件でも、優れた記録特性を維持することを可能とする光記録媒体を提供することを目的とする。
本発明は上記課題に鑑みてなされたものであり、下記する(a)〜(c)の構成を有する光記録媒体を提供する。
(a)記録光により情報を記録する光記録媒体Dにおいて、信号基板(A)と、前記信号基板上に積層した支持体(B,C)とを備え、前記信号基板は前記信号基板の底面側から前記支持体側に向かって、前記記録光の入射面(A1)を有する第1の基板(1)と、前記第1の基板上に少なくとも、記録層(3)、Agを含む物質からなる反射層(5)、不活性層(7)、有機物系の物質からなる保護層(6)を順次積層してなり、前記不活性層は前記反射層と前記保護層との化学反応を抑制することを特徴とする光記録媒体。
(b)前記支持体は、ダミー基板(B)と接着層(C)とを有することを特徴とする(a)記載の光記録媒体。
(c)前記反射層(5)と前記不活性層(7)との間における密着強度は、1.6MPa以上であることを特徴とする(a)または(b)に記載の光記録媒体。
(a)記録光により情報を記録する光記録媒体Dにおいて、信号基板(A)と、前記信号基板上に積層した支持体(B,C)とを備え、前記信号基板は前記信号基板の底面側から前記支持体側に向かって、前記記録光の入射面(A1)を有する第1の基板(1)と、前記第1の基板上に少なくとも、記録層(3)、Agを含む物質からなる反射層(5)、不活性層(7)、有機物系の物質からなる保護層(6)を順次積層してなり、前記不活性層は前記反射層と前記保護層との化学反応を抑制することを特徴とする光記録媒体。
(b)前記支持体は、ダミー基板(B)と接着層(C)とを有することを特徴とする(a)記載の光記録媒体。
(c)前記反射層(5)と前記不活性層(7)との間における密着強度は、1.6MPa以上であることを特徴とする(a)または(b)に記載の光記録媒体。
本発明の光記録媒体によれば、高温高湿や光(蛍光灯、太陽光)などの厳しい環境条件において光記録媒体の材質が変質しやすい悪条件にあっても、優れた記録再生特性を維持することができる。
以下、本発明に係る光記録媒体の実施形態について添付図面を参照して説明する。なお、以下の説明においては本発明の光記録媒体の一実施形態として相変化型光ディスクを用いて説明するが、これ以外の光ディスク、光カード等の同様な構成を有する光記録媒体についても本発明を適用可能であることは言うまでもない。
(光記録媒体の構成)
図1は、光記録媒体の各実施形態の概略構成を示す図である。光記録媒体Dは、DVD−RWなどの相変化型光ディスク、光カードなどの、情報を繰り返しオーバーライト可能な媒体とする。また光記録媒体Dは図1に示すように、信号基板Aとダミー基板Bとを接着層Cで貼り合わせた構造である。ここでは更に、ダミー基板Bと接着層Cとで支持体を構成する。記録再生用のレーザ光は、信号基板Aの入射面A1(第1の入射面)より入射する。保存試験光は、ダミー基板Bの入射面B1(第2の入射面)より入射する。
図1は、光記録媒体の各実施形態の概略構成を示す図である。光記録媒体Dは、DVD−RWなどの相変化型光ディスク、光カードなどの、情報を繰り返しオーバーライト可能な媒体とする。また光記録媒体Dは図1に示すように、信号基板Aとダミー基板Bとを接着層Cで貼り合わせた構造である。ここでは更に、ダミー基板Bと接着層Cとで支持体を構成する。記録再生用のレーザ光は、信号基板Aの入射面A1(第1の入射面)より入射する。保存試験光は、ダミー基板Bの入射面B1(第2の入射面)より入射する。
<光記録媒体Dの第一実施形態>
図2は、信号基板Aの第一構成例である信号基板Aaを示す図である。信号基板Aaは、基板1上に第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5、第3保護層6を順次積層した構成とする。信号基板Aaを用いた光記録媒体Dの構成を第一実施形態とする。なお、バリア層10は適宜設ける層であり、これについては後述する。
図2は、信号基板Aの第一構成例である信号基板Aaを示す図である。信号基板Aaは、基板1上に第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5、第3保護層6を順次積層した構成とする。信号基板Aaを用いた光記録媒体Dの構成を第一実施形態とする。なお、バリア層10は適宜設ける層であり、これについては後述する。
基板1の材料としては、透明な各種の合成樹脂、透明ガラスなどが使用できる。基板1は、光透過率がほぼ100%である光透過性を有することが好ましい。埃の付着や基板1の傷などの影響を避けるために、透明な基板1を用い、集光したレーザ光で基板1側から記録層3に情報を記録する。このような基板1の材料として例えば、ガラス、ポリカーボネイト、ポリメチル・メタクリレート、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。特に、光学的複屈折、吸湿性が小さく、成形が容易であることからポリカーボネイト樹脂が好ましい。
基板1の厚さは、特に限定するものではないが、DVDとの互換性を考慮すると0.01mm〜0.6mmが好ましく、なかでも0.6mmが最も好ましい(DVDの全厚は1.2mm)。これは基板1の厚さが0.01mm未満であれば、基板1の入射面A1側から収束したレーザ光で記録する場合でも、ごみの影響を受け易くなるからである。また、光記録媒体の全厚に制限がないのであれば、実用的には0.01mm〜5mmの範囲内であればよい。5mm以上であれば対物レンズの開口数を大きくすることが困難になり、照射レーザ光のスポットサイズが大きくなるため、記録密度をあげることが困難になるからである。
基板1はフレキシブルなものでも良いし、リジッドなものであっても良い。フレキシブルな基板1は、テープ状、シート状、カード状の光記録媒体で使用する。リジッドな基板1は、カード状、或いはディスク状の光記録媒体で使用する。
第1保護層2及び第2保護層4は、記録時に基板1、記録層3などが熱によって変形して記録特性が劣化することを防止するなど、基板1、記録層3を熱から保護する効果、光学的な干渉効果により、再生時の信号コントラストを改善する効果がある。
第1保護層2及び第2保護層4はそれぞれ、記録再生用レーザ光に対して透明であって屈折率nが1.9≦n≦2.3の範囲にあることが望ましい。さらに、第1保護層2及び第2保護層4の材料は熱特性の点から、SiO2、SiO、ZnO、TiO2、Ta2O5、Nb2O5、ZrO2、MgOなどの酸化物、ZnS、In2S3、TaS4などの硫化物、SiC、TaC、WC、TiCなどの炭化物の単体及び混合物が好ましい。なかでも、ZnSとSiO2の混合膜は、記録、消去の繰り返しによっても、記録感度、C/N、消去率などの劣化が起きにくいことから特に好ましい。
また第1保護層2及び第2保護層4は、同一の材料、組成でなくとも良く、異種の材料から構成されていてもかまわない。
また第1保護層2及び第2保護層4は、同一の材料、組成でなくとも良く、異種の材料から構成されていてもかまわない。
第1保護層2の厚さは、およそ5nm〜500nmの範囲である。さらには、第1保護層2の厚さは、基板1や記録層3から剥離し難く、クラックなどの欠陥が生じ難いことから、40nm〜300nmの範囲が好ましい。40nmより薄いと、ディスクの光学特性を確保しにくく、300nmより厚いと生産性に劣る。なお、より好ましくは50nm〜80nmの範囲である。
第2保護層4の厚さは、C/N、消去率などの記録特性、安定に多数回の書き換えが可能なことから、5nm〜40nmの範囲が好ましい。5nmより薄いと記録膜の熱確保が難しくなるため最適記録パワーが上昇し、40nmより厚いとオーバーライト特性の悪化を招く。より好ましくは、10nm〜20nmの範囲である。
記録層3は、Ag−In−Sb−Te合金やGe−In−Sb−Te合金またはGe−In−Sb−Te合金に、AgまたはSi、Al、Ti、Bi、Gaのいずれかを少なくとも1種類含んでいる合金層である。また、記録層3の層厚は、10nm〜25nmが好ましい。層厚が10nmより薄いと結晶化速度が低下し高速記録特性が悪くなり、25nmより厚いと記録時に大きなレーザパワーが必要となる。
反射層5の材料としては、高熱伝導率であること、広範囲な波長域で反射率が高いことから、とりわけAg又はAg合金が用いられる。Ag合金の例としては、AgにCr、Au、Cu、Pd、Pt、Ni、Nd、In、Ca、Biなどの少なくとも1種類の元素を混合したものなどが一般的である。
反射層5の厚さは、反射層5を形成する金属或いは合金の熱伝導率の大きさによって変化するが、50nm〜300nmであるのが好ましい。反射層5の厚みが50nm以上であれば、反射層5は光学的には変化せず反射率の値に影響を与えないが、反射層5の厚みが増すと冷却速度への影響が大きくなる。また、300nmを超える厚さを形成するのは製造上時間を要する。従って熱伝導率の高い材質を用いることにより、反射層5の層厚をなるべく最適範囲に制御する。
ここで、第2保護層4にS化合物を含む混合物を用いた場合には、反射層5とのAgS化合物の生成を抑制するため、Sを含有していない材料をバリア層10として第2保護層4と反射層5の間に挿入することが好ましい。
第3保護層6は、耐擦傷性や耐食性の向上のため設けられる。第3保護層6は種々の有機系の物質から構成されることが好ましく、特に放射線硬化型化合物やその組成物を、電子線、紫外線等の放射線により硬化させることが好ましい。第3保護層6の厚さは、通常0.1μm〜100μm程度であり、スピンコート、グラビア塗布、スプレーコート、ディッピング等、通常の方法により形成すればよい。
図3(A)〜(D)は、ダミー基板Bの各構成例を示す図である。
ダミー基板Bは、記録再生用レーザ光が入射しない場合には必ずしも透明である必要は無く、例えば媒体の光照射による保存特性を向上させるために、基板8に有色膜あるいは金属膜で遮光層9を形成した構成のものが考えられる。特に波長λ=350nmでの透過率Tを0%〜25%にすることが好ましく、透過率Tが25%より大きいと耐光性効果が小さくなる。ここで透過率Tは、ダミー基板Bの入射面B1から反射層5の表面(ダミー基板B側の面)に至るまでの範囲を構成する層の光透過率を指す。すなわち透過率Tは、入射面B1から反射層5の表面に至るまでの範囲に含まれる全ての物質(層)によって決まる光透過率である。
ダミー基板Bは、記録再生用レーザ光が入射しない場合には必ずしも透明である必要は無く、例えば媒体の光照射による保存特性を向上させるために、基板8に有色膜あるいは金属膜で遮光層9を形成した構成のものが考えられる。特に波長λ=350nmでの透過率Tを0%〜25%にすることが好ましく、透過率Tが25%より大きいと耐光性効果が小さくなる。ここで透過率Tは、ダミー基板Bの入射面B1から反射層5の表面(ダミー基板B側の面)に至るまでの範囲を構成する層の光透過率を指す。すなわち透過率Tは、入射面B1から反射層5の表面に至るまでの範囲に含まれる全ての物質(層)によって決まる光透過率である。
図3(A)〜(D)は、透過率Tを制御するための透過率制御部材である遮光層9を用いたダミー基板Bの各構成例であり、ここでは好ましい構成例として考えられる第一構成例Ba〜第四構成例Bdを示す。図3(A)はダミー基板Bの第一構成例Ba、図3(B)はダミー基板Bの第二構成例Bb、図3(C)はダミー基板Bの第三構成例Bc、図3(D)はダミー基板Bの第四構成例Bdを示す。
第一構成例Baは、基板8をダミー基板Baの入射面側B1に、遮光層9をダミー基板Baの接着面側B2に設けた構成例、第二構成例Bbは遮光層9をダミー基板Bbの入射面側B1に、基板8をダミー基板Bbの接着面側B2に設けた構成例、第三構成例Bcは2枚の基板8の間に遮光層9を挿入させた構成例、第四構成例Bdは基板8に色などを付け基板8の全体を遮光層9とした構成例である。このような各構成例Ba〜Bdによってダミー基板Bの透過率Tを制御することができる。
第一構成例Baは、基板8をダミー基板Baの入射面側B1に、遮光層9をダミー基板Baの接着面側B2に設けた構成例、第二構成例Bbは遮光層9をダミー基板Bbの入射面側B1に、基板8をダミー基板Bbの接着面側B2に設けた構成例、第三構成例Bcは2枚の基板8の間に遮光層9を挿入させた構成例、第四構成例Bdは基板8に色などを付け基板8の全体を遮光層9とした構成例である。このような各構成例Ba〜Bdによってダミー基板Bの透過率Tを制御することができる。
図4にダミー基板Bの波長350nmの照射光(特定波長光)における透過率T(transmittancy)と、3万ルクス(lx)の白色光600時間照射後の光記録媒体における記録再生エラーレートの関係を示す。図4より、透過率Tが30%以上であると、エラーレートが1×10-3を超える。エラーレートが1×10-3を超えると、エラー訂正がかなり困難になると言われているので、ダミー基板Bの透過率Tは0%〜25%にすることが好ましく、さらに好ましくは10%以下にすることが良い。
特定波長光の波長λを350nmとしたのは、第3保護層6は一般的に紫外線硬化型有機物系保護層であるために、紫外線領域である波長λが350nm前後で最も光化学反応が激しくなるためである。
特定波長光の波長λを350nmとしたのは、第3保護層6は一般的に紫外線硬化型有機物系保護層であるために、紫外線領域である波長λが350nm前後で最も光化学反応が激しくなるためである。
上記したように透過率Tとは、入射面B1から反射層5の表面までの光の透過率であるため、ダミー基板B単独の光透過率で透過率Tを制御しなくても良い。例えば、ダミー基板Bと接着層Cのように、ダミー基板Bから反射層5の表面に至る間に存在する各部材(各層、各膜)の各光透過率を合算した光透過率を、前述した透過率Tの範囲0%〜25%にすることが好ましく、さらに好ましくは10%以下にすることが良い。
基板8の材料には、透明な各種の合成樹脂、ガラスなどが使用できる。基板8の材料として例えば、ガラス、ポリカーボネイト、ポリメチル・メタクリレート、ポリオレフィン樹脂、エポキシ樹脂、ポリイミド樹脂などが挙げられる。特に、吸湿性が小さく、成形が容易であることからポリカーボネイト樹脂が好ましい。
遮光層9の材料は、入射面B1から入射する光を遮るものであれば何でもよい。また、生産性を考えると遮光層9を薄くすることが好ましい。このことより例えば、遮光層9の材料にAl合金など金属材料を用いることが好ましい。
遮光層9の材料は、入射面B1から入射する光を遮るものであれば何でもよい。また、生産性を考えると遮光層9を薄くすることが好ましい。このことより例えば、遮光層9の材料にAl合金など金属材料を用いることが好ましい。
図5にAl合金製の遮光層9の層厚に対する透過率T(基板8は0.6mm厚のポリカーボネイトを用い、測定波長はλ=350nm)の一例を示す。ここではダミー基板Bとして、図3(A)〜(D)に示すダミー基板Ba〜Bdいずれかの構成を用いている。図5より、遮光層9の層厚が40nmより小さくなると、急激に透過率Tが増加していく。透過率を25%以下にするには14nm以上、透過率を10%以下にするには25nm以上の層厚を確保すればよいことが分かる。
信号基板Aとダミー基板Bを貼り合わせる接着法は、有機系の物質から構成される放射線硬化型化合物やその組成物を、電子線、紫外線等の放射線により硬化接着させる方法や粘着シートにより接着させる方法がある。また耐光性効果を得るために、図1の接着層Cとして用いる接着剤や粘着シートの光透過率を0%〜25%(測定波長λ=350nm使用時)にすることも好ましい。
信号基板Aとダミー基板Bとの貼り合わせは、エアーサンドイッチ構造、エアーインシデント構造、密着貼り合わせ構造などがある。また、信号基板Aの上に基板1を除いた構成の信号基板Aを積層し、接着層Cを介してダミー基板Bと貼り合わせて片面2層の光記録媒体を形成することもできる。
信号基板Aとダミー基板Bとの貼り合わせは、エアーサンドイッチ構造、エアーインシデント構造、密着貼り合わせ構造などがある。また、信号基板Aの上に基板1を除いた構成の信号基板Aを積層し、接着層Cを介してダミー基板Bと貼り合わせて片面2層の光記録媒体を形成することもできる。
(光記録媒体の製造方法)
次に、第一実施形態の光記録媒体Dの製造方法について述べる。
まず、第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5などを基板1上に積層する方法としては、公知の真空中での薄膜形成法が挙げられる。例えば、真空蒸着法(抵抗加熱型や電子ビーム型)、イオンプレーティング法、スパッタリング法(直流や交流スパッタリング、反応性スパッタリング)であり、特に、組成、層厚のコントロールが容易であることから、スパッタリング法が好ましい。
次に、第一実施形態の光記録媒体Dの製造方法について述べる。
まず、第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5などを基板1上に積層する方法としては、公知の真空中での薄膜形成法が挙げられる。例えば、真空蒸着法(抵抗加熱型や電子ビーム型)、イオンプレーティング法、スパッタリング法(直流や交流スパッタリング、反応性スパッタリング)であり、特に、組成、層厚のコントロールが容易であることから、スパッタリング法が好ましい。
また、真空漕内で複数の基板1を同時に成膜するバッチ法や、基板1を1枚ずつ処理する枚葉式成膜装置を使用することが好ましい。形成する第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5などの層厚の制御は、スパッタ電源の投入パワーと時間を制御したり、水晶振動型膜厚計で堆積状態をモニタリングしたりすることで容易に行える。
また、第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5などの形成は、基板1を固定したまま、或いは移動、回転した状態のどちらでも良い。層厚の面内の均一性に優れることから、基板1を自転させることが好ましく、さらに公転を組み合わせることがより好ましい。必要に応じて基板1の冷却を行うと、基板1の反り量を減少させることができる。
また、本発明の効果を著しく損なわない範囲において、反射層5などを形成した後、これらの薄膜の変形防止などのため、ZnS、SiO2などの誘電体層或いは紫外線硬化樹脂などの第3保護層6などを必要に応じて設けても良い。
反射層5、或いはさらに第3保護層6を形成した後、図2に示す第3保護層6(第3保護層6を設けない場合は反射層5)の接着面A2と、ダミー基板Bの接着面B2とを接着剤などの接着層Cで貼り合わる。
反射層5、或いはさらに第3保護層6を形成した後、図2に示す第3保護層6(第3保護層6を設けない場合は反射層5)の接着面A2と、ダミー基板Bの接着面B2とを接着剤などの接着層Cで貼り合わる。
記録層3は、実際に記録を行う前に、あらかじめレーザ光、キセノンフラッシュランプなどの光を照射・加熱し、結晶化させておくことが好ましい。特に再生ノイズが少ないことから、レーザ光による初期化が好ましい。
さて、以下に第一実施形態に係る光記録媒体Dの実施例1〜実施例3及び比較例1、2について順次説明する。ここでは相変化型光ディスクを例にして述べる。
以下の実施例及び比較例では、波長が658nmのレーザダイオード、NA=0.60の光学レンズを搭載したパルステック社製光ディスクドライブテスタ(DDU1000)を用いて記録再生を行い、エラーレートで記録特性を評価した。
以下の実施例及び比較例では、波長が658nmのレーザダイオード、NA=0.60の光学レンズを搭載したパルステック社製光ディスクドライブテスタ(DDU1000)を用いて記録再生を行い、エラーレートで記録特性を評価した。
保存特性試験は、高温高湿条件として温度80℃相対湿度85%条件下(80℃85%RH)で100時間光記録媒体を放置し、その後光照射条件として、3万lxの白色光(保存試験光)を入射面B1に600時間照射した。以上の高温高湿条件及び光照射条件での保存処理(以下、保存処理とする)の後、未記録部分に記録し、その後エラーレート測定して、エラー訂正が難しくなるとされている1×10-3以上のエラーレートを不良とした。
透過率の測定には、日立製作所製330型分光光度計を用いた。
透過率の測定には、日立製作所製330型分光光度計を用いた。
(実施例1)
信号基板Aは、直径が120mm、板厚が0.6mmのポリカーボネイト樹脂製の基板1上に各薄膜を形成し、作成した。基板1にはトラックピッチが0.74μmで空溝(グルーブ)、ランドが交互に形成されている。溝深さは25nmであり、グルーブ幅とランド幅の比は、およそ40:60であった。
信号基板Aは、直径が120mm、板厚が0.6mmのポリカーボネイト樹脂製の基板1上に各薄膜を形成し、作成した。基板1にはトラックピッチが0.74μmで空溝(グルーブ)、ランドが交互に形成されている。溝深さは25nmであり、グルーブ幅とランド幅の比は、およそ40:60であった。
まず、真空容器内を3×10-4Paまで排気した後、高周波マグネトロンスパッタ法により、基板1の一方の面に2×10-1PaのArガス雰囲気中でSiO2を20mol%添加したZnSを用いて層厚70nmの第1保護層2を形成した。
続いて、記録層3をGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットで層厚16nm、第2保護層4を第1保護層2と同じ材料で16nm、バリア層10をGeNで2nm、更に反射層5をAg−Pd−Cuターゲットで120nmとして、順次積層した。
続いて、記録層3をGe−In−Sb−Teの4元素単一合金ターゲットで層厚16nm、第2保護層4を第1保護層2と同じ材料で16nm、バリア層10をGeNで2nm、更に反射層5をAg−Pd−Cuターゲットで120nmとして、順次積層した。
基板1を真空容器内より取り出した後、反射層5上にアクリル系紫外線硬化樹脂(ソニーケミカル製SK5110)をスピンコートし、紫外線照射により硬化させて、層厚が3μmの第3保護層6を形成して、図2に示す信号基板Aaを得た。
上述したように、基板1の各層を形成した面とは反対の面(他方の面)を入射面A1とし、第3保護層6の反射層5と接していない面を接着面A2とする。
上述したように、基板1の各層を形成した面とは反対の面(他方の面)を入射面A1とし、第3保護層6の反射層5と接していない面を接着面A2とする。
ダミー基板Bは、基板8を、基板1と同様の直径が120mm、板厚が0.6mmのポリカーボネイト樹脂で作成し、基板8の一方の面に遮光層9をAlターゲットでスパッタ法により、層厚35nmとして形成した。本実施例ではダミー基板Bの構成を図3(A)に示した第一構成例Baとしたので、遮光層9を形成した面が接着面B2となる。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、3%であった。
接着層Cに粘着シールを用いて、信号基板A(Aa)の接着面A2とダミー基板B(Ba)の接着面B2とを貼り合わせた。続いて、初期化装置(日立コンピュータ機器製POP120)にて、ラジアル方向レーザ光幅250μm、走査方向レーザ光幅1.0μmのレーザを用いて、走査線速度4.5m/s、レーザパワー1600mW、送りピッチ220μmの条件で記録層3の初期化を行い、光記録媒体Dを作製した。
こうして製造した光記録媒体Dを用い、基板1側(入射面A1)から記録層3の案内溝であるグルーブ部に記録を行った。グルーブは記録再生用レーザ光の入射方向から見て凸状になっている。
上記の記録を線速度3.5m/s(DVD規格1倍速)の条件で行い、エラーレート測定したところ、保存前の記録特性は2×10-5であることを確認した。さらに、高温高湿条件後及び光照射条件での保存処理後に、記録及びエラーレート測定をしたところ、表1に示すとおり、5×10-5と良好であり、保存処理後でも良好な特性が得られた。
表1において、エラーレートが良好であればOKを、エラーレートが不良であればNGを記した。
上記の記録を線速度3.5m/s(DVD規格1倍速)の条件で行い、エラーレート測定したところ、保存前の記録特性は2×10-5であることを確認した。さらに、高温高湿条件後及び光照射条件での保存処理後に、記録及びエラーレート測定をしたところ、表1に示すとおり、5×10-5と良好であり、保存処理後でも良好な特性が得られた。
表1において、エラーレートが良好であればOKを、エラーレートが不良であればNGを記した。
(実施例2)
ダミー基板Bの遮光層9を層厚70nmにした他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、0%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは2×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も良好な記録特性が得られた。
ダミー基板Bの遮光層9を層厚70nmにした他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、0%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは2×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も良好な記録特性が得られた。
(実施例3)
ダミー基板Bの遮光層9を層厚15nmにした他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、22%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは3×10-4と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
ダミー基板Bの遮光層9を層厚15nmにした他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、22%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは3×10-4と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
(比較例1)
ダミー基板Bの遮光層9を無くした(0nm)他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、82%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは2×10-3と、実施例1と比較すると、保存処理後の記録特性が著しく悪化していた。
ダミー基板Bの遮光層9を無くした(0nm)他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、82%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは2×10-3と、実施例1と比較すると、保存処理後の記録特性が著しく悪化していた。
(比較例2)
ダミー基板Bの遮光層9を層厚10nmにした他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、37%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは1×10-3と、実施例1と比較すると、保存処理後の記録特性が著しく悪化していた。
ダミー基板Bの遮光層9を層厚10nmにした他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。このようにして作成したダミー基板Bの波長λ=350nmでの透過率Tは、37%であった。実施例1と同様の測定をしたところ、表1に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは1×10-3と、実施例1と比較すると、保存処理後の記録特性が著しく悪化していた。
以上のことから、遮光層9を充分に設けなかったことで反射層5に光が長時間照射されると、光照射後の記録特性が著しく悪化することがわかった。これは、光照射により第3保護層6の紫外線硬化樹脂と反射層5のAgまたはAg合金が活性化され、反射層5の特性が変化し放熱状況も変わることで、記録特性が悪化すると推測される。また上述したように、エラー訂正が可能なエラーレートは1×10-3以下といわれており、このことから照射される光の、反射層5への透過率Tは0%〜25%の範囲にすることが好ましいことが分かった。
また、照射される波長λ=350nmのレーザ光の反射層5への透過率Tを0%〜25%の範囲にする方法として、実施例1〜3ではダミー基板Bに付着させた遮光層9の厚みで透過率Tを制御していたが、透過率Tを制御するのはダミー基板Bでなくとも良い。つまり光記録媒体Dの記録再生用レーザ光の入射面A1とは反射層5を挟んで反対側に形成されている、例えば第3保護層6や、信号基板Aとダミー基板Bとを接着させる接着剤(接着層C)にカーボンブラックなどの粉末を混入させることで、透過率Tを0%〜25%の範囲に制御しても実施例1と同様の効果が得られる。
<光記録媒体Dの第二実施形態>
ダミー基板Bや接着層Cの波長λ=350nmでの光透過率を0%〜25%の範囲にできない場合には、耐光性を向上させる別な方法として、図6に示すように高密着不活性層7を反射層5と第3保護層6との間に挿入した構成の信号基板Abを用いる。
ダミー基板Bや接着層Cの波長λ=350nmでの光透過率を0%〜25%の範囲にできない場合には、耐光性を向上させる別な方法として、図6に示すように高密着不活性層7を反射層5と第3保護層6との間に挿入した構成の信号基板Abを用いる。
本発明者の検討では、入射面B1からの光照射による記録特性の悪化は、AgまたはAg合金の反射層5と第3保護層6とが直接接し、かつ、AgまたはAg合金の反射層5に光が長時間照射される場合にのみ起きる。この悪化メカニズムにおいて反射層5の金属光沢は失われないことから、第3保護層6中の成分と反射層5の材料であるAgまたはAg合金との化学反応が光照射により活性化され、反射層5の金属材料が化学変化する(腐食ではない)ものと推測される。この反射層5の光活性の化学変化により、反射層5の金属材料の熱伝導率が変化し、これにより記録層3の記録時の放熱状態が悪くなるので、記録特性の悪化が引き起こされていると考えられる。つまり反射層5の化学変化は腐食(金属ではなくなる化学変化)ではなく、金属から金属への変化であることから、高密着不活性層7を反射層5と第3保護層6との間に挿入することで、耐光性が向上する。
図6は、信号基板Aの第二構成例である信号基板Abを示す図である。信号基板Abは、基板1上に第1保護層2、記録層3、第2保護層4、反射層5、高密着不活性層7、第3保護層6を順次積層した構成とする。信号基板Abを用いた光記録媒体Dの構成を第二実施形態とする。バリア層10は既述したように、適宜設ければよい。
信号基板Abを形成する基板及び層の、第一実施形態に用いた信号基板Aaと同様のものには同じ符号を付し、前記基板及び層の材料、その厚み等は第一実施形態にて既述したものと同じとし、説明を省略する。
高密着不活性層7の材料は、金属、半金属、窒化物、酸化物、炭化物またはそれらの化合物でよく、反射層5に用いられるAgまたはAg合金との密着強度が1.6MPa以上であることが好ましい。
信号基板Abを形成する基板及び層の、第一実施形態に用いた信号基板Aaと同様のものには同じ符号を付し、前記基板及び層の材料、その厚み等は第一実施形態にて既述したものと同じとし、説明を省略する。
高密着不活性層7の材料は、金属、半金属、窒化物、酸化物、炭化物またはそれらの化合物でよく、反射層5に用いられるAgまたはAg合金との密着強度が1.6MPa以上であることが好ましい。
図7は、温度80℃相対湿度85%(高温高湿:80℃85%RH)条件下での100時間放置、さらに3万lxの白色光を600時間照射させた後の、高密着不活性層7とAgまたはAg合金の反射層5との密着強度と、記録再生エラーレートの関係を示す。図7より、密着強度が1.6MPaより小さいと、エラーレートが、エラー訂正がかなり困難になると言われている1×10-3を超えるので、密着強度は1.6MPa以上であることが好ましい。密着強度が1.6MPaより小さいと、高温高湿条件下(80℃85%RH)で反射層5と高密着不活性層7との界面から剥離が起きると思われる。剥離が起きると、媒体が白っぽくなり概観が悪くなるだけでなく、高密着不活性層7の耐光性効果がなくなり、光照射による記録特性の劣化が起きるので、好ましくない。なお、密着強度の上限は特になく1.6MPa以上であればよい。
密着強度の測定には、図8に示す引張り試験を行った。引張り試験の条件としてまず、ガラス板71に反射層5に用いるAgまたはAg合金の薄膜5sを約200nm積層させ、その上に高密着不活性層7の材料からなる薄膜7sを200nm積層させたサンプルを用いる。サンプルにエポキシ系接着剤にてSUS板72及び角棒73を接合して共試材とし、引張り方向hがSUS板72に対して垂直となるように共試材をC型フック74にぶら下げる。共試材の静止を確認してから引張り試験を行い、薄膜5s(反射層5)と薄膜7s(高密着不活性層7)の界面において破断した力を測定し、面積で除して密着強度とした。
続いて、高密着不活性層7を設けた第二実施形態の光記録媒体に係る実施例4〜実施例7と比較例3、4について説明する。
第二実施形態の光記録媒体は、上述した第一実施形態の光記録媒体と同様の製造方法で製造した。高密着不活性層7は、基板1上に形成した他の層、すなわち第1保護層2、記録層3、第2保護層4、及び反射層5と同様に形成した。
第二実施形態においてダミー基板Bは遮光層9を設けず、基板8のみからなる。ダミー基板Bは接着層Cに粘着シールを用いて信号基板Abと貼り合わせた。
また、記録特性の評価や保存特性試験及びエラーレート測定についても、第一実施形態の光記録媒体と同様に行った。
第二実施形態の光記録媒体は、上述した第一実施形態の光記録媒体と同様の製造方法で製造した。高密着不活性層7は、基板1上に形成した他の層、すなわち第1保護層2、記録層3、第2保護層4、及び反射層5と同様に形成した。
第二実施形態においてダミー基板Bは遮光層9を設けず、基板8のみからなる。ダミー基板Bは接着層Cに粘着シールを用いて信号基板Abと貼り合わせた。
また、記録特性の評価や保存特性試験及びエラーレート測定についても、第一実施形態の光記録媒体と同様に行った。
(実施例4)
ダミー基板Bの遮光層9を無くし、さらに反射層5と第3保護層6の間に高密着不活性層7をGeNで層厚5nmとして挿入した他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料のAgPdCuとGeNとの密着強度は、5.1MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは5×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
ダミー基板Bの遮光層9を無くし、さらに反射層5と第3保護層6の間に高密着不活性層7をGeNで層厚5nmとして挿入した他は、実施例1と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料のAgPdCuとGeNとの密着強度は、5.1MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは5×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
(実施例5)
高密着不活性層7をAl2O3にした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとAl2O3との密着強度は、3.6MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは6×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
高密着不活性層7をAl2O3にした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとAl2O3との密着強度は、3.6MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは6×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
(実施例6)
高密着不活性層7をGeにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとGeとの密着強度は、1.6MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは9×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
高密着不活性層7をGeにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとGeとの密着強度は、1.6MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは9×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
(実施例7)
高密着不活性層7をNiCrにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとNiCrとの密着強度は、2.5MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは6×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
高密着不活性層7をNiCrにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとNiCrとの密着強度は、2.5MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは6×10-5と、実施例1と同様に保存処理後も記録特性が良好であった。
(比較例3)
高密着不活性層7をAlにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとAlとの密着強度は、1.2MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは3×10-3と、実施例1と比較すると、光照射後の記録特性が著しく悪化していた。
高密着不活性層7をAlにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとAlとの密着強度は、1.2MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは3×10-3と、実施例1と比較すると、光照射後の記録特性が著しく悪化していた。
(比較例4)
高密着不活性層7をCuにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとCuとの密着強度は、1.4MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは1×10-3と、実施例1と比較すると、光照射後の記録特性が著しく悪化していた。
高密着不活性層7をCuにした他は、実施例4と同様の光記録媒体を作成した。引張り試験において、反射層5の材料であるAgPdCuとCuとの密着強度は、1.4MPaであった。実施例1と同様の測定をしたところ、表2に示すとおり、保存処理後の記録再生のエラーレートは1×10-3と、実施例1と比較すると、光照射後の記録特性が著しく悪化していた。
以上より、高密着不活性層7の材料をAlやCuに変更したことで反射層5との密着強度が小さくなり、その結果高温高湿条件後に剥離し、中間層の効果が薄れる。これにより、高温高湿条件後の光照射条件により第3保護層6の紫外線硬化樹脂と反射層5のAgまたはAg合金が活性化され、記録特性が悪化すると推測される。
本第二実施形態のように、ダミー基板Bに遮光層9を形成しない場合には、光照射による第3保護層6の紫外線硬化樹脂と反射層5のAgまたはAg合金との化学反応の活性化を抑制するために、反射層5と第3保護層6の間に高密着不活性層7を用いることが必要である。その材料は、反射層5との界面の密着強度が、1.6MPa以上であることが好ましい。密着強度が1.6MPaより小さいと、高温高湿条件下で剥離を生じ、光照射の影響以前に記録特性が悪化する。
以上で述べた、AgまたはAg合金反射層5に光が入らないように、接着させるダミー基板Bや第3保護層6や接着層Cが遮光性を有する第一実施形態の光記録媒体、またはAgまたはAg合金反射層5と第3保護層6との間に高密着不活性層7を挿入する第二実施形態の光記録媒体、いずれの媒体構造も良好な記録特性維持に有効である。生産性を考慮して、個々にあった上記したいずれかの構造の製造方法を用いればよい。
<光記録媒体の第三実施形態>
図6に示す高密着不活性層7を設けた信号基板Abと、図3に示す遮光層9を設けたダミー基板Bとを接着層Cで貼り合わせた構成の光記録媒体を、第三実施形態とする。光記録媒体を本第三実施形態の構成とすることで、反射層5への透過率Tを制御でき、かつ反射層5の化学反応を抑制することができるために、高温高湿条件及び光照射条件の下でよりよい記録再生特性を維持できる。
図6に示す高密着不活性層7を設けた信号基板Abと、図3に示す遮光層9を設けたダミー基板Bとを接着層Cで貼り合わせた構成の光記録媒体を、第三実施形態とする。光記録媒体を本第三実施形態の構成とすることで、反射層5への透過率Tを制御でき、かつ反射層5の化学反応を抑制することができるために、高温高湿条件及び光照射条件の下でよりよい記録再生特性を維持できる。
A 信号基板
A1 入射面(第1の入射面)
B ダミー基板
B1 入射面(第2の入射面)
C 接着層
D 光記録媒体
1 基板(第1の基板)
2 第1保護層
3 記録層
4 第2保護層
5 反射層
6 第3保護層
7 高密着不活性層
8 基板(第2の基板)
9 遮光層(透過率制御部材)
10 バリア層
A1 入射面(第1の入射面)
B ダミー基板
B1 入射面(第2の入射面)
C 接着層
D 光記録媒体
1 基板(第1の基板)
2 第1保護層
3 記録層
4 第2保護層
5 反射層
6 第3保護層
7 高密着不活性層
8 基板(第2の基板)
9 遮光層(透過率制御部材)
10 バリア層
Claims (3)
- 記録光により情報を記録する光記録媒体において、
信号基板と、
前記信号基板上に積層した支持体とを備え、
前記信号基板は前記信号基板の底面側から前記支持体側に向かって、前記記録光の入射面を有する第1の基板と、前記第1の基板上に少なくとも、記録層、Agを含む物質からなる反射層、不活性層、有機物系の物質からなる保護層を順次積層してなり、
前記不活性層は前記反射層と前記保護層との化学反応を抑制することを特徴とする光記録媒体。 - 前記支持体は、ダミー基板と接着層とを有することを特徴とする請求項1記載の光記録媒体。
- 前記反射層と前記不活性層との間における密着強度は、1.6MPa以上であることを特徴とする請求項1または2に記載の光記録媒体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2004274704A JP2005203072A (ja) | 2003-12-16 | 2004-09-22 | 光記録媒体 |
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003417671 | 2003-12-16 | ||
JP2004274704A JP2005203072A (ja) | 2003-12-16 | 2004-09-22 | 光記録媒体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005203072A true JP2005203072A (ja) | 2005-07-28 |
Family
ID=34829159
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2004274704A Pending JP2005203072A (ja) | 2003-12-16 | 2004-09-22 | 光記録媒体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2005203072A (ja) |
-
2004
- 2004-09-22 JP JP2004274704A patent/JP2005203072A/ja active Pending
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP5560261B2 (ja) | 情報記録媒体 | |
WO2009096165A1 (ja) | 光学的情報記録媒体とその製造方法、及びターゲット | |
JP2004158145A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2006004588A (ja) | 光記録媒体とその製造方法 | |
US7136343B2 (en) | Optical recording/reproducing method and optical recording medium | |
JP2008305529A (ja) | 光情報記録媒体及び光情報記録媒体の製造方法 | |
JP4232159B2 (ja) | 光記録媒体 | |
JP2005302264A (ja) | 相変化型光情報記録媒体及び2層相変化型光情報記録媒体 | |
TWI302309B (en) | Optical storage medium | |
JP5298623B2 (ja) | 追記型光記録媒体 | |
JP4686779B2 (ja) | 多層型相変化光記録媒体 | |
US7033659B2 (en) | Optical information recording medium and method of recording and reproducing information on and from optical information recording medium | |
JP2004171631A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2005203072A (ja) | 光記録媒体 | |
US20070076579A1 (en) | Optical storage medium | |
WO2010061557A1 (ja) | 情報記録媒体、記録装置、再生装置および再生方法 | |
JP4322719B2 (ja) | 光情報記録媒体及びその製造方法とスパッタリングターゲット | |
JP2005243218A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2008090964A (ja) | 追記型2層構成光記録媒体 | |
JP2007323743A (ja) | 相変化型光記録媒体 | |
JP2001167475A (ja) | 光記録媒体 | |
JP2006294219A (ja) | 相変化型光情報記録媒体とその製造方法 | |
JP3830938B2 (ja) | 光情報記録媒体及び光情報記録媒体の情報記録再生方法 | |
US20060165946A1 (en) | Optical storage medium | |
JP2006252706A (ja) | 光記録媒体および光記録媒体の製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061227 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20080731 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080902 |
|
A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20090120 |