JP2005183143A - Electrical contact structure body and its manufacturing method - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、被接触体に対して電気的に接触される電気的接触部を有する電気的接触構造体、具体的にはICソケットやコネクタなどの一部品として用いられる電気的接触構造体に係り、特に従来に比べて小型化や部品点数の低減を実現できるとともに、プリント配線基板などの被接続部との間で簡単な構造にて容易に且つ確実に導通接続させることが可能な電気的接触構造体及びその製造方法に関する。 The present invention relates to an electrical contact structure having an electrical contact portion that is electrically contacted with a contacted body, and more particularly to an electrical contact structure used as a component such as an IC socket or a connector. In particular, it is possible to reduce the number of parts and reduce the number of parts compared to the conventional case, and it is possible to easily and reliably conduct electrical connection with a connected part such as a printed wiring board with a simple structure. The present invention relates to a structure and a manufacturing method thereof.
電気的接触構造体が内臓されている装置の一例として、以下の半導体検査装置を挙げる。特許文献1に記載されている半導体検査装置は、半導体を外部の回路基板などに電気的に仮接続させるものである。半導体の背面側には格子状またはマトリックス状に配置された多数の球状接触子が設けられており、これに対向する絶縁基板上には多数の凹部が設けられ、この凹部内にスパイラル接触子が対向配置されている。 As an example of a device in which an electrical contact structure is incorporated, the following semiconductor inspection device is given. The semiconductor inspection apparatus described in Patent Document 1 electrically temporarily connects a semiconductor to an external circuit board or the like. A large number of spherical contacts arranged in a lattice shape or a matrix shape are provided on the back side of the semiconductor, and a large number of concave portions are provided on an insulating substrate opposite to the spherical contacts, and spiral contacts are provided in the concave portions. Opposed.
前記半導体の背面側を前記絶縁基板に向けて押圧すると、前記球状接触子の外表面に前記スパイラル接触子が螺旋状に巻き付くように接触するため、個々の球状接触子と個々のスパイラル接触子との間の電気的接続が確実に行われるようになっている。
前記絶縁基板及びスパイラル接触子を有して成る電気的接触構造体は、例えば図17に示す形状である。 The electrical contact structure including the insulating substrate and the spiral contact has a shape shown in FIG. 17, for example.
前記電気的接触構造体1は、複数のスパイラル接触子2が、絶縁基板(以下、基台という)3に取付けられた構造である。前記基台3にはその表面から裏面に貫通する複数の凹部(スルーホール)3aが設けられ、前記凹部3aの上面に、前記スパイラル接触子2が設けられている。
The electrical contact structure 1 has a structure in which a plurality of
図18は、図17に示すスパイラル接触子2のうち、一つのスパイラル接触子2を基台3の裏面側から見た部分拡大裏面である。
FIG. 18 is a partially enlarged back surface of the
図18に示すように、前記凹部3aの周囲には前記スパイラル接触子2と導通接続する導通部10が露出している。前記導通部10の裏面は前記基台3の裏面と同一平面を成している。
As shown in FIG. 18, a
前記電気的接触構造体1は、例えば図19に示す各工程を経て形成される。
図19A工程では、Cu基板4上に、露光現像によりスパイラル接触子2のパターン5aが形成されたレジスト層5を形成し、前記レジスト層5のパターン5a内にスパイラル接触子2を形成する。
The electrical contact structure 1 is formed through the steps shown in FIG. 19, for example.
In the step of FIG. 19A, a
図19Bに示す工程では、前記レジスト層5を除去した後、樹脂等から成るガイドフレーム6を、前記ガイドフレーム6に設けられた穴部6aがちょうど各スパイラル接触子2と対面するように位置決めした後、前記ガイドフレーム6を各スパイラル接触子2の基部2a間に貼り付ける(図17も参照されたい)。
In the step shown in FIG. 19B, after removing the
次に図19Cの工程では、前記Cu基板4を例えばエッチングなどの方法を用いて除去する。各スパイラル接触子2は前記ガイドフレーム6によって繋げられている。
Next, in the step of FIG. 19C, the Cu substrate 4 is removed by using a method such as etching. Each
次に図19Dの工程では、ちょうどスパイラル接触子2と対面する位置に貫通孔3aが形成された基台3に、前記スパイラル接触子2を導電接着剤8等を用いて接着固定する。
Next, in the process of FIG. 19D, the
前記基台3の貫通孔3aの内面7bには導電部10がスパッタ法等で形成されている。
そして図19E工程で、前記突出調整部材9を用いてスパイラル接触子2を立体フォーミングする。
A
Then, in step 19E, the
図19F工程では、前記基台3の裏面側に導電接着剤14を介して接続端子11を設ける。
In the step of FIG. 19F, the
さらに前記基台3の下方に複数の配線パターンやその他の回路部品を有するプリント基板12が設け、前記基台3を前記プリント基板12上に固定する。
Furthermore, a
前記プリント基板12の表面には前記基台3の底面に設けられた接続端子11に対向する対向電極13が設けられており、前記各接続端子11と各対向電極13とを、導電性接着剤等を介して導通接続させる。
A
ところで図19Aないし図19Fの工程を経て得られた電気的接触構造体1には次のような問題点があった。 Incidentally, the electrical contact structure 1 obtained through the steps of FIGS. 19A to 19F has the following problems.
まず第一に、前記電気的構造体1は、主にスパイラル接触子2、基台3、ガイドフレーム6、導通部10、及び接続端子11とを有して構成されるが、このように前記電気的構造体1を形成するのに部品点数が多く生産コストの増大を招いていた。特に基台3は、貫通孔3aの内面に導通部10がスパッタ法で形成された複雑な構造体であり、前記基台3のコストは高く、電気的構造体1の生産コストを増大させる大きな一因となっていた。
First of all, the electrical structure 1 mainly includes a
第ニに、前記スパイラル接触子2や接続端子11を前記導通部10との間で導電性接着剤8,14を介して接着固定し、また前記接続端子11とプリント基板12の対向電極13間も導電性接着剤を介して接着固定していた。
Secondly, the
しかし導電性接着剤を用いた接着固定方法では、その際に部材間を熱圧着させる必要があり、その熱圧着が部材間全体に均一でないと、両部材間の導通性が悪くなり、信頼性を低下させる結果となり、このため熱圧着を高精度に行う必要性からきめ細かい製造を余儀なくされた。 However, in the bonding and fixing method using a conductive adhesive, it is necessary to thermocompression between the members at that time. If the thermocompression bonding is not uniform between the entire members, the continuity between the two members is deteriorated and reliability is increased. As a result, it was necessary to perform fine manufacturing because of the need to perform thermocompression bonding with high accuracy.
第三に、従来の電気的接触構造体1では、小型化に不向きな構成であった。例えばスパイラル接触子1自体がより小型化されると、それに合わせて前記基台3に設けられる貫通孔3aも小さくしていかなければならないが、前記貫通孔3aをあまり小さくし過ぎると、前記貫通孔3a内に適切な膜厚で導通部10を形成できず、電気的特性の劣る電気的接触構造体1となってしまう。このため前記貫通孔3aをさほど小さくはできず、その結果、スパイラル接触子1自体を小さく形成できても前記基台3を小さく形成できず、また基台3の膜厚に関しても、あまり薄くしすぎると、基台3自体の強度が低下し、導電性接着剤を用いて熱圧着により前記基台3にスパイラル接触子2及び接続端子11を導通性良く接続できなくなってしまう。よって電気的接触構造体1の小型化をより促進させることができなかった。
Third, the conventional electrical contact structure 1 is unsuitable for downsizing. For example, if the spiral contact 1 itself is further reduced in size, the through
そこで本発明は上記従来の課題を解決するためのものであり、特に従来に比べて小型化や部品点数の低減を実現できるとともに、プリント配線基板などの被接続部との間で簡単な構造にて容易に且つ確実に導通接続させることが可能な電気的接触構造体及びその製造方法を提供することを目的としている。 Therefore, the present invention is for solving the above-described conventional problems, and in particular, it can realize a reduction in size and a reduction in the number of parts as compared with the conventional one, and a simple structure with a connected portion such as a printed wiring board. It is an object of the present invention to provide an electrical contact structure that can be easily and surely conductively connected and a method for manufacturing the same.
本発明は、被接触体に対して電気的に接触される電気的接触部と、前記電気的接触部を保持する保持体とを有して成る電気的接触構造体において、
前記電気的接触部は前記保持体の表面側にて保持され、前記保持体には、裏面にまで至る凹部が設けられ、前記凹部内には導通部が設けられ、
前記導通部は、前記電気的接触部と直接、導通接続されるとともに、前記保持体の裏面側で、被接続部と導通接続されることを特徴とするものである。
The present invention provides an electrical contact structure including an electrical contact portion that is electrically contacted with a contacted body, and a holding body that holds the electrical contact portion.
The electrical contact portion is held on the front surface side of the holding body, the holding body is provided with a recess reaching the back surface, and a conducting portion is provided in the recess,
The conductive portion is directly connected to the electrical contact portion and is conductively connected to the connected portion on the back side of the holding body.
本発明における電気的接触構造体は、電気的接触部と保持体と導電部とで構成されるものであり、従来に比べて部品点数を少なくでき、簡単な構造の電気的接触構造体を得ることができる。 The electrical contact structure according to the present invention is composed of an electrical contact portion, a holding body, and a conductive portion, and the number of parts can be reduced as compared with the prior art, thereby obtaining an electrical contact structure having a simple structure. be able to.
特に従来、必要であった基台が必要なくなり、それに代えて保持体が設けられる。
また前記導通部は、前記電気的接触部と直接、導通接続されており、従来のように導電性接着剤を必要とせず導電性に優れた構造を提供できる。
In particular, a base that has been necessary in the past is not necessary, and a holding body is provided instead.
In addition, the conductive portion is directly connected to the electrical contact portion and can provide a structure having excellent conductivity without requiring a conductive adhesive as in the prior art.
また本発明では、前記保持体は有機絶縁材料で形成されたものであることが好ましく、これにより前記保持体の成形・加工が容易になり、前記保持体を形成する過程で前記保持体を薄く形成することもでき、電気的接触構造体の薄型化を実現できる。 In the present invention, the holding body is preferably formed of an organic insulating material. This facilitates the molding and processing of the holding body, and the holding body is thinned in the process of forming the holding body. It can also be formed, and the electrical contact structure can be thinned.
なお本発明では、前記有機絶縁材料にはソルダーレジストが用いられることが好ましい。本発明ではこのソルダーレジストが最後まで保持体として残ることになる。本発明ではソルダーレジストで形成された保持体に対して上記の凹部形成や導通部の形成等を簡単な製造方法を用いて行うことができ、生産コストの低減を図ることが可能になる。 In the present invention, a solder resist is preferably used for the organic insulating material. In the present invention, this solder resist remains as a holder until the end. In the present invention, it is possible to perform the above-described concave portion formation and conductive portion formation on the holding body formed of the solder resist using a simple manufacturing method, and it is possible to reduce the production cost.
また本発明では、前記保持体には、表面から裏面にまで通じる貫通孔が設けられ、前記電気的接触部の端部は、前記保持体上の前記貫通孔の周辺部にて保持されるとともに、前記端部を除く前記電気的接触部の部分が前記貫通孔と膜厚方向で対向する位置にまで延出して設けられ、
前記凹部は、前記貫通孔よりも外側に離れた位置にて、前記保持体の裏面から前記端部にまで通じて形成されることが好ましい。
In the present invention, the holding body is provided with a through-hole that leads from the front surface to the back surface, and an end of the electrical contact portion is held at a peripheral portion of the through-hole on the holding body. The portion of the electrical contact portion excluding the end portion is provided to extend to a position facing the through hole in the film thickness direction,
It is preferable that the concave portion is formed from the back surface of the holding body to the end portion at a position away from the through hole.
上記により、貫通孔から前記電気的接触部に対し立体フォーミング等の所定の加工を行うことができる。また前記貫通孔の形成により被接触体との接触によって前記電気的接触部が前記貫通孔内に撓んで入り込むことができ、この結果、前記貫通孔内で前記電気的接触部は被接触体を包み込むように変形可能になり、前記電気的接触部と被接触体間の電気的接触性を良好なものに出来る。また前記凹部は、前記貫通孔から離れた位置にて設けられており、この結果、前記凹部内に形成された導通部は、前記貫通孔の形成過程に影響を受けることが無く、前記電気的接触部や被接触部との導通性を良好に保ち電気特性に優れた電気的接触構造体を得ることが出来る。 As described above, predetermined processing such as three-dimensional forming can be performed from the through hole to the electrical contact portion. In addition, due to the formation of the through hole, the electrical contact portion can be bent into the through hole by contact with the contacted body, and as a result, the electrical contact portion in the through hole can It can be deformed so as to be wrapped, and the electrical contact between the electrical contact portion and the contacted body can be improved. In addition, the recess is provided at a position away from the through hole, and as a result, the conduction portion formed in the recess is not affected by the formation process of the through hole, and the electrical It is possible to obtain an electrical contact structure excellent in electrical characteristics while maintaining good conductivity with the contact part and the contacted part.
また本発明では、前記電気的接触部はスパイラル形状で形成されたスパイラル接触部部と、前記スパイラル接触部と繋がり、前記前記スパイラル接触部の周囲を囲む基部とで構成され、前記基部が前記保持体上に保持されるとともに、前記スパイラル接触部が前記貫通孔と膜厚方向で対向する位置に設けられることが好ましい。 According to the present invention, the electrical contact portion includes a spiral contact portion formed in a spiral shape and a base connected to the spiral contact portion and surrounding the spiral contact portion, and the base is held by the holding portion. It is preferable that the spiral contact portion is provided at a position facing the through hole in the film thickness direction while being held on the body.
上記のように前記電気的接触部は一つの具体例としてスパイラル接触部を有する構造である。スパイラル接触部を有する電気的接触部は、被接触体と適切に電気的接触できる。 As described above, the electrical contact portion has a spiral contact portion as one specific example. The electrical contact portion having the spiral contact portion can appropriately make electrical contact with the contacted object.
また上記の構成の場合、前記凹部は、前記貫通孔より外側に離れた位置にて、前記貫通孔の周囲を囲むように、前記保持体の裏面から前記基部にまで通じて形成され、前記凹部内に形成される導通部が前記保持体の裏面にて前記貫通孔の周辺部を囲む形状にて露出することが好ましい。 Further, in the case of the above configuration, the recess is formed from the back surface of the holder to the base so as to surround the periphery of the through hole at a position away from the through hole. It is preferable that the conductive portion formed inside is exposed in a shape surrounding the peripheral portion of the through hole on the back surface of the holding body.
本発明では、前記導通部はメッキ形成されたものであることが好ましい。
また本発明では、前記導通部は前記保持体の裏面から前記被接触体部側に突出した突出部を有し、前記突出部は、前記凹部内に形成された導通部の幅寸法よりも広い幅寸法を有して形成されることが好ましい。これにより前記被接続部と前記導通部間の導通接続面積を大きくでき両者間を良好に導通接続させることができる。
In this invention, it is preferable that the said conduction | electrical_connection part is plated.
In the present invention, the conducting portion has a protruding portion protruding from the back surface of the holding body toward the contacted body portion, and the protruding portion is wider than the width dimension of the conducting portion formed in the recessed portion. It is preferably formed with a width dimension. Thereby, the conduction connection area between the to-be-connected part and the conduction part can be increased, and a good conduction connection between them can be achieved.
また本発明では、前記突出部の表面は凸型の湾曲面状であってもよく、前記導通部は前記被接続部と半田にて接続固定されることが好ましい。本発明では、前記導通部のうち、前記保持体の裏面から突出する突出部をバンプ部として、前記被接続部との間で半田にて接続固定することが可能になり、従来のように導電性接着剤等により熱圧着する場合に比べて両者間の導通性を良好なものに出来る。 In the present invention, the surface of the protruding portion may be a convex curved surface, and the conductive portion is preferably connected and fixed to the connected portion by solder. In the present invention, it becomes possible to connect and fix with solder to the connected portion by using the protruding portion protruding from the back surface of the holding body as a bump portion among the conductive portions. As compared with the case of thermocompression bonding with a conductive adhesive or the like, the electrical conductivity between the two can be improved.
また本発明では、前記被接続部はプリント基板上に形成されている形態に適用できる。
また本発明は、被接触体に対して電気的に接触される電気的接触部と、前記電気的接触部を保持する保持体とを有して成る電気的接触構造体の製造方法において、
(a) 基板上に電気的接触部をメッキ形成する工程と、
(b) 前記電気的接触部上及び前記基板上を保持体となる有機絶縁材料層によって覆う工程と、
(c) 前記有機絶縁材料層に前記有機材料層の表面側から、前記電気的接触部の所定の部位上にまで通じる凹部を形成する工程と、
(d) 前記凹部内に導通部をメッキ形成し、前記導通部を前記電気的接触部上に直接、導通接続させる工程と、
(e) 前記基板を除去する工程と、
を有することを特徴とするものである。
Moreover, in this invention, the said to-be-connected part is applicable to the form currently formed on the printed circuit board.
The present invention also relates to a method for manufacturing an electrical contact structure comprising an electrical contact portion that is electrically contacted with a contacted body, and a holding body that holds the electrical contact portion.
(A) plating an electrical contact portion on the substrate;
(B) a step of covering the electrical contact portion and the substrate with an organic insulating material layer serving as a holder;
(C) forming a recess in the organic insulating material layer from the surface side of the organic material layer to a predetermined portion of the electrical contact portion;
(D) plating a conductive part in the recess and electrically connecting the conductive part directly on the electrical contact part;
(E) removing the substrate;
It is characterized by having.
本発明では、上記の工程により、電気的接触部、保持体、及び導通部を有して成る電気的接触構造体を製造できる。従来に比べて製造工程数を減らすことが出来、また従来、電気的接触構造体の製造に必要であった基台が必要なく、それに代わるものとして有機絶縁材料層から成る保持体を設ける。前記(c)工程及び(d)工程に示すように、前記保持体に凹部の形成、導通部の形成を簡単に行うことができ、従来に比べて生産コストの低減を図ることができる。 In the present invention, an electrical contact structure having an electrical contact portion, a holding body, and a conduction portion can be manufactured by the above-described steps. The number of manufacturing steps can be reduced as compared with the prior art, and a base that has been conventionally required for manufacturing an electrical contact structure is not necessary, and a holder made of an organic insulating material layer is provided instead. As shown in the steps (c) and (d), the concave portion and the conductive portion can be easily formed in the holding body, and the production cost can be reduced as compared with the conventional case.
また上記の工程では前記(b)工程で、まだ基板が存在する段階で有機絶縁材料層で形成された保持体を前記基板及び電気的接触部上に形成するので、従来のように基台単体と、基板から取り外した電気的接触部とを熱圧着等して取り付けることはなく、前記保持体を要望に合わせて容易に薄型化しやく、電気的接触構造体の小型化を実現できる。 Further, in the above process, since the holding body formed of the organic insulating material layer is formed on the substrate and the electrical contact portion in the step (b) when the substrate still exists, the base unit alone as in the prior art. And the electrical contact portion removed from the substrate is not attached by thermocompression bonding or the like, and the holding body can be easily reduced in thickness according to demand, and the electrical contact structure can be downsized.
さらに前記(d)工程で、直接、前記電気的接触部上に導通部を接続させることができるので、従来のように両者間を導通接着剤を用いて熱圧着しながら接続固定するといった煩雑な工程が必要なくなり、また前記電気的接触部と前記導通部間の導通性も従来に比べて良好なものにすることが出来る。 Further, in the step (d), since the conductive portion can be directly connected to the electrical contact portion, it is troublesome to fix the connection while thermocompression bonding between the two using a conductive adhesive as in the past. A process is not necessary, and electrical conductivity between the electrical contact portion and the conductive portion can be improved as compared with the prior art.
また本発明では、(d)工程と(e)工程の間に以下の工程を有することが好ましい。
(f) 前記導通部から離れた位置であって、少なくとも前記電気的接触部の一部と膜厚方向で対向する位置に、前記有機絶縁材料層の表面から裏面にかけて貫通孔を形成して、前記貫通孔内に前記電気的接触部の一部を露出させる工程。
Moreover, in this invention, it is preferable to have the following processes between (d) process and (e) process.
(F) A through hole is formed from the surface of the organic insulating material layer to the back surface at a position away from the conductive portion and facing at least a part of the electrical contact portion in the film thickness direction; Exposing a part of the electrical contact portion in the through hole;
さらに、前記(f)工程と前記(e)工程の間に次の工程を有することが好ましい。
(g) 前記貫通孔内に露出した電気的接触部を立体フォーミングする工程。
Furthermore, it is preferable to have the following process between the said (f) process and the said (e) process.
(G) A step of three-dimensionally forming the electrical contact portion exposed in the through hole.
また本発明では、前記(a)工程で、前記電気的接触部をスパイラル形状で形成されたスパイラル接触部と、前記スパイラル接触部と一体に成形され、前記前記スパイラル接触部の周囲を囲む基部とで形成し、
前記(c)工程で、前記有機絶縁材料層に前記有機材料層の表面側から、前記電気的接触部の基部上にまで通じる凹部を形成し、
前記(f)工程で、前記貫通孔の形成により、前記貫通孔内に、前記電気的接触部を構成するスパイラル接触部の部分を露出させることが好ましい。
In the present invention, in the step (a), a spiral contact portion in which the electrical contact portion is formed in a spiral shape, and a base portion that is integrally formed with the spiral contact portion and surrounds the spiral contact portion. Formed with
In the step (c), the organic insulating material layer is formed with a recess that leads from the surface side of the organic material layer to the base of the electrical contact portion,
In the step (f), it is preferable that a portion of the spiral contact portion constituting the electrical contact portion is exposed in the through hole by forming the through hole.
また本発明では、前記(b)工程で用いる有機絶縁材料層にソルダーレジストを用いることが好ましい。 Moreover, in this invention, it is preferable to use a soldering resist for the organic insulating material layer used at the said (b) process.
このとき、前記ソルダーレジストにはポジ型のレジストを用い、前記(c)工程でマスク層を用いて露光現像により、露光された部分のソルダーレジストを除去して凹部を形成することが好ましい。さらに前記(f)工程でマスク層を用いて露光現像により、露光された部分のソルダーレジストを除去して貫通孔を形成することが好ましい。 At this time, it is preferable that a positive resist is used as the solder resist, and the exposed portion of the solder resist is removed by exposure and development using the mask layer in the step (c) to form a recess. Further, it is preferable to form a through hole by removing the exposed portion of the solder resist by exposure and development using the mask layer in the step (f).
上記のように、ポジ型のソルダーレジストを用いることにより、前記保持体に容易且つ適切に凹部及び貫通孔を形成できる。本発明では前記ソルダーレジストで形成された有機絶縁材料層を最後まで残して保持体として機能させることができる。 As described above, by using a positive solder resist, it is possible to easily and appropriately form the recess and the through hole in the holding body. In the present invention, the organic insulating material layer formed of the solder resist can be left to the end to function as a holding body.
従来では、前記電気的接触部を取り付ける基台を別個用意する必要性があったが、本発明では、一連の製造過程で、基台となる保持体をも形成することができる点に一つの特徴点がある。従来のように基台を別個設ける場合には、生産コストが増大したり、製造工程が長くなるなどの不具合があったが、本発明では、一連の過程で連続して電気的接触部、及び保持体を製造でき、簡単な方法で電気的接触構造体を製造できるし、前記電気的接触構造体の構造も簡単なものにすることが出来る。 Conventionally, there has been a need to separately prepare a base on which the electrical contact portion is attached. However, in the present invention, in a series of manufacturing processes, a holding body serving as a base can also be formed. There is a feature point. In the case where a base is provided separately as in the prior art, there are problems such as an increase in production cost and a lengthening of the manufacturing process. The holding body can be manufactured, the electrical contact structure can be manufactured by a simple method, and the structure of the electrical contact structure can be simplified.
また本発明では、前記(d)工程で、前記導通部を前記有機絶縁材料層の表面から盛り上がるようにバンプ形成することが好ましい。これによりプリント基板に設けられた被接続部と前記導通部間の接続面積を大きくでき、また前記導通部は被接続部側に突出しているので、前記導通部と被接続部とを対向させたときに、前記保持体の裏面と前記被接続部間には空間が形成されやすく、この空間をはんだ付けのための空間部にでき、前記導通部と前記被接続部間を容易に半田付けにて接続固定することが出来る。 In the present invention, it is preferable that bumps are formed in the step (d) so that the conductive portion rises from the surface of the organic insulating material layer. As a result, the connection area between the connected portion provided on the printed circuit board and the conductive portion can be increased, and the conductive portion protrudes toward the connected portion, so that the conductive portion and the connected portion are opposed to each other. Sometimes, a space is easily formed between the back surface of the holding body and the connected part, and this space can be made a space part for soldering, and the conductive part and the connected part can be easily soldered. Can be fixed.
本発明における電気的接触構造体は、電気的接触部と保持体と導電部とで構成されるものであり、従来に比べて部品点数を少なくでき、簡単な構造の電気的接触構造体を得ることができる。特に従来、必要であった基台が必要なくなり、それに代えて保持体が設けられる。 The electrical contact structure according to the present invention is composed of an electrical contact portion, a holding body, and a conductive portion, and the number of parts can be reduced as compared with the prior art, thereby obtaining an electrical contact structure having a simple structure. be able to. In particular, a base that has been necessary in the past is not necessary, and a holding body is provided instead.
また前記導通部は、前記電気的接触部と直接、導通接続されており、従来のように導電性接着剤を必要とせず導電性に優れた構造を提供できる。 In addition, the conductive portion is directly connected to the electrical contact portion and can provide a structure having excellent conductivity without requiring a conductive adhesive as in the prior art.
また本発明の製造方法によれば、従来に比べて製造工程数を減らすことが出来、また従来、電気的接触構造体の製造に必要であった基台が必要なく、それに代わるものとして有機絶縁材料層から成る保持体を設ける。本発明では、前記保持体に凹部の形成、導通部の形成を簡単に行うことができ、従来に比べて生産コストの低減を図ることができる。 Further, according to the manufacturing method of the present invention, the number of manufacturing processes can be reduced as compared with the conventional method, and the base that has been conventionally required for manufacturing the electrical contact structure is not necessary, and an organic insulating material can be used instead. A holding body made of a material layer is provided. In the present invention, the concave portion and the conductive portion can be easily formed on the holding body, and the production cost can be reduced as compared with the conventional case.
また上記の工程では、まだ基板が存在する段階で有機絶縁材料層で形成された保持体を前記基板及び電気的接触部上に形成するので、従来のように基台単体と、基板から取り外した電気的接触部とを熱圧着等して取り付けることはなく、前記保持体を要望に合わせて容易に薄型化しやく、電気的接触構造体の小型化を実現できる。 In the above process, since the holding body formed of the organic insulating material layer is formed on the substrate and the electrical contact portion when the substrate still exists, it is removed from the base unit and the substrate as in the conventional case. The electrical contact portion is not attached by thermocompression bonding or the like, and the holding body can be easily reduced in thickness according to demand, and the electrical contact structure can be downsized.
さらに直接、前記電気的接触部上に導通部を接続させることができるので、従来のように両者間を導通接着剤を用いて熱圧着しながら接続固定するといった煩雑な工程が必要なくなり、また前記電気的接触部と前記導通部間の導通性も従来に比べて良好なものにすることが出来る。 Furthermore, since the conductive portion can be directly connected on the electrical contact portion, a complicated process such as connecting and fixing while thermocompression bonding using a conductive adhesive is not required as in the prior art. The electrical conductivity between the electrical contact portion and the conducting portion can also be made better than the conventional one.
図1は電子部品の動作を確認するための試験に用いられる検査装置を示す斜視図である。 FIG. 1 is a perspective view showing an inspection apparatus used in a test for confirming the operation of an electronic component.
図1に示すように、検査装置20は凹部形状の台21と、この台21の一方の縁部に設けられたひんじ部23を介して回動自在に支持された蓋体22とを有して構成されている。前記台21および蓋体22は絶縁性の樹脂材料などで形成されており、前記基台21の中心部には図示Z2方向に凹となる装填領域21Aが形成されている。そして、前記装填領域21A内には、次に説明する電気的接触構造体24が設けられ、前記電気的接触構造体24上に半導体などの電子部品25が装着できるようになっている。また台21の他方の縁部には、被ロック部24が形成されている。
As shown in FIG. 1, the
図1に示すように、前記検査装置20の蓋体22の内面の中央の位置には、電子部品25を図示下方に押し付ける凸形状の押圧部22aが前記装填領域21Aに対向して設けられている。また前記ひんじ部23と逆側となる位置にはロック部26が形成されている。
As shown in FIG. 1, at the center position of the inner surface of the lid 22 of the
前記蓋体22の内面と押圧部22aとの間には前記押圧部22aを蓋体22の内面から遠ざかる方向に付勢するコイルスプリングなどからなる付勢部材が設けられている(図示せず)。従って、電子部品25を前記装着領域21A内に装着して蓋体22を閉じてロックすると、電子部品25を装填領域21Aの表面に接近する方向(Z2方向)に弾性的に押し付けることが可能となっている。
Between the inner surface of the lid body 22 and the
図2は電気的接触構造体24の平面図、図3は図2に示すAの領域を拡大した部分拡大平面図、図3は、A領域を前記電気的接触構造体24の裏面側から見た部分拡大裏面図、図5は、図2に示すA領域を膜厚方向から切断したときの、前記電気的接触構造体24の部分拡大断面図と、前記電気的接触構造体24の上側から当接する電子部品25、及び前記電気的接触構造体24の下側に接続固定されるプリント基板30の部分拡大断面図である。
2 is a plan view of the
図2に示す電気的接触構造体24は、保持体25と多数のスパイラル接触子(電気的接触部)26とを有して構成される。前記スパイラル接触子26は図2では、前記保持体25の表面の周辺を囲む2列の枠状形態を成すべく、規則的に配列されているが、前記スパイラル接触子26の配列のされ方は、前記電子部品25の裏面側に設けられた接触子35(被接触体)の形成位置によって変る。
The
図3及び図5に示すように、前記保持体25には、表面25bから裏面25cにかけて貫通する貫通孔25aが設けられている。図3では、前記貫通孔25aは、膜面方向(図示X−Y平面と平行な方向)への断面が略円形状である。前記貫通孔25aの形状は他の形態であってもよいが、前記貫通孔25a上に設けられる接触子26がスパイラル形状であるので、適切に前記貫通孔25a上に前記スパイラル接触子26を対向させ、前記スパイラル接触子26を電気部品25の接触子35との電気的接触時に、スムーズに前記貫通孔25a内に入り込ませるには、前記貫通孔25aの膜面方向と平行な断面は略円形状であることが好ましい。図3ではこの貫通孔25a上に位置するスパイラル接触子26を斜線で図示している。
As shown in FIGS. 3 and 5, the holding
図3及び図5に示すように、前記スパイラル接触子26は、前記貫通孔25a上に露出し、スパイラル状に形成され前記電子部品25の接触子と電気的に接触する接触部26aと、前記接触部26aと一体となって形成されるとともに、前記接触部26aの周囲を囲む基部26bとで構成されている。図5に示すように前記接触部26aは上方に向けて螺旋状に突出するように立体成形されている。これにより前記電子部品25の裏面に設けられた接触子35との間で良好な電気的接続を得ることが出来る。
As shown in FIGS. 3 and 5, the
図5に示すように、前記基部26bは、前記保持体25の表面25bにて保持されている。前記保持体25の表面25bは、前記貫通孔25aが形成された周囲に低表面25b1が形成され、前記貫通孔25aから離れる方向にて低表面25b1の外縁部から一段高くなった高表面25b2が形成されている。前記高表面25b2と低表面25b1間の切欠部内に前記基部26bが形成され、前記基部26bの表面26b1と前記高表面25b2とは同一平面となっている。
As shown in FIG. 5, the
前記基部26bと前記保持体25との間には導電性接着剤等の他部材は介在しておらず、前記基部26bと前記保持体25とは直接接合されている。後述する製造方法で説明するように、前記保持体25は、有機絶縁材料で形成され、最初、前記スパイラル接触子26上を覆うようにして塗布されたもので、前記スパイラル接触子26の基部26bと前記保持体25とは、アンカー効果等によって接続固定されている。
No other member such as a conductive adhesive is interposed between the
図5に示すように、前記基部26bの下面26b2からは、前記保持体25を裏面25cにまで至る凹部27が形成されている。前記凹部27内には、導通部28が例えばメッキなどによって形成されている。
As shown in FIG. 5, a
前記凹部27は、前記保持体25に形成された貫通孔25aよりも外側に離れた位置にて、前記貫通孔25aの周囲を囲むように形成され、図4に示すように、前記凹部27内に形成される導通部28は、前記保持体25の裏面25cにて前記貫通孔25aの周辺部を囲む略円形の縁取り形状にて露出する。
The
前記導通部28は前記保持体25内に形成され、前記保持体25の裏面25cから露出する以外、保持体25の他の部位から露出していない。すなわち前記貫通孔25a内にも前記導電部28は露出していない。前記導通部28は、前記貫通孔25a内に露出するように形成することも可能であるが、そのように形成すると、電気的特性の低下等を招く恐れがあるので、前記貫通孔25a内に前記導電部28を露出させるのは好ましくない。
The conducting
したがって本発明では前記導電部28を前記保持体25の内部に形成すべく、前記導電部28を形成すべき凹部27を前記貫通孔25aよりも外側に離れた位置に設けている。
Therefore, in the present invention, in order to form the
図5に示すように、前記凹部27は前記スパイラル接触子26の基部26bの下面26b2から前記保持体25の裏面25cにかけてストレート形状で形成されているが、ストレート形状以外の形状であってもよい。しかしストレート形状が最も作りやすく、また前記基部26bと前記導通部28との導通性も良好にできて好ましい。
As shown in FIG. 5, the
図5に示すように、前記導通部28は前記保持体25の裏面25cから突出した突出部28aを有し、前記突出部28aは、前記凹部27内に形成された前記導通部28の幅寸法よりも広い幅寸法を有して形成されている。
As shown in FIG. 5, the
前記突出部28aは導通部28のメッキ形成時にバンプ形成によって形成されたものであり、前記突出部28aの表面28a1は凸型の湾曲面状で形成されている。このようにバンプ形成による前記突出部28aの形成により、前記電気的接触構造体24の下側に設けられるプリント配線基板30上に位置する対向電極31(被接続部)との間の導通接触面積を大きくできること、さらには前記対向電極31と前記突出部28aとを付き合わせたときに、前記保持体25と前記対向電極31との間には、空間部32が形成されるので、この空間部32を前記対向電極31と前記突出部28aとの間を半田33によって接続する際の半田形成部として利用でき、適切に前記対向電極31と前記突出部28a間を半田付けでき、前記対向電極31と導通部28間の導通接続性を良好なものに保ち得る。また本発明では、前記対向電極31と前記突出部28a間を半田付けできるので、従来のように導電性接着剤を用いたときの熱圧着工程等が必要なくなり、簡単に且つ確実に前記対向電極31と前記突出部28a間を導通接続させることができる。
The protruding
各部材の材質等について説明する。前記スパイラル接触子26はメッキや銅箔等によって形成されるが、メッキ形成されることが前記スパイラル接触子26を微細加工することができて好ましい。メッキ形成によるスパイラル接触子26は積層メッキ構造であることが好ましく、一例をあげると下からAu/Ni/Auの順で積層された構成である。
The material of each member will be described. The
前記保持体25は、有機絶縁材料で形成されることが好ましい。前記保持体25を有機絶縁材料で形成することで、前記スパイラル接触子26に損傷を与えることなく前記保持体25に凹部27や貫通孔25aの形成を適切且つ容易にでき高精度に前記凹部27や貫通孔25aを形成することができる。
The holding
特に前記保持体25はソルダーレジストを用いて形成されることが好ましい。後述の製造方法で説明するように、ソルダーレジストで形成された保持体25に対し露光現像によって凹部27や貫通孔25aの形成を容易に且つ精度良く形成することが出来る。
In particular, the holding
前記導通部28はメッキ形成されることが好ましい。前記導電部28にはCu、Au、白金族系元素等の導電性に優れた金属材料を用いることが好ましい。本発明では、前記導通部28をメッキ形成することで同じく金属製のスパイラル接触子26の基部26b下に前記導通部28をメッキ成長させることができ、前記導通部28と前記基部26b間に導電性接着剤等を用いることなく、両者を適切且つ確実に導通接続させることが出来る。
前記半田33には例えばクリーム半田を用いる。
The
For example, cream solder is used for the
以上のようにして形成された電気的接触構造体24上に電子部品25を図5に示す矢印方向からセットし、図1に示す蓋体22のロック部26を台21の被ロック部24にロックすると、電子部品25が前記押圧部22aによって図示下方に押し付けられるため、前記電子部品25の裏面に設けられた接触子35が各スパイラル接触子26を前記保持体25に形成された貫通孔25aの内部方向(図示下方)に押し下げる。同時に、スパイラル接触子26の外形は押し広げられるように変形し、前記接触子35の外表面を抱き込むように巻き付き、各接触子35と各スパイラル接触子26とが良好に電気的に接続される。
The
図6は、本発明における電気的接触構造体41を有するコネクタ45の分解斜視図である。
FIG. 6 is an exploded perspective view of the
前記電気的接触構造体41は、図6に示すように多数のスパイラル接触子43と保持体44とを有して構成されており、具体的な内部構造等の構成は、図2ないし図5で説明した通りである。
As shown in FIG. 6, the
前記電気的接触構造体41は、土台40に形成された切り欠き部40a内に収納され、この切欠部40aの表面に設けられている接続端子(図示しない)との間で、前記電気的接触構造体41の導通部(図5に示す導通部28と同じ構成)は半田付けにて接続固定されている。
The
符号46はプリント配線基板46であり、前記プリント配線基板46の裏面には多数の電極部(図示しない)が設けられている。前記プリント配線基板46上には樹脂等で形成された蓋体42が設けられ、前記蓋体42は前記土台40の切欠部40a内に嵌るようになっている。前記蓋体42を前記土台40の切欠部40a内に嵌めると、前記電気的接触構造体41のスパイラル接触子43が前記プリント配線基板46の電極部と導通接続される。
図6に示すコネクタ45は携帯電話等の電子機器内に搭載して用いることが出来る。
The
本発明における電気的接触構造体24の特徴的部分について以下に説明する。
本発明では、前記電気的接触構造体24は、電気的接触部であるスパイラル接触子26、保持体25、及び導通部28を有してなり、基本的にこれらの部材のみで構成できる。したがって従来の電気的接触構造体に比べて部品点数を少なくでき、簡単な構造の電気的接触構造体24を製造することができる。
The characteristic part of the
In the present invention, the
本発明では、前記保持体25にスパイラル接触子26を直接的に取り付けることができ、また前記保持体25に設けられた凹部27に前記導通部28をメッキ等で形成でき、前記スパイラル接触子26に前記導通部28を直接的に導通接続させることができる。従来では、別購入品であった基台にスパイラル接触子26を導電性接着剤を用いて取付け、前記基台に設けられた導通部に導通接続させていたが、かかる場合には熱圧着が必要であり、取付精度によって良好な導通性を得られない場合があったが、本発明では、導電性接着剤を用いる事無く、直接的にスパイラル接触子26を保持体25に取付け、前記導通部28に導通接続させることができ、取付けが簡単で且つ良好な導通性を得ることが出来る。
In the present invention, the
また特に本発明では、前記保持体25は有機絶縁材料等で形成され、前記スパイラル接触子26に損傷を与える事無く、前記保持体25に凹部27や貫通孔25aの形成を簡単且つ精度良く行うことができる。本発明では、前記凹部27内にメッキ等で導通部28を形成するが、前記貫通孔25aと凹部27は別々に形成され、従来の基台のように基台に設けられた貫通孔の内面に導通部をスパッタ法で形成するなどはしない。従来の基台の内部構造では、前記導通部の膜厚を所定寸法確保するなどの必要性から前記基台の貫通孔をさほど小さくできず、電気的接触構造体全体の小型化を適切に促進できない構造であったが、本発明では、導通部28の形成のための凹部27形成とは別に貫通孔25aを形成し、特に前記保持体25を有機絶縁材料など精密加工しやすい材質で形成することから、スパイラル接触子26の大きさに合わせて、前記保持体25に微細な貫通孔25aの形成を行うことができ、前記電気的接触構造体25の小型化を従来に比べて促進できる構造となっている。
In particular, in the present invention, the holding
また、本発明では、前記導通部28を前記保持体25の裏面25cから突出させたバンプ形状で形成でき、前記導通部28とプリント基板30上の対向電極33との間で、半田33による接続固定が可能になり、前記電気的接触構造体24とプリント基板30間の固定を簡単且つ確実に行うことが出来る。
In the present invention, the
図7ないし図16は本発明における電気的接触構造体24の製造方法を示す一工程図である。各工程図は製造工程中における電気的接触構造体24を膜厚方向から切断した部分断面図である。
7 to 16 are process diagrams showing a method of manufacturing the
図7に示す符号50は例えばCu基板である。前記Cu基板50上にドライフィルムレジストを貼り付けたり、あるいは液体レジストをスピンコート法などによって塗布形成したりして形成されたレジスト層51に前記スパイラル接触子26と同形状の抜きパターン51aを露光現像により形成する。
次に図8に示す工程では、前記抜きパターン51a内にスパイラル接触子26をメッキ形成し、図9に示すように前記レジスト層51をアルカリ水溶液等を用いて溶解し除去する。図9では、前記Cu基板50上にメッキ形成されたスパイラル接触子26のみが残される。
Next, in the step shown in FIG. 8, the
図10工程では、前記Cu基板50上、及びスパイラル接触子26上を有機絶縁材料によって覆い、前記Cu基板50上及びスパイラル接触子26上に有機絶縁材料層52を形成する。
10, the
前記有機絶縁材料にはソルダーレジストを用いることが好ましい。前記ソルダーレジストを用いることで、後工程の凹部54形成や貫通孔61形成を容易に且つ高精度に行うことが可能である。また前記ソルダーレジストはポジ型であることが好ましい。すなわち光照射部分が可溶化するレジストを用いる。これは前記凹部54形成と貫通孔61形成の2つの形成を露光現像処理を用いて行うが、ポジ型のソルダーレジストを用いることでこの2つの形成工程を適切に行うことが可能になる。なお前記有機絶縁材料層52は保持体25として最後まで残される層である。
It is preferable to use a solder resist as the organic insulating material. By using the solder resist, it is possible to easily and accurately form the
次に図11に示す工程では、前記有機絶縁材料層52の上方にマスク層53を配置する。前記マスク層53には抜きパターン53aが形成されている。
Next, in a step shown in FIG. 11, a
この抜きパターン53aは、ちょうど前記スパイラル接触子26の基部26bの上方に位置する。例えば前記基部26bは、前記スパイラル接触子26のうち、スパイラル形状の接触部26aの周囲を囲むように円形の縁取り形状にて形成されているため(図3を参照)、前記抜きパターン53aも前記基部26b上に沿う円形の縁取り形状の形態であることが好ましい。
The
この抜きパターン53aから光を照射し、前記抜きパターン53aと膜厚方向で対向する位置にある有機絶縁材料層52を露光現像し、前記有機絶縁材料層52に前記有機絶縁材料層52の表面52aから前記スパイラル接触子26の基部26b上にまで通じる凹部54を形成する。前記凹部54は、前記有機絶縁材料層52の表面52aから前記スパイラル接触子26の基部26b上に垂直に形成され、また真上から見ると前記凹部26bは前記基部26b上に沿った略円形の縁取り形状の形態にて現れる。
The organic insulating
前記凹部54の形成位置は、任意に決めることができるが、前記スパイラル接触子26などの電気的接触部の端部上に形成することが好ましい。前記端部以外の電気的接触部は、後工程で形成された貫通孔61内に露出し、電子部品25の接触子35との電気的接続の際に押されて前記貫通孔61内に弾性変形して入り込む部分となる。したがって前記凹部54はできる限り前記電気的接触部の端に形成することが好ましい。スパイラル接触子26の場合、スパイラル形状の接触部26aの部分が貫通孔61内に露出し弾性変形可能な部分となっているから、前記凹部54を前記基部26b上に設ける。
The formation position of the
図12に示す工程では、前記凹部54内に、導通部55をメッキ形成する。前記凹部54内には前記基部26bが露出しており、金属で形成された前記基部26bは電解メッキの際の電極として機能するから、適切に前記導通部55は前記基部26b上にメッキ成長する。
In the step shown in FIG. 12, the
本発明では図12のように、前記凹部54内のみに前記導通部55を形成するのではなく、さらに前記有機絶縁材料層52の表面52から盛り上がる突出部55aを凹部54内に形成された前記導通部55と連続的にメッキ形成する(いわゆるバンプ形成)。前記突出部55aは、前記凹部54上のみならず,前記有機絶縁材料層52の表面52a上にも延出して形成される。ただし前記有機絶縁材料層52の表面52a上に延出する部分では、下地が絶縁性の層であるためメッキ成長が鈍化し、図13に示すように前記突出部55aの表面は凸型の湾曲面として形成される。このように、前記導通部55に前記有機絶縁材料層52の表面52aから突出したバンプ形状の突出部55aを形成することで、前記突出部55aを、プリント配線基板上に設けられた対向電極との取付面として効果的に機能させることができる。
In the present invention, as shown in FIG. 12, the
図14の工程では、前記有機絶縁材料層52の上方にマスク層60を対向させる。前記マスク層60には抜きパターン60aが形成され、前記抜きパターン60aの平面形状は、例えば図3に示す保持体25に形成された貫通孔25aと同じ円形状である。ここで前記抜きパターン60aを、前記スパイラル接触子26のうちスパイラル形状の接触部26a部分と膜厚方向で対向する位置に形成する。換言すれば、前記抜きパターン60aを、前記有機絶縁材料層52に形成された凹部54よりも内側に位置させ、前記凹部54に前記抜きパターン60aが膜厚方向で対向しないようにする。前記抜きパターン60aと対向する位置にある有機絶縁材料層52は次工程で露光現像によって除去されるが、前記抜きパターン60aと膜厚方向で対向する位置に前記凹部54が存在していると次工程で形成される貫通孔内に前記凹部54内にメッキ形成された導通部55が露出してしまう。したがって、前記抜きパターン60aを、前記有機絶縁材料層52に形成された凹部54よりも内側に位置させる。
In the process of FIG. 14, the
図14工程で、前記抜きパターン60aから前記有機絶縁材料層52に向けて光照射する。すでに説明したように前記有機絶縁材料層52はポジ型のソルダーレジストで形成される。図11工程では、前記有機絶縁材料層52に凹部54を形成すべく前記マスク層53を用いて凹部54が形成されるべき位置の前記有機絶縁材料層52のみに光照射を行った。したがって図14工程の時点で残っている有機絶縁材料層52には光照射は行われていない状態である。
In the step of FIG. 14, light is irradiated from the punched
よって図14工程で、マスク層60を用いて、貫通孔61を形成すべき位置の有機絶縁材料層52に部分的に光照射による露光現像を適切に行うことが可能になる。ネガ型のレジストであると、光照射がされていない箇所が抜けることになるが、ネガ型のレジストを用いて有機絶縁材料層52を形成した場合、図14の時点で残されている有機絶縁材料層52は全て光が照射された部分となる。したがって貫通孔61を適切に形成できないという問題が発生する。よって前記有機絶縁材料層52に凹部54と貫通孔61とを別々の工程を用いて形成するときは、前記有機絶縁材料層52にポジ型のソルダーレジストを用いることが好ましいことになる。
Accordingly, in the step of FIG. 14, it becomes possible to appropriately perform exposure and development by partial light irradiation on the organic insulating
図15に示すように、マスク層60を用い前記マスク層60の抜きパターン60aと膜厚方向で対向する位置にある有機絶縁材料層52を露光現像して図15に示す貫通孔61を形成する。図15に示すように前記貫通孔61は前記有機絶縁材料層52の表面52aから裏面52cにかけて形成され、前記貫通孔61から前記スパイラル接触子26のスパイラル形状の接触部26aが露出する。
As shown in FIG. 15, using the
次に図16に示す工程では、図15の工程までで出来上がった電気的接触構造体の前記貫通孔61を利用し、前記貫通孔61の下側から突出調整部材62を突合せ、矢印方向に前記突出調整部材62を押し上げることで、前記貫通孔61に露出したスパイラル形状の接触部26aを上方に向けて螺旋状になるように立体フォーミングする。これにより図5に示すように前記接触部26aを立体成形することが出来る。
Next, in the step shown in FIG. 16, the through
なお図16工程では図15工程での電気的接触構造体をひっくり返し、保持体52の上側に前記接触部26aを、下側に導通部55の突出部55aを位置させ、この状態で前記突出調整部材62を前記貫通孔61から上方に向けて押し上げているが、図15の状態のまま前記突出調整部材62を前記貫通孔61下に位置させ前記突出調整部材62を上方に押し上げて、前記貫通孔61内に前記接触部26aが立体成形されて入り込むような構成にすることも当然可能である。
In the process of FIG. 16, the electrical contact structure in the process of FIG. 15 is turned over, the
図7ないし図16に示す各工程で成形された電気的接触構造体では、基本的にスパイラル接触子26、有機絶縁材料層52で構成された保持体、及び導通部55のみで構成できる。このように、一連の工程を用いて非常に簡単な構造の電気的接触構造体を成形できる。
The electrical contact structure formed in each step shown in FIGS. 7 to 16 can be basically composed of only the
特に従来では基台を別購入するなどしていたため、多数のスパイラル接触子がそれぞればらばらにならないように各スパイラル接触子間をガイドフレームを用いて繋げる工程(図19B)や、前記スパイラル接触子を前記基台に貼り付ける工程(図19D)が必要であったが、このような工程を必要としなくなり製造工程の簡素化を図れる。特に従来のように基台が必要なく、前記基台は複雑加工されたものであり高価であったが、本発明によれば非常に簡単な方法で多数のスパイラル接触子26を保持する有機絶縁材料層52を一連の製造過程の中で形成でき、また前記有機絶縁材料層52を最終的に保持体として残すことができるので、保持体成形の製造工程も容易で生産コストの低減を従来に比べて図ることが出来る。
In particular, in the past, since the base was separately purchased, a step of connecting the spiral contacts using a guide frame (FIG. 19B) so that a large number of spiral contacts are not separated from each other, Although the process of attaching to the base (FIG. 19D) was necessary, such a process is not necessary and the manufacturing process can be simplified. In particular, there is no need for a base as in the prior art, and the base is complicatedly processed and expensive. However, according to the present invention, an organic insulation that holds a large number of
特に前記保持体に凹部54形成や貫通孔61形成などを任意の位置に容易に且つ高精度に行うことができ、また、前記有機絶縁材料層52を前記スパイラル接触子26を形成する基板50上に形成できるため、従来のように基台とスパイラル接触子26とを別々の工程で形成し、後工程で両部材を張り合わせることはなく、その結果、前記保持体54にスパイラル接触子26の形状に合わせて微細な貫通孔61の形成や膜厚を従来より任意に薄く形成できるなど、電気的接触構造体の小型化を従来に比べてよりいっそう促進させることが可能である。
In particular, the
また本発明では、前記保持体を構成する有機絶縁材料層52としてソルダーレジストなどを用い、前記ソルダーレジストの形成過程で、前記有機絶縁材料層52に直接、前記スパイラル接触子26を取り付けることができること、また前記前記有機絶縁材料層52に凹部54を形成し、その中に導通部55をメッキ形成することで前記スパイラル接触子26の基部26bと前記導通部55とを直接、導通接続させることができるなど、従来必要であった導電性接着剤による取付工程が必要なくなり、取付工程を簡単にできるとともに、導電性接着剤を用いた場合に必要であった熱圧着工程が必要なく、前記導通部55と前記スパイラル接触子26間の導通性を従来よりも良好にすることが可能である。
Further, in the present invention, a solder resist or the like is used as the organic insulating
なお本発明では、前記有機絶縁材料層52としてソルダーレジストを一例に挙げたが、ポリイミドなどの樹脂で前記有機絶縁材料層52を形成してもよい。かかる場合、レーザ加工等で前記凹部54や貫通孔61形成を行うことが好ましい。
In the present invention, a solder resist is exemplified as the organic insulating
また本発明では、図16工程に示すように有機絶縁材料層52に形成された貫通孔61を用いて前記スパイラル接触子26の接触部26aを立体成形することができ、また図16に示す導通部55の突出部55aを、前記電気的接触構造体の下側に設けられるプリント基板の対向電極上に導通接続させる際に、図5で説明したように両部材間に空間部32が形成されるからこの空間部32を利用して前記突出部55aと前記対向電極31間を半田付けすることが可能になる。特に前記突出部55aはバンプ形成されたものであり、前記対向電極31との導通接続面積が大きいので、前記突出部55aと前記対向電極31間を簡単且つ確実に半田付けすることが可能となる。
Further, in the present invention, the
なお図7ないし図16に示す各工程では、電気的接触部としてスパイラル接触子26を例示したが、前記電気的接触部がスパイラル形状以外の形態であってもよいことは言うまでもない。
In each step shown in FIGS. 7 to 16, the
24、41 電気的接触構造体
25、44 保持体
25a、61 貫通孔
26、43 スパイラル接触子
27 凹部
28、55 導通部
28a、55a 突出部
30、46 プリント基板
45 コネクタ
50 Cu基板
51 レジスト層
52 有機絶縁材料層
53、60 マスク層
62 突出調整部材
24, 41
Claims (19)
前記電気的接触部は前記保持体の表面側にて保持され、前記保持体には、裏面にまで至る凹部が設けられ、前記凹部内には導通部が設けられ、
前記導通部は、前記電気的接触部と直接、導通接続されるとともに、前記保持体の裏面側で、被接続部と導通接続されることを特徴とする電気的接触構造体。 In an electrical contact structure comprising an electrical contact portion that is in electrical contact with a contacted body, and a holding body that holds the electrical contact portion,
The electrical contact portion is held on the front surface side of the holding body, the holding body is provided with a recess reaching the back surface, and a conducting portion is provided in the recess,
The electrical connection structure is characterized in that the conductive portion is directly conductively connected to the electrical contact portion and is electrically connected to the connected portion on the back side of the holding body.
前記凹部は、前記貫通孔よりも外側に離れた位置にて、前記保持体の裏面から前記端部にまで通じて形成される請求項1ないし3のいずれかに記載の電気的接触構造体。 The holding body is provided with a through-hole that leads from the front surface to the back surface, and the end portion of the electrical contact portion is held at the peripheral portion of the through-hole on the holding body, and the end portion is Excluding the part of the electrical contact portion extending to a position facing the through hole in the film thickness direction,
The electrical contact structure according to any one of claims 1 to 3, wherein the concave portion is formed from the back surface of the holding body to the end portion at a position distant from the through hole.
(a) 基板上に電気的接触部をメッキ形成する工程と、
(b) 前記電気的接触部上及び前記基板上を保持体となる有機絶縁材料層によって覆う工程と、
(c) 前記有機絶縁材料層に前記有機材料層の表面側から、前記電気的接触部の所定の部位上にまで通じる凹部を形成する工程と、
(d) 前記凹部内に導通部をメッキ形成し、前記導通部を前記電気的接触部上に直接、導通接続させる工程と、
(e) 前記基板を除去する工程と、
を有することを特徴とする電気的接触構造体の製造方法。 In the method of manufacturing an electrical contact structure comprising an electrical contact portion that is electrically contacted with a contacted body, and a holding body that holds the electrical contact portion,
(A) plating an electrical contact portion on the substrate;
(B) a step of covering the electrical contact portion and the substrate with an organic insulating material layer serving as a holder;
(C) forming a recess in the organic insulating material layer from the surface side of the organic material layer to a predetermined portion of the electrical contact portion;
(D) plating a conductive part in the recess and electrically connecting the conductive part directly on the electrical contact part;
(E) removing the substrate;
A method for producing an electrical contact structure characterized by comprising:
(f) 前記導通部から離れた位置であって、少なくとも前記電気的接触部の一部と膜厚方向で対向する位置に、前記有機絶縁材料層の表面から裏面にかけて貫通孔を形成して、前記貫通孔内に前記電気的接触部の一部を露出させる工程。 The method for manufacturing an electrical contact structure according to claim 12, comprising the following steps between step (d) and step (e).
(F) A through hole is formed from the surface of the organic insulating material layer to the back surface at a position away from the conductive portion and facing at least a part of the electrical contact portion in the film thickness direction; Exposing a part of the electrical contact portion in the through hole;
(g) 前記貫通孔内に露出した電気的接触部を立体フォーミングする工程。 The method for manufacturing an electrical contact structure according to claim 13, comprising the following steps between the step (f) and the step (e).
(G) A step of three-dimensionally forming the electrical contact portion exposed in the through hole.
前記(c)工程で、前記有機絶縁材料層に前記有機材料層の表面側から、前記電気的接触部の基部上にまで通じる凹部を形成し、
前記(f)工程で、前記貫通孔の形成により、前記貫通孔内に、前記電気的接触部を構成するスパイラル接触部の部分を露出させる請求項13または14に記載の電気的接触構造体の製造方法。 In the step (a), the electrical contact portion is formed by a spiral contact portion formed in a spiral shape, and a base portion that is integrally formed with the spiral contact portion and surrounds the periphery of the spiral contact portion,
In the step (c), the organic insulating material layer is formed with a recess that leads from the surface side of the organic material layer to the base of the electrical contact portion,
The electrical contact structure according to claim 13 or 14, wherein, in the step (f), by forming the through hole, a portion of a spiral contact portion constituting the electrical contact portion is exposed in the through hole. Production method.
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