JP2005171149A - 洗浄剤粒子 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】(a)ベース洗浄剤粒子の表面上に(b)下地処理剤を含有する下地層が形成され、該下地層上に(c)表面被覆剤が被覆されてなり、且つ(b)下地処理剤の平均粒子径と(c)表面改質剤の平均粒子径との比〔(b)/(c)〕が1/20〜1/1000である洗浄剤粒子。a)ベース洗浄剤粒子表面を、(b)平均粒子径1〜300nmの下地処理剤を含有する下地処理剤分散液で処理する工程、次いで、(c)平均粒子径100〜10000nmの表面改質剤により表面被覆する工程を有する洗浄剤粒子の製造方法。前記製造方法により製造される洗浄剤粒子、前記洗浄剤粒子を含有する洗浄剤組成物。
【選択図】なし
Description
〔1〕(a)ベース洗浄剤粒子、(b)平均粒子径1〜300nmの下地処理剤及び(c)平均粒子径100〜10000nmの表面改質剤を含有してなり、
(a)ベース洗浄剤粒子の表面上に(b)下地処理剤を含有する下地層が形成され、該下地層上に(c)表面被覆剤が被覆されてなり、且つ
(b)下地処理剤の平均粒子径と(c)表面改質剤の平均粒子径との比〔(b)/(c)〕が1/20〜1/1000である洗浄剤粒子、
〔2〕(a)ベース洗浄剤粒子表面を、(b)平均粒子径1〜300nmの下地処理剤を含有する下地処理剤分散液で処理する工程、次いで、(c)平均粒子径100〜10000nmの表面改質剤により表面被覆する工程を有する洗浄剤粒子の製造方法〔但し、(b)下地処理剤の平均粒子径と(c)表面改質剤の平均粒子径との比〔(b)/(c)〕の1/20〜1/1000である〕。
〔3〕前記〔2〕記載の製造方法により製造される洗浄剤粒子、
〔4〕前記〔1〕又は〔3〕記載の洗浄剤粒子を含有する洗浄剤組成物
に関するものである。
(a)ベース洗浄剤粒子、(b)平均粒子径1〜300nmの下地処理剤及び(c)平均粒子径100〜10000nmの表面改質剤を含有してなり、
(a)ベース洗浄剤粒子の表面上に(b)下地処理剤を含有する下地層が形成され、該下地層上に(c)表面被覆剤が被覆されてなり、且つ
(b)下地処理剤の平均粒子径と(c)表面改質剤の平均粒子径との比〔(b)/(c)〕が1/20〜1/1000である点に一つの大きな特徴があり、かかる特徴を有することで、本発明の洗浄剤粒子は、耐ケーキング性が著しく改善され、且つ溶解性、表面改質剤の付着性にも優れたものとなる。
<(a)成分>
本発明において、(a)成分として用いられるベース洗浄剤粒子とは、通常の粉末洗浄剤に使用されている粒子をいい、例えば、界面活性剤、アルカリ剤、必要により他の洗浄剤成分からなる表面改質剤が施される前の粒子が挙げられる。ベース洗浄剤粒子は、前記成分をスラリー状態として噴霧乾燥したものを攪拌造粒や、転動造粒、捏和・混合造粒したものでも構わないが、ポリマー及び水溶性塩類から選ばれた一種以上の水溶性成分を含有してなり、特に水溶性ポリマー及び水溶性塩類のいずれをも含有してなる噴霧乾燥粒子等の実質的に界面活性剤を含まない噴霧乾燥粒子に1種以上の界面活性剤を含有した界面活性剤混合液を担持させることにより得られるベース洗浄剤粒子が溶解性も良好で、本発明の効果が顕著となることから好ましい。
本発明では、(b)成分として、平均粒子径1〜300nmの下地処理剤を含有する。ベース洗浄剤粒子表面に下地層による凸凹を形成する観点から、下地処理剤の平均粒子径の下限は5nm以上のものが好ましく、更に好ましくは8nm以上のものであり、一方、形成した下地層の細密充填性の観点からその上限は200nm以下のものが好ましく、より好ましくは100nm以下、更に好ましくは50nm以下、特に好ましくは30nm以下、最も好ましくは25nm以下のものである。
これらの下地処理剤は、単独で、又は2種以上を混合して使用することができる。
本発明の洗浄剤粒子は、(c)成分として、平均粒子径100〜10000nmの表面改質剤を含有する。該平均粒径の下限は、表面改質効果の点で500nmが好ましく、1000nmがより好ましく、2000nmが更に好ましい。一方、(a)ベース洗浄剤粒子表面への表面改質剤の付着性の点からその上限は8000nmが好ましく、6000nmがより好ましく、4000nmが更に好ましい。当該表面改質剤の平均粒径は、数平均であり光散乱を利用した方法で測定される。また、該表面改質剤が高いイオン交換能や高いアルカリ能を有していることが洗浄面から好ましい。表面改質剤としては、アルミノ珪酸塩が望ましく、結晶性、非晶質の何れでも構わない。アルミノ珪酸塩以外では、硫酸ナトリウム、珪酸カルシウム、二酸化珪素、ベントナイト、タルク、クレイ、非晶質シリカ誘導体、結晶性シリケート化合物等のシリケート化合物のような微粉体も好ましい。また、金属石鹸、粉末の界面活性剤(例えばアルキル硫酸塩等)や水溶性有機塩も同様に用いることができる。結晶性シリケート化合物を用いる場合、吸湿や吸炭酸ガスによる結晶性シリケートの凝集等による劣化を防ぐ目的から、結晶性シリケート化合物以外の微粉体と混合して用いることが好ましい。
また、本発明の洗浄剤粒子は、例えば界面活性剤やビルダー等の公知の洗浄剤基剤、漂白剤(過炭酸塩、過ホウ酸塩、漂白活性化剤等)、再汚染防止剤(カルボキシメチルセルロース等)、柔軟化剤、還元剤(亜硫酸塩等)、蛍光増白剤、抑泡剤(シリコーン等)、セルラーゼやプロテアーゼ等の酵素、香料等と混合して洗浄剤組成物として使用することもできる。
<ベース洗浄剤粒子>
ジャケット付き混合槽に水407質量部を入れ、ジャケットに40℃の温水を通した。これに炭酸ナトリウム(デンス灰(平均粒径:290μm)、セントラル硝子(株)製)132質量部、硫酸ナトリウム(無水中性芒硝(平均粒径:240μm)、四国化成(株)製)132質量部、亜硫酸ナトリウム(亜硫酸ソーダ(平均粒径:90μm)、三井東圧(株)製)5質量部、40%ポリアクリル酸ナトリウム水溶液(平均分子量10000、花王(株)製)72質量部、蛍光染料(商品名:チノパールCBS−X、チバガイギー社製)1質量部、及びゼオライト(ゼオビルダー社製、4A型、平均粒径:3.5μm)、東ソー(株)製)252質量部を逐次加え、15分間攪拌して40℃の均質な予備スラリーを得た。
界面活性剤組成物(ポリオキシエチレンアルキルエーテル/ポリエチレングリコール/ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム/水=21/4/21/4(質量比))を80℃にした。次に、レディゲミキサー(松坂技研(株)製、容量130L、ジャケット付)に噴霧乾燥粒子を100質量部投入し、主軸(回転数:60r/min、周速:1 .6m/s)の攪拌を開始した。尚、ジャケットに80℃の温水を10L/分で流した。そこに、上記界面活性剤組成物50質量部を2分間かけて投入し、その後5分間攪拌を行い、ベース洗浄剤粒子を得た。
以下に示す下地処理剤を含む各成分をダイノーミルKD−45型〔商品名、ウィリーA.・バコフェンAGマシネンファブリック・スウィッツァーランド(Willy A. Bachofen AG Maschinenfabrik Switzerland)社製〕に添加して、湿式粉砕を行い、平均粒子径280nmの下地処理剤分散液を得た。
実施例で用いた下地処理剤分散液の組成を以下に示す。
(下地処理剤分散液1)
二酸化ケイ素20質量%水溶液(日産化学工業製、商品名:スノーテックスST−20)、平均粒子径14nm、真球度0.92、粒子径の変動係数0.16
(下地処理剤分散液2)
二酸化ケイ素40質量%水溶液(日産化学工業製、商品名:スノーテックスST−40)、平均粒子径17nm、真球度0.94、粒子径の変動係数0.17
(下地処理剤分散液3)
二酸化ケイ素20質量%水溶液(日産化学工業製、商品名:スノーテックスST−20):25質量%
60質量%の純分のポリエチレングリコール(平均分子量13000)水溶液:75質量%
(下地処理剤分散液4)
二酸化ケイ素20質量%水溶液(日産化学工業製、商品名:スノーテックスST−20):18質量%
60質量%の純分のポリエチレングリコール(平均分子量13000)水溶液:68質量%
ジモルホリノ型(スチルベン型)蛍光染料(マクテシム社、商品名:BRY−10):14質量%
(下地処理剤分散液5)
二酸化ケイ素20質量%水溶液(日産化学工業製、商品名:スノーテックスST−20):18質量%
60質量%の純分のポリエチレングリコール(平均分子量13000)水溶液:63質量%
ジモルホリノ型(スチルベン型)蛍光染料(マクテシム社、商品名:BRY−10):13質量%
炭酸ナトリウム:6質量%
(下地処理剤分散液6)
二酸化ケイ素20質量%水溶液(日産化学工業製、商品名:スノーテックスST−20):58質量%
40質量%純分のアクリル酸ナトリウムホモポリマー(東亞合成株式会社製、商品名:HM−10、平均分子量6000):12質量%
水:30質量%
(下地処理剤分散液7)
二酸化ケイ素20質量%水溶液(日産化学工業製、商品名:スノーテックスST−20):48質量%
60質量%の純分のポリエチレングリコール(平均分子量13000)水溶液:33質量%
1質量%純分のCMCナトリウム(日本製紙製、商品名:F20LC、エーテル化度0.6):19質量%
(下地処理剤分散液8)
ゼオライト(ゼオビルダー社製、平均粒径3.5μm):5質量%
60質量%の純分のポリエチレングリコール(平均分子量13000)水溶液:87質量%
水:8質量%
得られたベース洗浄剤粒子をレディゲミキサー中で攪拌しながら、80℃に温度調節をした下地処理剤分散液を噴霧し、ベース洗浄剤粒子の表面処理を行った。尚、レディゲミキサーのジャケットには80℃の温水を10L/分で流した。
JIS−Z0208により測定される透湿度が20〜30g/m2 ・24時間の板紙を用い、縦×横×高さ=145mm×90mm×57mmの箱型容器を作成した。次に上記製造方法により得た洗浄剤組成物を300g充填した。その後、気温30℃、相対湿度70%の恒温恒湿室に168時間保存し、篩通過率を測定した。篩通過率は、保存した洗浄剤組成物を箱型容器内から篩の目開きが5mmのメッシュ上に静かに移し、固化部分と固化していない部分を篩分け、それぞれの部分の質量を測定し、下記式(1)によって計算した。
P:篩分け後、篩を通過した洗浄剤粒子の質量
O:篩分け後、篩上に残留した洗浄剤粒子の質量
5℃の水に洗浄剤組成物を投入し以下に示す攪拌条件にて60秒間攪拌してJISZ8801規定の標準篩(目開き37μm)に供した場合、式(3)で算出される値を溶解率として表わした。
攪拌条件:1リットルの硬水(71.2mgCaCO3 /リットル、Ca/Mgのモル比7/3)に洗浄剤組成物1gを投入し、1リットルビーカー(内径105mm)内で攪拌子(長さ35mm、直径8mm)にて攪拌した。回転数800r/minとした。
溶解率(%)={1−(T/S)}×100 (3)
S:洗浄剤組成物の投入質量(g)
T:上記攪拌条件にて得られた水溶液を上記篩に供したときに、篩上の残存する洗浄剤組成物の溶残物の乾燥質量(乾燥条件:105℃の温度下に1時間保持した後、シリカゲルを入れたデシケーター(25℃)内で30分間保持する)
表面改質剤であるゼオライトの付着性の測定は、フーリエ変換赤外分光光度計 (島津製作所、商品名:FT−IR8400) 及び光音響分析(MTECフォトアコースティック社製、商品名:PAS Model300)を用い、下記測定条件にて表面改質ゼオライト量を測定した。光音響分析は試料表面からの深さ方向の情報を得ることができ、試料表面近傍の組成を見積もることができる。即ち、ベース洗浄剤粒子の成分に由来する吸収ピークと、表面改質剤に由来する吸収ピークの比率を計算することにより表面改質剤の付着性を見積もることができる。本実施例においては、ベース洗浄剤粒子中に含まれるアクリル酸ポリマーに由来する1581.6cm-1のピーク強度(A)と表面改質ゼオライトに由来する1658.8cm-1のピーク強度(Z)を測定し、Aに対するZの比率で表面改質ゼオライトの付着性を見積もった。ここで、得られるAに対するZの比率が大きいほど、ゼオライトの付着性に優れることを示す。
積算回数 128回
移動鏡速度 2.8
分解 8cm-1
アポダイス関数 Happ
Claims (12)
- (a)ベース洗浄剤粒子、(b)平均粒子径1〜300nmの下地処理剤及び(c)平均粒子径100〜10000nmの表面改質剤を含有してなり、
(a)ベース洗浄剤粒子の表面上に(b)下地処理剤を含有する下地層が形成され、該下地層上に(c)表面被覆剤が被覆されてなり、且つ
(b)下地処理剤の平均粒子径と(c)表面改質剤の平均粒子径との比〔(b)/(c)〕が1/20〜1/1000である洗浄剤粒子。 - 下地層がバインダーを含有する請求項1記載の洗浄剤粒子。
- (a)ベース洗浄剤粒子100質量部に対する(b)下地処理剤の量が0.02〜2.5質量部である請求項1又は2記載の洗浄剤粒子。
- (b)下地処理剤と、(c)表面改質剤との質量比〔(b)/(c)〕が、1/1000〜1/10である請求項1〜3いずれか記載の洗浄剤粒子。
- (b)下地処理剤の真球度が0.8以上である請求項1〜4いずれか記載の洗浄剤粒子。
- (b)下地処理剤の粒子径の変動係数が0.25以下である請求項1〜5いずれか記載の洗浄剤粒子。
- (b)下地処理剤が二酸化ケイ素である請求項1〜6いずれか記載の洗浄剤粒子。
- 表面改質剤が、結晶性又は非晶質のアルミノケイ酸塩、ケイ酸カルシウム、二酸化ケイ素、層状粘土鉱物、タルク、クレイ、非晶質シリカ誘導体、結晶性シリケート化合物、金属石鹸からなる群より選ばれる1種以上である請求項1〜7いずれか記載の洗浄剤粒子。
- (a)ベース洗浄剤粒子が、実質的に界面活性剤を含まない噴霧乾燥粒子に1種以上の界面活性剤を含有した界面活性剤混合液を担持させてなる粒子である請求項1〜8いずれか記載の洗浄剤粒子。
- (a)ベース洗浄剤粒子表面を、(b)平均粒子径1〜300nmの下地処理剤を含有する下地処理剤分散液で処理する工程、次いで、(c)平均粒子径100〜10000nmの表面改質剤により表面被覆する工程を有する洗浄剤粒子の製造方法〔但し、(b)下地処理剤の平均粒子径と(c)表面改質剤の平均粒子径との比〔(b)/(c)〕の1/20〜1/1000である〕。
- 請求項10記載の製造方法により製造される洗浄剤粒子。
- 請求項1〜9、11いずれか記載の洗浄剤粒子を含有する洗浄剤組成物。
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WO2009142050A1 (ja) | 2008-05-23 | 2009-11-26 | 花王株式会社 | アルカリ剤含有粒子 |
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2003
- 2003-12-12 JP JP2003415148A patent/JP2005171149A/ja active Pending
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