JP2005140554A - 寸法測定方法、寸法測定装置および測定マーク - Google Patents
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Abstract
【解決手段】 測定対象パターンと同一形状の孔パターンHPを測定方向に直交する方向に周期PYで配置して孔パターン列HX1とし、この孔パターン列HX1を測定方向に間隔SXで配置してマトリクスをなすように孔パターン列HX1〜HX4で構成された測定マークMK2Xに、周期PYを与える方向に直交する斜め方向から波長λの白色光を入射させ、その反射回折光の測定値から測定対象パターンの形状パラメータを算出する寸法測定において、PY≦aλ(aは約1/4の定数)が成立するように周期PYと波長λとの値を調整する。
【選択図】 図2
Description
試料に形成された測定対象パターンの測定対象である寸法を与える任意の測定方向に直交する方向に、上記測定対象パターンの少なくとも一部と同一形状の測定用パターンを所定の周期で配置して形成された測定用パターン列が上記測定方向に所定の間隔で繰り返し配置されてマトリクスをなすように上記試料に形成された測定マークに、上記測定用パターン列の方向に直交する方向から光を入射させる手順と、
上記測定マークからの反射回折光を検出してその強度を測定する手順と、
上記測定対象寸法の候補となる複数の候補値から反射回折光の強度の理論値を算出する手順と、
上記複数の候補値のうち、測定された反射回折光の強度に最も近似する理論値を与える上記候補値を上記測定対象寸法の測定値として出力する手順と、
を備え、
上記測定マークに入射する光の波長と上記周期との関係は、上記パターン列が連続したラインパターンであると仮定した場合に発生する反射回折光と実質的に同一の反射回折光が上記測定マークから発生するように調整される、
寸法測定方法が提供される。
光を発光させる光源と、
試料に形成された測定対象パターンの測定対象である寸法を与える任意の測定方向に直交する方向に、上記測定対象パターンの少なくとも一部と同一形状の測定用パターンを所定の周期で配置して形成された測定用パターン列が上記測定方向に所定の間隔で繰り返し配置されてマトリクスをなすように上記試料に形成された測定マークに、上記測定用パターン列の方向に直交する方向から上記光を入射させる偏光手段と、
上記測定マークからの反射回折光を検出してその強度を測定する検出手段と、
上記測定対象寸法の候補となる複数の候補値の入力を受けて上記測定マークからの反射回折光の強度の理論値を算出し、測定された反射回折光の強度に最も近似する理論値を与える上記候補値を上記測定対象寸法の測定値として出力する演算手段と、
上記パターン列が連続したラインパターンであると仮定した場合に発生する反射回折光と実質的に同一の反射回折光が上記測定マークから発生するように、上記周期との間で上記入射光の波長を調整する波長制御手段と、
を備える、寸法測定装置が提供される。
試料に形成された測定対象パターンの少なくとも一部と同一形状の測定用パターンを含むように上記試料に形成され、光の入射を受けて反射回折光を発生させ、この反射回折光を用いた測定対象パターンの寸法測定に用いられる測定マークであって、
上記測定用パターンは、測定対象である寸法を与える任意の測定方向に直交する方向に所定の周期で配置されて測定用パターン列をなし、この測定用パターン列が上記測定方向に所定の間隔で繰り返し配置され、
上記周期の値は、上記パターン列が連続したラインパターンであると仮定した場合に発生する反射回折光と実質的に同一の反射回折光が上記測定マークから発生するように、上記入射光の波長との間で調整される、
測定マークが提供される。
図1(a)は、本実施形態による測定マークの一部の平面図であり、同図(b)は、(a)のA−A線に沿った断面図である。また、図2は、本実施形態による寸法測定装置の概略構成を示すブロック図である。
次に、本発明の第2の実施の形態について図7および図8を参照しながら説明する。
次に、本発明の第3の実施の形態について図9〜図11を参照しながら説明する。上述した実施形態では、円柱状の孔パターンHPを測定する場合について説明したが、本発明はこれらの形状に限ることなく、任意の形状のパターンに適用することができる。
上述した実施形態では、測定マークに対して斜め方向から光を入射させるエリプソ配置の光学系を用いてパターン寸法を測定する形態について説明した。しかしながら、本発明はこれらの形態に限ることなく垂直入射の分光反射光学系を用いる場合にも適用可能である。このような分光反射光学系を用いてパターン寸法を測定する形態について図12を参照しながら説明する。
上述した寸法測定方法を半導体装置の製造工程に用いることにより、評価対象パターンの寸法を高い精度でかつ迅速に測定できるので、高い歩留まりで半導体装置を製造することができる。
10,30 光源
12,32 偏光子
14,34 検光子
16,36 検出器
18,38 コンピュータ
20,40 ステージ
42 偏光子回転駆動機構
44 検光子回転駆動機構
HP 孔パターン
HX1〜HX4,HY1〜HY4,HR21〜HR24 孔パターン列
Li 入射光
Lr 反射回折光
NT ノッチ
MK2X,MK2Y,MKP1〜MKP4 測定マーク
MR2,MR4 メモリ
PX X方向の孔パターン列の周期
PY Y方向の孔パターン列の周期
R1,R2,R3,R4,…,Rn 測定方向(評価対象であるデバイスパターンの間隔を与える方向)
T1,T2,T3,T4,…,Tn 測定方向に直交する方向
SX 孔パターン列のX方向における間隔
SY 孔パターン列のY方向における間隔
W ウェーハ
Claims (7)
- 試料に形成された測定対象パターンの測定対象である寸法を与える任意の測定方向に直交する方向に、前記測定対象パターンの少なくとも一部と同一形状の測定用パターンを所定の周期で配置して形成された測定用パターン列が前記測定方向に所定の間隔で繰り返し配置されてマトリクスをなすように前記試料に形成された測定マークに、前記測定用パターン列の方向に直交する方向から光を入射させる手順と、
前記測定マークからの反射回折光を検出してその強度を測定する手順と、
前記測定対象寸法の候補となる複数の候補値から反射回折光の強度の理論値を算出する手順と、
前記複数の候補値のうち、測定された反射回折光の強度に最も近似する理論値を与える前記候補値を前記測定対象寸法の測定値として出力する手順と、
を備え、
前記測定マークに入射する光の波長と前記周期との関係は、前記パターン列が連続したラインパターンであると仮定した場合に発生する反射回折光と実質的に同一の反射回折光が前記測定マークから発生するように調整される、
寸法測定方法。 - 前記入射光の波長をλとし、前記周期をPとすると、これらの間には関係式
P≦aλ (aは約1/4の定数)
が成り立つことを特徴とする請求項1に記載の寸法測定方法。 - 前記周期をPとし、前記入射光の波長をλとすると、関係式
P≦aλ (aは約1/4の定数)
が成り立つように、波長λの値が選択されることを特徴とする請求項1に記載の寸法測定方法。 - 光を発光させる光源と、
試料に形成された測定対象パターンの測定対象である寸法を与える任意の測定方向に直交する方向に、前記測定対象パターンの少なくとも一部と同一形状の測定用パターンを所定の周期で配置して形成された測定用パターン列が前記測定方向に所定の間隔で繰り返し配置されてマトリクスをなすように前記試料に形成された測定マークに、前記測定用パターン列の方向に直交する方向から前記光を入射させる偏光手段と、
前記測定マークからの反射回折光を検出してその強度を測定する検出手段と、
前記測定対象寸法の候補となる複数の候補値の入力を受けて前記測定マークからの反射回折光の強度の理論値を算出し、測定された反射回折光の強度に最も近似する理論値を与える前記候補値を前記測定対象寸法の測定値として出力する演算手段と、
前記パターン列が連続したラインパターンであると仮定した場合に発生する反射回折光と実質的に同一の反射回折光が前記測定マークから発生するように、前記周期との間で前記入射光の波長を調整する波長制御手段と、
を備える、寸法測定装置。 - 前記入射光の電場面が前記測定用パターン列の方向との間で所定の角度をなすことにより、前記測定マークから一次元の反射回折光が得られるように、前記偏光手段および前記検出手段の少なくとも一つと前記測定マークとの相対的位置関係を調整する位置調整手段をさらに備える、ことを特徴とする請求項4に記載の寸法測定装置。
- 試料に形成された測定対象パターンの少なくとも一部と同一形状の測定用パターンを含むように前記試料に形成され、光の入射を受けて反射回折光を発生させ、この反射回折光を用いた測定対象パターンの寸法測定に用いられる測定マークであって、
前記測定用パターンは、測定対象である寸法を与える任意の測定方向に直交する方向に所定の周期で配置されて測定用パターン列をなし、この測定用パターン列が前記測定方向に所定の間隔で繰り返し配置され、
前記周期の値は、前記パターン列が連続したラインパターンであると仮定した場合に発生する反射回折光と実質的に同一の反射回折光が前記測定マークから発生するように、前記入射光の波長との間で調整される、
測定マーク。 - 前記入射光の波長をλとし、前記周期の値をPとすると、関係式
P≦aλ (aは約1/4の定数)
が成り立つように、周期Pの値が選択されることを特徴とする請求項6に記載の測定マーク。
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