JP2005136306A - Device and method for sticking - Google Patents

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To prevent the warping and deformation of a semiconductor wafer etc., after tapes are stuck to the wafer etc., by preventing the occurrence of tensile forces in the feeding directions of the tapes when sticking the tapes to the wafer etc. <P>SOLUTION: The sticking device 10 selectively sticks a protective tape T1 to the circuit surface of the semiconductor wafer W and a dicing tape to the wafer W and a ring frame R at the time of mounting the wafer W on the frame R. The sticking device 10 comprises a sticking means 12 which sticks the protective tape T1 and dicing tape T2 fed by means of a tape feeding device 17, a wafer table 13 and a ring frame table 14 which can be moved relatively to the sticking means 12 in a state where the wafer W and ring frame R are placed on the tables 13 and 14, respectively, and a driving device 16 which moves the tables 13 and 14 relatively to the sticking means 12. Since the moving speeds of the tables 13 and 14 are controlled so that the speeds may become slower than the feeding speeds of the tapes T1 and T2, the tapes T1 and T2 can be stuck without pulling the tapes T1 and T2 in the feeding directions. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は貼合装置及び貼合方法に係り、更に詳しくは、半導体ウエハ等の板状部材に保護テープやダイシングテープを貼付するに際し、これらテープを繰出方向に引っ張り力を与えることなく貼付することのできる貼合装置及び貼合方法に関する。   The present invention relates to a bonding apparatus and a bonding method. More specifically, when a protective tape or a dicing tape is applied to a plate-like member such as a semiconductor wafer, the tape is applied without applying a pulling force in the feeding direction. It is related with the bonding apparatus and bonding method which can be performed.

半導体ウエハ(以下、単にウエハと称する)の製造工程において、当該ウエハの裏面を研削して極薄化させるバックグラインド工程が採用されている。このバックグラインド工程においては、ウエハ表面のパターン、すなわち回路面を保護するために保護テープを貼付することが行われている。保護テープの貼付方法としては、例えば、特許文献1に示されるように、保護テープをウエハの外周より外側にはみ出す状態で貼付しておき、その後に、ウエハ外周に沿って保護テープをカットすることでウエハサイズに応じた保護が行えるようになっている。   In a manufacturing process of a semiconductor wafer (hereinafter simply referred to as a wafer), a back grinding process is employed in which the back surface of the wafer is ground to make it extremely thin. In this back grinding process, a protective tape is applied to protect the pattern on the wafer surface, that is, the circuit surface. As a method for applying the protective tape, for example, as shown in Patent Document 1, the protective tape is applied in a state of protruding outside the outer periphery of the wafer, and then the protective tape is cut along the outer periphery of the wafer. Thus, protection according to the wafer size can be performed.

また、バックグラインド工程を経たウエハは、賽の目状のダイシングを行うために、ダイシングテープを介してリングフレームの内側領域にマウントされる工程を経る。このマウント工程に際しては、例えば、特許文献2に示されるように、適宜なアライメント装置を介してリングフレームの内側にウエハを配置し、これらリングフレーム及びウエハの上面側にダイシングテープを貼付する手法が採用されている。   In addition, the wafer that has undergone the back grinding process undergoes a process of being mounted on the inner region of the ring frame via a dicing tape in order to perform dicing in the form of ridges. At the time of this mounting process, for example, as disclosed in Patent Document 2, there is a method in which a wafer is arranged inside a ring frame via an appropriate alignment device, and a dicing tape is attached to the upper surface side of the ring frame and the wafer. It has been adopted.

特開2003−209082号公報JP 2003-209082 A 特開2000−68293号公報JP 2000-68293 A

前述した保護テープの貼付とダイシングテープの貼付は、テープを繰り出しながら貼付するものであり、当該テープに一定の張力を付与した状態で貼合されることとなる。従って、ウエハ等にテープを貼付した後に、当該テープが収縮しようとする作用を生じる結果、ウエハに反り等の変形をもたらす要因となる。
特に、バックグラインド工程を経た後のウエハは、極薄(数十μm)オーダーとされているため、当該ウエハの反り変形は更に生じ易くなり、ウエハが割れてしまう。また、その後のダイシング工程における加工精度を著しく低下させる要因となる。
The affixing of the protective tape and the affixing of the dicing tape described above are performed while the tape is being fed out, and are bonded in a state where a certain tension is applied to the tape. Therefore, after the tape is affixed to the wafer or the like, the tape tends to shrink, resulting in deformation such as warpage of the wafer.
In particular, since the wafer after the back grinding process is on the order of extremely thin (several tens of μm), warpage deformation of the wafer is more likely to occur and the wafer is cracked. Moreover, it becomes a factor which reduces remarkably the processing precision in a subsequent dicing process.

[発明の目的]
本発明は、このような不都合に着目して案出されたものであり、その目的は、ウエハ等の板状部材にテープを貼付するときに、当該テープに繰出方向への引っ張り力が発生しないようにしてテープ貼付後の板状部材の反り変形を効果的に防止することのできる貼合装置及び貼合方法を提供することにある。
[Object of invention]
The present invention has been devised by paying attention to such inconveniences, and the purpose thereof is that when a tape is applied to a plate-like member such as a wafer, a pulling force in the feeding direction is not generated on the tape. Thus, it is providing the bonding apparatus and the bonding method which can prevent effectively the curvature deformation of the plate-shaped member after tape sticking.

前記目的を達成するため、本発明は、テープ若しくはフィルムを繰り出して当該テープを板状部材に貼付する貼合装置において、
前記テープの繰出装置と、当該繰出装置によって繰り出されたテープを前記板状部材に貼付する貼付手段と、前記板状部材が載置されるテーブルと、このテーブルと前記貼付手段とを相対移動させて前記板状部材にテープを貼合させる駆動装置とを備え、
前記テーブル移動速度は、前記繰出手段によるテープ繰出速度よりも遅く設定される、という構成を採っている。
In order to achieve the above object, the present invention provides a bonding apparatus for feeding a tape or a film and sticking the tape to a plate member.
The tape feeding device, the pasting means for sticking the tape fed by the feeding device to the plate-like member, the table on which the plate-like member is placed, and the table and the pasting means are moved relative to each other. And a drive device for bonding a tape to the plate-like member,
The table moving speed is set to be slower than the tape feeding speed by the feeding means.

また、本発明は、半導体ウエハの回路面に対する保護テープの貼付と、半導体ウエハをリングフレームにマウントするダイシングテープの貼付とを選択的に行う貼合装置において、
前記テープの繰出装置と、当該繰出装置によって繰り出されたテープを貼付する貼付手段と、前記半導体ウエハ及びリングフレームが載置された状態で前記貼付手段と相対移動可能なテーブルと、前記テーブルと貼付手段とを相対移動させて前記半導体ウエハに保護テープを貼付するとともに、半導体ウエハとリングフレームにダイシングテープを貼付させる駆動装置とを備え、
前記テーブル移動速度は、前記繰出手段によるテープ繰出速度よりも遅く設定される、という構成を採っている。
Further, the present invention provides a bonding apparatus for selectively performing affixing of a protective tape on the circuit surface of a semiconductor wafer and affixing of a dicing tape for mounting the semiconductor wafer on a ring frame.
The tape feeding device, the pasting means for pasting the tape fed by the feeding device, the table movable relative to the pasting means in a state where the semiconductor wafer and the ring frame are placed, and the table and pasting And a drive device for attaching a dicing tape to the semiconductor wafer and the ring frame, while attaching a protective tape to the semiconductor wafer by relatively moving the means,
The table moving speed is set to be slower than the tape feeding speed by the feeding means.

前記貼付手段は、テープを剥離するピールプレートと、当該ピールプレートによって剥離されたテープに貼付圧力を付与するプレスローラとを含み、
前記テーブル移動速度をテープ繰出速度よりも遅く設定することで、プレスローラによる貼付直前位置のテープに引っ張り力を発生させないように構成するとよい。
The sticking means includes a peel plate for peeling the tape, and a press roller for applying a sticking pressure to the tape peeled by the peel plate,
It is preferable that the table moving speed is set slower than the tape feeding speed so that no pulling force is generated on the tape immediately before the application by the press roller.

また、本発明は、テープ若しくはフィルムを繰り出すとともに、所定の貼付手段を介してテープを板状部材に貼付する貼合方法において、
前記板状部材をテーブルに載置した状態で、当該テーブルと前記貼付手段とを相対移動させながら前記板状部材にテープを貼付するにあたり、テープ繰出速度よりも遅い速度で記テーブルを移動して前記テープに繰出方向に沿う引っ張り力を発生させないように保ってテープを板状部材に貼付する方法を採っている。
Further, the present invention is a pasting method in which a tape or a film is fed out and a tape is stuck to a plate-like member through a predetermined pasting means.
In attaching the tape to the plate-like member while moving the table and the attaching means relative to each other while the plate-like member is placed on the table, the table is moved at a speed slower than the tape feeding speed. A method is adopted in which the tape is affixed to the plate member while keeping the tape from generating a tensile force along the feeding direction.

この際、前記テープは、貼付直前位置で弛みを生ずる程度に繰り出されて引っ張り力の発生が防止される、という方法を採ることが好ましい。   At this time, it is preferable to adopt a method in which the tape is drawn out to the extent that the tape is slackened at a position immediately before sticking to prevent generation of a pulling force.

本発明によれば、テーブル移動速度がテープ繰出速度よりも遅いため、テーブルと貼合手段との相対移動によって貼付されるテープに対し、繰出方向への引っ張り力が作用しないようになる。従って、板状部材に貼付された後のテープには、引っ張り力を受けた場合に生じ得る残留応力が全く発生せず、板状部材に反り変形を生じさせてしまうような不都合を解消することができる。そのため、板状部材が極薄に研削されたウエハである場合には、その反り変形によるウエハの割れを防止できる上、当該ウエハに対するその後の種々の加工精度を良好に保持することができる。   According to the present invention, since the table moving speed is slower than the tape feeding speed, the pulling force in the feeding direction does not act on the tape stuck by the relative movement of the table and the pasting means. Therefore, the tape after being stuck to the plate-like member does not generate any residual stress that may occur when subjected to a tensile force, and eliminates the inconvenience of causing warpage and deformation of the plate-like member. Can do. Therefore, when the plate-like member is an extremely thin ground wafer, it is possible to prevent the wafer from being cracked due to warping deformation, and to maintain various subsequent processing accuracy with respect to the wafer.

以下、本発明の好ましい実施の形態について図面を参照しながら説明する。
図1には、本実施形態に係る貼合装置の概略正面図が示され、図2には、一部の構成部品を省略した概略側面図が示されている。また、図3には保護テープの帯状材とダイシングテープの帯状材の概略斜視図が示されている。これらの図において、貼合装置10は、フレームFの図1中右側に配置された支持ローラ11と、この支持ローラ11に選択的に支持されるロール状の帯状材A1又はA2を繰り出す過程で保護テープT1又はダイシングテープT2を剥離して貼付する貼付手段12と、板状部材としてのウエハWを支持するウエハテーブル13及びリングフレームRを支持するリングフレームテーブル14と、これらテーブル13,14を支持する支持手段15と、当該支持手段15を介してウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14を貼付手段12に対して横方向(図1中左右方向)に移動させるための駆動装置16と、帯状材A1,A2を繰り出す繰出装置17と、帯状材A1,A2の繰出時における蛇行を防止する蛇行防止手段18と、帯状材A1,A2の一部を構成する剥離基材Bの巻取手段19とを含んで構成されている。
Hereinafter, preferred embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 shows a schematic front view of a bonding apparatus according to this embodiment, and FIG. 2 shows a schematic side view in which some components are omitted. FIG. 3 is a schematic perspective view of the strip material of the protective tape and the strip material of the dicing tape. In these drawings, the laminating apparatus 10 is a process of feeding out a support roller 11 arranged on the right side of the frame F in FIG. 1 and a roll-shaped strip A1 or A2 that is selectively supported by the support roller 11. Affixing means 12 for peeling off and adhering the protective tape T1 or the dicing tape T2, a wafer table 13 for supporting a wafer W as a plate member, a ring frame table 14 for supporting a ring frame R, and these tables 13 and 14 Support means 15 for supporting, a driving device 16 for moving the wafer table 13 and the ring frame table 14 in the lateral direction (left-right direction in FIG. 1) with respect to the sticking means 12 via the support means 15, and a belt-like material A feeding device 17 for feeding out A1 and A2, a meandering preventing means 18 for preventing meandering during feeding of the strips A1 and A2, and a belt It is configured to include a winding means 19 of the release substrate B which constitutes a part of the timber A1, A2.

図3(A),(B)に示されるように、前記支持ローラ11に選択的に支持されるロール状の帯状材A1,A2は、剥離基材Bと、当該剥離基材Bの一方の面に貼付されたテープ基材Cとの層構造を有し、このテープ基材Cの面内に閉ループ状のハーフカットDを予め形成したものが採用されている。帯状材A1において、ハーフカットDによって形成される保護テープT1の平面サイズは、図4に示されるように、ウエハWの平面サイズに対応する一方、帯状材A2におけるダイシングテープT2の平面サイズは、リングフレームRの内周径よりも若干大きいサイズに設定されている。ここで、図4に示したダイシングテープT2は、ウエハWに保護テープT1を貼付してバックグラインド工程が終了した後に貼付されるものであり、その際、ウエハWは、保護テープT1が下面側となる状態に反転してアライメントされる。
なお、以下において、理解を容易にするため、帯状材A1及び保護テープT1を対象として装置各部についての説明を行うが、帯状材A2及びダイシングテープT2の場合も実質的に同様であることを了解されたい。
As shown in FIGS. 3A and 3B, the roll-shaped strips A1 and A2 that are selectively supported by the support roller 11 include the peeling base material B and one of the peeling base materials B. It has a layer structure with a tape base material C attached to the surface, and a closed loop half cut D is previously formed in the surface of the tape base material C. In the strip material A1, the planar size of the protective tape T1 formed by the half-cut D corresponds to the planar size of the wafer W as shown in FIG. 4, while the planar size of the dicing tape T2 in the strip material A2 is The size is set slightly larger than the inner peripheral diameter of the ring frame R. Here, the dicing tape T2 shown in FIG. 4 is applied after the protective tape T1 is applied to the wafer W and the back grinding process is completed. At this time, the protective tape T1 is attached to the lower surface side of the wafer W. Inverted to the state to be aligned.
In the following, for ease of understanding, each part of the apparatus will be described with respect to the belt-like material A1 and the protective tape T1, but it is understood that the same applies to the belt-like material A2 and the dicing tape T2. I want to be.

前記支持ローラ11の近傍には分岐用ローラ21及びカス巻取ローラ22が配置されている。このカス巻取ローラ22は、前述したハーフカットDによって保護テープT1回りに存在するテープ基材Cを巻き取るものである。従って、分岐ローラ21の位置を通過して貼付手段12側に送られる帯状材A1は、剥離基材Bに保護テープT1が所定間隔毎に配置された状態のものとなる(図3(A)参照)。カス巻取ローラ22は、図2に示されるように、回転軸23にプーリ24を備えており、このプーリ24は、モータM1の出力軸25に設けられたプーリ26にベルト27を介して連結されている。   In the vicinity of the support roller 11, a branching roller 21 and a waste winding roller 22 are arranged. The waste take-up roller 22 takes up the tape base C existing around the protective tape T1 by the half cut D described above. Accordingly, the belt-like material A1 that passes through the position of the branch roller 21 and is sent to the sticking means 12 side is in a state in which the protective tape T1 is arranged at predetermined intervals on the peeling base material B (FIG. 3A). reference). As shown in FIG. 2, the waste winding roller 22 includes a pulley 24 on a rotating shaft 23, and this pulley 24 is connected to a pulley 26 provided on an output shaft 25 of a motor M <b> 1 via a belt 27. Has been.

前記分岐ローラ21と貼付手段12との間には、バックテンションローラ29と、当該バックテンションローラ29との間に帯状材A1を挟み込むピンチローラ30と、このピンチローラ30をバックテンションローラ29に対して進退させるシリンダ32が配置されている。バックテンションローラ29の回転軸33にはプーリ35が固定されており、当該プーリ35と、これの近傍に位置するモータM2の出力軸36に固定されたプーリ38との間にはベルト39が掛け回され、これにより、バックテンションローラ29に対して図1中時計方向への付勢力が付与され、バックテンションローラ29を通過した帯状材A1に一定のテンションが付与されるようになっている。   Between the branch roller 21 and the pasting means 12, a back tension roller 29, a pinch roller 30 that sandwiches the strip A 1 between the back tension roller 29, and the pinch roller 30 with respect to the back tension roller 29 A cylinder 32 that moves forward and backward is disposed. A pulley 35 is fixed to the rotary shaft 33 of the back tension roller 29, and a belt 39 is hung between the pulley 35 and a pulley 38 fixed to the output shaft 36 of the motor M2 located in the vicinity thereof. As a result, an urging force in the clockwise direction in FIG. 1 is applied to the back tension roller 29, and a constant tension is applied to the belt-like material A 1 that has passed through the back tension roller 29.

前記貼付手段12は、帯状材A1の繰出方向を急激に反転させて剥離基材Bから保護テープT1を剥離するピールプレート41と、このピールプレート41の前端側(図1中左端側)に併設されて剥離後の保護テープT1をウエハWに貼付するプレスローラ42とを含む。プレスローラ42は、図2に示されるように、下向きコ字状の軸受部材43を介して回転可能に支持されている。軸受部材43の上部には板状の支持体45が配置されているとともに、この支持体45の中間部にシリンダ46が配置され、当該シリンダ46のピストンロッド47の先端(下端)が軸受部材43の上部中央に連結されている。また、支持体45の上面側における長手方向両側にはガイド筒49,49が設けられているとともに、これらガイド筒49を上下に貫通して延びる軸部材50,50の下端が軸受部材43に連結され、シリンダ46が作動することによって軸受部材43及びプレスローラ42が昇降可能となる。   The affixing means 12 is provided side by side with a peel plate 41 that peels off the protective tape T1 from the peeling substrate B by abruptly reversing the feeding direction of the strip A1, and a front end side (left end side in FIG. 1) of the peel plate 41. And a press roller 42 for attaching the peeled protective tape T1 to the wafer W. As shown in FIG. 2, the press roller 42 is rotatably supported via a downward U-shaped bearing member 43. A plate-like support body 45 is disposed at the upper portion of the bearing member 43, and a cylinder 46 is disposed at an intermediate portion of the support body 45, and the tip (lower end) of the piston rod 47 of the cylinder 46 is the bearing member 43. It is connected to the center of the top. Guide cylinders 49 and 49 are provided on both longitudinal sides on the upper surface side of the support body 45, and the lower ends of shaft members 50 and 50 extending vertically through the guide cylinders 49 are connected to the bearing member 43. As the cylinder 46 operates, the bearing member 43 and the press roller 42 can be moved up and down.

前記ウエハWを支持するウエハテーブル13は、ウエハWの平面積より若干大きな平面積となる略円形の支持面部52と、当該支持面部52の下面側において、周方向略90度間隔位置に配置された昇降軸53とを備えて構成されている。ウエハテーブル13は、図示しない多数の吸着孔を支持面部52に備えており、その下面側に設けられた吸引管54に図示しない減圧ポンプを接続して当該減圧ポンプの作動によりウエハWを吸着保持でき、これによって保護テープT1をウエハWの回路面に貼付する際の当該ウエハWの位置ずれ防止が可能となる。   The wafer table 13 that supports the wafer W is disposed at a substantially circular support surface portion 52 having a plane area slightly larger than the plane area of the wafer W, and at a position approximately 90 degrees apart in the circumferential direction on the lower surface side of the support surface portion 52. And an elevating shaft 53. The wafer table 13 is provided with a number of suction holes (not shown) in the support surface portion 52, and a suction pump 54 (not shown) is connected to the suction pipe 54 provided on the lower surface thereof, and the wafer W is suctioned and held by the operation of the pressure reduction pump. This makes it possible to prevent the wafer W from being displaced when the protective tape T1 is applied to the circuit surface of the wafer W.

前記リングフレームテーブル14は、ウエハテーブル13の外周側を囲み、且つ、ウエハテーブル13の支持面部52と干渉することのない大きさを備えた図示しない内側の穴を備えて外縁が平面視で略略方形をなす枠体56と、当該枠体56の図1中左右両側下面から下方に垂下する昇降板57とを備えて構成されている。   The ring frame table 14 includes an inner hole (not shown) that surrounds the outer peripheral side of the wafer table 13 and has a size that does not interfere with the support surface portion 52 of the wafer table 13, and the outer edge is substantially abbreviated in plan view. A frame body 56 having a rectangular shape and a lifting plate 57 that hangs downward from the lower surfaces of the left and right sides of the frame body 56 in FIG.

前記支持手段15は、前記ウエハテーブル13の昇降軸53を上下方向にガイドするガイドプレート59と、前記リングフレームテーブル14の昇降板57の下端側を相互に連結する連結プレート60と、ガイドプレート59及び連結プレート60の間に配置された中間プレート61と、この中間プレート61と前記連結プレート60の図1中左右両側間に設けられた調整ボルト63,63と、後述する駆動装置16によって横方向(図1中左右方向)に移動可能に設けられたスライドベース64と、このスライドベース64の上面に配置されたシリンダからなる昇降装置67,67と、前記連結プレート60の下面側に固定されたシリンダ装置69と、連結プレート60と前記ガイドプレート59との間に脱落不能に介装されたコイルばね70と、前記ウエハテーブル13とガイドプレート59との間に配置された微調整装置72と、前記ウエハテーブル13と前記リングフレームテーブル14を上下方向に案内するガイド機構73とを備えて構成されている。   The support means 15 includes a guide plate 59 that guides the lifting shaft 53 of the wafer table 13 in the vertical direction, a connecting plate 60 that connects the lower ends of the lifting plates 57 of the ring frame table 14, and a guide plate 59. And an intermediate plate 61 disposed between the connecting plate 60, adjusting bolts 63, 63 provided between the intermediate plate 61 and the left and right sides of the connecting plate 60 in FIG. The slide base 64 is provided so as to be movable in the left-right direction in FIG. 1, elevating devices 67 and 67 including cylinders disposed on the upper surface of the slide base 64, and fixed to the lower surface side of the connecting plate 60. A coil spring that is interposed between the cylinder device 69 and the connecting plate 60 and the guide plate 59 so as not to fall off. 0, a fine adjustment device 72 disposed between the wafer table 13 and the guide plate 59, and a guide mechanism 73 for guiding the wafer table 13 and the ring frame table 14 in the vertical direction. Yes.

前記ガイドプレート59はウエハテーブル13の支持面部52と平行に配置されているとともに昇降軸53を上下方向にガイドする軸受75を備えて構成されている。昇降軸53の下端側は、前記連結プレート60に設けられた下部軸受76を貫通して昇降可能に延びる長さに設けられている。   The guide plate 59 is arranged in parallel with the support surface portion 52 of the wafer table 13 and includes a bearing 75 for guiding the elevating shaft 53 in the vertical direction. The lower end side of the elevating shaft 53 is provided with a length extending through the lower bearing 76 provided in the connecting plate 60 so as to be able to be raised and lowered.

前記中間プレート61は中央部に穴61Aを備えた形状とされ、当該穴61Aの領域内に、前記シリンダ装置69のピストンロッド78や、コイルばね70及び下部軸受76が配置できるようになっている。ここで、ピストンロッド78は、その先端(上端)がガイドプレート59に接触した状態で当該ガイドプレート59の下方への移動を規制する固定状態に保つ一方、ピストンロッド78の先端がガイドプレート59から下方に離れて非接触とされたときにコイルばね70がウエハテーブル13の下方への移動を許容する状態でガイドプレート59を支えるようになっている。また、連結プレート60と中間プレート61との間に設けられた調整ボルト63を進退させることにより、これら各プレート60,61間の間隔が調整され、これにより、ウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14の相対的な高さが調整可能となっている。   The intermediate plate 61 has a shape with a hole 61A at the center, and the piston rod 78, the coil spring 70, and the lower bearing 76 of the cylinder device 69 can be disposed in the region of the hole 61A. . Here, the piston rod 78 is kept in a fixed state that restricts the downward movement of the guide plate 59 while the tip (upper end) of the piston rod 78 is in contact with the guide plate 59, while the tip of the piston rod 78 is moved from the guide plate 59. The coil spring 70 supports the guide plate 59 in a state in which the coil spring 70 allows the wafer table 13 to move downward when it is not contacted apart from the lower side. Further, by moving the adjusting bolt 63 provided between the connecting plate 60 and the intermediate plate 61 forward and backward, the distance between the plates 60 and 61 is adjusted, whereby the wafer table 13 and the ring frame table 14 are adjusted. The relative height can be adjusted.

前記スライドベース64は、駆動装置16のモータM5によって駆動される図示しないフィードスクリューを介して図1中左右方向に移動可能となっており、これにより、ウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14が左右方向に移動することとなる。従って、各テーブル13,14の上面に載置されたウエハW及びリングフレームR上をプレスローラ42が回転することで保護テープT1又はダイシングテープT2の貼付が可能となる。なお、テープ貼付時において、駆動装置16によるスライドベース64の移動速度は、後述するように、繰出装置17による繰出速度よりも僅かに遅い速度に設定されている。   The slide base 64 can be moved in the left-right direction in FIG. 1 via a feed screw (not shown) driven by a motor M5 of the driving device 16, whereby the wafer table 13 and the ring frame table 14 are moved in the left-right direction. Will be moved to. Accordingly, when the press roller 42 rotates on the wafer W and the ring frame R placed on the upper surfaces of the tables 13 and 14, the protective tape T1 or the dicing tape T2 can be attached. At the time of applying the tape, the moving speed of the slide base 64 by the driving device 16 is set to be slightly slower than the feeding speed by the feeding device 17 as will be described later.

前記昇降装置67は、そのピストンロッド80の先端が中間プレート61の下面側に固定され、ピストンロッド80の進退により中間プレート61を上下に昇降させることで連結プレート60及びこれに連結されている各テーブル13,14の昇降が可能となっている。   The elevating device 67 has a piston rod 80 whose tip is fixed to the lower surface side of the intermediate plate 61, and the intermediate plate 61 is moved up and down as the piston rod 80 advances and retreats, thereby connecting the connecting plate 60 and each of them. The tables 13 and 14 can be raised and lowered.

前記微調整装置72は、前記ガイドプレート59の上面に配置されたスライドブロック81と、ウエハテーブル13の支持面部52の下面側に支持された回転体としてのコロ82と、当該コロ82をスライドブロック81の上面に形成された傾斜面81Aに当接させる付勢力を備えたばね部材をなす引っ張りばね84と、前記スライドブロック81を移動させて当該スライドブロック81とコロ82との接触点を上下に調整するための操作軸部材85とを備えて構成されている。操作軸部材85はスライドブロック81を図1中左右方向に貫通して延びるねじ軸により構成され、当該操作軸部材85の回転でスライドブロック81が左右方向に移動して前記接触点の上下方向調整が可能となる。操作軸部材85の操作端部(図1中左端部)には操作用摘み87が設けられており、当該操作用摘み87は、前記リングフレームテーブル14の昇降板57よりも外側に位置して装置外部から操作可能に設けられている。従って、操作用摘み87を回転操作することで、ウエハテーブル13とリングフレームテーブル14との相対的な高さを微調整することができる。   The fine adjustment device 72 includes a slide block 81 disposed on the upper surface of the guide plate 59, a roller 82 as a rotating body supported on the lower surface side of the support surface portion 52 of the wafer table 13, and the roller 82 as a slide block. A tension spring 84, which is a spring member having a biasing force to be brought into contact with the inclined surface 81A formed on the upper surface of 81, and the slide block 81 are moved to adjust the contact point between the slide block 81 and the roller 82 up and down. And an operation shaft member 85. The operation shaft member 85 is constituted by a screw shaft that extends through the slide block 81 in the left-right direction in FIG. 1, and the slide block 81 moves in the left-right direction by the rotation of the operation shaft member 85 to adjust the contact point in the vertical direction. Is possible. An operation knob 87 is provided at the operation end (left end in FIG. 1) of the operation shaft member 85, and the operation knob 87 is positioned outside the lifting plate 57 of the ring frame table 14. It is provided to be operable from the outside of the apparatus. Therefore, the relative height between the wafer table 13 and the ring frame table 14 can be finely adjusted by rotating the operation knob 87.

前記リングフレームテーブル14のガイド機構73は、スライドベース64の移動方向に沿う両側において上下方向に起立配置されたガイドレール89と、前記昇降板57に設けられた昇降ブロック90とにより構成されている。   The guide mechanism 73 of the ring frame table 14 includes a guide rail 89 that is vertically arranged on both sides along the moving direction of the slide base 64, and a lifting block 90 provided on the lifting plate 57. .

前記帯状材A1,A2を繰り出す繰出装置17は、図1に示されるように、繰出ローラ95と、この繰出ローラ95の外周面に接するピンチローラ96と、前記繰出ローラ95の近傍に設けられたモータM3と、当該モータM3の出力軸97に固定されたプーリ98及び前記繰出ローラ95の回転軸99に固定されたプーリ100との間に掛け回されたベルト101とにより構成されている。なお、繰出装置17と前記貼付手段12との間には、剥離基材Bのガイドローラ102が配置されている。   As shown in FIG. 1, the feeding device 17 that feeds the strips A <b> 1 and A <b> 2 is provided in the vicinity of the feeding roller 95, a pinch roller 96 in contact with the outer peripheral surface of the feeding roller 95, and the feeding roller 95. The motor M3 includes a pulley 98 fixed to the output shaft 97 of the motor M3 and a belt 101 wound around a pulley 100 fixed to the rotating shaft 99 of the feeding roller 95. A guide roller 102 for the peeling base material B is disposed between the feeding device 17 and the pasting means 12.

前記繰出装置17による帯状材A1の繰出速度は、ウエハWに保護ラベルT1を貼付すべく、駆動装置16によってウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14を図1中左側に移動する際の移動速度よりも僅かに速い速度、すなわち、テーブル移動速度がテープ繰出速度よりも遅くなる速度に設定されている。従って、図6に示されるように、ウエハWが左側に移動して保護ラベルT1が順次貼付されてゆくと、テーブル移動速度に対して繰出速度が僅かに速いことで、ピールプレート41とプレスローラ42との間に、保護テープT1のほんの僅かな弛みが生じ、これにより、保護テープT1に対して、繰出方向に沿う引っ張り力を付与することなく当該保護テープT1をウエハWに貼付することが可能となる。従って、引っ張り力が生じた状態で保護テープT1をウエハWに貼付した場合の残留応力によって生じ得るウエハWの反り変形を確実に防止することができる。   The feeding speed of the strip A1 by the feeding device 17 is higher than the moving speed when the wafer table 13 and the ring frame table 14 are moved to the left in FIG. 1 by the driving device 16 in order to attach the protective label T1 to the wafer W. Slightly faster speed, that is, a speed at which the table moving speed becomes slower than the tape feeding speed is set. Therefore, as shown in FIG. 6, when the wafer W is moved to the left side and the protective labels T1 are sequentially attached, the feeding speed is slightly higher than the table moving speed, so that the peel plate 41 and the press roller 42, a slight slack of the protective tape T1 occurs, whereby the protective tape T1 can be applied to the wafer W without applying a tensile force along the feeding direction to the protective tape T1. It becomes possible. Therefore, warp deformation of the wafer W that can be caused by residual stress when the protective tape T1 is attached to the wafer W in a state where a tensile force is generated can be reliably prevented.

保護テープT1及びダイシングテープT2の蛇行を防止する蛇行防止手段18は、図7及び図8に概略的に示されているように、前記繰出装置17の一部を構成するピンチローラ96を利用して構成されている。これを更に詳述すると、蛇行防止手段18は、前記ピンチローラ96と、一端がピンチローラ96の軸方向両端を回転可能に支持するように連結された一対のアーム105,105と、これらアーム105の他端間に延びてフレームFに支持される回転中心軸106と、アーム105とフレームFとの間に配置されて前記ピンチローラ96を繰出ローラ95の外周面上部に向かって付勢する一対のばね108,108と、アーム105の下端面側に配置された一対のばね圧調整ボルト109,109とを備えて構成されている。   The meandering prevention means 18 for preventing the meandering of the protective tape T1 and the dicing tape T2 uses a pinch roller 96 constituting a part of the feeding device 17, as schematically shown in FIGS. Configured. More specifically, the meandering prevention means 18 includes the pinch roller 96, a pair of arms 105 and 105, one end of which is connected to rotatably support both axial ends of the pinch roller 96, and the arms 105 A pair of rotation center shafts 106 extending between the other ends of the rollers and supported by the frame F and disposed between the arm 105 and the frame F and biasing the pinch roller 96 toward the upper part of the outer peripheral surface of the feeding roller 95. The springs 108 and 108 and a pair of spring pressure adjusting bolts 109 and 109 disposed on the lower end surface side of the arm 105 are provided.

前記ばね108は、アーム105の外側面から突出するピン110及びフレームFの内側面から突出するピン111間に掛け渡されている。また、ばね圧調整ボルト109は、フレームFの内側面に設けられたブラケット113にねじ係合し、先端がアーム105の下端面に当接する状態に配置されている。従って、ピンチローラ96は、それ自体の自重と、前記ばね108の付勢力によって繰出ローラ95に一定の接触圧力を付与した状態で接することとなるが、前記ばね圧調整ボルト109,109の先端位置を調整することで、ピンチローラ96の軸方向両側が繰出ローラ95に対して接触圧力を変化することとなり、これにより、ピンチローラ96と繰出ローラ95の軸方向における圧力分布の偏りを解消して剥離基材Bの蛇行を防止し、ひいては、帯状材A1が繰出方向に対して横方向にずれることがなく、剥離された保護テープT1をウエハWの回路面に正確に貼付することができる。   The spring 108 is stretched between a pin 110 protruding from the outer surface of the arm 105 and a pin 111 protruding from the inner surface of the frame F. Further, the spring pressure adjusting bolt 109 is screw-engaged with a bracket 113 provided on the inner side surface of the frame F, and is arranged in a state in which the tip abuts against the lower end surface of the arm 105. Accordingly, the pinch roller 96 comes into contact with its own weight and the feeding roller 95 in a state where a constant contact pressure is applied by the biasing force of the spring 108, but the tip positions of the spring pressure adjusting bolts 109 and 109. Is adjusted so that the contact pressure on the both sides in the axial direction of the pinch roller 96 changes with respect to the feeding roller 95, thereby eliminating the uneven pressure distribution in the axial direction of the pinch roller 96 and the feeding roller 95. The meandering of the peeling base material B is prevented, and as a result, the strip-shaped material A1 is not displaced laterally with respect to the feeding direction, and the peeled protective tape T1 can be accurately applied to the circuit surface of the wafer W.

帯状材A1,A2を構成する剥離基材Bの巻取手段19は、巻取ローラ115と、これの近傍に配置されたモータM4と、当該モータM4の出力軸116に固定されたプーリ117と、当該プーリと前記巻取ローラ115に固定された図示しないプーリとの間に掛け回されたベルト118とを含んで構成されている。   The winding means 19 of the peeling base material B constituting the strips A1 and A2 includes a winding roller 115, a motor M4 disposed in the vicinity thereof, and a pulley 117 fixed to the output shaft 116 of the motor M4. The belt 118 is wound around the pulley and a pulley (not shown) fixed to the take-up roller 115.

次に本実施形態における保護テープT1の貼付動作について説明する。   Next, the sticking operation of the protective tape T1 in this embodiment will be described.

初期作業として、保護テープT1のロール状原反を支持ローラ11にセットするとともに、テープ基材Cの先端側領域を所定長さ剥離してその先端をカス巻取ローラ22に固定する。この一方、帯状材A1の剥離基材Bをピールプレート41に掛け回し、ガイドローラ102を経て繰出ローラ95とピンチローラ96との間に挟み込み、先端を巻取ローラ115に固定する。   As an initial operation, the roll-shaped raw material of the protective tape T1 is set on the support roller 11, and the front end side region of the tape base material C is peeled by a predetermined length, and the front end is fixed to the residue winding roller 22. On the other hand, the peeling base material B of the belt-like material A1 is wound around the peel plate 41 and is sandwiched between the feeding roller 95 and the pinch roller 96 through the guide roller 102, and the tip is fixed to the winding roller 115.

また、蛇行防止手段18において、図示しない圧力検出具を用いて繰出ローラ95とピンチローラ96の軸方向両側の圧力が一致するように、ばね圧調整ボルト109を調整しておく。   In the meandering prevention means 18, the spring pressure adjusting bolt 109 is adjusted using a pressure detector (not shown) so that the pressures on both sides in the axial direction of the feeding roller 95 and the pinch roller 96 coincide.

ウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14は、昇降装置67を作動させてウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14を図1に示される位置より下降した位置でフレームFの左端より左側に移動させておき、図示しない移載装置を介してウエハテーブル13上にウエハWが位置決め配置され、ウエハWはウエハテーブル13の支持面部52に吸着固定される。次いで、ウエハテーブル13が同図中右側に移動し、昇降装置67を作動させてウエハテーブル13が貼付高さ位置にセットされる。この際、ウエハWの左端位置は、プレスローラ42の中心位置を通る仮想鉛直線よりも右側に位置することとなる。また、前記シリンダ装置69のピストンロッド78の先端はガイドプレート59の下面に接した状態とされ、当該ガイドプレート59の下降を禁止する固定状態にしてウエハテーブル13の支持面部52が一定の平面高さ位置に保たれる。   The wafer table 13 and the ring frame table 14 are moved from the left end of the frame F to the left side by moving the wafer table 13 and the ring frame table 14 downward from the position shown in FIG. The wafer W is positioned and arranged on the wafer table 13 via a transfer device that is not, and the wafer W is sucked and fixed to the support surface portion 52 of the wafer table 13. Next, the wafer table 13 is moved to the right side in the figure, the lifting device 67 is operated, and the wafer table 13 is set at the sticking height position. At this time, the left end position of the wafer W is positioned on the right side of the virtual vertical line passing through the center position of the press roller 42. Further, the tip of the piston rod 78 of the cylinder device 69 is in contact with the lower surface of the guide plate 59, and the support surface portion 52 of the wafer table 13 is fixed at a certain flat height in a fixed state that prohibits the lowering of the guide plate 59. Kept in position.

繰出装置17の駆動によって帯状材A1に繰出力が付与されてピールプレート41の直前に位置する保護テープT1のリード端が図示しないセンサにより検出されると、これに同期してウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14が図1中左側に移動し、剥離された保護テープT1のリード端がウエハWの左端に一致した状態となり、プレスローラ42による貼付圧力を受けながら順次貼付領域が拡大することとなる。この際、ウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14の移動は、帯状材A1の繰出速度よりも僅かに遅い速度に設定されているため、図6に示されるように、保護テープT1に弛みを生じるようになり、保護テープT1に繰出方向への引っ張り力を発生させることはなく、従って、貼付完了後のウエハWに反り変形は生じない。また、帯状材A1は、前述した蛇行防止手段18により、設定された繰出方向若しくは繰出軌跡に沿って正確に繰り出されるため、つまり、幅方向にずれることがないため、保護テープT1の外周縁は、ウエハWの外周縁に一致した状態で貼付されることとなる。   When a feeding output is given to the strip A1 by driving the feeding device 17 and the lead end of the protective tape T1 positioned immediately before the peel plate 41 is detected by a sensor (not shown), the wafer table 13 and the ring are synchronized with this. The frame table 14 moves to the left in FIG. 1, the lead end of the peeled protective tape T1 coincides with the left end of the wafer W, and the application area is sequentially expanded while receiving the application pressure from the press roller 42. . At this time, the movement of the wafer table 13 and the ring frame table 14 is set at a speed slightly slower than the feeding speed of the strip A1, so that the protective tape T1 is slacked as shown in FIG. Thus, no pulling force in the feeding direction is generated on the protective tape T1, and therefore the warp deformation does not occur on the wafer W after the pasting is completed. Further, since the belt-like material A1 is accurately fed out along the set feeding direction or feeding trajectory by the meandering preventing means 18 described above, that is, does not shift in the width direction, the outer peripheral edge of the protective tape T1 is Then, the wafer W is attached in a state of being coincident with the outer peripheral edge of the wafer W.

このようにして保護テープT1の貼付が完了すると、ウエハWが図示しない移載装置を介してバックグラインド工程に移載されて研削が行われることとなる。   When the sticking of the protective tape T1 is completed in this way, the wafer W is transferred to the back grinding process via a transfer device (not shown) and is ground.

ダイシングテープT2を貼付するときは、帯状材A1を支持ローラ11から取り外し、当該帯状材A1をセットした前述の要領で帯状材A2を支持ローラ11にセットする。また、シリンダ装置69を作動させてピストンロッド78を後退させ、ガイドプレート59との接触状態を解除した離間位置に切り換えられる。これにより、ガイドプレート59は、コイルばね70によって支えられる状態となる。   When sticking the dicing tape T2, the strip A1 is removed from the support roller 11, and the strip A2 is set on the support roller 11 in the manner described above in which the strip A1 is set. Further, the cylinder device 69 is operated to move the piston rod 78 backward to switch to the separated position where the contact state with the guide plate 59 is released. As a result, the guide plate 59 is supported by the coil spring 70.

ウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14が装置外に移動した状態で、図示しない移載装置を介してリングフレームRがリングフレームテーブル14に移載され、バックグラインドが施されたウエハWが、保護テープT1を下面側にしてウエハテーブル13上に載置される。なお、リングフレームRとウエハWは、アライメント装置を介して中心位置と相対位置が正確に調整される。   In a state where the wafer table 13 and the ring frame table 14 are moved out of the apparatus, the ring frame R is transferred to the ring frame table 14 via a transfer device (not shown), and the wafer W on which the back grinding is performed is applied to the protective tape. The wafer is placed on the wafer table 13 with T1 as the lower surface side. The center position and the relative position of the ring frame R and the wafer W are accurately adjusted via the alignment device.

次いで、ウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14は、装置外に移動した位置から図1に示される位置よりも更に右側に移動し、リングフレームRの左端がプレスローラ42の中心を通る仮想鉛直線よりも右側に位置することとなる。   Next, the wafer table 13 and the ring frame table 14 are moved further to the right than the position shown in FIG. 1 from the position moved out of the apparatus, and the left end of the ring frame R is from a virtual vertical line passing through the center of the press roller 42. Will also be on the right.

ダイシングテープT2の剥離動作に併せてウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14が図1中左側に移動することによりダイシングテープT2がリングフレームR及びウエハWに貼付されることとなる。この際、ウエハテーブル13は、プレスローラ42による貼付圧力を受けたときに、前記ピストンロッド78の先端がガイドプレート59に対して非接触の位置にあるため、前記コイルばね70が縮んで長さを縮小し、ウエハWの面に対する過大な貼付圧力を吸収することとなり、これにより、ウエハWの割れ等が効果的に防止される。   The wafer table 13 and the ring frame table 14 move to the left side in FIG. 1 in conjunction with the peeling operation of the dicing tape T2, so that the dicing tape T2 is attached to the ring frame R and the wafer W. At this time, since the tip of the piston rod 78 is in a non-contact position with respect to the guide plate 59 when the wafer table 13 receives a pressure applied by the press roller 42, the coil spring 70 is contracted and has a length. Is reduced, and an excessive sticking pressure on the surface of the wafer W is absorbed, whereby cracking of the wafer W is effectively prevented.

従って、このような実施形態によれば、繰り出される保護テープT1、ダイシングテープT2が繰出方向に沿って引っ張られた状態でウエハW、リングフレームRに貼付されることがないので、貼付後のテープ残留応力によるウエハWの反りを確実に防止することができる。そのため、ウエハWの割れを防止できる。その上、バックグラインド工程や、ダイシング工程におけるウエハWの加工を精度よく行うことができる。しかも、引っ張り力を発生させない手段として、ウエハテーブル13及びリングフレームテーブル14の移動速度をテープ繰出速度に対して遅くなるように駆動装置16を制御するだけであるため、構造も極めて簡単となり、且つ、駆動装置16の調整により、テープ特性に応じて速度調整も容易に行うことが可能となる。   Therefore, according to such an embodiment, since the drawn out protective tape T1 and dicing tape T2 are not attached to the wafer W and the ring frame R in a state of being pulled along the supply direction, the tape after application is applied. Warpage of the wafer W due to residual stress can be reliably prevented. Therefore, cracking of the wafer W can be prevented. In addition, the wafer W can be processed with high precision in the back grinding process and the dicing process. Moreover, as a means for preventing the generation of a pulling force, the drive device 16 is only controlled so that the moving speed of the wafer table 13 and the ring frame table 14 is slower than the tape feeding speed, so that the structure becomes extremely simple, and By adjusting the drive device 16, the speed can be easily adjusted according to the tape characteristics.

本発明を実施するための最良の構成、方法等は、以上の記載で開示されているが、本発明は、これに限定されるものではない。
すなわち、本発明は、主に、特定の実施の形態に関して特に図示し、且つ、説明されているが、本発明の技術的思想及び目的の範囲から逸脱することなく、以上に述べた実施の形態に対し、形状、位置、部品構成等、その他の詳細な構成において、当業者が様々な変更を加えることができるものである。
従って、上記に開示した形状、位置などを限定した記載は、本発明の理解を容易にするために例示的に記載したものであり、本発明を限定するものではないから、それらの形状、位置等の限定の一部若しくは全部の限定を外した部材の名称での記載は、本発明に含まれるものである。
The best configuration, method, and the like for carrying out the present invention have been disclosed above, but the present invention is not limited to this.
That is, the invention has been illustrated and described primarily with respect to particular embodiments, but the embodiments described above are within the scope of the technical idea and purpose of the invention. On the other hand, those skilled in the art can make various changes in other detailed configurations such as shape, position, and component configuration.
Therefore, the description limited to the shape, position, etc. disclosed above is an example for easy understanding of the present invention, and does not limit the present invention. The description by the name of the member which remove | excluded the limitation of one part or all of such is included in this invention.

例えば、前記実施例では、半導体ウエハWやリングフレームRに保護テープT1,ダイシングテープT2を貼付する貼合装置について図示、説明したが、本発明は、これに限定されるものではなく、テープやフィルムを薄い板状部材に貼付して積層体を形成する装置等にも適用することができる。
また、保護テープT1及びダイシングテープT2は、ハーフカットDにより予め形成されているが、帯状材A1,A2の繰出経路の途中で保護テープT1及びダイシングテープT2の形状に応じたハーフカットDを形成することも可能である。
For example, in the said Example, although the bonding apparatus which sticks the protective tape T1 and the dicing tape T2 to the semiconductor wafer W or the ring frame R was shown and demonstrated, this invention is not limited to this, A tape, The present invention can also be applied to an apparatus for forming a laminate by sticking a film to a thin plate member.
The protective tape T1 and the dicing tape T2 are formed in advance by the half cut D, but the half cut D corresponding to the shape of the protective tape T1 and the dicing tape T2 is formed in the middle of the feeding path of the strips A1 and A2. It is also possible to do.

本発明は、半導体ウエハの処理装置として利用することができる。   The present invention can be used as a semiconductor wafer processing apparatus.

本実施形態に係る貼合装置の概略正面図。The schematic front view of the bonding apparatus which concerns on this embodiment. 前記貼合装置の左側面図。The left view of the said bonding apparatus. (A)は保護テープを示す帯状材、(B)はダイシングテープを示す帯状材(A) is a belt-shaped material showing a protective tape, (B) is a belt-shaped material showing a dicing tape. ウエハ及びリングフレームに保護テープ及びダイシングテープを貼付する対応関係を示す概略斜視図。The schematic perspective view which shows the correspondence which affixes a protection tape and a dicing tape on a wafer and a ring frame. 保護テープ又はダイシングテープを貼付する動作の途中を示す概略正面図。The schematic front view which shows the middle of the operation | movement which sticks a protective tape or a dicing tape. 帯状材の繰出速度とウエハWの移動速度との相関関係を示す説明図。Explanatory drawing which shows the correlation with the feeding speed of a strip | belt-shaped material, and the moving speed of the wafer W. FIG. 蛇行防止手段の概略斜視図。The schematic perspective view of a meandering prevention means. 蛇行防止手段の概略側面図。The schematic side view of a meandering prevention means.

符号の説明Explanation of symbols

10 貼合装置
12 貼付手段
13 ウエハテーブル
14 リングフレームテーブル
16 駆動装置
17 繰出装置
41 ピールプレート(貼付手段)
42 プレスローラ(貼付手段)
A1,A2 帯状材
B 剥離基材
C テープ基材
T1 保護テープ
T2 ダイシングテープ
R リングフレーム
W 半導体ウエハ
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10 Bonding device 12 Sticking means 13 Wafer table 14 Ring frame table 16 Drive device 17 Feeding device 41 Peel plate (sticking means)
42 Press roller (sticking means)
A1, A2 Strip material B Release substrate C Tape substrate T1 Protective tape T2 Dicing tape R Ring frame W Semiconductor wafer

Claims (5)

テープ若しくはフィルムを繰り出して当該テープを板状部材に貼付する貼合装置において、
前記テープの繰出装置と、当該繰出装置によって繰り出されたテープを前記板状部材に貼付する貼付手段と、前記板状部材が載置されるテーブルと、このテーブルと前記貼付手段とを相対移動させて前記板状部材にテープを貼合させる駆動装置とを備え、
前記テーブル移動速度は、前記繰出手段によるテープ繰出速度よりも遅く設定されていることを特徴とする貼合装置。
In the laminating apparatus for feeding out the tape or film and sticking the tape to the plate member,
The tape feeding device, the pasting means for sticking the tape fed by the feeding device to the plate-like member, the table on which the plate-like member is placed, and the table and the pasting means are moved relative to each other. And a drive device for bonding a tape to the plate-like member,
The table moving speed is set to be slower than the tape feeding speed by the feeding means.
半導体ウエハの回路面に対する保護テープの貼付と、半導体ウエハをリングフレームにマウントするダイシングテープの貼付とを選択的に行う貼合装置において、
前記テープの繰出装置と、当該繰出装置によって繰り出されたテープを貼付する貼付手段と、前記半導体ウエハ及びリングフレームが載置された状態で前記貼付手段と相対移動可能なテーブルと、前記テーブルと貼付手段とを相対移動させて前記半導体ウエハに保護テープを貼付するとともに、半導体ウエハとリングフレームにダイシングテープを貼付させる駆動装置とを備え、
前記テーブル移動速度は、前記繰出手段によるテープ繰出速度よりも遅く設定されていることを特徴とする貼合装置。
In a bonding apparatus that selectively applies a protective tape to a circuit surface of a semiconductor wafer and a dicing tape to mount the semiconductor wafer on a ring frame,
The tape feeding device, the pasting means for pasting the tape fed by the feeding device, the table movable relative to the pasting means in a state where the semiconductor wafer and the ring frame are placed, and the table and pasting And a drive device for attaching a dicing tape to the semiconductor wafer and the ring frame, while attaching a protective tape to the semiconductor wafer by relatively moving the means,
The table moving speed is set to be slower than the tape feeding speed by the feeding means.
前記貼付手段は、テープを剥離するピールプレートと、当該ピールプレートによって剥離されたテープに貼付圧力を付与するプレスローラとを含み、
前記テーブル移動速度をテープ繰出速度よりも遅く設定することで、プレスローラによる貼付直前位置のテープに引っ張り力を発生させないようにしたことを特徴とする請求項1又は2記載の貼合装置。
The sticking means includes a peel plate for peeling the tape, and a press roller for applying a sticking pressure to the tape peeled by the peel plate,
3. The laminating apparatus according to claim 1 or 2, wherein the table moving speed is set slower than the tape feeding speed so as not to generate a pulling force on the tape immediately before being stuck by the press roller.
テープ若しくはフィルムを繰り出すとともに、所定の貼付手段を介してテープを板状部材に貼付する貼合方法において、
前記板状部材をテーブルに載置した状態で、当該テーブルと前記貼付手段とを相対移動させながら前記板状部材にテープを貼付するにあたり、テープ繰出速度よりも遅い速度で記テーブルを移動して前記テープに繰出方向に沿う引っ張り力を発生させないように保ってテープを板状部材に貼付することを特徴とする貼合方法。
In the laminating method in which the tape or film is fed out and the tape is pasted on the plate-like member via a predetermined pasting means,
In attaching the tape to the plate-like member while moving the table and the attaching means relative to each other while the plate-like member is placed on the table, the table is moved at a speed slower than the tape feeding speed. A laminating method, wherein the tape is affixed to a plate-like member while keeping the tape from generating a tensile force along the feeding direction.
前記テープは、貼付直前位置で弛みを生ずる程度に繰り出されて引っ張り力の発生が防止されることを特徴とする請求項4記載の貼合方法。
The bonding method according to claim 4, wherein the tape is drawn out to a degree that causes a slack at a position immediately before application, thereby preventing generation of a pulling force.
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