JP7319524B2 - パターン測定方法及び装置 - Google Patents
パターン測定方法及び装置 Download PDFInfo
- Publication number
- JP7319524B2 JP7319524B2 JP2019074384A JP2019074384A JP7319524B2 JP 7319524 B2 JP7319524 B2 JP 7319524B2 JP 2019074384 A JP2019074384 A JP 2019074384A JP 2019074384 A JP2019074384 A JP 2019074384A JP 7319524 B2 JP7319524 B2 JP 7319524B2
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- pattern
- diffracted light
- laser
- measured
- light
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
まず、パターン測定装置の構成について説明する。図1は、本発明の一実施形態に係るパターン測定装置を示すブロック図である。
次に、本実施形態に係るパターン寸法の算出の手順について説明する。本実施形態では、波長が異なる第1及び第2のレーザー光LA及びLBをパターンPに照射し、パターンPからの第1及び第2の回折光LA(m)及びLB(m)に基づいて、パターンPのパターン間隔dを算出する。
ここで、mは、回折光の次数(m=±1,±2,・・・)である。なお、回折光の出射角θrは、法線NLに対して入射側に散乱される場合に正の値、反対側に散乱される場合に負の値をとるものとする(図1参照)。
mλiB=d(sinθi+sinθrB) …(3)
式(2)及び式(3)から式(4)が得られる。
つまり、m次光の出射角度θrA及びθrBと2つのレーザー光源12A及び12Bの光源波長差(λiA-λiB)から、ナノメートルサイズのパターン間隔dを求めることができる。
次に、パターン測定方法における処理の流れについて説明する。図5は、本発明の一実施形態に係るパターン測定方法を示すフローチャートである。
Claims (6)
- 周期構造を有するパターンが形成された被測定物の測定を行うパターン測定方法であって、
レーザー光源から、互いに波長が異なる少なくとも2つのレーザー光を前記被測定物に照射する照射ステップと、
光検出素子を用いて、前記被測定物からの回折光を検出する検出ステップと、
前記回折光の検出された位置に基づいて、前記回折光の出射角を算出する第1の算出ステップと、
前記レーザー光の波長並びに前記回折光の次数及び出射角に基づいて、前記少なくとも2つのレーザー光のうちの2つのレーザー光の波長をλ iA 及びλ iB とし、波長λ iA 及びλ iB のm次の回折光の出射角をそれぞれθ rA 及びθ rB とし、前記パターンの間隔をdとしたときに、d=m(λ iA -λ iB )/(sinθ rA -sinθ rB )の式を利用することにより、前記パターンの間隔dを算出する第2の算出ステップと、
を含むパターン測定方法。 - 前記被測定物に対する前記レーザー光の照射位置及び照射方向を変更して、前記照射ステップ、前記検出ステップ、前記第1の算出ステップ及び前記第2の算出ステップを繰り返し、前記パターンの3次元的な形状又は寸法の測定を行う、請求項1記載のパターン測定方法。
- 前記パターンの間隔の目標値に基づいて、測定に使用する前記レーザー光の波長及び前記回折光の次数のうちの少なくとも一方を決定するステップをさらに備える請求項1又は2記載のパターン測定方法。
- 前記パターンの間隔の目標値が小さいほど、測定に使用する前記レーザー光の波長の光源波長差を小さくするか、又は前記回折光の次数を小さくする、請求項3記載のパターン測定方法。
- 周期構造を有するパターンが形成された被測定物の測定を行うパターン測定装置であって、
互いに波長が異なる少なくとも2つのレーザー光を前記被測定物に照射するレーザー光源と、
前記被測定物からの回折光を検出する光検出素子と、
前記回折光の検出された位置に基づいて、前記回折光の出射角を算出し、前記レーザー光の波長並びに前記回折光の次数及び出射角に基づいて、前記少なくとも2つのレーザー光のうちの2つのレーザー光の波長をλ iA 及びλ iB とし、波長λ iA 及びλ iB のm次の回折光の出射角をそれぞれθ rA 及びθ rB とし、前記パターンの間隔をdとしたときに、d=m(λ iA -λ iB )/(sinθ rA -sinθ rB )の式を利用することにより、前記パターンの間隔dを算出する算出部と、
を備えるパターン測定装置。 - 前記被測定物に対する前記レーザー光の照射位置及び照射方向を変更する制御部をさらに備え、
前記算出部は、前記照射位置及び照射方向が変更されるごとに、前記パターンの間隔dを算出し、前記パターンの3次元的な形状又は寸法の測定を行う、請求項5記載のパターン測定装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019074384A JP7319524B2 (ja) | 2019-04-09 | 2019-04-09 | パターン測定方法及び装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2019074384A JP7319524B2 (ja) | 2019-04-09 | 2019-04-09 | パターン測定方法及び装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2020173140A JP2020173140A (ja) | 2020-10-22 |
JP7319524B2 true JP7319524B2 (ja) | 2023-08-02 |
Family
ID=72830984
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2019074384A Active JP7319524B2 (ja) | 2019-04-09 | 2019-04-09 | パターン測定方法及び装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP7319524B2 (ja) |
Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007522432A (ja) | 2003-12-19 | 2007-08-09 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 差動限界寸法およびオーバーレイ測定装置および測定方法 |
JP2007309710A (ja) | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Enshu Ltd | 微細周期性溝の観測方法とその観測装置、微細周期性溝の加工観測方法とその加工観測装置 |
JP2008263187A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-30 | Asml Netherlands Bv | 角度分解スキャトロメータ、検査方法、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、デバイス製造方法およびアラインメントセンサ |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
KR100212948B1 (ko) * | 1997-04-04 | 1999-08-02 | 정명세 | 회절격자 간격의 절대측정방법 및 그 장치 |
-
2019
- 2019-04-09 JP JP2019074384A patent/JP7319524B2/ja active Active
Patent Citations (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007522432A (ja) | 2003-12-19 | 2007-08-09 | インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレーション | 差動限界寸法およびオーバーレイ測定装置および測定方法 |
JP2007309710A (ja) | 2006-05-17 | 2007-11-29 | Enshu Ltd | 微細周期性溝の観測方法とその観測装置、微細周期性溝の加工観測方法とその加工観測装置 |
JP2008263187A (ja) | 2007-03-30 | 2008-10-30 | Asml Netherlands Bv | 角度分解スキャトロメータ、検査方法、リソグラフィ装置、リソグラフィ処理セル、デバイス製造方法およびアラインメントセンサ |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP2020173140A (ja) | 2020-10-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7626710B2 (en) | Method and system for measuring patterned structures | |
US5963329A (en) | Method and apparatus for measuring the profile of small repeating lines | |
JP5554563B2 (ja) | 次数選択されたオーバレイ測定 | |
TWI461857B (zh) | 用於角度解析分光鏡微影特性描述之方法及裝置 | |
TWI583917B (zh) | 檢測方法及裝置、用於其中的基板及元件製造方法 | |
KR20170094288A (ko) | 분광 빔 프로파일 계측학 | |
JP3709431B2 (ja) | 微細構造化表面での角度依存回折効果の高速測定装置 | |
US9184102B2 (en) | Method and system for measuring patterned structures | |
TWI671835B (zh) | 圖案化結構中之量測用度量衡測試結構設計及量測方法 | |
KR101071654B1 (ko) | 라인 프로파일 비대칭 측정 | |
NL1032881C2 (nl) | Optisch monsterkarakteriseringssysteem. | |
JP2013522610A (ja) | リソグラフィ用の検査 | |
KR20190007522A (ko) | 동시 다중-각도 분광법 | |
US9103664B2 (en) | Automated process control using an adjusted metrology output signal | |
KR20120099504A (ko) | 표면 형상 측정 방법 및 표면 형상 측정 장치 | |
TW201931481A (zh) | 基於繞射之重疊散射術 | |
JP4427632B2 (ja) | 高精度三次元形状測定装置 | |
JP7319524B2 (ja) | パターン測定方法及び装置 | |
JP3551551B2 (ja) | 凹凸形状測定方法及び測定装置 | |
KR100795543B1 (ko) | 마이크로 광학소자 어레이의 3차원 표면조도 측정장치 | |
Garnaes et al. | Determination of sub-micrometer high aspect ratio grating profiles | |
TW202405586A (zh) | 干涉曝光裝置及裝置的製造方法 | |
JP2023138922A (ja) | 回折型オーバーレイ用複素光位相測定装置 | |
JP4985280B2 (ja) | 回折格子の形状評価方法 | |
WO2011117872A1 (en) | System and method for controlling a lithography process |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20220404 |
|
A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20230131 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20230203 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20230322 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20230620 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20230703 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Ref document number: 7319524 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |