JP2005159171A - 太陽電池素子およびその製造方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】表面にパッシベーション膜4を有する半導体基板1を用いて構成された太陽電池素子であって、パッシベーション膜4は、半導体基板1との界面近傍に酸素の濃度が高くなった酸素含有領域3を有するように構成した。
【選択図】図1
Description
2:拡散層
3:酸素含有領域
4:パッシベーション膜
5:表面電極
6:集電電極
7:出力取出電極
8:BSF層
9:酸化膜
10:カート
11:ロード室
12:反応室
13:アンロード室
14:搬送機構
15:リーク弁
16:仕切弁
17:ヒーター
18:電源
19:電極板
20:マスフローメーター
変色部:A
Claims (8)
- 表面にパッシベーション膜を有する半導体基板を用いて構成された太陽電池素子であって、前記パッシベーション膜は、前記半導体基板との界面近傍に酸素の濃度が高くなった領域を有してなる太陽電池素子。
- 前記半導体基板は一導電型を有するとともに、この半導体基板と前記パッシベーション膜との間に逆導電型の拡散層が設けられてなる請求項1に記載の太陽電池素子。
- 前記半導体基板はシリコン基板である請求項1または2に記載の太陽電池素子。
- 前記パッシベーション膜は、窒化シリコンを主成分としてなる請求項1から3のいずれかに記載の太陽電池素子。
- 前記パッシベーション膜の屈折率が1.8〜2.6、厚みが50〜1200Åである請求項3に記載の太陽電池素子。
- 表面にパッシベーション膜を有する半導体基板を用いて構成された太陽電池素子であって、そのパッシベーション膜の表面には、その周囲と色の違いによって認識可能な、差し渡し寸法が50μm以下の変色部が存在するとともに、この変色部は、パッシベーション膜の全面にわたって、1mm2あたり40個以下の密度で存在してなる太陽電池素子。
- 半導体基板の表面にプラズマCVDによってパッシベーション膜を成膜する太陽電池素子の製造方法であって、前記半導体基板の表面に対して窒素プラズマ処理を行った後に、前記パッシベーション膜の成膜を行う太陽電池素子の製造方法。
- 前記窒素プラズマ処理と、前記パッシベーション膜の成膜とを、大気開放せずに連続して行う請求項7に記載の太陽電池素子の製造方法。
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