JP2005195731A

JP2005195731A - 光学バンドパスフィルタ

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Publication number: JP2005195731A
Application number: JP2004000193A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Minagawa; 良明皆川; Takeshi Maro; 毅麿
Original assignee: Hitachi Maxell Ltd
Current assignee: Maxell Ltd
Priority date: 2004-01-05
Filing date: 2004-01-05
Publication date: 2005-07-21

Abstract

【課題】
光学バンドパスフィルタにおいて、透過帯域が平坦でリップルが抑制された良好な特性を実現するフィルタ構造を提供すること。
【解決手段】
本発明にかかる光学バンドパスフィルタは、光学基板１上にキャビティ８をＮ段備え、キャビティ８は高屈折率と低屈折率の屈折率の異なる光学薄膜４、５をスペーサ層２の両側に交互に配置している。このとき、透過帯域の中心波長をλとしたときに、スペーサ層２の厚みがλ／２の整数倍である。各キャビティ８間に低屈折率膜からなる結合層３を有する。光学基板１の屈折率は低屈折率層５よりも高く、かつ、高屈折率層４より低くした。さらに、光学基板１の直上の層を高屈折率層４とし、光学基板１から数えて３〜Ｎ−２段目のスペーサ層２の厚さは２種類からなり、奇数段目に位置するスペーサ層２の膜厚が偶数段目に位置するスペーサ層２よりも０．５λ以上厚くした。
【選択図】図１

Description

本発明は、誘電体多層膜からなる光学バンドパスフィルタにおいて、良好な透過帯域の特性を実現できるマルチキャビティフィルタの構造に関する。

光通信等に用いられる誘電体多層膜からなる光学バンドパスフィルタは、例えば、下記非特許文献１のｐ．２８８に記載されている全誘電体ファブリーペローエタロンを多重に結合した構成をとる。その構造は、図２に示すように光学基板３１上に光学路長がλ／２の整数倍のスペーサ層３２の両側に光学路長がλ／４の屈折率の異なる層３４、３５を交互に積層したミラー層３６を重ねた構造のキャビティ３８を基本構造とし、このキャビティ３８間に結合層３３を配置し、これを複数段重ねたものからなる。

ここで、スペーサ層３２の上下のミラー層３６において、各屈折率膜は対称になるように配置されているため、スペーサ層３２を高屈折率膜とする場合には、それに隣接する層は低屈折率膜を、スペーサ層３２を低屈折率膜とする場合には、それに隣接する層は高屈折率膜を用いて積層している。またミラー層３６の構成としては、隣接する層を含めて高屈折率膜と低屈折率膜の対とするか、ミラー層３６に隣接する層は一層分多めに配置して残りの層について対とした、積層数２ｎ層もしくは２ｎ＋１層（ｎは１以上の整数であり、各屈折率膜を意味する）としているため、前記スペーサ層３２の屈折率膜の種類と合わせて、膜構造としては４種の形態が考えられる。そして、フィルタの最上層には１ないし複数層からなる入射媒質への整合層３７を配置している。

近年、近・中距離の伝送を低コストで行う通信方式として、透過帯域の幅を広くすることによりレーザ光源の温度管理を不要としたＣＷＤＭ（Coarse Wavelength Division Multiplexing）方式が注目されている。ＣＷＤＭ方式において使用するフィルタは、透過帯域幅が１０ｎｍ以上と広く、透過帯域から阻止帯域への急峻な遷移幅を実現するために６以上のキャビティを積層したバンドパスフィルタが使用される。

このようなバンドパスフィルタを設計する場合、透過帯域は広いものの、６キャビティ以上という高次のバンドパスフィルタとなるため、リップルが発生しやすくなり、良好な透過帯域特性を実現できる膜構成は大きな制約を受ける。更に、透過帯域幅が１０ｎｍ以上と広いため、その制約の中でバンド幅を広げようと膜構成を変更するとバンド幅の変化が大きくなるために、要求されるバンド幅のフィルタの設計が難しい場合が発生していた。
H．A．Macleod著、小倉繁太郎等訳「光学薄膜」１９８９年１１月３０日、日刊工業新聞社発行、ｐ．２８８

光学バンドパスフィルタを設計する場合、バンド幅の調整は主にスペーサ層の膜厚を変更することにより行うが、その膜厚は通常０．５λの整数倍単位という離散的な値で変化させることしかできない。一方６キャビティ以上のバンドパスフィルタにおいては、リップルが抑制された良好な透過特性を実現するスペーサ層の組み合わせには大きな制約がある。従ってバンド幅の調整単位も離散的な値をとることになるため、要求されたバンド幅のフィルタの設計が難しい場合が発生する。

従来、６段以上のキャビティを有するバンドパスフィルタのキャビティ数をＮとしたとき、３〜Ｎ−２段目キャビティのスペーサ層には同じ膜厚を使用することが多かった。一部のスペーサ層の膜厚を０．５λ増減させるとバンド幅を少し変化させることはできるが、多くの場合透過帯域の特性は大きく劣化してしまうため、良好な透過帯域の特性を有するフィルタのバンド幅の調整は難しく、透過帯域の特性の劣化が少ないスペーサ層の組み合わせを試行錯誤で調べていた。

膜の屈折率を自由に制御することが可能ならバンド幅の調整は可能ではあるが、一方で安定した品質のフィルタを継続的に提供するためには、フィルタ製造時の成膜条件は一定に保つ必要があるため、膜の屈折率を自由に制御することは難しい。

本発明は、以上のような問題点を解決するためになされたものであり、光学基板の直上の層が高屈折率層の場合において、３〜Ｎ−２段目のキャビティの隣接するスペーサ層の膜厚を異なる組み合わせとしても透過帯域の特性の劣化が少ないフィルタ構造を提供することにより、光学バンドパスフィルタのバンド幅の設計の自由度を高めることにある。

本発明は、光学基板上にキャビティをＮ段備え、前記キャビティは高屈折率と低屈折率の屈折率の異なる光学薄膜をスペーサ層の両側に交互に配置してなり、透過帯域の中心波長をλとしたときに、前記スペーサ層の厚みがλ／２の整数倍であり、前記各キャビティ間に低屈折率膜からなる結合層を有する光学バンドパスフィルタにおいて、前記光学基板の屈折率は低屈折率層よりも高く、かつ、高屈折率層より低く、前記光学基板の直上の層は高屈折率層であり、前記光学基板から数えて３〜Ｎ−２段目のスペーサ層の厚さは２種類からなり、前記３〜Ｎ−２段目のスペーサ層において奇数段目に位置するスペーサ層の膜厚が偶数段目に位置するスペーサ層の膜厚よりも０．５λ以上厚いことを特徴とするものである。

好適な実施の形態において、上記Ｎは７以上の奇数であり、特に、光学基板から数えて２段目のスペーサ層の膜厚とＮ−１段目のスペーサ層の膜厚が等しいことが望まれる。

また、Ｎは６以上の偶数であり、特に、光学基板から数えてＮ−１段目のスペーサ層の膜厚を２段目のスペーサ層の膜厚よりも０．５λ以上厚くしてもよい。

さらに、上述の光学バンドパスフィルタにおいて、前記結合層の厚さをＣとし、ＰおよびＱを０以上の整数としたとき、少なくとも２層の前記結合層の厚さが０．１λ＋０．５・Ｐ≦Ｃ≦０．２４λ＋０．５・Ｐ、または、０．２６λ＋０．５・Ｑ≦Ｃ≦０．４λ＋０．５・Ｑであることが好ましい。

本発明によれば、光学バンドパスフィルタにおいて、透過帯域が平坦でリップルが抑制された良好な特性を実現するフィルタ構造を提供することができる。

以下、本発明を具体的に説明する。本発明では、特に光学基板の直上の層が高屈折率層である。
（実施の形態１）
図１は本発明の光学バンドパスフィルタの一例を示すものであり、Ｎ段のキャビティ構成による光学バンドパスフィルタの基本構造を示す図である。キャビティ８は光学膜厚がλ／２の整数倍の低屈折率膜からなるスペーサ層２と、スペーサ層２の両側に光学膜厚がλ／４の奇数倍の高層折率膜４と低屈折率膜５を交互に配置したミラー層６を対称に組み合わせた構造で構成されている。なお、図１は本発明を分かりやすくするために表した模式図であり、そのサイズ等は実際とは異なったものとしている。

この光学バンドパスフィルタは、光学基板１上にＮ個のキャビティ８を低屈折率膜からなるＮ−１個の結合層３を用いて連結して構成されている。

図１に示すようにキャビティ８は、光学基板１の直上を１段目キャビティ、その上を２段目キャビティ、最終段をＮ段目キャビティが積層されて構成されている。また、各キャビティ８を連結するのが結合層３である。なお、Ｎ段目キャビティ８の直上には、１ないし複数層からなる入射媒質への整合層７を含んでいても良い。

キャビティ８は、少なくとも２種類以上の異なる構造を有する。ここで、異なる構造には、例えば、スペーサ層２の厚さが異なる場合、ミラー層６を構成する各層の数が異なる場合、キャビティ８を構成する各層の材料が異なる場合があるが、好ましくはスペーサ層２の厚さまたはその材料が異なる場合に関する。スペーサ層２は、λ／２の整数倍の単位で厚さを異ならせることができ、その膜厚の精度は±２％以下が好ましい。また、キャビティ８は、全てのキャビティ８が互いに異なる構造を有してもよく、また一部のキャビティ８が他のキャビティ８と異なる構造を有するようにしてもよい。

本発明のミラー層６は、上記のように低屈折率膜からなるスペーサ層２の両側に高屈折率膜４を隣接させ、各キャビティ８の最上層及び最下層も高屈折率膜４としている。従って、最下層のキャビティ８の基板に接する層は高屈折率膜となっていて、各ミラー層６の片側において積層数は２ｍ＋１層（ｍは１以上の整数）となっている。そして結合層３には低屈折率膜を配置した形態としていて、結合層３に隣接する層には高屈折率膜４が配置されている。また、結合層３を低屈折率膜とするため、ミラー層６の積層数を２ｍ層とし、スペーサ層２に高屈折率膜とする形態も可能である。

本発明のフィルタは上記の構造を基本とするが、これは従来のように高屈折率膜をスペーサ層２に用いて、２ｍ＋１層の積層形態をとると結合層３も高屈折率膜となるが、この場合にはキャビティ８の対称性が崩れるため挿入損失が発生し、狭帯域で利用される光学バンドパスフィルタには適さないことが分かっている。

なお、本発明においてミラー層６を構成する各屈折率膜の光学膜厚はλ／４の奇数倍を基本とするが、他の特性との関係でこれらを変更することも可能である。特に整合層７と接するキャビティ８最上部の複数層について膜厚をλ／４からずらすことにより調整を図ることも可能である。

上述の構造を基本とする光学バンドパスフィルタにおいて、６キャビティ以上を積層した構成においては、３〜Ｎ−２段目のキャビティのスペーサ層を同じ厚さにすると良好な透過帯域の特性が得られると考えられている。これは、３〜Ｎ−２段目のキャビティのアドミッタンスをできるだけ一定に保っておくと、良好な透過帯域の特性が得られやすいのではないかとの推定に基づくものである。

一方、上記光学バンドパスフィルタの第３および第４キャビティのスペーサ層のアドミッタンス図を描くと図３に示すように第４キャビティのスペーサ層２の直径が奇数段目よりも大きくなっている。

このように、光学基板１の直上に成膜する膜がλ／４の高屈折率膜であり、光学基板１の屈折率が低屈折率膜５よりも高く高屈折率膜４より低い場合には、同じ層数のミラー層６を積層しても、偶数段目キャビティのスペーサ層２の方が奇数段目と比較してアドミッタンス図の軌跡の直径は大きくなっていることがわかる。そこで本発明者らは、アドミッタンス図の直径が大きい方が単独のバンドパスフィルタとして使用した場合バンド幅を狭くすることができるので偶数段目のスペーサ層２を奇数段目よりも０．５λ薄い構成としても両者の実効的なアドミッタンスの差を小さく抑えることができるため、３〜Ｎ−２段目のキャビティのアドミッタンスの変化を小さく保つことが可能となり、透過帯域の特性の劣化を抑えることができるのではないかと考えた。

具体的に各キャビティのスペーサ層２の厚さについて種々の検討を行った結果、光学基板１から数えて３〜Ｎ−２段目のスペーサ層２の厚さを２種類とし、偶数段目に位置するスペーサ層２の膜厚を奇数段目に位置するスペーサ層２よりも０．５λ以上薄くした。即ち、奇数段目に位置するスペーサ層２の膜厚を偶数段目に位置するスペーサ層２よりも０．５λ以上厚くした。なお、スペーサ層２の厚さは、λ／２の整数倍であるので、その差もλ／２の整数倍となり、０．５λ以上が好ましく、基板と低屈折率膜の屈折率差を考慮すると４λ以下とするのがよく、０．５λ以上２λ以下がより好ましい。

さらに、Ｎが７以上の奇数である場合には、光学基板１から数えて２段目のスペーサ層２の膜厚とＮ−１段目のスペーサ層の膜厚を等しくすると、さらに良好な通過帯域の特性が得られた。また、Ｎが６以上の偶数である場合には、光学基板１から数えてＮ−１段目のスペーサ層２の膜厚を２段目のスペーサ層２の膜厚よりも０．５λ以上厚くすることにより、良好な通過帯域の特性が得られた。

さらに、結合層３の厚さをＣとし、ＰおよびＱを０以上の整数としたとき、少なくとも２層の結合層３の厚さが０．１λ＋０．５・Ｐ≦Ｃ≦０．２４λ＋０．５・Ｐ、または、０．２６λ＋０．５・Ｑ≦Ｃ≦０．４λ＋０．５・Ｑであることが好ましいことが判明した。また、前記結合層３と隣接するキャビティの高屈折率層の厚さを同様の範囲で調整することがさらに好ましい。

なお、光学基板１と低屈折率膜５の屈折率差が大きいときは、アドミッタンス図において偶数段目と奇数段目のスペーサ層の軌跡の直径の差は大きくなるため、スペーサ層２の厚さの差は０．５λより大きくした方がよい。

本発明においては、キャビティ８の段数は少なくとも６段以上必要であり、好ましくは６段〜２０段である。より好ましくは６段〜１３段である。

本発明の高屈折率膜の材料としては、Ta_xO_y、TiO_x、ZnS、ZnSe、GaP、InP、Si、Ge、SiGe_x、SiN_x、SiC_x、ZrO_x、NbO_x、YO_x、CeO_x、HfO_x、ZrO_x、およびこれらの混合材から選ばれる少なくとも１種が、低屈折率膜の材料としてはSiO_x、MgF₂、AlO_x、SiO_xC_y、SiO_xＮ_y、MgO_x、およびこれらの混合材から選ばれる少なくとも１種がある。なお、各屈折率膜は同種のものを用いることが好ましいが、屈折率が近似した材料であれば、一部を他の材料からなる屈折率膜に置換することも可能である。この意味で、本発明のミラー層６は３種類上の屈折率膜にも適用することができる。

スペーサ層２、ミラー層６、結合層３のそれぞれの材料は異なっていても良い。光学基板１としては、ガラスが主に用いられるが、透明プラスチックも使用できる。光学基板１には対称性の点から低屈折率材料が好ましい。

本発明の誘電体多層薄膜フィルタは、真空成膜法で作製される。真空成膜法には、真空蒸着法、スパッタ法、化学気相成長法、レーザブレイション法など各種成膜法を用いることができる。真空蒸着法を用いる場合、膜質を改善するため蒸気流の一部をイオン化するとともに基板側にバイアスを印加するイオンプレーティング法、クラスタイオンビーム法、別イオン銃を用いて基板にイオンを照射するイオンアシスト蒸着法を用いると有効である。スパッタ法としては、ＤＣ反応性スパッタ法、ＲＦスパッタ法、イオンビームスパッタ法などがある。また、化学的気相法としては、プラズマ重合法、光アシスト気相法、熱分解法、有機金属化学気相法などがある。なお、各屈折率膜の膜厚は膜形成時の蒸着時間等を変えることで、所望の膜厚とすることができる。

以下実施例を挙げて本発明を説明するが、本発明はこれら実施例に何ら限定されるものではない。なお、以下の説明では設定した入射角度においてバンドパスフィルタの透過帯域の中心波長が１５５０ｎｍとなるようにした。なお、Ｈは光学膜原λ／４の高屈折率膜、Ｌは光学膜厚λ／４の低屈折率膜を示す。実施例および比較例で説明するフィルタに用いる材料の屈折率には、Ｈ＝２．１、Ｌ＝１．４４５、空気＝１、基板＝１．５を用いた。

（実施例１）
構造式１は、基板直上に高屈折率膜を配置した７段のキャビティからなるバンドパスフィルタの基本となる構造式である。

構造式１：基板／(HL)^5 2H (LH)^5 L (HL)^5 6H (LH)^5 L ((HL)^5 8H (LH)^5 L)^3 (HL)^5 6H (LH)^5 L (HL)^5 2H (LH)^5 L

入射角５度での中心波長を１５５０ｎｍにするため、入射角度０度では、中心波長は１５５１．６ｎｍとした。上記構造の光学バンドパスフィルタにおいて、バンド幅を狭くするために３〜５段目キャビティのスペーサ層を１０Ｈと８Ｈの組み合わせに変更し、リップルを低減するために整合層を調整した結果、構造式２を得た。

構造式２：基板／(HL)^5 2H (LH)^5 L (HL)^5 6H (LH)^5 L (HL)^5 10H (LH)^5 L (HL)^5 8H (LH)^5 L (HL)^5 10H (LH)^5 L (HL)^5 6H (LH)^5 L (HL)^5 2H (LH)^5 0.422H 1.288L

表１に示すように、構造式２の各スペーサ層の厚みは基板側から順に２Ｈ、６Ｈ、１０Ｈ、８Ｈ、１０Ｈ、６Ｈ、２Ｈである。そのときの透過帯域でのＰ偏光の分光特性を図４の太線で示す。

（比較例１）
実施例１において、４・５段目キャビティのスペーサ層をそれぞれ１０Ｈ・８Ｈに変更し、各キャビティのスペーサ層の膜厚を表１に示す値とした。この光学バンドパスフィルタの透過帯域でのＰ偏光の分光特性を図４の細線で示す。

図４において本発明の実施例１と比較例１の透過帯域の分光特性を比較すると、比較例１と比較して３〜５段目キャビティのスペーサ層の膜厚に奇数段目を１０Ｈ、偶数段目を８Ｈとし、２・６段目のスペーサ層を同じ膜厚にした実施例１の方が、明らかに良好な透過帯域特性が得られていることが分かる。

（実施例２）
構造式３は、基板直上に高屈折率膜を配置した８段のキャビティからなるバンドパスフィルタの基本となる構造式である。

構造式３：基板／(HL)^3 H 2L H(LH)^3 L (HL)^3 H 6L H (LH)^3 L ((HL)^3 H 8L H (LH)^3 L)^4 (HL)^3 H 6L H (LH)^3 L (HL)^2 H 8L H (LH)^2 L

入射角２度での中心波長を１５５０ｎｍにするため、入射角度０度では、中心波長は１５５１．３７ｎｍとした。上記構造の光学バンドパスフィルタにおいて、バンド幅を狭くするために３〜６段目キャビティのスペーサ層を１０Ｌと８Ｌの組み合わせに、７段目のスペーサ層を８Ｌに変更し、整合層を調整した結果、構造式４を得た。

構造式４：基板／(HL)^3 H 2L H (LH)^3 L (HL)^3 H 6L H (LH)^3 L ((HL)^3 H 10L H (LH)^3 L (HL)^3 H 8L H (LH)^3 L)^2 (HL)^3 H 8L H (LH)^3 L (HL)^2 H 8L H (LH)^2 0.245H 1.485L

表２に示すように、構造式４の各スペーサ層の厚みは基板側から順に２Ｌ、６Ｌ、１０Ｌ、８Ｌ、１０Ｌ、８Ｌ、８Ｌ、８Ｌである。そのときの透過帯域でのＰ偏光の分光特性を図５の太線で示す。

（比較例２−１）
実施例２において、４・５段目キャビティのスペーサ層をそれぞれ１０Ｌ・８Ｌに変更し、各キャビティのスペーサ層の膜厚を表２に示す値とした。この光学バンドパスフィルタの透過帯域でのＰ偏光の分光特性を図５の細線で示す。

（比較例２−２）
実施例２において、３〜６段目キャビティのスペーサ層をそれぞれ８Ｌ・１０Ｌ・８Ｌ・１０Ｌに変更し、各キャビティのスペーサ層の膜厚を表２に示す値とした。この光学バンドパスフィルタの透過帯域でのＰ偏光の分光特性を図５の点線で示す。

図５において本発明の実施例２と比較例２の透過帯域の分光特性を比較すると、比較例２−１、２−２と比較して３〜６段目キャビティのスペーサ層の膜厚に奇数段目を１０Ｌ、偶数段目を８Ｌとし、２段目のスペーサ層が５段目より２Ｌ（０．５λ）薄くした実施例２の方が、明らかに良好な透過帯域特性が得られていることが分かる。

（実施例３）
実施例１において、入射角５度、中心波長１５５１．７５ｎｍとし、全ての結合層と７段目キャビティの最上層、空気への整合層の８層を膜厚変更可能な調整層として選択し、選択した各層の初期膜厚を基板側から順に、３λ／４、λ／４、λ／４、λ／４、λ／４、λ／４、λ／４、λ／４に設定し、前記以外のミラー層を構成する各膜の膜厚をλ／４に設定した。選択した各結合層の厚みの調整方法として、目標特性を１５４８〜１５５２ｎｍの波長範囲において透過率１００％とし、Essential Macleod等の改良法による自動設計機能を有する市販の光学薄膜設計プログラムで膜厚を調整した。その結果、表３に示す各膜厚を得た。表３に示すように、各結合層の膜厚は基板側から順に３．０４６Ｌ（０．７６２λ）、０．９３８Ｌ（０．２３４λ）、０．９８０Ｌ（０．２４５λ）、０．９７１Ｌ（０．２４３λ）、０．９５０Ｌ（０．２３７λ）及び１．０４０Ｌ（０．２６０λ）である。なお、この時の高屈折率膜である７段目キャビティの最上部の膜厚は１．３７７Ｈであり、低屈折率膜である整合層の厚みは１．２６７Ｌであった。その時のｐ偏光の分光特性を図６に示す。

図１の太線である実施例１と比較して、結合層に０．１λ＋０．５・Ｐ≦Ｃ≦０．２４λ＋０．５・Ｐ、または、０．２６λ＋０．５・Ｑ≦Ｃ≦０．４λ＋０．５・Ｑとなる層を２層以上含む実施例５の方が明らかに透過帯域のリップルが低減されており、実施例１より更に良好な透過帯域特性が得られていることが分かる。

本発明の実施の形態における光学バンドパスフィルタを示す断面図である。従来の光学バンドパスフィルタを示す断面図である。基板直上が高屈折率膜の場合の、第３および第４キャビティのスペーサ層のアドミッタンス図である。本発明の実施の形態における光学バンドパスフィルタの透過帯域での分光特性を示すグラフである。本発明の実施の形態における光学バンドパスフィルタの透過帯域での分光特性を示すグラフである。本発明の実施の形態における光学バンドパスフィルタの透過帯域での分光特性を示すグラフである。

符号の説明

１、３１光学基板
２、３２スペーサ層
３、３３結合層
４、３４高屈折率膜
５、３５低屈折率膜
６、３６ミラー層
７、３７整合層
８、３８キャビティ

Claims

光学基板上にキャビティをＮ段備え、
前記キャビティは高屈折率と低屈折率の屈折率の異なる光学薄膜をスペーサ層の両側に交互に配置してなり、
透過帯域の中心波長をλとしたときに、前記スペーサ層の厚みがλ／２の整数倍であり、
前記各キャビティ間に低屈折率膜からなる結合層を有する光学バンドパスフィルタにおいて、
前記光学基板の屈折率は低屈折率層よりも高く、かつ、高屈折率層より低く、
前記光学基板の直上の層は高屈折率層であり、
前記光学基板から数えて３〜Ｎ−２段目のスペーサ層の厚さは２種類からなり、前記３〜Ｎ−２段目のスペーサ層において奇数段目に位置するスペーサ層の膜厚が偶数段目に位置するスペーサ層の膜厚よりも０．５λ以上厚いことを特徴とする光学バンドパスフィルタ。
Ｎは７以上の奇数であることを特徴とする請求項１記載の光学バンドパスフィルタ。
前記光学基板から数えて２段目のスペーサ層の膜厚とＮ−１段目のスペーサ層の膜厚が等しいことを特徴とする請求項２記載の光学バンドパスフィルタ。
Ｎは６以上の偶数であることを特徴とする請求項１記載の光学バンドパスフィルタ。
前記光学基板から数えてＮ−１段目のスペーサ層の膜厚が２段目のスペーサ層の膜厚よりも０．５λ以上厚いことを特徴とする請求項４記載の光学バンドパスフィルタ。
請求項１乃至５いずれかに記載の光学バンドパスフィルタにおいて、
前記結合層の厚さをＣとし、ＰおよびＱを０以上の整数としたとき、少なくとも２層の前記結合層の厚さが０．１λ＋０．５・Ｐ≦Ｃ≦０．２４λ＋０．５・Ｐ、または、０．２６λ＋０．５・Ｑ≦Ｃ≦０．４λ＋０．５・Ｑであることを特徴とする光学バンドパスフィルタ。