JP2005164380A - 放射線像変換パネル - Google Patents
放射線像変換パネル Download PDFInfo
- Publication number
- JP2005164380A JP2005164380A JP2003403304A JP2003403304A JP2005164380A JP 2005164380 A JP2005164380 A JP 2005164380A JP 2003403304 A JP2003403304 A JP 2003403304A JP 2003403304 A JP2003403304 A JP 2003403304A JP 2005164380 A JP2005164380 A JP 2005164380A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- support
- phosphor layer
- radiation image
- image conversion
- conversion panel
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Conversion Of X-Rays Into Visible Images (AREA)
- Luminescent Compositions (AREA)
Abstract
【解決手段】放射線像変換パネルは、輝尽性蛍光体層12の柱状結晶側面において、輝尽性蛍光体層12の膜厚に対して保護層側から5%〜15%に当たる部位12aにおける直線性は、支持体11側から0%〜10%に当たる部位12bにおける直線性より良好である。
【選択図】図1
Description
具体的な方法としては、支持体上に輝尽性蛍光体層を設けたパネルを用い、励起エネルギーとして可視光線及び赤外線の一方又は両方を用いる放射線画像変換方法が知られている(特許文献1参照)。
本発明は、上記事情に鑑みてなされたもので、発光の均一性を増加させることにより画像粒状性に優れた放射線像変換パネルを提供することを目的としている。
前記輝尽性蛍光体層の柱状結晶側面において、前記輝尽性蛍光体層の膜厚に対して前記保護層側から前記膜厚の5%〜15%に当たる部位における直線性は、前記支持体側から前記膜厚の0%〜10%に当たる部位における直線性より良好であることを特徴とする。
前記輝尽性蛍光体層の膜厚に対して前記保護層側から前記膜厚の5%〜15%に当たる部位における柱状結晶の平均柱状径は、前記支持体側から前記膜厚の0%〜15%に当たる部位における柱状結晶の平均柱状径より大きいことを特徴とする。
前記輝尽性蛍光体層の膜厚が50μm以上1000μm以下であることを特徴とする。
ここで、輝尽性蛍光体層の膜厚を50μm以上1000μm以下としたのは、膜厚が50μm未満と薄い場合には、放射線吸収量が少なく透過量が多くなり、得られた放射線画像の画質が低下してしまうためである。一方、膜厚が1000μmより厚い場合には、輝尽発光成分の散乱が大きくなるため、画質の低下を招くこととなるためである。
前記輝尽性蛍光体層が、蒸着により形成されたCsBr柱状結晶で構成されていることを特徴とする。
本発明の放射線像変換パネルは、図1に示すように支持体11と、該支持体11上に気相堆積法により形成され輝尽性蛍光体を含有する柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層12と、該輝尽性蛍光体層12を被覆する保護層(図示しない)とを備えている。
そして、輝尽性蛍光体層12の柱状結晶側面において、輝尽性蛍光体層12の膜厚に対して保護層側から前記膜厚の5%〜15%に当たる部位12aにおける直線性は、支持体11側から前記膜厚の0%〜10%に当たる部位12bにおける直線性より良好である。
また、上記範囲における保護層側の柱状結晶12aの平均柱状径が、上記範囲における支持体11側の柱状結晶12bの平均柱状径より大きい。
このように、本発明者等は、輝尽性蛍光体層12の保護層側の柱状結晶12a及び支持体11側の柱状結晶12bの側面形状を制御することにより、発光の均一性を増加させ、その結果、画像粒状性に優れた放射線像変換パネルを得ることができることを見いだした。
一方、輝尽性蛍光体層12の膜厚に対して支持体11側から前記膜厚の0%〜10%に当たる部位とは、支持体11の上面から膜厚10%部分に当たる結晶12bのことを言う。
さらに、柱状結晶の柱状径とは、図1に示す各柱状結晶12a、12bの幅D、dのことを言う。
また、支持体には、その表面を平滑な面とするために樹脂層を有することが好ましい。
樹脂層は、ポリイミド、ポリエチレンテレフタレート、パラフィン、グラファイト等の化合物を含有することが好ましく、その膜厚は、約5μm〜50μmであることが好ましい。この樹脂層は、支持体の表面に設けても裏面に設けても両面に設けても良い。
また、支持体上に樹脂層を設ける手段としては、貼合法、塗設法等の手段が挙げられる。
貼合は加熱、加圧ローラを用いて行い、加熱条件としては約80〜150℃が好ましく、加圧条件としては4.90×10〜2.94×102N/cm、搬送速度は0.1〜2.0m/秒が好ましい。
一般式(1)
M1X・aM2X’2・bM3X”3:eA[式中、M1はLi、Na、K、Rb及びCsの各原子から選ばれる少なくとも1種のアルカリ金属原子であり、M2はBe、Mg、Ca、Sr、Ba、Zn、Cd、Cu及びNiの各原子から選ばれる少なくとも1種の二価金属原子であり、M3はSc、Y、La、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb、Lu、Al、Ga及びInの各原子から選ばれる少なくとも1種の三価金属原子であり、X、X’、X”はF、Cl、Br及びIの各原子から選ばれる少なくとも1種のハロゲン原子であり、AはEu、Tb、In、Ce、Tm、Dy、Pr、Ho、Nd、Yb、Er、Gd、Lu、Sm、Y、Tl、Na、Ag、Cu及びMgの各原子から選ばれる少なくとも1種の金属原子であり、また、a、b、eはそれぞれ0≦a<0.5、0≦b<0.5、0<e≦0.2の範囲の数値を表す。]
蛍光体原料としては、
(a)NaF、NaCl、NaBr、NaI、KF、KCl、KBr、KI、RbF、RbCl、RbBr、RbI、CsF、CsCl、CsBr及びCsIから選ばれる少なくとも1種もしくは2種以上の化合物が用いられる。
この際、乳鉢、ボールミル、ミキサーミル等を用いて充分に混合しても良い。
次に、得られた水溶液のpH値Cを0<C<7に調整するように所定の酸を加えた後、水分を蒸発気化させる。
次に、得られた原料混合物を石英ルツボあるいはアルミナルツボ等の耐熱性容器に充填して電気炉中で焼成を行う。焼成温度は500〜1000℃が好ましい。焼成時間は原料混合物の充填量、焼成温度等によって異なるが、0.5〜6時間が好ましい。
焼成雰囲気としては少量の水素ガスを含む窒素ガス雰囲気、少量の一酸化炭素を含む炭酸ガス雰囲気等の弱還元性雰囲気、窒素ガス雰囲気、アルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気あるいは少量の酸素ガスを含む弱酸化性雰囲気が好ましい。
輝尽性蛍光体の気相堆積法としては、蒸着法、スパッタリング法、CVD法、イオンプレーティング法、その他を用いることができるが、本発明では特に蒸着法が好ましい。
図2に示すように、蒸着装置1は、真空容器2と、該真空容器2内に設けられて支持体11に蒸気を蒸着させる蒸発源3と、支持体11を保持する支持体ホルダ4と、該支持体ホルダ4を蒸発源3に対して回転させることによって該蒸発源3からの蒸気を蒸着させる支持体回転機構5と、真空容器2内の排気及び大気の導入を行う真空ポンプ6等を備えている。
支持体回転機構5は、例えば、支持体ホルダ4を支持するとともに支持体ホルダ4を回転させる回転軸5aと、真空容器2外に配置されて回転軸5aの駆動源となるモータ(図示しない)等から構成されている。
また、支持体ホルダ4には、支持体11を加熱する加熱ヒータ(図示しない)を備えることが好ましい。支持体11を加熱することによって、支持体11表面の吸着物を離脱・除去し、支持体11表面と輝尽性蛍光体との間に不純物層の発生を防いだり、密着性の強化や輝尽性蛍光体層の膜質調整を行うことができる。
さらに、支持体11と蒸発源3との間に、蒸発源3から支持体11に至る空間を遮断するシャッタ(図示しない)を備えるようにしても良い。シャッタによって輝尽性蛍光体の表面に付着した目的物以外の物質が蒸着の初期段階で蒸発し、支持体11に付着するのを防ぐことができる。
次いで、真空容器2内を真空排気する。その後、支持体回転機構5により支持体ホルダ4を蒸発源3に対して回転させ、蒸着可能な真空度に真空容器2が達したら、加熱された蒸発源3から輝尽性蛍光体を蒸発させて、支持体11表面に輝尽性蛍光体を所望の厚さに成長させる。この場合において、支持体11と蒸発源3との間隔は、100mm〜1500mmに設置するのが好ましい。
その他、蒸発源の数を増加させて複数の箇所から蒸着させることによっても、これら直線性や平均柱状径を制御することができ、これらの条件を適宜組み合わせて制御することが好ましい。
また、輝尽性蛍光体の代わりにその原料もしくは原料混合物を用いても構わない。
さらに、蒸着終了後、輝尽性蛍光体層を加熱処理しても良い。また、蒸着法においては必要に応じてO2、H2等のガスを導入して蒸着する反応性蒸着を行っても良い。
下記の方法にしたがって実施例1〜実施例5、比較例1〜比較例2の放射線像変換パネルを作製した。
[実施例1]
(放射線像変換パネルの作製)
炭素繊維強化樹脂シートからなる支持体の片面に輝尽性蛍光体(CsBr:0.0002Eu)を、図2に示す蒸着装置1を使用して蒸着させ輝尽性蛍光体層を形成した。
すなわち、まず、上記蛍光体原料を蒸着材料として抵抗加熱ルツボに充填し、また回転する支持体ホルダ4に支持体11を設置し、支持体11と蒸発源3との間隔を500mmに調節した。続いて蒸着装置1内を一旦排気し、Arガスを導入して0.01Paに真空度を調整した後、10rpmの速度で支持体11を回転しながら支持体11の温度を100℃に保持した。次いで、抵抗加熱ルツボを加熱して輝尽性蛍光体を蒸着し、輝尽性蛍光体層の膜厚が500μmとなったところで蒸着を終了させた。なお、この蒸着中に蒸着速度を1μm/分に調整することにより、所望の直線性及び平均粒状径となるように調整した。
次いで、乾燥空気内で輝尽性蛍光体層を保護層袋に入れ、輝尽性蛍光体層が密封された構造の放射線像変換パネルを得た。
柱状結晶側面のうねりの幅の測定は、輝尽性蛍光体層断面を露出させ、走査型電子顕微鏡(SEM)にて柱状側面を観察し、柱状結晶側面の中心線に対して最大突出部分と、最大凹み部分について中心線に対して、平行に線を引き、線の間隔をうねり幅とした(図3参照)。その測定の結果、保護層側は0.1μm、支持体側は0.5μmであった。また、同様に平均柱状径についてそれぞれ計測したところ、保護層側は3μm、支持体側は2μmであった。
支持体と蒸発源との距離を400mmにした以外は実施例1と同様に作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルのうねりの幅(直線性)については、保護層側では0.3μm、支持体側では0.5μmであった。また、平均柱状径については、保護層側で3μm、支持体側で2μmであった。
支持体と蒸発源との距離を400mmとし、蒸着速度を初期1μm/分とし、輝尽性蛍光体層の膜厚が略半分となったところで、蒸着速度を5μm/分に変更して蒸着し、その他は実施例1と同様にして作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルのうねりの幅(直線性)については、保護層側では0.3μm、支持体側では0.5μmであった。また、平均柱状径については、保護層側で6μm、支持体側で2μmであった。
支持体と蒸発源との距離を400mmとし、蒸着速度を初期5μm/分とし、輝尽性蛍光体層の膜厚が略半分となったところで、蒸着速度を1μm/分に変更して蒸着し、その他は実施例1と同様にして作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルのうねりの幅(直線性)については、保護層側では0.3μm、支持体側では0.5μmであった。また、平均柱状径については、保護層側で2μm、支持体側で3μmであった。
蒸着速度を初期5μm/分とし、輝尽性蛍光体層の膜厚が略半分となったところで、蒸着速度を1μm/分に変更して蒸着し、その他は実施例1と同様にして作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルのうねりの幅(直線性)については、保護層側では0.1μm、支持体側では0.5μmであった。また、平均柱状径については、保護層側で2μm、支持体側では3μmであった。
支持体と蒸発源との距離を200mmとした以外は実施例1と同様にして作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルのうねりの幅(直線性)については、保護層側では1.5μm、支持体側では1μmであった。また、平均柱状径については、保護層側で3μm、支持体側では2μmであった。
支持体と蒸発源との距離を300mmとした以外は実施例1と同様にして作製した。このとき、得られた放射線像変換パネルのうねりの幅(直線性)については、保護層側では1μm、支持体側では0.5μmであった。また、平均柱状径については、保護層側で3μm、支持体側では2μmであった。
《粒状性(ノイズ)》
粒状性は、放射線像変換パネルに管電圧80kVpのX線を照射した後、パネルをHe−Neレーザー光(633nm)で走査して励起し、輝尽性蛍光体層から放射される輝尽発光を受光器(分光感度S−5の光電子増倍管)で受光して電気信号に変換し、これを画像再生装置によって画像として再生しレーザーイメージャで出力し、得られた画像を目視により観察しノイズを評価した。ノイズについて下記のように1〜5までの5段階のランク評価を行った。表1にその結果を示す。
5:ほとんどノイズが認められない
4:ノイズはあるが問題ない
3:若干のノイズが認められる
2:ノイズがやや多い
1:ノイズが多く評価に耐えない
上記ランクにおいて3以上であれば、実用上問題ないと判定した。
また、特に実施例1〜実施例3のように、保護層側における柱状結晶の平均柱状径が支持体側における柱状結晶の平均柱状径より大きい場合に、粒状性に優れることがわかる。
このように、保護層側及び支持体側の柱状結晶の側面形状を制御することにより、ノイズを実用上問題のない程度とすることができ、放射線画像の画質を格段に向上させることが可能となる。
2 真空容器
3 蒸発源
5 支持体回転機構
11 支持体
12 輝尽性蛍光体層
12a 保護層側の柱状結晶
12b 支持体側の柱状結晶
Claims (4)
- 支持体上に輝尽性蛍光体を含有する柱状結晶からなる輝尽性蛍光体層が気相堆積法により形成され、該輝尽性蛍光体層が保護層で被覆されてなる放射線像変換パネルであって、
前記輝尽性蛍光体層の柱状結晶側面において、前記輝尽性蛍光体層の膜厚に対して前記保護層側から前記膜厚の5%〜15%に当たる部位における直線性は、前記支持体側から前記膜厚の0%〜10%に当たる部位における直線性より良好であることを特徴とする放射線像変換パネル。 - 前記輝尽性蛍光体層の膜厚に対して前記保護層側から前記膜厚の5%〜15%に当たる部位における柱状結晶の平均柱状径は、前記支持体側から前記膜厚の0%〜15%に当たる部位における柱状結晶の平均柱状径より大きいことを特徴とする請求項1に記載の放射線像変換パネル。
- 前記輝尽性蛍光体層の膜厚が50μm以上1000μm以下であることを特徴とする請求項1又は2に記載の放射線像変換パネル。
- 前記輝尽性蛍光体層が、蒸着により形成されたCsBr柱状結晶で構成されていることを特徴とする請求項1〜3のいずれか一項に記載の放射線像変換パネル。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003403304A JP4345460B2 (ja) | 2003-12-02 | 2003-12-02 | 放射線像変換パネル |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003403304A JP4345460B2 (ja) | 2003-12-02 | 2003-12-02 | 放射線像変換パネル |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005164380A true JP2005164380A (ja) | 2005-06-23 |
JP4345460B2 JP4345460B2 (ja) | 2009-10-14 |
Family
ID=34726650
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003403304A Expired - Fee Related JP4345460B2 (ja) | 2003-12-02 | 2003-12-02 | 放射線像変換パネル |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP4345460B2 (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010032504A1 (ja) * | 2008-09-22 | 2010-03-25 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 放射線画像変換パネルとその製造方法 |
WO2010104119A1 (ja) | 2009-03-13 | 2010-09-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線像変換パネルおよびその製造方法 |
-
2003
- 2003-12-02 JP JP2003403304A patent/JP4345460B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010032504A1 (ja) * | 2008-09-22 | 2010-03-25 | コニカミノルタエムジー株式会社 | 放射線画像変換パネルとその製造方法 |
WO2010104119A1 (ja) | 2009-03-13 | 2010-09-16 | 浜松ホトニクス株式会社 | 放射線像変換パネルおよびその製造方法 |
CN102349114A (zh) * | 2009-03-13 | 2012-02-08 | 浜松光子学株式会社 | 放射线图像转换面板以及其制造方法 |
US8637830B2 (en) | 2009-03-13 | 2014-01-28 | Hamamatsu Photonics K.K. | Radiation image conversion panel and method for producing same |
CN102349114B (zh) * | 2009-03-13 | 2014-08-20 | 浜松光子学株式会社 | 放射线图像转换面板 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP4345460B2 (ja) | 2009-10-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2005106682A (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 | |
US7704651B2 (en) | Radiographic image conversion panel and production method thereof | |
EP1516905A2 (en) | Radiation image conversion panel and preparation method thereof | |
JP2006113007A (ja) | 放射線画像変換パネル | |
JP4345460B2 (ja) | 放射線像変換パネル | |
JP4333304B2 (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 | |
JP3952012B2 (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 | |
JP2005091146A (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 | |
JP4474877B2 (ja) | 放射線画像変換パネル及び放射線画像変換パネルの製造方法 | |
US7081333B2 (en) | Radiation image conversion panel and preparation method thereof | |
JP2006090851A (ja) | 放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法 | |
US7193235B2 (en) | Radiation image conversion panel and preparation method thereof | |
JP3997978B2 (ja) | 放射線画像変換パネル | |
JP2005098716A (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 | |
JP4752254B2 (ja) | 放射線画像変換パネル、その製造方法及び製造装置 | |
JP2005091148A (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 | |
JP4830280B2 (ja) | 放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法 | |
JP2008298577A (ja) | 放射線像変換パネル及びその製造方法 | |
JP4821721B2 (ja) | 放射線画像変換パネルの製造方法 | |
JP5136662B2 (ja) | 放射線画像変換パネルの製造装置及び放射線画像変換パネルの製造方法 | |
JP2009014526A (ja) | 放射線画像変換パネル及びその製造方法 | |
JP2006010617A (ja) | 放射線変換パネルの製造方法とその製造装置 | |
US7253421B2 (en) | Radiation image conversion panel and manufacturing method thereof | |
JP2005106770A (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 | |
JP2005106771A (ja) | 放射線像変換パネル及び放射線像変換パネルの製造方法 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20061129 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20080624 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20080825 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20090331 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20090520 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20090623 |
|
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20090706 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120724 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120724 Year of fee payment: 3 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130724 Year of fee payment: 4 |
|
S111 | Request for change of ownership or part of ownership |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R313111 |
|
R350 | Written notification of registration of transfer |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R350 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |