JP2005150421A - 半導体装置用接着剤組成物およびそれを用いた半導体装置用接着剤シートならびに半導体接続用基板、半導体装置 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】半導体接続用基板の接着剤層を形成する半導体装置用接着剤組成物であって、接着剤組成物が、熱硬化性樹脂(A)、熱可塑性樹脂(B)、無機フィラー(C)、アルキル変性、アルキルアラルキル変性、脂肪酸エステル変性、フルオロアルキル変性、メチルスチリル変性から選ばれる少なくとも一種類のシリコーンオイル(D)を含有する熱硬化型の接着剤であることを特徴とする半導体装置用接着剤組成物。
【選択図】 なし
Description
(a)本発明の接着剤組成物を溶剤に溶解した塗料を、離型性を有するポリエステルフィルム上に塗布、乾燥する。接着剤層の膜厚は10〜100μmとなるように塗布することが好ましい。乾燥条件は、100〜200℃、1〜5分である。溶剤は特に限定されないが、トルエン、キシレン、クロルベンゼン等の芳香族系、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン等のケトン系、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、Nメチルピロリドン等の非プロトン系極性溶剤単独あるいは混合物が好適である。塗料中で溶剤の占める好ましい量は塗料全体を100重量部とすると、50重量部から80重量部、さらに好ましくは70重量部から80重量部である。溶剤の占める量が50重量部未満であると塗料の撹拌効率が落ち、また塗料寿命が短くなるため望ましくない。また80重量部を越えると、塗工性が悪化するため好ましくない。
(a)絶縁体層および導体パターンからなる配線基板の作成
TAB用接着剤付きテープに12〜35μmの電解銅箔を、130〜170℃、0.1〜0.5MPaの条件でラミネートし、続いてエアオーブン中で80〜170℃の順次加熱キュア処理を行ない、銅箔付きTAB用テープを作成する。得られた銅箔付きTAB用テープの銅箔面に常法によりフォトレジスト膜形成、エッチング、レジスト剥離、電解ニッケルメッキ、電解金メッキ、ソルダーレジスト膜作成をそれぞれ行い、配線基板を作成する。
厚さ0.05〜0.5mmの純銅板、ニッケルメッキ銅板、黒化処理銅板あるいはステンレス板などの金属板をアセトンにより脱脂する。
上記(a)の絶縁体層および導体パターンからなる配線基板層に上記(1)で作成した接着剤シートの片側保護フィルムを剥がした後にラミネートする。ラミネート面は導体パターンがある面、またはない面のいずれでも構わない。ラミネート温度は60℃〜200℃、圧力0.1〜5MPaである。最後に半導体装置の形状によって、適宜打ち抜き、切断加工を施す。
上記(b)の導体パターンが形成されていない層に、上記(1)で作成した接着剤シートの片側保護フィルムを剥がした後にラミネートする。ラミネート温度は60℃〜200℃、圧力0.1〜5MPaである。最後に半導体装置の形状によって、適宜打ち抜き、切断加工を施す。
(e−1)接着剤付き配線基板を用いる場合
(c)の部品(接着剤付き配線基板)から接着剤層の保護フィルムを剥がし、適当な形状に打ち抜いた金属板に貼り合わせる。金属板は、たとえば外形が角型で中央に配線基板のデバイス孔にあわせて、角型形状の孔を打ち抜いたものが例示できる。貼り合わせ条件は、温度は60℃〜200℃、圧力0.1〜5MPaである。最後に、熱風オーブン内で接着剤の加熱硬化のため80℃〜200℃で15〜180分程度のポストキュアを行う。
(d)の部品(接着剤付きスティフナー)を、金型で打ち抜き、たとえば外形が角型で中央にやはり角型の孔がある形状の接着剤付きスティフナーとする。該接着剤付きスティフナーから保護フィルムを剥がし、上記(a)の配線基板層の導体パターン面または裏面のポリイミドフィルム面に、接着剤付きスティフナーの中央の孔を、配線基板のデバイス孔に一致させ、貼りあわせる。貼り合わせ条件は、温度は60℃〜200℃、圧力0.1〜5MPaである。最後に、熱風オーブン内で接着剤の加熱硬化のため80℃〜200℃で15〜180分程度のポストキュアを行う。
(2)の半導体接続用基板のインナーリード部をICの金バンプに熱圧着(インナーリードボンディング)し、ICを搭載する。次いで、樹脂封止を経て半導体装置を作製する。得られた半導体装置を、他の部品を搭載したプリント回路基板等と半田ボールを介して接続し、電子部品への実装を行う。
(1)未硬化状態での接着力:厚み100μmの接着剤層を厚さ0.5mmの純銅板表面に130℃、0.5MPaの条件で積層した。この接着剤付きの純銅板に、ポリイミドフィルム(宇部興産(株)製、”ユーピレックス”75S)を130℃、0.5MPaの条件で、接着剤層側に貼り合わせた。得られたサンプルのポリイミドフィルムと接着剤層を幅5mmになるようにカッターで切断し、90°方向に50mm/minの速度で、接着剤層とポリイミドフィルム界面あるいは接着剤層と純銅板界面において剥離し、そのときにかかった力を接着力とした。未硬化状態での接着力は、加工性の観点より、0.5N/cm以上10N/cm以下であることが望ましい。剥離力の測定はTOYOBALDWIN社製TENSILON/UTM−4−100で行った。
(接着剤シートの作成)
下記熱可塑性樹脂、エポキシ樹脂およびその他添加剤をそれぞれ表1に示した組成比となるように配合し、固形分濃度28重量部となるようにジメチルホルムアルデヒド(DMF)/モノクロルベンゼン(CB)/メチルイソブチルケトン(MIBK)混合溶媒に40℃で攪拌、溶解して接着剤溶液を作製した。
ビスフェノールA型エポキシ樹脂(エポキシ当量:186)(ジャパン・エポキシ・レジン(株)製、エピコート828)
B.熱可塑性樹脂
SEBS−C(旭化成(株)製、MX−073)
カルボキシル変性アクリルゴム(帝国化学産業(株)製、SG−280DR)
C.シリコーンオイル
アルキル変性((株)信越シリコーン製KF−412)
アルキルアラルキル変性((株)GE東芝シリコーン製TSF−4427)
脂肪酸エステル変性((株)信越シリコーン製X22−715)
フルオロアルキル変性((株)東レダウコーニングシリコーン製FS1265)
メチルスチリル変性((株)信越シリコーン製KF−410)
アミノ変性((株)信越シリコーン製KF−8005)
エポキシ変性((株)信越シリコーン製KF101)
D.無機質充填剤
球状シリカ粉末((株)アドマテックス製、SO−C2)
E.硬化剤
4,4’−DDS:4,4’−ジアミノジフェニルスルホン((株)住友化学、スミキュアS)
ジシアンジアミド(ジャパン・エポキシ・レジン(株)製、DICY7)。
2 金バンプ
3、11 可撓性を有する絶縁性フィルム
4、12 配線基板層を構成する接着剤層
5、13 半導体接続用の導体
6、14、18 本発明の接着剤組成物より構成される接着剤層
7、15 導体パターンが形成されていない層
8、16 ソルダーレジスト
9 半田ボール
10 封止樹脂
18 保護フィルム層
Claims (6)
- 半導体接続用基板の接着剤層を形成する半導体装置用接着剤組成物であって、接着剤組成物が、熱硬化性樹脂(A)、熱可塑性樹脂(B)、無機フィラー(C)、アルキル変性、アルキルアラルキル変性、脂肪酸エステル変性、フルオロアルキル変性、メチルスチリル変性から選ばれる少なくとも一種類のシリコーンオイル(D)を含有する熱硬化型の接着剤であることを特徴とする半導体装置用接着剤組成物。
- 未硬化状態のプローブタックが25℃において2N/cm2以下であり、未硬化状態の接着力Pが、25℃において0.5N/cm≦P≦10N/cmであることを特徴とする請求項1記載の半導体装置用接着剤組成物。
- 熱可塑性樹脂(B)が、ブタジエンを共重合成分とする共重合体、炭素数1〜8の側鎖を有するアクリル酸エステルおよびメタクリル酸エステルを共重合成分とする共重合体の少なくとも一つを含有する請求項1記載の半導体装置用接着剤組成物。
- 請求項1記載の半導体装置用接着剤組成物を接着剤層とし、接着剤層の少なくとも片面に剥離可能な保護フィルム層を有する半導体装置用接着剤シート。
- 絶縁体層、導体パターンからなる配線基板、導体パターンが形成されていない層、接着剤層をそれぞれ少なくとも1層有する半導体接続用基板であって、接着剤層に請求項1記載の半導体装置用接着剤組成物を用いた半導体接続用基板。
- 請求項5記載の半導体接続用基板を用いた半導体装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003386255A JP4483270B2 (ja) | 2003-11-17 | 2003-11-17 | 半導体装置用接着剤組成物およびそれを用いた半導体装置用接着剤シートならびに半導体接続用基板、半導体装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003386255A JP4483270B2 (ja) | 2003-11-17 | 2003-11-17 | 半導体装置用接着剤組成物およびそれを用いた半導体装置用接着剤シートならびに半導体接続用基板、半導体装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2005150421A true JP2005150421A (ja) | 2005-06-09 |
JP4483270B2 JP4483270B2 (ja) | 2010-06-16 |
Family
ID=34693986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2003386255A Expired - Fee Related JP4483270B2 (ja) | 2003-11-17 | 2003-11-17 | 半導体装置用接着剤組成物およびそれを用いた半導体装置用接着剤シートならびに半導体接続用基板、半導体装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP4483270B2 (ja) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009091566A (ja) * | 2007-09-19 | 2009-04-30 | Toray Ind Inc | 接着剤組成物およびそれを用いた接着剤シート |
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US8217115B2 (en) * | 2006-10-30 | 2012-07-10 | Sumitomo Bakelite Company, Ltd | Liquid resin composition, semiconductor wafer having adhesive layer, semiconductor element having adhesive layer, semiconductor package, process for manufacturing semiconductor element and process for manufacturing semiconductor package |
US20120288659A1 (en) * | 2010-01-08 | 2012-11-15 | Dai Nippon Printing Co., Ltd. | Adhesive sheet and bonding method using the same |
JP2019089948A (ja) * | 2017-11-15 | 2019-06-13 | 王子ホールディングス株式会社 | 粘着シート、積層体の製造方法および積層体 |
-
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US8217115B2 (en) * | 2006-10-30 | 2012-07-10 | Sumitomo Bakelite Company, Ltd | Liquid resin composition, semiconductor wafer having adhesive layer, semiconductor element having adhesive layer, semiconductor package, process for manufacturing semiconductor element and process for manufacturing semiconductor package |
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JP2019089948A (ja) * | 2017-11-15 | 2019-06-13 | 王子ホールディングス株式会社 | 粘着シート、積層体の製造方法および積層体 |
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---|---|
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A621 | Written request for application examination |
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