JP2005135998A - Circuit board with built-in electrical component and its manufacturing method - Google Patents

Circuit board with built-in electrical component and its manufacturing method Download PDF

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a circuit board having a built-in electrical component which is reduced in size, increasing the mounted electrical components in number, by building the electrical components in an insulating board and which is capable of exchanging mass information with the outside. <P>SOLUTION: A single or plural resin layers 1 are laminated, and an insulating board 2 is formed. A conductor circuit 3 is formed on either one or both sides of, at least one or more of the resin layers 1. The electrical component 4 electrically connected to the conductor circuit 3 is embedded in one or more of the resin layers 1. A recess 6 is provided to the end face of the insulating board 2. Connection terminals 5 electrically connected to the conductor circuit 3 are provided to the inner surface 7 of the recess 6, and a female connector 8 is formed. <P>COPYRIGHT: (C)2005,JPO&NCIPI

Description

本発明は、電気・電子部品・半導体素子内蔵モジュール、例えば、ICカード(集積回路内蔵カード)等に利用される電気部品内蔵回路板及びその製造方法に関するものである。   The present invention relates to an electric / electronic component / semiconductor element built-in module, for example, an electric component built-in circuit board used for an IC card (integrated circuit built-in card) and the like, and a method of manufacturing the same.

近年、電子機器の高機能化、小型薄型化の要求に伴い、半導体の高集積化、配線距離の短縮化、プリント配線板の小型化が求められている。このようなプリント配線板には電気部品として、半導体装置や、ベアチップ、チップ状コンデンサ、チップ状インダクタ等のチップ状の電気部品が実装される。また、LED等の受発光素子、コネクタ等も実装される。   In recent years, with the demand for higher functionality and smaller size and thinner electronic devices, higher integration of semiconductors, shorter wiring distances, and smaller printed wiring boards are required. Such a printed wiring board is mounted with a chip-shaped electrical component such as a semiconductor device, a bare chip, a chip-shaped capacitor, or a chip-shaped inductor as an electrical component. A light emitting / receiving element such as an LED, a connector, and the like are also mounted.

しかし、このような電気部品はプリント配線板の外層の導体回路にのみ実装されるためにプリント配線板に対する電気部品の実装量には限界があり、またこの電気部品はプリント配線板の外面から突出するように設けられるから、プリント配線板の小型化の妨げにもなるものであった。また、電気部品の実装位置が配線板の最外層のみである場合には、配線設計の自由度が低くなってしまうものでもあった。   However, since such electrical components are mounted only on the conductor circuit on the outer layer of the printed wiring board, there is a limit to the amount of electrical components mounted on the printed wiring board, and the electrical components protrude from the outer surface of the printed wiring board. Therefore, the printed wiring board is hindered from being miniaturized. In addition, when the mounting position of the electrical component is only the outermost layer of the wiring board, the degree of freedom in wiring design is low.

このような問題は、プリント配線板を多層化するほど顕在化するものである。すなわち、プリント配線板を多層化するほど、配線量が多くなるが、電気部品は外層のみに実装されるため、配線量に対する電気部品の実装量が少なくなり、このためプリント配線板の多層化による小型化は、搭載する電気部品量によって制限を受けてしまうものであった。   Such a problem becomes more apparent as the printed wiring board is multilayered. That is, as the number of printed wiring boards increases, the amount of wiring increases. However, since the electrical components are mounted only on the outer layer, the amount of mounting of the electrical components with respect to the amount of wiring is reduced. Miniaturization has been limited by the amount of electrical components to be mounted.

また、従来、特許文献1に開示されているように、絶縁層に空隙を設けてこの空隙に半導体素子等を実装し、さらに感光性樹脂からなる絶縁層と配線回路とを順次積層成形して多層の配線基板を製造するものも提案されている。これによれば、絶縁層内に電気部品を実装することが可能となって、電気部品の実装量の増加、配線板の小型化、配線自由度の向上がある程度なされるが、空隙の内面と電気部品との間に隙間が生じて空気が閉じこめられてしまい、熱による負荷を受けた場合に、空隙内の空気の熱膨張により絶縁層の割れや電気部品の破損、断線等の不良が発生してしまうおそれがあり、また電気部品の寸法や搭載量に応じて絶縁層に空隙を形成しなければならないために、製造工程が煩雑なものとなってしまう。   Conventionally, as disclosed in Patent Document 1, a gap is provided in the insulating layer, a semiconductor element or the like is mounted in the gap, and an insulating layer made of a photosensitive resin and a wiring circuit are sequentially laminated and formed. A device for manufacturing a multilayer wiring board has also been proposed. According to this, it becomes possible to mount an electrical component in the insulating layer, and the mounting amount of the electrical component, the miniaturization of the wiring board, and the improvement of the degree of freedom of wiring are made to some extent. When a gap is created between the electrical components and the air is trapped and subjected to heat load, the thermal expansion of the air in the air gap causes defects such as cracking of the insulating layer, breakage of the electrical components, and disconnection. In addition, the manufacturing process becomes complicated because gaps must be formed in the insulating layer in accordance with the dimensions and mounting amount of the electrical components.

また、集積回路等を内蔵するICカードは、外部との情報の出し入れ(信号のやりとり)のためにコネクタを必要とするものであるが、現状においては、このような携帯用の電気部品内蔵回路板のコネクタの端子数は3〜4つにするのが限度である。大容量の情報の出し入れを可能とするためには従来よりもコネクタの端子数を増加させる必要があるが、その反面、多端子を有するコネクタは占有体積が大きく嵩張るものであるため、出っ張りの原因ともなり、携帯に便利なICカード等を製造するのは困難であり、さらなる小型化は不可能である。   In addition, an IC card incorporating an integrated circuit or the like requires a connector for input / output of information (exchange of signals) with the outside. At present, such a portable electric component built-in circuit is used. The number of terminals of the board connector is limited to 3-4. It is necessary to increase the number of connector terminals than before in order to allow large volumes of information to be taken in and out, but on the other hand, connectors with multiple terminals occupy a large volume and are bulky. At the same time, it is difficult to manufacture an IC card or the like that is convenient for carrying, and further miniaturization is impossible.

また、信号のやりとりを光通信で行う場合、従来においては、プリント配線板の外層に受発光素子を搭載すると共に、この受発光素子に光を効率よく集光受光させるため、反射鏡やレンズ、蛍光体等もプリント配線板の外層に装着することが行われており、このようなプリント配線板は最終的には非常に大きな構造体となってしまっていた。さらに、今後も光通信による信号のやりとりが増加するものと考えられるが、上記のように受発光素子が基板表面に実装される場合には、その他の部品が実装される面積が減少し、大容量の信号のやりとりができなくなるという問題が出てくる。   In addition, when performing signal exchange by optical communication, conventionally, a light receiving / emitting element is mounted on the outer layer of the printed wiring board, and in order to efficiently collect and receive light on the light receiving / emitting element, a reflecting mirror, a lens, A phosphor or the like is also attached to the outer layer of the printed wiring board, and such a printed wiring board has finally become a very large structure. Furthermore, it is thought that signal exchange by optical communication will increase in the future, but when the light emitting / receiving element is mounted on the surface of the board as described above, the area where other components are mounted is reduced, resulting in a large size. There is a problem that it becomes impossible to exchange capacity signals.

また、電気部品を内蔵するものとして、特許文献2に開示されているメモリーカードを挙げることができる。しかし、このものにあっては、電子部品が搭載された基板とケース本体との間に存在する空間が大きく、小型化には限界がある。
特開平11−126978号公報 実開平7−17569号公報
Moreover, as a thing which incorporates an electrical component, the memory card currently disclosed by patent document 2 can be mentioned. However, in this case, a large space exists between the substrate on which the electronic component is mounted and the case body, and there is a limit to downsizing.
Japanese Patent Laid-Open No. 11-126978 Japanese Utility Model Publication No.7-17569

本発明は上記の点に鑑みてなされたものであり、電気部品を絶縁基板内に内蔵させることにより電気部品の搭載量を増大させつつ小型化を図ることができ、また、大容量の情報の出し入れを外部との間で行うことができる電気部品内蔵回路板及びその製造方法を提供することを目的とするものである。   The present invention has been made in view of the above points, and by incorporating an electrical component in an insulating substrate, it is possible to reduce the size while increasing the amount of electrical component mounted. It is an object of the present invention to provide an electric component built-in circuit board that can be taken in and out from the outside and a method for manufacturing the same.

本発明の請求項1に係る電気部品内蔵回路板は、単一の樹脂層1で又は複数の樹脂層1を積層して絶縁基板2が形成され、少なくとも1つ以上の樹脂層1の片面又は両面に導体回路3が形成され、導体回路3と電気的に接続された電気部品4が少なくとも1つ以上の樹脂層1に埋設され、絶縁基板2の側面に凹部6が形成されていると共に、導体回路3と電気的に接続された接続端子5が凹部6の内面7に設けられて雌形コネクタ8が形成されて成ることを特徴とするものである。   The circuit board with a built-in electrical component according to claim 1 of the present invention has a single resin layer 1 or a laminate of a plurality of resin layers 1 to form an insulating substrate 2, and at least one surface of one or more resin layers 1 or Conductor circuits 3 are formed on both surfaces, electrical components 4 electrically connected to the conductor circuits 3 are embedded in at least one resin layer 1, and recesses 6 are formed on the side surfaces of the insulating substrate 2. A connection terminal 5 electrically connected to the conductor circuit 3 is provided on the inner surface 7 of the recess 6 to form a female connector 8.

請求項2の発明は、請求項1において、接続端子5が受発光素子9で形成されて成ることを特徴とするものである。   The invention of claim 2 is characterized in that, in claim 1, the connection terminal 5 is formed of a light emitting / receiving element 9.

請求項3の発明は、請求項1又は2において、回路保護用絶縁層10及び電磁遮蔽用金属層11から選ばれるものが絶縁基板2の表面に形成されて成ることを特徴とするものである。   A third aspect of the invention is characterized in that, in the first or second aspect, a material selected from the circuit protection insulating layer 10 and the electromagnetic shielding metal layer 11 is formed on the surface of the insulating substrate 2. .

請求項4の発明は、請求項1乃至3のいずれかにおいて、シリコン放熱樹脂シート12が電気部品4に接触して配設されて成ることを特徴とするものである。   According to a fourth aspect of the present invention, in any one of the first to third aspects, the silicon heat radiating resin sheet 12 is disposed in contact with the electrical component 4.

本発明の請求項5に係る電気部品内蔵回路板の製造方法は、転写用基材13の転写面14に導体回路3を設け、電気部品4及び中空部46を有する雌形コネクタ形成用部品15をそれぞれ導体回路3と電気的に接続して転写用基材13の転写面14に配設し、次に、上記転写用基材13の転写面14をBステージの樹脂層1の表面に対向させて樹脂層1と転写用基材13を積層し、導体回路3、電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を樹脂層1に埋入させ、次に、樹脂層1から転写用基材13のみを剥離することにより、樹脂層1の表面において導体回路3を露出させて形成し、樹脂層1に電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を埋設させた後、雌形コネクタ形成用部品15の中空部46を通るように樹脂層1を厚み方向に切断することにより、樹脂層1の側面において雌形コネクタ形成用部品15の凹部6を開口させることを特徴とするものである。   According to a fifth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a circuit board with a built-in electric component, wherein the conductor circuit 3 is provided on the transfer surface 14 of the transfer substrate 13 and the female connector forming component 15 having the electric component 4 and the hollow portion 46 is provided. Are electrically connected to the conductor circuit 3 and disposed on the transfer surface 14 of the transfer substrate 13, and then the transfer surface 14 of the transfer substrate 13 is opposed to the surface of the resin layer 1 of the B stage. Then, the resin layer 1 and the transfer substrate 13 are laminated, and the conductor circuit 3, the electrical component 4, and the female connector forming component 15 are embedded in the resin layer 1, and then the transfer substrate is transferred from the resin layer 1. By peeling only 13, the conductor circuit 3 is exposed on the surface of the resin layer 1, the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are embedded in the resin layer 1, and then the female connector is formed. The resin layer 1 is cut in the thickness direction so as to pass through the hollow portion 46 of the component 15. The Rukoto, is characterized in that to open the recess 6 of the female connector forming part 15 on the side surface of the resin layer 1.

請求項6の発明は、請求項5において、雌形コネクタ形成用部品15として、取り外し可能なキャップ47を設けて中空部46が形成されているものを用いることを特徴とするものである。   The invention of claim 6 is characterized in that, in claim 5, the female connector forming component 15 is provided with a removable cap 47 and a hollow portion 46 formed therein.

本発明の請求項1に係る電気部品内蔵回路板によれば、電気部品を絶縁基板内に内蔵させることにより電気部品の搭載量を増大させつつ小型化を図ることができるものである。また、大容量の情報の出し入れを外部との間で行うことができるものである。   According to the circuit board with a built-in electrical component according to claim 1 of the present invention, it is possible to reduce the size while increasing the mounting amount of the electrical component by incorporating the electrical component in the insulating substrate. In addition, a large amount of information can be exchanged with the outside.

請求項2の発明によれば、光通信による大容量の信号のやりとりを行うことができるものである。   According to the second aspect of the present invention, large-capacity signals can be exchanged by optical communication.

請求項3の発明によれば、絶縁基板の外面に形成された導体回路を保護したり、電磁障害を防止したりすることができるものである。   According to the invention of claim 3, it is possible to protect the conductor circuit formed on the outer surface of the insulating substrate and prevent electromagnetic interference.

請求項4の発明によれば、放熱性を高めることができ、これにより電気部品の機能低下を防止することができるものである。   According to invention of Claim 4, heat dissipation can be improved and, thereby, the functional fall of an electrical component can be prevented.

本発明の請求項5に係る電気部品内蔵回路板の製造方法によれば、電気部品を絶縁基板内に内蔵させることにより電気部品の搭載量を増大させつつ小型化を図ることができるものである。また、大容量の情報の出し入れを外部との間で行うことができるものである。   According to the method of manufacturing the circuit board with a built-in electrical component according to claim 5 of the present invention, the electrical component is built in the insulating substrate, so that the mounting size of the electrical component can be increased and the size can be reduced. . In addition, a large amount of information can be exchanged with the outside.

請求項6の発明によれば、取り外し可能なキャップを雌形コネクタ形成用部品に取り付けて蓋をすることにより、成形過程において溶融軟化した樹脂層の樹脂が雌形コネクタ形成用部品の中空部内に流れ込むのを防止することができるものである。   According to the invention of claim 6, by attaching a removable cap to the female connector forming component and covering it, the resin of the resin layer melted and softened in the molding process is contained in the hollow portion of the female connector forming component. It is possible to prevent inflow.

以下、本発明の実施の形態を説明する。   Embodiments of the present invention will be described below.

図1は本発明に係る電気部品内蔵回路板Aの製造工程の一例を示すものであり、この工程においては、まず、転写用基材13の片面(転写面14)に導体回路3を設ける。導体回路3を転写用基材13に形成する方法としては、例えば、転写用基材13に銅箔等の金属箔を貼着し、これをエッチング処理する方法を挙げることができるが、電解銅めっき等によるパターンめっきを用いる方法であれば、微細な導体回路3を容易に形成することができ、最終的に得られる電気部品内蔵回路板Aの高周波損失を低減し、高周波信頼性を向上することができるものである。導体回路3の厚みは5〜35μmであることが好ましい。   FIG. 1 shows an example of the manufacturing process of the electric component built-in circuit board A according to the present invention. In this process, first, the conductor circuit 3 is provided on one surface (transfer surface 14) of the transfer substrate 13. Examples of the method for forming the conductor circuit 3 on the transfer base material 13 include a method of attaching a metal foil such as a copper foil to the transfer base material 13 and etching the metal foil. If it is a method using pattern plating by plating or the like, the fine conductor circuit 3 can be easily formed, and the high-frequency loss of the circuit board A with built-in electrical components that is finally obtained is reduced and the high-frequency reliability is improved. It is something that can be done. The thickness of the conductor circuit 3 is preferably 5 to 35 μm.

ここで、めっき処理による導体回路3の形成は、例えば、めっきレジストの形成、めっき処理、めっきレジストの剥離という工程を経て行うことができる。めっきレジストの形成は、感光性のドライフィルムやレジストインク等を用いた一般的な手法により行うことができる。また、めっき処理は、銅、ニッケル、金等からなるめっき被膜を一般的な手法で形成することにより行うことができる。このように、導体回路3をめっき処理により形成する場合には、後述する導体回路3の転写時において樹脂層1と導体回路3との密着性を向上するために、高周波特性を損なわない程度にめっき被膜に表面処理を行うことが好ましい。このような表面処理としては、例えば、黒化処理、アルマイト処理等による粗面化処理を挙げることができる。   Here, the formation of the conductor circuit 3 by plating treatment can be performed, for example, through steps of forming a plating resist, plating treatment, and peeling of the plating resist. The plating resist can be formed by a general method using a photosensitive dry film, resist ink, or the like. The plating treatment can be performed by forming a plating film made of copper, nickel, gold or the like by a general method. Thus, when the conductor circuit 3 is formed by plating, in order to improve the adhesion between the resin layer 1 and the conductor circuit 3 during the transfer of the conductor circuit 3 described later, the high-frequency characteristics are not impaired. It is preferable to perform a surface treatment on the plating film. As such a surface treatment, for example, a roughening treatment such as a blackening treatment or an alumite treatment can be given.

次に、図1(a)に示すように、電気部品4を導体回路3と電気的に接続して転写用基材13の転写面14に配設する。電気部品4としては、チップ状抵抗体、チップ状コンデンサ、チップ状インダクタ等のような受動部品(LCR)を実装することができるものであり、この場合、チップ状部品は半田17にて導体回路3に接続して実装することができる。また、電気部品4としては、シリコンベアチップ等の半導体ベアチップのような能動部品(IC)を実装することもできる。この場合、図1においては図示省略しているが、後述する図4に示すものと同様にして、半導体ベアチップを半田ボール18等により導体回路3に接続し、アンダーフィル19を充填硬化して実装することができる。アンダーフィル19としては、一般的なエポキシ樹脂組成物等からなるものを用いることができる。なお、電気部品4は、導電性ペースト52を用いて実装することもできるが、上記のように半田17による接続の方が実装信頼性が高い。   Next, as shown in FIG. 1A, the electrical component 4 is electrically connected to the conductor circuit 3 and disposed on the transfer surface 14 of the transfer substrate 13. As the electrical component 4, a passive component (LCR) such as a chip-shaped resistor, a chip-shaped capacitor, or a chip-shaped inductor can be mounted. In this case, the chip-shaped component is a conductor circuit by solder 17. 3 can be connected. Further, as the electrical component 4, an active component (IC) such as a semiconductor bare chip such as a silicon bare chip can be mounted. In this case, although not shown in FIG. 1, the semiconductor bare chip is connected to the conductor circuit 3 by solder balls 18 and the like, and the underfill 19 is filled and cured in the same manner as shown in FIG. can do. As the underfill 19, one made of a general epoxy resin composition or the like can be used. The electrical component 4 can also be mounted using the conductive paste 52, but the connection with the solder 17 has higher mounting reliability as described above.

上記LCRは、印刷により又はシート状物で提供されていてもよい。例えば、抵抗素子(印刷抵抗)を印刷成形する場合には、熱硬化性樹脂中に金属粉を混入するなどしたペースト状の抵抗材料を印刷した後、これを加熱することにより、高容量の素子を形成することができる。また、コンデンサ素子を形成する場合には、熱硬化性樹脂中に高誘電率フィラーとしてチタン酸バリウム等を混入するなどしたペースト状の誘電材料を印刷した後、これを加熱することにより、高容量の素子を形成することができる。特に、ペーストの樹脂分を焼成して揮散させることによりセラミック状にして、より高い誘電素子を形成することができる。   The LCR may be provided by printing or in a sheet form. For example, when printing a resistance element (printing resistance), a high-capacity element is obtained by printing a paste-like resistance material in which metal powder is mixed in a thermosetting resin and then heating the paste-like resistance material. Can be formed. In addition, when forming a capacitor element, after printing a paste-like dielectric material in which barium titanate or the like is mixed as a high dielectric constant filler in a thermosetting resin, it is heated to increase the capacity. These elements can be formed. In particular, a higher dielectric element can be formed by firing the resin content of the paste and volatilizing it to form a ceramic.

また、図1(a)に示すように、中空部46を有する雌形コネクタ形成用部品15を導体回路3と電気的に接続して転写用基材13の転写面14に配設する。ここで、雌形コネクタ形成用部品15は、例えば、エンジニアリングプラスチック等の絶縁性樹脂を成形することにより直方体状又は円筒状の筐体48として形成することができる。この筐体48の内部には、大容量の信号のやりとりに必要とされるだけの複数の接続端子5が設けられている。各接続端子5は、上記筐体48の外面に設けた複数のリード20とそれぞれ電気的に接続されており、筐体48内の一部には、上記と同種又は異種の絶縁性樹脂49を充填することにより、接続端子5間の絶縁を確保すると共に各接続端子5を固定している。また、筐体48内の残部には中空部46が形成されており、筐体48内の一部を充填している絶縁性樹脂49の表面から各接続端子5が中空部46内に突出している。中空部46を形成している筐体48の一部には開口部50を設け、この開口部50には取り外し可能なキャップ47を設けておくことが好ましい。   Further, as shown in FIG. 1A, the female connector forming component 15 having the hollow portion 46 is electrically connected to the conductor circuit 3 and disposed on the transfer surface 14 of the transfer substrate 13. Here, the female connector forming component 15 can be formed as a rectangular parallelepiped or cylindrical casing 48 by molding an insulating resin such as engineering plastic. Inside the casing 48, a plurality of connection terminals 5 required for exchanging large-capacity signals are provided. Each connection terminal 5 is electrically connected to a plurality of leads 20 provided on the outer surface of the casing 48, and a part of the casing 48 is provided with an insulating resin 49 of the same or different kind as described above. By filling, the insulation between the connection terminals 5 is ensured and each connection terminal 5 is fixed. Further, a hollow portion 46 is formed in the remaining portion of the housing 48, and each connection terminal 5 protrudes into the hollow portion 46 from the surface of the insulating resin 49 filling a part of the housing 48. Yes. It is preferable that an opening 50 is provided in a part of the casing 48 forming the hollow portion 46, and a removable cap 47 is provided in the opening 50.

そして、雌形コネクタ形成用部品15の内部に設けた接続端子5と導体回路3とを電気的に接続する。具体的には、図1(a)に示すように、筐体48の外面に設けたリード20と導体回路3とを半田17にて接合することにより、リード20を介して接続端子5と導体回路3とが電気的に接続されている。ここで、既述のキャップ47を設けて中空部46が形成されている雌形コネクタ形成用部品15を用いる場合においては、半田17による接続を行う前に、雌形コネクタ形成用部品15からキャップ47を取り外しておくことが好ましい。このようにしておけば、雌形コネクタ形成用部品15の中空部46内の空気を開口部50を通じて雌形コネクタ形成用部品15の外部へ自由に流通させることができるものである。キャップ47を設けていない場合には、半田17の熱で雌形コネクタ形成用部品15の中空部46内の空気が膨張することにより、雌形コネクタ形成用部品15が破損するおそれがある。しかし、取り外し可能なキャップ47を設けている場合には、このようなおそれは皆無である。なお、図1に示すものにおいては、接続端子5の突出方向は転写面14と略平行にしてあり、また、接続端子5の先端は電気部品4と対向しないようにしてある。   Then, the connection terminal 5 provided in the female connector forming component 15 and the conductor circuit 3 are electrically connected. Specifically, as shown in FIG. 1A, the lead 20 provided on the outer surface of the housing 48 and the conductor circuit 3 are joined with solder 17, whereby the connection terminal 5 and the conductor are connected via the lead 20. The circuit 3 is electrically connected. Here, in the case of using the female connector forming component 15 provided with the cap 47 described above and having the hollow portion 46 formed, the cap is removed from the female connector forming component 15 before the connection with the solder 17. 47 is preferably removed. By doing so, the air in the hollow portion 46 of the female connector forming component 15 can be freely circulated to the outside of the female connector forming component 15 through the opening 50. When the cap 47 is not provided, the air in the hollow portion 46 of the female connector forming part 15 is expanded by the heat of the solder 17, so that the female connector forming part 15 may be damaged. However, when the removable cap 47 is provided, there is no such fear. 1, the protruding direction of the connection terminal 5 is substantially parallel to the transfer surface 14, and the tip of the connection terminal 5 is not opposed to the electrical component 4.

転写用基材13と導体回路3との間の密着強度(剥離強度)は0.098〜1.96mN/cm(10〜200gf/cm)であることが好ましく、0.294〜0.882mN/cm(30〜90gf/cm)であることがより好ましい。このような範囲であると、転写用基材13と導体回路3との間の密着性及び剥離性をバランス良く得ることができるものである。しかし、上記の密着強度が小さすぎると、導体回路3と転写用基材13との間の密着性が不十分となるおそれがあり、逆に上記の密着強度が大きすぎると、導体回路3を転写用基材13から樹脂層1に転写する際に、導体回路3と転写用基材13とを完全に剥離することができなくなるおそれがある。   The adhesion strength (peel strength) between the transfer substrate 13 and the conductor circuit 3 is preferably 0.098 to 1.96 mN / cm (10 to 200 gf / cm), and 0.294 to 0.882 mN / cm. More preferably, it is cm (30 to 90 gf / cm). Within such a range, the adhesion and peelability between the transfer substrate 13 and the conductor circuit 3 can be obtained with a good balance. However, if the above adhesion strength is too small, the adhesion between the conductor circuit 3 and the transfer substrate 13 may be insufficient. Conversely, if the above adhesion strength is too large, the conductor circuit 3 may be When transferring from the transfer substrate 13 to the resin layer 1, the conductor circuit 3 and the transfer substrate 13 may not be completely peeled off.

転写用基材13としては、金属基材を用いるのが好ましい。特に、ステンレス基材を用いるのが好ましい。ステンレスは、銅等の金属からなる導体回路3や樹脂層1との密着性が低いことから、導体回路3の転写時において樹脂層1及び導体回路3からの剥離性を高く得ることができ、導体回路3を樹脂層1に容易に転写することができるものである。ステンレス基材としては、SUS304、SUS301を用いることができる。このうちSUS301はめっき密着性に優れているため、特にSUS301を用いるのが好ましい。   As the transfer substrate 13, a metal substrate is preferably used. In particular, it is preferable to use a stainless steel substrate. Since stainless steel has low adhesion to the conductor circuit 3 and the resin layer 1 made of a metal such as copper, it is possible to obtain high peelability from the resin layer 1 and the conductor circuit 3 during the transfer of the conductor circuit 3. The conductor circuit 3 can be easily transferred to the resin layer 1. As the stainless steel substrate, SUS304 or SUS301 can be used. Among these, since SUS301 is excellent in plating adhesiveness, it is particularly preferable to use SUS301.

ステンレス基材を用いる場合、その厚みは50〜200μmであることが好ましく、特に100μm程度であると取扱性が良好である。すなわち、厚み50〜200μm、特に厚み100μmのステンレス基材を用いる場合、転写用基材13は高い靱性を有すると共に適度な撓みやすさを有するので、後述するように導体回路3の転写時において転写用基材13を撓ませることにより、樹脂層1を湾曲させることなく、樹脂層1から転写用基材13を容易に剥離することができるものである。また、電気部品4を多数実装する場合でも取扱性が良好である。例えば、電気部品4を導体回路3に多数実装する場合においてリフロー炉への搬入及び取り出し等の作業を容易に行うことができる。また、導体回路3の形成時や電気部品4の実装時に転写面14が汚れた場合でも、導体回路3の形成後や電気部品4の実装後に、脱脂等により容易に洗浄することができ、樹脂層1に汚れが転写されないようにすることができ、信頼性の低下を防止することができるものである。   When a stainless steel substrate is used, the thickness is preferably 50 to 200 μm, and handling properties are particularly good when it is about 100 μm. That is, when a stainless steel substrate having a thickness of 50 to 200 μm, particularly 100 μm, is used, the transfer substrate 13 has high toughness and moderate flexibility, so that it is transferred during transfer of the conductor circuit 3 as described later. The substrate for transfer 13 can be easily peeled from the resin layer 1 without bending the resin layer 1 by bending the substrate for transfer 13. Further, even when a large number of electrical components 4 are mounted, the handleability is good. For example, when a large number of electrical components 4 are mounted on the conductor circuit 3, operations such as carrying in and out of the reflow furnace can be easily performed. Further, even when the transfer surface 14 becomes dirty when the conductor circuit 3 is formed or when the electric component 4 is mounted, it can be easily cleaned by degreasing after the formation of the conductor circuit 3 or after the electric component 4 is mounted. It is possible to prevent dirt from being transferred to the layer 1 and to prevent a decrease in reliability.

また、ステンレス基材を用いる場合、硝酸とフッ酸との混酸や、塩化第二鉄溶液等のエッチング液により、ソフトエッチング処理等の化学研磨による粗化処理を転写面14に行い、転写用基材13と導体回路3との間の密着強度を調整しておくのが好ましい。具体的には、上記のような処理により、転写用基材13の表面粗度Raを2μm以下に設定しておくのが好ましく、0.1〜0.5μmに設定しておくのがより好ましい。このようにしておけば、めっき処理等による転写用基材13への導体回路3の形成時において転写用基材13と導体回路3との密着性をある程度確保することができ、半田リフロー加熱時等に転写用基材13から導体回路3が不用意に剥離しないようにすることができると共に、導体回路3の転写時において転写用基材13を樹脂層1から剥離する際に導体回路3を確実に樹脂層1に残存させることができるものである。   When a stainless steel substrate is used, the transfer surface 14 is roughened by chemical polishing such as soft etching with a mixed acid of nitric acid and hydrofluoric acid or an etching solution such as a ferric chloride solution. It is preferable to adjust the adhesion strength between the material 13 and the conductor circuit 3 in advance. Specifically, the surface roughness Ra of the transfer base material 13 is preferably set to 2 μm or less by the above-described treatment, and more preferably set to 0.1 to 0.5 μm. . In this way, when the conductor circuit 3 is formed on the transfer substrate 13 by plating or the like, it is possible to secure a certain degree of adhesion between the transfer substrate 13 and the conductor circuit 3, and during solder reflow heating. For example, the conductor circuit 3 can be prevented from being inadvertently peeled off from the transfer substrate 13, and the conductor circuit 3 can be removed when the transfer substrate 13 is peeled off from the resin layer 1 during the transfer of the conductor circuit 3. The resin layer 1 can be reliably left.

次に、図1(b)に示すように、あらかじめ導体回路3のみを設けておいた転写用基材13と、雌形コネクタ形成用部品15を配設した既述の転写用基材13との2枚の転写用基材13の間にBステージ(半硬化状態)の樹脂層1を配置すると共に、各転写用基材13の転写面14を樹脂層1の表面に対向させて、樹脂層1の両側に転写用基材13を積層する。このとき、既述のキャップ47を設けた雌形コネクタ形成用部品15を用いている場合には、積層する前に、雌形コネクタ形成用部品15にキャップ47を取り付けて開口部50に蓋をしておくことが好ましい。このようにしておけば、成形過程において溶融軟化した樹脂層1の樹脂が開口部50を通じて雌形コネクタ形成用部品15の中空部46内に流れ込むのを防止することができるからである。なお、一方の転写用基材13だけでなく、両方の転写用基材13に電気部品4を配設しておいてもよい。   Next, as shown in FIG. 1B, the transfer base 13 provided with only the conductor circuit 3 in advance, and the transfer base 13 described above in which the female connector forming component 15 is disposed, The B-stage (semi-cured state) resin layer 1 is disposed between the two transfer base materials 13 and the transfer surface 14 of each transfer base material 13 is opposed to the surface of the resin layer 1 so that the resin A transfer substrate 13 is laminated on both sides of the layer 1. At this time, if the female connector forming component 15 provided with the cap 47 is used, the cap 47 is attached to the female connector forming component 15 and the opening 50 is covered before the lamination. It is preferable to keep it. This is because the resin of the resin layer 1 melted and softened in the molding process can be prevented from flowing into the hollow portion 46 of the female connector forming part 15 through the opening 50. The electrical component 4 may be disposed not only on one transfer substrate 13 but also on both transfer substrates 13.

ここで、樹脂層1を形成している樹脂組成物は、樹脂成分と無機フィラーとを含有するものであり、樹脂成分としては、熱可塑性樹脂や熱硬化性樹脂を用いることができ、必要に応じて硬化剤、硬化促進剤、表面処理剤等を配合することができる。熱硬化性樹脂を用いる場合には、粘度調整のために溶剤を配合することもできる。   Here, the resin composition forming the resin layer 1 contains a resin component and an inorganic filler. As the resin component, a thermoplastic resin or a thermosetting resin can be used. Accordingly, a curing agent, a curing accelerator, a surface treatment agent, and the like can be blended. When using a thermosetting resin, a solvent can also be mix | blended for viscosity adjustment.

熱硬化性樹脂としては、特に限定されるものではないが、公知のエポキシ樹脂、フェノール樹脂、シアネート樹脂等を用いることができ、このうち1種のみを単独で又は2種以上を混合して用いることができる。また、添加型の難燃剤を加えると難燃性を得ることができるが、熱硬化性樹脂の一部又は全部が臭素化されたものやリン変性されたものを用いると、耐熱性や機械的強度を十分に維持しつつ難燃性の向上を図ることができる。   Although it does not specifically limit as a thermosetting resin, A well-known epoxy resin, a phenol resin, cyanate resin etc. can be used, Among these, only 1 type is used individually or in mixture of 2 or more types. be able to. In addition, flame retardancy can be obtained by adding an additive type flame retardant. However, if a part or all of a thermosetting resin is brominated or phosphorus-modified, heat resistance and mechanical properties can be obtained. It is possible to improve the flame retardancy while maintaining sufficient strength.

硬化剤や硬化促進剤としては、特に限定されるものではなく、使用する熱硬化性樹脂に応じて公知のものから適宜に選択して用いることができる。例えば、熱硬化性樹脂としてエポキシ樹脂を用いる場合には、硬化剤としてはフェノールノボラック樹脂やジシアンジアミド等の硬化剤を配合することができ、また、硬化促進剤としては2−エチル−4−メチルイミダゾールやトリフェニルホスフィン等の硬化促進剤を配合することができる。   It does not specifically limit as a hardening | curing agent or a hardening accelerator, According to the thermosetting resin to be used, it can select from a well-known thing suitably and can be used. For example, when an epoxy resin is used as the thermosetting resin, a curing agent such as phenol novolac resin or dicyandiamide can be blended as the curing agent, and 2-ethyl-4-methylimidazole as the curing accelerator. And a curing accelerator such as triphenylphosphine can be blended.

表面処理剤としては、シラン系カップリング剤、チタネート系カップリング剤等のカップリング剤や、リン酸エステル系分散剤、エーテルアミン系分散剤等の分散剤等を用いることができる。これにより、樹脂組成物における無機フィラーの分散性を向上させることができる。   As the surface treatment agent, a coupling agent such as a silane coupling agent or a titanate coupling agent, or a dispersing agent such as a phosphate ester dispersant or an ether amine dispersant can be used. Thereby, the dispersibility of the inorganic filler in a resin composition can be improved.

溶剤としては、メチルエチルケトンやアセトンのような低沸点のものを用いるのが好ましい。このような低沸点溶剤を用いると、乾燥後の樹脂層1の表面の形状が良好となるからである。逆に、高沸点溶剤を用いると、乾燥時に溶剤が十分に揮発せず残留する可能性が高く、硬化後の樹脂層1(絶縁基板2)の電気絶縁性や機械的強度の低下の原因となるおそれがある。   As the solvent, it is preferable to use a solvent having a low boiling point such as methyl ethyl ketone or acetone. This is because when such a low boiling point solvent is used, the shape of the surface of the resin layer 1 after drying becomes good. On the contrary, if a high boiling point solvent is used, there is a high possibility that the solvent does not volatilize sufficiently during drying, and it is likely that the solvent will remain and cause a decrease in electrical insulation and mechanical strength of the cured resin layer 1 (insulating substrate 2). There is a risk.

無機フィラーは樹脂組成物に高充填することにより、この樹脂組成物で形成される樹脂層1の熱膨張率を低減し、導体回路3や電気部品4の熱膨張率との整合を取ることができる。無機フィラーの配合量は樹脂組成物全量(ただし、溶剤を除く)に対して80〜95質量%であることが好ましい。このとき、硬化後の樹脂層1の熱膨張率が20ppm/℃以下となり、上記の整合性を一層高く得ることができ、熱による負荷を受けた際に、樹脂層1と導体回路3との剥離や、電気部品4の破損、断線等の不良の発生を防止することができるものである。   By filling the resin composition with a high amount of the inorganic filler, the thermal expansion coefficient of the resin layer 1 formed from this resin composition can be reduced, and the thermal expansion coefficient of the conductor circuit 3 and the electrical component 4 can be matched. it can. It is preferable that the compounding quantity of an inorganic filler is 80-95 mass% with respect to the resin composition whole quantity (however, except a solvent). At this time, the thermal expansion coefficient of the cured resin layer 1 is 20 ppm / ° C. or less, and the above-described consistency can be further increased. When subjected to heat load, the resin layer 1 and the conductor circuit 3 Generation | occurrence | production of defects, such as peeling, damage of the electrical component 4, and a disconnection, can be prevented.

無機フィラーとしては、酸化アルミニウム(Al)、酸化マグネシウム(MgO)、窒化ホウ素(BN)、窒化アルミニウム(AlN)、シリカ(SiO)、酸化チタン(TiO)、ホウ酸アルミニウム(9Al・2B)等を用いることができ、このうち1種のみを単独で又は2種以上を混合して用いることができる。 As the inorganic filler, aluminum oxide (Al 2 O 3 ), magnesium oxide (MgO), boron nitride (BN), aluminum nitride (AlN), silica (SiO 2 ), titanium oxide (TiO 2 ), aluminum borate (9Al 2 O 3 .2B 2 O 3 ) or the like can be used, and among these, only one type can be used alone or two or more types can be mixed and used.

なお、成形時の樹脂層1の流動性を調整したり、硬化後の樹脂層1の割れを防止したりするために、樹脂組成物にはフェノキシ樹脂等の熱可塑性樹脂を配合することもできる。   In addition, in order to adjust the fluidity | liquidity of the resin layer 1 at the time of shaping | molding, or to prevent the crack of the resin layer 1 after hardening, thermoplastic resins, such as a phenoxy resin, can also be mix | blended with a resin composition. .

そして、樹脂組成物は、混練機を用いて上記の各成分を混練してスラリー化し、最適な粘度に調整することによって得ることができる。次に、このようにして得られた樹脂組成物をキャリア基材(例えば、PETフィルムや圧延銅箔等)の表面に塗布し、これを加熱乾燥することにより、Bステージのシート状の樹脂層1を得ることができる。このときの加熱乾燥条件は、樹脂組成物の組成にもよるが、130〜170℃で2〜10分間加熱することが好ましい。また、樹脂層1の厚みは50〜300μmであることが好ましい。なお、上記のようにして得られるBステージの樹脂層1は、キャリア基材から剥離することにより、樹脂シート21として用いることができる。   The resin composition can be obtained by kneading each of the above components into a slurry using a kneader and adjusting the viscosity to an optimum viscosity. Next, the resin composition thus obtained is applied to the surface of a carrier substrate (for example, a PET film, a rolled copper foil, etc.), and this is heated and dried to thereby form a B-stage sheet-like resin layer. 1 can be obtained. The heating and drying conditions at this time depend on the composition of the resin composition, but are preferably heated at 130 to 170 ° C. for 2 to 10 minutes. Moreover, it is preferable that the thickness of the resin layer 1 is 50-300 micrometers. The B-stage resin layer 1 obtained as described above can be used as the resin sheet 21 by peeling from the carrier substrate.

また、樹脂シート21としては、不織布にスラリー状の樹脂組成物を含浸させた後、これを乾燥させることにより得られるものを用いることもできる。不織布としては、ガラス不織布、有機繊維不織布等を用いることができる。よって、FR−4(ガラスエポキシ銅張積層板)等の金属張積層板を製造するために用いられるプリプレグも、樹脂シート21に含まれ、本発明の樹脂層1を形成することができる。   Moreover, as the resin sheet 21, what is obtained by making a nonwoven fabric impregnate a slurry-like resin composition, and drying this can also be used. As a nonwoven fabric, a glass nonwoven fabric, an organic fiber nonwoven fabric, etc. can be used. Therefore, a prepreg used for producing a metal-clad laminate such as FR-4 (glass epoxy copper-clad laminate) is also included in the resin sheet 21 and can form the resin layer 1 of the present invention.

図1(b)に示すものにおいては、1枚の樹脂シート21からなる樹脂層1と転写用基材13を積層しているが、転写面14からの電気部品4の突出寸法に応じて、2枚以上の樹脂シート21からなる樹脂層1と転写用基材13を積層してもよい。そして、このように積層した状態で加熱加圧成形を行うことにより一体化する。   In the case shown in FIG. 1B, the resin layer 1 composed of a single resin sheet 21 and the transfer base material 13 are laminated, but depending on the protruding dimensions of the electrical component 4 from the transfer surface 14, The resin layer 1 composed of two or more resin sheets 21 and the transfer substrate 13 may be laminated. And it integrates by performing heat press molding in the state laminated | stacked in this way.

上記の成形過程においては、まず樹脂シート21が溶融軟化する。このとき複数の樹脂シート21を積層している場合には、これらの樹脂シート21が一体化し、またこの溶融軟化した樹脂シート21が流動することにより、転写用基材13に形成された導体回路3及び電気部品4が、樹脂シート21で形成される樹脂層1に埋設される。このとき電気部品4と転写用基材13との間の隙間にアンダーフィル19を充填していない場合には、溶融軟化した樹脂シート21が流動することにより、上記の隙間にも樹脂が十分に充填されるような条件で成形を行うものである。また、成形時の圧力は、溶融軟化時の樹脂シート21の流動性に応じて設定する必要がある。例えば、この溶融軟化時の流動性が高い場合には、真空ラミネータにより容易に成形可能であり、また溶融軟化時の流動性が低い場合には、2.94MPa(30kgf/cm)程度まで加圧して成形することができる。また、電気部品4を樹脂層1に埋設させるためには、樹脂シート21が溶融軟化した時点から徐々に昇圧することが好ましい。また、この加熱加圧成形は、減圧下又は真空下において行うことが好ましい。この場合、樹脂層1の内部にボイドが混入しにくくなり、信頼性が向上するからである。 In the molding process, the resin sheet 21 is first melted and softened. At this time, when a plurality of resin sheets 21 are laminated, the resin sheets 21 are integrated, and the melt-softened resin sheet 21 flows to form a conductor circuit formed on the transfer substrate 13. 3 and the electrical component 4 are embedded in the resin layer 1 formed of the resin sheet 21. At this time, when the underfill 19 is not filled in the gap between the electrical component 4 and the transfer substrate 13, the melted and softened resin sheet 21 flows, so that the resin is sufficiently contained in the gap. Molding is performed under such a condition that it is filled. Moreover, it is necessary to set the pressure at the time of molding according to the fluidity of the resin sheet 21 at the time of melt softening. For example, when the fluidity at the time of melt softening is high, it can be easily molded by a vacuum laminator, and when the fluidity at the time of melt softening is low, it is increased to about 2.94 MPa (30 kgf / cm 2 ). It can be molded by pressing. Moreover, in order to embed the electric component 4 in the resin layer 1, it is preferable to gradually increase the pressure from the time when the resin sheet 21 is melted and softened. Moreover, it is preferable to perform this heating and pressing under reduced pressure or under vacuum. In this case, voids are less likely to be mixed into the resin layer 1 and the reliability is improved.

また、上記の成形過程における加熱温度は、樹脂層1を構成する樹脂組成物の組成にもよるが、100〜180℃であることが好ましい。より詳しくは、溶融軟化時の成形温度は100〜130℃、上記埋設後の成形硬化温度は160〜180℃であることが好ましい。そして、この加熱でBステージの樹脂層1が硬化してCステージの樹脂層1となり、これにより絶縁基板2が形成される。   Moreover, although the heating temperature in said shaping | molding process is based also on the composition of the resin composition which comprises the resin layer 1, it is preferable that it is 100-180 degreeC. More specifically, the molding temperature during melt softening is preferably 100 to 130 ° C., and the molding and curing temperature after embedding is preferably 160 to 180 ° C. By this heating, the B-stage resin layer 1 is cured to become the C-stage resin layer 1, whereby the insulating substrate 2 is formed.

次に、図1(c)に示すように、導体回路3、電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を樹脂層1に埋入させた後、図1(d)に示すように、樹脂層1から転写用基材13のみを剥離することにより、導体回路3、電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を樹脂層1に残存させる。転写用基材13の剥離は、転写用基材13を撓ませながら樹脂層1の端部から引き剥がすことにより行うことができる。この剥離後の転写用基材13は、酸洗浄等による洗浄を行えば、再度、電気部品内蔵回路板Aの製造に利用することができる。   Next, as shown in FIG. 1 (c), the conductor circuit 3, the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are embedded in the resin layer 1, and then, as shown in FIG. By peeling only the transfer base material 13 from the layer 1, the conductor circuit 3, the electrical component 4, and the female connector forming component 15 remain in the resin layer 1. The transfer substrate 13 can be peeled off by peeling off the end of the resin layer 1 while bending the transfer substrate 13. The substrate 13 for transfer after peeling can be used again for the manufacture of the electric component built-in circuit board A if it is cleaned by acid cleaning or the like.

また、必要に応じて、レーザ光を照射したり、ドリル加工したりすることにより、樹脂層1及びその両側の導体回路3を貫通する貫通孔51を形成すると共に、この貫通孔51の内部に導電性ペースト52を充填することにより、樹脂層1の両側の導体回路3同士を導通してもよい。そして、図1(d)に示すように、樹脂層1の表面において導体回路3を露出させて形成し、樹脂層1に電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を埋設させた後、雌形コネクタ形成用部品15の中空部46を通るように樹脂層1を厚み方向に切断する。この切断は、ダイヤモンドカッターやルーター等を用いて行うことができる。図1(d)において切断箇所を1点鎖線で示す。このように切断することにより、樹脂層1の側面において雌形コネクタ形成用部品15の凹部6を開口させることができ、図1(e)に示すような電気部品内蔵回路板Aを製造することができる。このようにして得られる電気部品内蔵回路板Aは、次のような特徴を有している。すなわち、樹脂層1の表面において導体回路3が露出して形成されており、しかも樹脂層1の外面と導体回路3の露出面とが面一となって、電気部品内蔵回路板Aの表面(側面を除く)が凹凸なく平坦に形成されている。また、樹脂層1には、導体回路3と電気的に接続された電気部品4が埋設されている。さらに、樹脂層1の側面において雌形コネクタ8の凹部6が開口している。   Further, if necessary, by irradiating with a laser beam or drilling, a through hole 51 penetrating the resin layer 1 and the conductor circuit 3 on both sides thereof is formed, and inside the through hole 51. By filling the conductive paste 52, the conductor circuits 3 on both sides of the resin layer 1 may be conducted. Then, as shown in FIG. 1 (d), the conductor circuit 3 is exposed on the surface of the resin layer 1, and the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are embedded in the resin layer 1. The resin layer 1 is cut in the thickness direction so as to pass through the hollow portion 46 of the connector forming part 15. This cutting can be performed using a diamond cutter or a router. In FIG.1 (d), a cutting location is shown with a dashed-dotted line. By cutting in this way, the concave portion 6 of the female connector forming component 15 can be opened on the side surface of the resin layer 1, and the electric component built-in circuit board A as shown in FIG. Can do. The electric component built-in circuit board A thus obtained has the following characteristics. That is, the conductor circuit 3 is exposed and formed on the surface of the resin layer 1, and the outer surface of the resin layer 1 and the exposed surface of the conductor circuit 3 are flush with each other so that the surface ( Are formed flat without unevenness. In addition, an electrical component 4 electrically connected to the conductor circuit 3 is embedded in the resin layer 1. Further, the recess 6 of the female connector 8 is opened on the side surface of the resin layer 1.

ここで、図1(e)に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、導体回路3が絶縁基板2の表面において露出しているので、図1(f)に示すように、導体回路3が露出している側の面に既述の樹脂シート21を貼着することにより、回路保護用絶縁層10を形成してもよい。そうすると、この回路保護用絶縁層10により、導体回路3を保護することができるものである。なお、回路保護用絶縁層10は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成してもよい。また、回路保護用絶縁層10の表面には、品名、型式、製造番号等を表示することができる。   Here, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 1 (e), the conductor circuit 3 is exposed on the surface of the insulating substrate 2, so that the conductor circuit 3 is exposed as shown in FIG. 1 (f). The insulating layer 10 for circuit protection may be formed by adhering the above-described resin sheet 21 to the surface on the side where the circuit protection is performed. Then, the conductor circuit 3 can be protected by the circuit protection insulating layer 10. The insulating layer 10 for circuit protection may be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8. In addition, on the surface of the circuit protection insulating layer 10, the product name, model, serial number, etc. can be displayed.

また、図1(g)も電気部品内蔵回路板Aの他例を示すものである。この電気部品内蔵回路板Aにおいては、絶縁基板2の表面に銅箔等の金属箔を貼着したり銅めっき等によるめっき処理を行ったりすることにより、電磁遮蔽用金属層11を形成している。このようにすると、この電磁遮蔽用金属層11により、電磁シールド効果を得ることができ、電磁障害を防止することができるものである。なお、この図1(g)に示すものにおいては、電磁遮蔽用金属層11は、絶縁基板2の両面に形成した回路保護用絶縁層10を介して、形成している。また、電磁遮蔽用金属層11は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成することができる。   FIG. 1G also shows another example of the electric component built-in circuit board A. In this electric component built-in circuit board A, an electromagnetic shielding metal layer 11 is formed by sticking a metal foil such as a copper foil on the surface of the insulating substrate 2 or performing a plating process such as copper plating. Yes. In this way, the electromagnetic shielding metal layer 11 can obtain an electromagnetic shielding effect and prevent electromagnetic interference. In FIG. 1G, the electromagnetic shielding metal layer 11 is formed via circuit protection insulating layers 10 formed on both surfaces of the insulating substrate 2. Further, the electromagnetic shielding metal layer 11 can be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8.

以上のように、図1に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、単一の樹脂層1で絶縁基板2が形成され、1つの樹脂層1の両面に導体回路3が形成され、導体回路3と電気的に接続された電気部品4が1つの樹脂層1に埋設されている。このように、電気部品4を絶縁基板2内に内蔵させることにより、電気部品4の搭載量を増大させつつ小型化を図ることができるものである。また、電気部品4の実装可能位置が拡大することから、配線設計の自由度も増大する。さらに、図1に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、絶縁基板2の側面に凹部6が形成され、導体回路3と電気的に接続された接続端子5が凹部6の内面7に設けられて雌形コネクタ8が形成されている。そのため、従来よりも接続端子5の数を増加させても、これらの接続端子5はすべて凹部6の内面7に設けることができ、嵩張らず、出っ張りの原因ともならずに、大容量の情報の出し入れを外部との間で行うことができるものである。よって、携帯に便利なICカード等を製造するのが容易であり、さらなる小型化が可能となるものである。なお、外部との間において情報を出し入れするにあたっては、情報の供給元・保存元となる外部機器に設けた雄形コネクタ(図示省略)を電気部品内蔵回路板Aの雌形コネクタ8に接続することによって行うことができる。なお、本発明において樹脂層1の片面又は両面とは、外部から視認できる面を意味するほか、外部から視認できない面、つまり異なる樹脂層1間の界面をも意味する。以下においても同様である。   As described above, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 1, the insulating substrate 2 is formed by the single resin layer 1, and the conductor circuit 3 is formed on both surfaces of the single resin layer 1. The electrical component 4 electrically connected to is embedded in one resin layer 1. Thus, by incorporating the electrical component 4 in the insulating substrate 2, it is possible to reduce the size while increasing the mounting amount of the electrical component 4. Moreover, since the mountable position of the electrical component 4 is expanded, the degree of freedom in wiring design is also increased. Further, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 1, the recess 6 is formed on the side surface of the insulating substrate 2, and the connection terminal 5 electrically connected to the conductor circuit 3 is provided on the inner surface 7 of the recess 6. A female connector 8 is formed. Therefore, even if the number of connection terminals 5 is increased as compared with the conventional case, all of these connection terminals 5 can be provided on the inner surface 7 of the recess 6 and are not bulky and cause no bulging. It can be taken in and out with the outside. Therefore, it is easy to manufacture an IC card or the like that is convenient for carrying, and further miniaturization is possible. In order to exchange information with the outside, a male connector (not shown) provided in an external device serving as an information supply source / storage source is connected to the female connector 8 of the electric component built-in circuit board A. Can be done. In the present invention, the one or both surfaces of the resin layer 1 mean a surface that can be visually recognized from the outside, and also a surface that cannot be visually recognized from the outside, that is, an interface between different resin layers 1. The same applies to the following.

また、既述の電気部品内蔵回路板Aの製造方法によれば、Bステージの樹脂層1が溶融軟化し、この樹脂層1を構成する樹脂組成物が流動して隙間を埋めていくことから、電気部品4の周囲に空隙が発生しないようにすることができる。よって、電気部品4の周囲に空気が残存しなくなるので、電気部品内蔵回路板Aが熱による負荷を受けた場合であっても、空気の熱膨張による絶縁基板2の割れや電気部品4の破損、断線等の不良の発生を抑制することができる。しかも、煩雑な工程を経ることなく、電気部品4の実装量や実装位置にかかわらず、樹脂層1を溶融軟化させることにより、絶縁基板2内部の任意の箇所に電気部品4を配置することができるものである。   Further, according to the method for manufacturing the electric component built-in circuit board A described above, the resin layer 1 of the B stage is melted and softened, and the resin composition constituting the resin layer 1 flows to fill the gap. It is possible to prevent a gap from being generated around the electrical component 4. Therefore, air does not remain around the electrical component 4, so even if the electrical component built-in circuit board A receives a load due to heat, the insulating substrate 2 is cracked or the electrical component 4 is damaged due to thermal expansion of the air. The occurrence of defects such as disconnection can be suppressed. In addition, the electric component 4 can be arranged at an arbitrary position inside the insulating substrate 2 by melting and softening the resin layer 1 regardless of the mounting amount and mounting position of the electric component 4 without going through complicated steps. It can be done.

また、図1(e)〜(g)に示すものにおいては、電気部品内蔵回路板Aの両面に絶縁層及び導体層を交互に積層していく余地があるので、公知のビルドアップ法を行うことにより、多層化を図ることができるものである。すなわち、上記のようにして得られる電気部品内蔵回路板Aは、コア材23として用いることができる。図2はこの多層化の工程の一例を示すものであり、この工程においては、図1(e)に示す電気部品内蔵回路板Aを用い、まず、図2(a)に示すように、コア材23の両面に金属箔付き樹脂シート24の樹脂層1側の面を対向させて、コア材23と金属箔付き樹脂シート24を積層する。そして、このように積層した状態で加熱加圧成形を行うことにより一体化する。この成形過程においては、Bステージの樹脂層1が溶融した後硬化することにより、コア材23と金属箔付き樹脂シート24との界面が接合されて両者が一体化される。なお、上記の加熱加圧成形は既述の場合と同様の条件で行うことができる。   1 (e) to 1 (g), there is room for alternately laminating insulating layers and conductor layers on both surfaces of the electric component built-in circuit board A, so a known build-up method is performed. Thus, a multi-layer can be achieved. That is, the electric component built-in circuit board A obtained as described above can be used as the core material 23. FIG. 2 shows an example of this multilayering process. In this process, the circuit board A with a built-in electrical component shown in FIG. 1 (e) is used. First, as shown in FIG. The core material 23 and the metal foil-attached resin sheet 24 are laminated with both surfaces of the material 23 facing the resin layer 1 side of the resin sheet 24 with the metal foil. And it integrates by performing heat press molding in the state laminated | stacked in this way. In this molding process, the B-stage resin layer 1 is melted and then cured, so that the interface between the core material 23 and the metal foil-attached resin sheet 24 is joined and integrated. In addition, said heat press molding can be performed on the same conditions as the above-mentioned case.

ここで、金属箔付き樹脂シート24は、Bステージの樹脂層1を金属箔25の片面に設けて形成されるものであり、上記金属箔25としては、例えば、銅箔等を用いることができる。金属箔25の厚みは10〜150μmであることが好ましい。金属箔25の樹脂層1が形成される面は、樹脂層1との密着性を向上するために粗面としておくことが好ましい。例えば、金属箔25として電解銅箔を用いる場合には、電解銅箔にもともと形成されている粗面に樹脂層1を形成することができる。また、金属箔25に表面処理を行うこともできる。この表面処理としては、例えば、黒化処理、アルマイト処理等による粗面化処理を挙げることができる。一方、金属箔付き樹脂シート24を構成する樹脂層1は、既述の樹脂組成物を用いて形成することができる。そして、樹脂組成物を金属箔25の片面(粗面)に塗布し、これを乾燥させてBステージの樹脂層1を形成することにより、金属箔付き樹脂シート24を得ることができる。   Here, the resin sheet 24 with metal foil is formed by providing the B-stage resin layer 1 on one side of the metal foil 25. As the metal foil 25, for example, copper foil or the like can be used. . The thickness of the metal foil 25 is preferably 10 to 150 μm. The surface of the metal foil 25 on which the resin layer 1 is formed is preferably a rough surface in order to improve the adhesion with the resin layer 1. For example, when an electrolytic copper foil is used as the metal foil 25, the resin layer 1 can be formed on the rough surface originally formed on the electrolytic copper foil. Further, the metal foil 25 can be subjected to a surface treatment. Examples of the surface treatment include a roughening treatment such as a blackening treatment and an alumite treatment. On the other hand, the resin layer 1 constituting the resin sheet with metal foil 24 can be formed using the resin composition described above. And the resin sheet 24 with a metal foil can be obtained by apply | coating a resin composition to the single side | surface (rough surface) of the metal foil 25, drying this, and forming the resin layer 1 of a B stage.

コア材23と金属箔付き樹脂シート24とを一体化した後は、図2(b)に示すように、外層の金属箔25にレーザ光を照射したり、ドリル加工したりすることにより、この金属箔25とその下層の樹脂層1のみを貫通する非貫通孔26を形成する。この非貫通孔26は、コア材23である電気部品内蔵回路板Aに形成された導体回路3に対して所定の位置に形成する。また、非貫通孔26の底面においては導体回路3の表面が露出している。   After the core material 23 and the metal foil-attached resin sheet 24 are integrated, as shown in FIG. 2 (b), the outer metal foil 25 is irradiated with laser light or drilled. A non-through hole 26 that penetrates only the metal foil 25 and the resin layer 1 therebelow is formed. The non-through hole 26 is formed at a predetermined position with respect to the conductor circuit 3 formed in the electric component built-in circuit board A which is the core material 23. The surface of the conductor circuit 3 is exposed at the bottom surface of the non-through hole 26.

次に、一般的なデスミア処理により非貫通孔26を洗浄して樹脂残渣を除去した後、非貫通孔26の内面にホールめっき27を形成する。非貫通孔26の内面にホールめっき27を形成する。ホールめっき27としては、銅めっき等を形成することができる。具体的には、無電解銅めっきを施した後、必要に応じて電解銅めっきを施すことにより、ホールめっき27を形成することができる。なお、ホールめっき27が形成された非貫通孔26の内部には、導電性ペースト52を充填してもよい。   Next, the non-through hole 26 is washed by a general desmear process to remove the resin residue, and then a hole plating 27 is formed on the inner surface of the non-through hole 26. A hole plating 27 is formed on the inner surface of the non-through hole 26. As the hole plating 27, copper plating or the like can be formed. Specifically, after performing electroless copper plating, hole plating 27 can be formed by performing electrolytic copper plating as necessary. The non-through hole 26 in which the hole plating 27 is formed may be filled with a conductive paste 52.

次に、外層の金属箔25にエッチング処理を行うことにより、導体回路3を形成する。このとき、ホールめっき27が形成された非貫通孔26は、異なる層に形成された導体回路3同士を導通するビアホール28として形成される。樹脂層1の形成と導体回路3の形成とを交互に繰り返して行うことにより、さらに多層化することもできる。なお、ホールめっき27が形成された非貫通孔26の内部には導電性ペースト52を充填したり、あるいは、めっきの厚付けにより非貫通孔26の内部をホールめっき27自体で充填したりしてもよい。   Next, the conductor circuit 3 is formed by etching the outer layer metal foil 25. At this time, the non-through hole 26 in which the hole plating 27 is formed is formed as a via hole 28 that conducts between the conductor circuits 3 formed in different layers. By forming the resin layer 1 and the conductor circuit 3 alternately and repeatedly, further multilayering can be achieved. The inside of the non-through hole 26 in which the hole plating 27 is formed is filled with a conductive paste 52, or the inside of the non-through hole 26 is filled with the hole plating 27 itself by plating thickening. Also good.

そして、図2(b)に示すように、樹脂層1の表面において導体回路3を露出させて形成し、樹脂層1に電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を埋設させた後、雌形コネクタ形成用部品15の中空部46を通るように樹脂層1を厚み方向に切断する。この切断は、ダイヤモンドカッターやルーター等を用いて行うことができる。図2(b)において切断箇所を1点鎖線で示す。このように切断することにより、樹脂層1の側面において雌形コネクタ形成用部品15の凹部6を開口させることができ、図2(c)に示すような多層化された電気部品内蔵回路板Aを製造することができる。なお、ビルドアップ法による多層化は、既述のように金属箔付き樹脂シート24を用いる方法に限定されるものではなく、例えば、導体回路3が形成された絶縁基板2の表面に直接樹脂組成物を塗布することにより樹脂層1を形成したり、めっき処理により導体回路3を形成したりしてもよい。また、樹脂層1にビアホール28を形成するにあたっては、非貫通孔26の形成を行った後、ホールめっき27を形成せずに導電性ペースト52を充填・硬化するようにしてもよい。   Then, as shown in FIG. 2B, the conductor circuit 3 is formed on the surface of the resin layer 1 so as to be exposed, and the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are embedded in the resin layer 1. The resin layer 1 is cut in the thickness direction so as to pass through the hollow portion 46 of the connector forming part 15. This cutting can be performed using a diamond cutter or a router. In FIG. 2B, the cut portion is indicated by a one-dot chain line. By cutting in this way, the concave portion 6 of the female connector forming component 15 can be opened on the side surface of the resin layer 1, and a multilayered electric component built-in circuit board A as shown in FIG. Can be manufactured. The multilayering by the build-up method is not limited to the method using the resin sheet 24 with the metal foil as described above. For example, the resin composition is directly formed on the surface of the insulating substrate 2 on which the conductor circuit 3 is formed. The resin layer 1 may be formed by applying an object, or the conductor circuit 3 may be formed by plating. In forming the via hole 28 in the resin layer 1, after forming the non-through hole 26, the conductive paste 52 may be filled and cured without forming the hole plating 27.

ここで、図2(c)に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、導体回路3が絶縁基板2の表面において露出しているので、図1(f)の場合と同様に、導体回路3が露出している面に既述の樹脂シート21を貼着することにより、回路保護用絶縁層10(図示省略)を形成してもよい。そうすると、この回路保護用絶縁層10により、導体回路3を保護することができるものである。このとき、回路保護用絶縁層10を構成する樹脂の一部が、ホールめっき27が形成された非貫通孔26の内部に充填される。なお、回路保護用絶縁層10は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成することができる。また、回路保護用絶縁層10の表面には、品名、型式、製造番号等を表示することができる。   Here, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 2C, since the conductor circuit 3 is exposed on the surface of the insulating substrate 2, the conductor circuit 3 is formed in the same manner as in FIG. The circuit protection insulating layer 10 (not shown) may be formed by adhering the above-described resin sheet 21 to the exposed surface. Then, the conductor circuit 3 can be protected by the circuit protection insulating layer 10. At this time, a part of the resin constituting the circuit protection insulating layer 10 is filled in the non-through hole 26 in which the hole plating 27 is formed. The insulating layer 10 for circuit protection can be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8. In addition, on the surface of the circuit protection insulating layer 10, the product name, model, serial number, etc. can be displayed.

また、図1(g)の場合と同様に、電気部品内蔵回路板Aの絶縁基板2の両面に銅箔等の金属箔を貼着したり銅めっき等によるめっき処理を行ったりすることにより、電磁遮蔽用金属層11(図示省略)を形成してもよい。このようにすると、この電磁遮蔽用金属層11により、電磁シールド効果を得ることができ、電磁障害を防止することができるものである。なお、電磁遮蔽用金属層11は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成することができる。   Further, as in the case of FIG. 1 (g), by sticking a metal foil such as a copper foil on both surfaces of the insulating substrate 2 of the electric component built-in circuit board A, or performing a plating process such as copper plating, An electromagnetic shielding metal layer 11 (not shown) may be formed. In this way, the electromagnetic shielding metal layer 11 can obtain an electromagnetic shielding effect and prevent electromagnetic interference. The electromagnetic shielding metal layer 11 can be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8.

以上のように、図2に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、複数の樹脂層1を積層して絶縁基板2が形成され、3つの樹脂層1(図2(c)によれば、電気部品4が埋設されている1つの樹脂層1と金属箔付き樹脂シート24に由来する2つの樹脂層1を意味する)に導体回路3が形成され、導体回路3と電気的に接続された電気部品4が1つの樹脂層1に埋設されている。このように、電気部品4を絶縁基板2内に内蔵させることにより、電気部品4の搭載量を増大させつつ小型化を図ることができるものである。また、電気部品4の実装可能位置が拡大することから、配線設計の自由度も増大する。さらに、図2に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、絶縁基板2の側面に凹部6が形成され、導体回路3と電気的に接続された接続端子5が凹部6の内面7に設けられて雌形コネクタ8が形成されている。そのため、従来よりも接続端子5の数を増加させても、これらの接続端子5はすべて凹部6の内面7に設けることができ、嵩張らず、出っ張りの原因ともならずに、大容量の情報の出し入れを外部との間で行うことができるものである。よって、携帯に便利なICカード等を製造するのが容易であり、さらなる小型化が可能となるものである。なお、外部との間において情報を出し入れするにあたっては、情報の供給元・保存元となる外部機器に設けた雄形コネクタ(図示省略)を電気部品内蔵回路板Aの雌形コネクタ8に接続することによって行うことができる。   As described above, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 2, the insulating substrate 2 is formed by laminating the plurality of resin layers 1, and the three resin layers 1 (according to FIG. 2C) The conductor circuit 3 is formed on one resin layer 1 in which the component 4 is embedded and two resin layers 1 derived from the resin sheet 24 with metal foil), and is electrically connected to the conductor circuit 3. A component 4 is embedded in one resin layer 1. Thus, by incorporating the electrical component 4 in the insulating substrate 2, it is possible to reduce the size while increasing the mounting amount of the electrical component 4. Moreover, since the mountable position of the electrical component 4 is expanded, the degree of freedom in wiring design is also increased. Furthermore, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 2, the recess 6 is formed on the side surface of the insulating substrate 2, and the connection terminal 5 electrically connected to the conductor circuit 3 is provided on the inner surface 7 of the recess 6. A female connector 8 is formed. Therefore, even if the number of connection terminals 5 is increased as compared with the conventional case, all of these connection terminals 5 can be provided on the inner surface 7 of the recess 6 and are not bulky and cause no bulging. It can be taken in and out with the outside. Therefore, it is easy to manufacture an IC card or the like that is convenient for carrying, and further miniaturization is possible. In order to exchange information with the outside, a male connector (not shown) provided in an external device serving as an information supply source / storage source is connected to the female connector 8 of the electric component built-in circuit board A. Can be done.

また、既述の電気部品内蔵回路板Aの製造方法によれば、Bステージの樹脂層1が溶融軟化し、この樹脂層1を構成する樹脂組成物が流動して隙間を埋めていくことから、電気部品4の周囲に空隙が発生しないようにすることができる。よって、電気部品4の周囲に空気が残存しなくなるので、電気部品内蔵回路板Aが熱による負荷を受けた場合であっても、空気の熱膨張による絶縁基板2の割れや電気部品4の破損、断線等の不良の発生を抑制することができる。しかも、煩雑な工程を経ることなく、電気部品4の実装量や実装位置にかかわらず、樹脂層1を溶融軟化させることにより、絶縁基板2内部の任意の箇所に電気部品4を配置することができるものである。   Further, according to the method for manufacturing the electric component built-in circuit board A described above, the resin layer 1 of the B stage is melted and softened, and the resin composition constituting the resin layer 1 flows to fill the gap. It is possible to prevent a gap from being generated around the electrical component 4. Therefore, air does not remain around the electrical component 4, so even if the electrical component built-in circuit board A receives a load due to heat, the insulating substrate 2 is cracked or the electrical component 4 is damaged due to thermal expansion of the air. The occurrence of defects such as disconnection can be suppressed. In addition, the electric component 4 can be arranged at an arbitrary position inside the insulating substrate 2 by melting and softening the resin layer 1 regardless of the mounting amount and mounting position of the electric component 4 without going through complicated steps. It can be done.

また、図3も電気部品内蔵回路板Aの他例を示すものである。この電気部品内蔵回路板Aにおいては、最外層の表面に電気部品4を搭載することにより、さらなる高集積化を図っている。具体的には、図2(b)に示す絶縁基板2を用い、これを既述のビルドアップ法によりさらに多層化した後、最外層の導体回路3に電気部品4を実装する。その後、雌形コネクタ形成用部品15の中空部46を通るように樹脂層1を厚み方向に切断する。この切断は、ダイヤモンドカッターやルーター等を用いて行うことができる。図3(a)において切断箇所を1点鎖線で示す。このように切断することにより、樹脂層1の側面において雌形コネクタ形成用部品15の凹部6を開口させることができ、図3(b)に示すような電気部品内蔵回路板Aを製造することができる。ただし、電気部品内蔵回路板Aの最外層に搭載する電気部品4の大きさ・個数は、本発明の目的を損なわない範囲内において設定するものである。   FIG. 3 also shows another example of the electric component built-in circuit board A. In the electric component built-in circuit board A, the electric component 4 is mounted on the surface of the outermost layer, thereby achieving further higher integration. Specifically, the insulating substrate 2 shown in FIG. 2B is used, and this is further multilayered by the build-up method described above, and then the electrical component 4 is mounted on the outermost conductor circuit 3. Thereafter, the resin layer 1 is cut in the thickness direction so as to pass through the hollow portion 46 of the female connector forming part 15. This cutting can be performed using a diamond cutter or a router. In FIG. 3A, the cut portion is indicated by a one-dot chain line. By cutting in this way, the concave portion 6 of the female connector forming component 15 can be opened on the side surface of the resin layer 1, and the electric component built-in circuit board A as shown in FIG. 3B is manufactured. Can do. However, the size and number of the electrical components 4 mounted on the outermost layer of the electrical component built-in circuit board A are set within a range that does not impair the object of the present invention.

図4は本発明に係る電気部品内蔵回路板Aの製造工程の他例を示すものであり、この工程においては、まず、転写用基材13の片面(転写面14)に導体回路3を設ける。導体回路3を転写用基材13に形成する方法としては、既述の方法を挙げることができる。   FIG. 4 shows another example of the manufacturing process of the electric component built-in circuit board A according to the present invention. In this process, first, the conductor circuit 3 is provided on one surface (transfer surface 14) of the transfer substrate 13. . Examples of the method for forming the conductor circuit 3 on the transfer substrate 13 include the methods described above.

次に、図4(a)に示すように、転写用基材13の転写面14に電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を配設すると共に、さらに電気部品4と同程度の大きさを有するシリコン放熱樹脂シート12を公知の接着剤により仮接着して設ける。電気部品4としては、既述のものを用いることができ、これを既述の方法で実装することにより、導体回路3と電気的に接続することができる。また、雌形コネクタ形成用部品15としては、既述のものを用いることができ、これを既述の方法により、導体回路3と電気的に接続することができる。ここで、図4(a)に示すように、半田17による接続を行う前に、図1(a)の場合と同様の理由により、雌形コネクタ形成用部品15からキャップ47を取り外しておくのが好ましい。また、シリコン放熱樹脂シート12としては、シリコーン製で熱伝導性及び柔軟性に優れているものであれば、特に限定されるものではなく、公知のものを用いることができる。   Next, as shown in FIG. 4 (a), the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are disposed on the transfer surface 14 of the transfer substrate 13, and the size is approximately the same as that of the electrical component 4. A silicon heat-dissipating resin sheet 12 having the above is provisionally bonded with a known adhesive. As the electrical component 4, the above-described one can be used, and the electrical component 4 can be electrically connected to the conductor circuit 3 by being mounted by the above-described method. Further, as the female connector forming part 15, the above-described one can be used, and this can be electrically connected to the conductor circuit 3 by the method described above. Here, as shown in FIG. 4A, before the connection with the solder 17, the cap 47 is removed from the female connector forming component 15 for the same reason as in FIG. Is preferred. Moreover, as the silicon thermal radiation resin sheet 12, if it is a product made from silicone and excellent in heat conductivity and a softness | flexibility, it will not specifically limit, A well-known thing can be used.

転写用基材13の具体例、転写用基材13と導体回路3との間の密着強度(剥離強度)、転写用基材13の表面粗度Ra等についても、既述のとおりである。   Specific examples of the transfer substrate 13, the adhesion strength (peeling strength) between the transfer substrate 13 and the conductor circuit 3, the surface roughness Ra of the transfer substrate 13, and the like are also as described above.

また、図4に示す工程においては、FR−4(ガラスエポキシ銅張積層板)等の金属張積層板を用いる。そして、サブトラクティブ法等を行うことにより、金属張積層板に導体回路3及びスルーホールめっき42を形成することにより、プリント配線板29を製造し、さらにこのプリント配線板29の導体回路3に電気部品4を実装する。電気部品4としては、既述のものを用いることができ、これを既述の方法で実装することにより、導体回路3と電気的に接続することができる。   In the step shown in FIG. 4, a metal-clad laminate such as FR-4 (glass epoxy copper-clad laminate) is used. Then, by performing a subtractive method or the like, the printed circuit board 29 is manufactured by forming the conductor circuit 3 and the through-hole plating 42 on the metal-clad laminate, and the conductor circuit 3 of the printed circuit board 29 is further electrically connected. The component 4 is mounted. As the electrical component 4, the above-described one can be used, and the electrical component 4 can be electrically connected to the conductor circuit 3 by being mounted by the above-described method.

次に、図4(a)に示すように、上記のプリント配線板29と転写用基材13との間にBステージ(半硬化状態)の樹脂層1を配置すると共に、プリント配線板29の電気部品4を実装した側の面と転写用基材13の転写面14とをそれぞれ樹脂層1の表面に対向させて、樹脂層1の一方の側にプリント配線板29を積層すると共に、樹脂層1の他方の側に転写用基材13を積層する。このとき、図1(b)の場合と同様の理由により、雌形コネクタ形成用部品15にキャップ47を取り付けて開口部50に蓋をしておくことが好ましい。さらに、プリント配線板29に実装された電気部品4のうち特に放熱性の向上が要求される電気部品4(例えば、IC等の能動部品)と、転写用基材13に設けたシリコン放熱樹脂シート12とを樹脂層1を介して対向させておく。ここで、Bステージの樹脂層1としては、既述の樹脂組成物からなる樹脂シート21を用いることができる。なお、プリント配線板29に実装されたすべての電気部品4にシリコン放熱樹脂シート12を対向させることができるように、あらかじめ転写用基材13に複数のシリコン放熱樹脂シート12を設けておいてもよい。   Next, as shown in FIG. 4A, the B-stage (semi-cured state) resin layer 1 is disposed between the printed wiring board 29 and the transfer base material 13, and the printed wiring board 29 The printed circuit board 29 is laminated on one side of the resin layer 1 with the surface on which the electrical component 4 is mounted and the transfer surface 14 of the transfer base material 13 facing the surface of the resin layer 1, respectively. A transfer substrate 13 is laminated on the other side of the layer 1. At this time, for the same reason as in FIG. 1B, it is preferable to attach the cap 47 to the female connector forming part 15 and cover the opening 50. Furthermore, among the electric components 4 mounted on the printed wiring board 29, the electric components 4 (for example, active components such as an IC) that are required to improve heat dissipation, and the silicon heat-dissipating resin sheet provided on the transfer substrate 13 are used. 12 is made to oppose through the resin layer 1. Here, as the resin layer 1 of the B stage, the resin sheet 21 made of the above-described resin composition can be used. Note that a plurality of silicon heat-dissipating resin sheets 12 may be provided on the transfer base 13 in advance so that the silicon heat-dissipating resin sheets 12 can be opposed to all the electrical components 4 mounted on the printed wiring board 29. Good.

図4(a)に示すものにおいては、1枚の樹脂シート21からなる樹脂層1とプリント配線板29及び転写用基材13を積層しているが、転写面14からの電気部品4の突出寸法に応じて、2枚以上の樹脂シート21からなる樹脂層1とプリント配線板29及び転写用基材13を積層してもよい。そして、このように積層した状態で加熱加圧成形を行うことにより一体化する。この一体化は、図4(b)に示すように、対向するシリコン放熱樹脂シート12と電気部品4とが少なくとも接触するまで行う。   In FIG. 4A, the resin layer 1 composed of a single resin sheet 21, the printed wiring board 29, and the transfer base material 13 are laminated, but the electrical component 4 protrudes from the transfer surface 14. Depending on the dimensions, the resin layer 1 composed of two or more resin sheets 21, the printed wiring board 29, and the transfer substrate 13 may be laminated. And it integrates by performing heat press molding in the state laminated | stacked in this way. As shown in FIG. 4B, this integration is performed until at least the opposing silicon heat radiation resin sheet 12 and the electrical component 4 are in contact with each other.

上記の成形過程においては、まず樹脂シート21が溶融軟化する。このとき複数の樹脂シート21を積層している場合には、これらの樹脂シート21が一体化し、またこの溶融軟化した樹脂シート21が流動することにより、転写用基材13に形成された導体回路3及び電気部品4が、樹脂シート21で形成される樹脂層1に埋設される。このとき電気部品4と転写用基材13との間の隙間にアンダーフィル19を充填していない場合には、溶融軟化した樹脂シート21が流動することにより、上記の隙間にも樹脂が十分に充填されるような条件で成形を行うものである。また、成形時の圧力は、溶融軟化時の樹脂シート21の流動性に応じて設定する必要がある。例えば、この溶融軟化時の流動性が高い場合には、真空ラミネータにより容易に成形可能であり、また溶融軟化時の流動性が低い場合には、2.94MPa(30kgf/cm)程度まで加圧して成形することができる。また、電気部品4を樹脂層1に埋設させるためには、樹脂シート21が溶融軟化した時点から徐々に昇圧することが好ましい。また、この加熱加圧成形は、減圧下又は真空下において行うことが好ましい。この場合、樹脂層1の内部にボイドが混入しにくくなり、信頼性が向上するからである。 In the molding process, the resin sheet 21 is first melted and softened. At this time, when a plurality of resin sheets 21 are laminated, the resin sheets 21 are integrated, and the melt-softened resin sheet 21 flows to form a conductor circuit formed on the transfer substrate 13. 3 and the electrical component 4 are embedded in the resin layer 1 formed of the resin sheet 21. At this time, when the underfill 19 is not filled in the gap between the electrical component 4 and the transfer substrate 13, the melted and softened resin sheet 21 flows, so that the resin is sufficiently contained in the gap. Molding is performed under such a condition that it is filled. Moreover, it is necessary to set the pressure at the time of molding according to the fluidity of the resin sheet 21 at the time of melt softening. For example, when the fluidity at the time of melt softening is high, it can be easily molded by a vacuum laminator, and when the fluidity at the time of melt softening is low, it is increased to about 2.94 MPa (30 kgf / cm 2 ). It can be molded by pressing. Moreover, in order to embed the electric component 4 in the resin layer 1, it is preferable to gradually increase the pressure from the time when the resin sheet 21 is melted and softened. Moreover, it is preferable to perform this heating and pressing under reduced pressure or under vacuum. In this case, voids are less likely to be mixed into the resin layer 1 and the reliability is improved.

また、上記の成形過程における加熱温度は、樹脂層1を構成する樹脂組成物の組成にもよるが、100〜180℃であることが好ましい。より詳しくは、溶融軟化時の成形温度は100〜130℃、上記埋設後の成形硬化温度は160〜180℃であることが好ましい。そして、この加熱でBステージの樹脂層1が硬化してCステージの樹脂層1となり、これにより絶縁基板2が形成される。   Moreover, although the heating temperature in said shaping | molding process is based also on the composition of the resin composition which comprises the resin layer 1, it is preferable that it is 100-180 degreeC. More specifically, the molding temperature during melt softening is preferably 100 to 130 ° C., and the molding and curing temperature after embedding is preferably 160 to 180 ° C. By this heating, the B-stage resin layer 1 is cured to become the C-stage resin layer 1, whereby the insulating substrate 2 is formed.

次に、導体回路3、電気部品4、雌形コネクタ形成用部品15及びシリコン放熱樹脂シート12を樹脂層1に埋入させた後、樹脂層1から転写用基材13のみを剥離して、導体回路3、電気部品4、雌形コネクタ形成用部品15及びシリコン放熱樹脂シート12を樹脂層1に残存させる。そして、図4(b)に示すように、樹脂層1の表面において導体回路3を露出させて形成し、樹脂層1に電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を埋設させた後、雌形コネクタ形成用部品15の中空部46を通るように樹脂層1を厚み方向に切断する。この切断は、ダイヤモンドカッターやルーター等を用いて行うことができる。図4(b)において切断箇所を1点鎖線で示す。このように切断することにより、樹脂層1の側面において雌形コネクタ形成用部品15の凹部6を開口させることができ、図4(c)に示すような電気部品内蔵回路板Aを製造することができる。この電気部品内蔵回路板Aにあっては、シリコン放熱樹脂シート12が電気部品4に接触して配設されていると共に樹脂層1の表面において露出しているので、放熱性を高めることができ、これにより電気部品4の機能低下を防止することができるものである。   Next, after embedding the conductor circuit 3, the electrical component 4, the female connector forming component 15, and the silicon heat dissipation resin sheet 12 in the resin layer 1, only the transfer base material 13 is peeled from the resin layer 1, The conductor circuit 3, the electrical component 4, the female connector forming component 15 and the silicon heat radiation resin sheet 12 are left on the resin layer 1. Then, as shown in FIG. 4B, the conductive circuit 3 is formed on the surface of the resin layer 1 so as to be exposed, and the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are embedded in the resin layer 1. The resin layer 1 is cut in the thickness direction so as to pass through the hollow portion 46 of the connector forming part 15. This cutting can be performed using a diamond cutter or a router. In FIG.4 (b), a cutting location is shown with a dashed-dotted line. By cutting in this way, the concave portion 6 of the female connector forming component 15 can be opened on the side surface of the resin layer 1, and a circuit board A with built-in electrical components as shown in FIG. 4C is manufactured. Can do. In this electric component built-in circuit board A, the silicon heat radiating resin sheet 12 is disposed in contact with the electric component 4 and is exposed on the surface of the resin layer 1, so that heat dissipation can be improved. As a result, the functional deterioration of the electrical component 4 can be prevented.

ここで、図4(c)に示す電気部品内蔵回路板Aの放熱性をさらに高めるために、図4(d)に示すように、シリコン放熱樹脂シート12に接触させて放熱フィン30を配設するようにしてもよい。ただし、放熱フィン30としては、本発明の目的を損なわない範囲の大きさのものを用いるものである。   Here, in order to further enhance the heat dissipation of the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 4C, the heat dissipating fins 30 are arranged in contact with the silicon heat dissipating resin sheet 12, as shown in FIG. 4D. You may make it do. However, as the radiating fins 30, those having a size within a range not impairing the object of the present invention are used.

また、図4(c)に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、導体回路3が絶縁基板2の表面において露出しているので、図4(d)に示すように、導体回路3が露出している側の面に既述の樹脂シート21を貼着することにより、回路保護用絶縁層10を形成してもよい。そうすると、この回路保護用絶縁層10により、導体回路3を保護することができるものである。なお、回路保護用絶縁層10は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成することができる。また、回路保護用絶縁層10の表面には、品名、型式、製造番号等を表示することができる。   In the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 4C, the conductor circuit 3 is exposed on the surface of the insulating substrate 2, so that the conductor circuit 3 is exposed as shown in FIG. The insulating layer 10 for circuit protection may be formed by adhering the above-described resin sheet 21 to the surface on the side where the circuit is protected. Then, the conductor circuit 3 can be protected by the circuit protection insulating layer 10. The insulating layer 10 for circuit protection can be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8. In addition, on the surface of the circuit protection insulating layer 10, the product name, model, serial number, etc. can be displayed.

また、図示省略しているが、上記の回路保護用絶縁層10を介して、絶縁基板2の片面又は両面に電磁遮蔽用金属層11を形成してもよい。このようにすると、この電磁遮蔽用金属層11により、電磁シールド効果を得ることができ、電磁障害を防止することができるものである。なお、電磁遮蔽用金属層11は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成することができる。   Although not shown, the electromagnetic shielding metal layer 11 may be formed on one side or both sides of the insulating substrate 2 with the circuit protection insulating layer 10 interposed therebetween. In this way, the electromagnetic shielding metal layer 11 can obtain an electromagnetic shielding effect and prevent electromagnetic interference. The electromagnetic shielding metal layer 11 can be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8.

また、図4(c)(d)に示すものにおいては、シリコン放熱樹脂シート12や放熱フィン30が配設されていない側の面には絶縁層及び導体層を交互に積層していく余地があるので、公知のビルドアップ法を行うことにより、多層化を図ることができるものである。   4 (c) and 4 (d), there is room for alternately laminating insulating layers and conductor layers on the surface where the silicon heat radiating resin sheet 12 and the heat radiating fins 30 are not provided. Therefore, it is possible to increase the number of layers by performing a known build-up method.

以上のように、図4に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、複数の樹脂層1を積層して絶縁基板2が形成され、2つの樹脂層1(図4(d)によれば、電気部品4が埋設されている樹脂層1とプリント配線板29に由来する樹脂層1を意味する)に導体回路3が形成され、導体回路3と電気的に接続された電気部品4が1つの樹脂層1に埋設されている。このように、電気部品4を絶縁基板2内に内蔵させることにより、電気部品4の搭載量を増大させつつ小型化を図ることができるものである。また、電気部品4の実装可能位置が拡大することから、配線設計の自由度も増大する。さらに、図4に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、絶縁基板2の側面に凹部6が形成され、導体回路3と電気的に接続された接続端子5が凹部6の内面7に設けられて雌形コネクタ8が形成されている。そのため、従来よりも接続端子5の数を増加させても、これらの接続端子5はすべて凹部6の内面7に設けることができ、嵩張らず、出っ張りの原因ともならずに、大容量の情報の出し入れを外部との間で行うことができるものである。よって、携帯に便利なICカード等を製造するのが容易であり、さらなる小型化が可能となるものである。なお、外部との間において情報を出し入れするにあたっては、情報の供給元・保存元となる外部機器に設けた雄形コネクタ(図示省略)を電気部品内蔵回路板Aの雌形コネクタ8に接続することによって行うことができる。   As described above, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 4, the insulating substrate 2 is formed by laminating the plurality of resin layers 1, and the two resin layers 1 (according to FIG. 4D) The conductor circuit 3 is formed on the resin layer 1 in which the component 4 is embedded and the resin layer 1 derived from the printed wiring board 29), and the electrical component 4 electrically connected to the conductor circuit 3 is one resin. Embedded in layer 1. Thus, by incorporating the electrical component 4 in the insulating substrate 2, it is possible to reduce the size while increasing the mounting amount of the electrical component 4. Moreover, since the mountable position of the electrical component 4 is expanded, the degree of freedom in wiring design is also increased. Furthermore, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 4, the recess 6 is formed on the side surface of the insulating substrate 2, and the connection terminal 5 electrically connected to the conductor circuit 3 is provided on the inner surface 7 of the recess 6. A female connector 8 is formed. Therefore, even if the number of connection terminals 5 is increased as compared with the conventional case, all of these connection terminals 5 can be provided on the inner surface 7 of the recess 6 and are not bulky and cause no bulging. It can be taken in and out with the outside. Therefore, it is easy to manufacture an IC card or the like that is convenient for carrying, and further miniaturization is possible. In order to exchange information with the outside, a male connector (not shown) provided in an external device serving as an information supply source / storage source is connected to the female connector 8 of the electric component built-in circuit board A. Can be done.

図5も電気部品内蔵回路板Aの製造工程を示すものであるが、この工程では転写用基材13を用いない。すなわち、この工程においては、まず、サブトラクティブ法等を行うことにより、FR−4(ガラスエポキシ銅張積層板)等の金属張積層板に導体回路3及びスルーホールめっき42を必要に応じて形成することにより、プリント配線板29を製造する。図5に示すものにおいては、片面に導体回路3を形成した片面プリント配線板(片面板31)と両面に導体回路3を形成した両面プリント配線板(両面板32)の2枚のプリント配線板29を用いている。そして、転写用基材13に電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を配設する場合と同様にして、片面板31に雌形コネクタ形成用部品15及び電気部品4を配設する。ここで、図5に示す雌形コネクタ形成用部品15は、図1〜図4に示すものに比べて厚みが薄い直方体状の筐体48として形成してある。ただし、この筐体48は幅(図5において紙面に垂直方向)を広く形成してあるので、厚みが薄くてもこの筐体48の内部には、大容量の信号のやりとりに必要とされるだけの複数の接続端子5を設けることができるようになっている。また、上記筐体48の一面の全面を片面板31の表面に貼着することにより、雌形コネクタ形成用部品15と片面板31との間に隙間が生じないようにしてある。これにより、最終的に得られる電気部品内蔵回路板A全体の厚みをより薄くすることができるというメリットがある。また、各接続端子5は、上記筐体48の外面(側面)に設けた複数のリード20とそれぞれ電気的に接続されており、筐体48内の一部には、上記と同種又は異種の絶縁性樹脂49を充填することにより、接続端子5間の絶縁を確保すると共に各接続端子5を固定している。図5(a)に示すように、雌形コネクタ形成用部品15の接続端子5と片面板31の導体回路3との電気的な接続は、雌形コネクタ形成用部品15と片面板31との隙間において行わないようにしているので、上記接続の状態を外部から容易に視認することができ、これにより雌形コネクタ形成用部品15の片面板31への実装の良否を容易に確認することができるものである。また、筐体48内の残部には中空部46が形成されており、筐体48内の一部を充填している絶縁性樹脂49の表面から各接続端子5が中空部46内に突出している。中空部46を形成している筐体48の一部には開口部50を設け、この開口部50には取り外し可能なキャップ47を設けておくことが好ましい。   FIG. 5 also shows the manufacturing process of the electric component built-in circuit board A, but the transfer base material 13 is not used in this process. That is, in this process, first, the conductor circuit 3 and the through-hole plating 42 are formed as necessary on a metal-clad laminate such as FR-4 (glass epoxy copper-clad laminate) by performing a subtractive method or the like. Thus, the printed wiring board 29 is manufactured. In the one shown in FIG. 5, two printed wiring boards, that is, a single-sided printed wiring board (single-sided board 31) having a conductor circuit 3 formed on one side and a double-sided printed wiring board (double-sided board 32) having a conductor circuit 3 formed on both sides thereof. 29 is used. Then, the female connector forming component 15 and the electrical component 4 are disposed on the single-sided plate 31 in the same manner as the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are disposed on the transfer substrate 13. Here, the female connector forming part 15 shown in FIG. 5 is formed as a rectangular parallelepiped casing 48 which is thinner than those shown in FIGS. However, since the casing 48 is formed to have a wide width (in the direction perpendicular to the paper surface in FIG. 5), the casing 48 is required for exchanging a large amount of signals even if the thickness is small. Only a plurality of connection terminals 5 can be provided. Further, by sticking the entire surface of one side of the casing 48 to the surface of the single-sided plate 31, no gap is formed between the female connector forming component 15 and the single-sided plate 31. Thereby, there exists an advantage that the thickness of the circuit board A whole electric component finally obtained can be made thinner. Each connection terminal 5 is electrically connected to a plurality of leads 20 provided on the outer surface (side surface) of the casing 48, and a part of the casing 48 has the same or different kind as described above. By filling the insulating resin 49, insulation between the connection terminals 5 is secured and each connection terminal 5 is fixed. As shown in FIG. 5A, the electrical connection between the connection terminal 5 of the female connector forming component 15 and the conductor circuit 3 of the single-sided plate 31 is performed between the female connector-forming component 15 and the single-sided plate 31. Since the connection is not performed in the gap, the connection state can be easily visually recognized from the outside, and thus it is possible to easily confirm whether the female connector forming component 15 is mounted on the single-sided plate 31. It can be done. Further, a hollow portion 46 is formed in the remaining portion of the housing 48, and each connection terminal 5 protrudes into the hollow portion 46 from the surface of the insulating resin 49 filling a part of the housing 48. Yes. It is preferable that an opening 50 is provided in a part of the casing 48 forming the hollow portion 46, and a removable cap 47 is provided in the opening 50.

次に、図5(a)に示すように、上記の片面板31と両面板32との間にBステージ(半硬化状態)の樹脂層1を配置すると共に、両面板32において導体回路3を形成した側の面と片面板31において雌形コネクタ形成用部品15及び電気部品4を配設した側の面とをそれぞれ樹脂層1の表面に対向させて、樹脂層1の一方の側に両面板32を積層すると共に、樹脂層1の他方の側に片面板31を積層する。ここで、Bステージの樹脂層1としては、既述の樹脂組成物からなる樹脂シート21を用いることができる。なお、積層する前に、図1(b)の場合と同様の理由により、雌形コネクタ形成用部品15にキャップ47を取り付けて開口部50に蓋をしておくことが好ましい。   Next, as shown in FIG. 5A, the B-stage (semi-cured state) resin layer 1 is disposed between the single-sided plate 31 and the double-sided plate 32, and the conductor circuit 3 is placed on the double-sided plate 32. The formed side surface and the surface on which the female connector forming component 15 and the electrical component 4 are disposed on the single-sided plate 31 are respectively opposed to the surface of the resin layer 1, and both surfaces are formed on one side of the resin layer 1. A plate 32 is laminated, and a single-sided plate 31 is laminated on the other side of the resin layer 1. Here, as the resin layer 1 of the B stage, the resin sheet 21 made of the above-described resin composition can be used. Before the lamination, it is preferable to attach the cap 47 to the female connector forming part 15 and cover the opening 50 for the same reason as in FIG.

図5(a)に示すものにおいては、1枚の樹脂シート21からなる樹脂層1とプリント配線板29を積層しているが、プリント配線板29からの電気部品4の突出寸法に応じて、2枚以上の樹脂シート21からなる樹脂層1とプリント配線板29を積層してもよい。そして、このように積層した状態で加熱加圧成形を行うことにより一体化する。   In the case shown in FIG. 5A, the resin layer 1 composed of a single resin sheet 21 and the printed wiring board 29 are laminated, but depending on the protruding dimension of the electrical component 4 from the printed wiring board 29, The resin layer 1 composed of two or more resin sheets 21 and the printed wiring board 29 may be laminated. And it integrates by performing heat press molding in the state laminated | stacked in this way.

上記の成形過程においては、まず樹脂シート21が溶融軟化する。このとき複数の樹脂シート21を積層している場合には、これらの樹脂シート21が一体化し、またこの溶融軟化した樹脂シート21が流動することにより、片面板31に形成された導体回路3及び電気部品4が、樹脂シート21で形成される樹脂層1に埋設される。このとき電気部品4と片面板31との間の隙間にアンダーフィル19を充填していない場合には、溶融軟化した樹脂シート21が流動することにより、上記の隙間にも樹脂が十分に充填されるような条件で成形を行うものである。また、成形時の圧力は、溶融軟化時の樹脂シート21の流動性に応じて設定する必要がある。例えば、この溶融軟化時の流動性が高い場合には、真空ラミネータにより容易に成形可能であり、また溶融軟化時の流動性が低い場合には、2.94MPa(30kgf/cm)程度まで加圧して成形することができる。また、電気部品4を樹脂層1に埋設させるためには、樹脂シート21が溶融軟化した時点から徐々に昇圧することが好ましい。また、この加熱加圧成形は、減圧下又は真空下において行うことが好ましい。この場合、樹脂層1の内部にボイドが混入しにくくなり、信頼性が向上するからである。 In the molding process, the resin sheet 21 is first melted and softened. At this time, when a plurality of resin sheets 21 are laminated, the resin sheets 21 are integrated, and the melted and softened resin sheet 21 flows, so that the conductor circuit 3 formed on the single-sided plate 31 and The electric component 4 is embedded in the resin layer 1 formed of the resin sheet 21. At this time, when the underfill 19 is not filled in the gap between the electrical component 4 and the single-sided plate 31, the melted and softened resin sheet 21 flows, so that the gap is sufficiently filled with the resin. The molding is performed under such conditions. Moreover, it is necessary to set the pressure at the time of molding according to the fluidity of the resin sheet 21 at the time of melt softening. For example, when the fluidity at the time of melt softening is high, it can be easily molded by a vacuum laminator, and when the fluidity at the time of melt softening is low, it is increased to about 2.94 MPa (30 kgf / cm 2 ). It can be molded by pressing. Moreover, in order to embed the electric component 4 in the resin layer 1, it is preferable to gradually increase the pressure from the time when the resin sheet 21 is melted and softened. Moreover, it is preferable to perform this heating and pressing under reduced pressure or under vacuum. In this case, voids are less likely to be mixed into the resin layer 1 and the reliability is improved.

また、上記の成形過程における加熱温度は、樹脂層1を構成する樹脂組成物の組成にもよるが、100〜180℃であることが好ましい。より詳しくは、溶融軟化時の成形温度は100〜130℃、上記埋設後の成形硬化温度は160〜180℃であることが好ましい。そして、この加熱でBステージの樹脂層1が硬化してCステージの樹脂層1となり、これにより絶縁基板2が形成される。   Moreover, although the heating temperature in said shaping | molding process is based also on the composition of the resin composition which comprises the resin layer 1, it is preferable that it is 100-180 degreeC. More specifically, the molding temperature during melt softening is preferably 100 to 130 ° C., and the molding and curing temperature after embedding is preferably 160 to 180 ° C. By this heating, the B-stage resin layer 1 is cured to become the C-stage resin layer 1, whereby the insulating substrate 2 is formed.

次に、図5(b)に示すように導体回路3、電気部品4及び雌形コネクタ形成用部品15を樹脂層1に埋設した後、雌形コネクタ形成用部品15の中空部46を通るように樹脂層1を厚み方向に切断する。この切断は、ダイヤモンドカッターやルーター等を用いて行うことができる。図5(b)において切断箇所を1点鎖線で示す。このように切断することにより、樹脂層1の側面において雌形コネクタ形成用部品15の凹部6を開口させることができ、図5(c)に示すような電気部品内蔵回路板Aを製造することができる。   Next, as shown in FIG. 5B, the conductor circuit 3, the electrical component 4 and the female connector forming component 15 are embedded in the resin layer 1, and then passed through the hollow portion 46 of the female connector forming component 15. The resin layer 1 is cut in the thickness direction. This cutting can be performed using a diamond cutter or a router. In FIG.5 (b), a cutting location is shown with a dashed-dotted line. By cutting in this way, the concave portion 6 of the female connector forming component 15 can be opened on the side surface of the resin layer 1, and the electric component built-in circuit board A as shown in FIG. 5C is manufactured. Can do.

また、図5(c)に示すものにおいては、導体回路3が絶縁基板2の表面において露出しているので、図5(d)に示すように、導体回路3が露出している側の面に既述の樹脂シート21を貼着することにより、回路保護用絶縁層10を形成してもよい。そうすると、この回路保護用絶縁層10により、導体回路3を保護することができるものである。なお、回路保護用絶縁層10は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成することができる。また、回路保護用絶縁層10の表面には、品名、型式、製造番号等を表示することができる。   In the case shown in FIG. 5C, the conductor circuit 3 is exposed on the surface of the insulating substrate 2. Therefore, as shown in FIG. 5D, the surface on the side where the conductor circuit 3 is exposed. The circuit protection insulating layer 10 may be formed by sticking the above-described resin sheet 21 to the substrate. Then, the conductor circuit 3 can be protected by the circuit protection insulating layer 10. The insulating layer 10 for circuit protection can be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8. In addition, on the surface of the circuit protection insulating layer 10, the product name, model, serial number, etc. can be displayed.

また、図示省略しているが、上記の回路保護用絶縁層10を介して、絶縁基板2の片面又は両面に電磁遮蔽用金属層11を形成してもよい。このようにすると、この電磁遮蔽用金属層11により、電磁シールド効果を得ることができ、電磁障害を防止することができるものである。なお、電磁遮蔽用金属層11は、もともと導体回路3を形成していないプリント配線板の表面全体に形成してもよい。また、電磁遮蔽用金属層11は、雌形コネクタ8の凹部6を除き、電気部品内蔵回路板Aの表面全体(両面及び側面)に形成することができる。   Although not shown, the electromagnetic shielding metal layer 11 may be formed on one side or both sides of the insulating substrate 2 with the circuit protection insulating layer 10 interposed therebetween. In this way, the electromagnetic shielding metal layer 11 can obtain an electromagnetic shielding effect and prevent electromagnetic interference. The electromagnetic shielding metal layer 11 may be formed on the entire surface of the printed wiring board on which the conductor circuit 3 is not originally formed. Further, the electromagnetic shielding metal layer 11 can be formed on the entire surface (both sides and side surfaces) of the electric component built-in circuit board A except for the recess 6 of the female connector 8.

また、図5(b)に示すものにおいては、両面に絶縁層及び導体層を交互に積層していく余地があるので、公知のビルドアップ法を行うことにより、多層化を図ることができるものである。   In the case shown in FIG. 5 (b), there is room for alternately laminating insulating layers and conductor layers on both sides, so that a multilayer can be achieved by performing a known build-up method. It is.

以上のように、図5に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、複数の樹脂層1を積層して絶縁基板2が形成され、2つの樹脂層1(図5(d)によれば、電気部品4が埋設されている樹脂層1と両面板32に由来する樹脂層1を意味する)に導体回路3が形成され、導体回路3と電気的に接続された電気部品4が1つの樹脂層1に埋設されている。このように、電気部品4を絶縁基板2内に内蔵させることにより、電気部品4の搭載量を増大させつつ小型化を図ることができるものである。また、電気部品4の実装可能位置が拡大することから、配線設計の自由度も増大する。さらに、図5に示す電気部品内蔵回路板Aにおいては、絶縁基板2の側面に凹部6が形成され、導体回路3と電気的に接続された接続端子5が凹部6の内面7に設けられて雌形コネクタ8が形成されている。そのため、従来よりも接続端子5の数を増加させても、これらの接続端子5はすべて凹部6の内面7に設けることができ、嵩張らず、出っ張りの原因ともならずに、大容量の情報の出し入れを外部との間で行うことができるものである。よって、携帯に便利なICカード等を製造するのが容易であり、さらなる小型化が可能となるものである。なお、外部との間において情報を出し入れするにあたっては、情報の供給元・保存元となる外部機器に設けた雄形コネクタ(図示省略)を電気部品内蔵回路板Aの雌形コネクタ8に接続することによって行うことができる。   As described above, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 5, the insulating substrate 2 is formed by laminating the plurality of resin layers 1, and the two resin layers 1 (according to FIG. 5D) The conductor circuit 3 is formed on the resin layer 1 in which the component 4 is embedded and the resin layer 1 derived from the double-sided board 32), and the electrical component 4 electrically connected to the conductor circuit 3 is one resin layer. 1 is buried. Thus, by incorporating the electrical component 4 in the insulating substrate 2, it is possible to reduce the size while increasing the mounting amount of the electrical component 4. Moreover, since the mountable position of the electrical component 4 is expanded, the degree of freedom in wiring design is also increased. Further, in the electric component built-in circuit board A shown in FIG. 5, the recess 6 is formed on the side surface of the insulating substrate 2, and the connection terminal 5 electrically connected to the conductor circuit 3 is provided on the inner surface 7 of the recess 6. A female connector 8 is formed. Therefore, even if the number of connection terminals 5 is increased as compared with the conventional case, all of these connection terminals 5 can be provided on the inner surface 7 of the recess 6 and are not bulky and cause no bulging. It can be taken in and out with the outside. Therefore, it is easy to manufacture an IC card or the like that is convenient for carrying, and further miniaturization is possible. In order to exchange information with the outside, a male connector (not shown) provided in an external device serving as an information supply source / storage source is connected to the female connector 8 of the electric component built-in circuit board A. Can be done.

図6は電気部品内蔵回路板A同士を接続する一例を示すものである。電気部品内蔵回路板A同士を接続するにあたっては、次のような接続体34を用いて行うことができる。すなわち、この接続体34は、同じ側を向いている複数の雄形コネクタ35を有し、また、いずれの雄形コネクタ35も、雌形コネクタ8の接続端子5と同数の接続端子36を設けて形成されている。さらに、接続体34の各雄形コネクタ35は、雌形コネクタ8の凹部6に嵌合して収納されるように形成されている。そして、例えば、図6(a)に示すように、雌形コネクタ8が側面に形成された3枚の電気部品内蔵回路板Aを接続するにあたっては、まず、図6(b)に示すように、すべての雌形コネクタ8を同じ向きに揃えて電気部品内蔵回路板Aを積み重ねた後、図6(c)に示すように、接続体34の雄形コネクタ35をそれぞれ雌形コネクタ8の凹部6に押し込むことによって行うことができる。そうすると、図6(c)に示すように、接続体34の雄形コネクタ35が雌形コネクタ8の凹部6に嵌合して収納されることにより、電気部品内蔵回路板A同士を隙間なく接続することができ、複数の電気部品内蔵回路板Aをコンパクトなモジュールの集合体として得ることができるものである。複数の電気部品内蔵回路板A間の導通は、上記の接続体34によって取られている。なお、図6に示す電気部品内蔵回路板Aにおいて凹部6以外のものについては図示省略している。   FIG. 6 shows an example of connecting the electrical component built-in circuit boards A to each other. In connecting the electrical component built-in circuit boards A to each other, the following connection body 34 can be used. That is, the connection body 34 has a plurality of male connectors 35 facing the same side, and each male connector 35 is provided with the same number of connection terminals 36 as the connection terminals 5 of the female connector 8. Is formed. Further, each male connector 35 of the connection body 34 is formed so as to be fitted and housed in the recess 6 of the female connector 8. For example, as shown in FIG. 6 (a), when connecting the three electrical component built-in circuit boards A having the female connector 8 formed on the side surface, first, as shown in FIG. 6 (b). After all the female connectors 8 are aligned in the same direction and the electric component built-in circuit boards A are stacked, as shown in FIG. 6 can be performed. Then, as shown in FIG. 6 (c), the male connector 35 of the connection body 34 is fitted and housed in the recess 6 of the female connector 8, thereby connecting the circuit boards A with built-in electrical components without gaps. Thus, a plurality of electric component built-in circuit boards A can be obtained as a compact assembly of modules. The electrical connection between the plurality of electric component built-in circuit boards A is taken by the connection body 34 described above. In the electric component built-in circuit board A shown in FIG.

図7は本発明に係る電気部品内蔵回路板Aの他例を示すものである。この電気部品内蔵回路板Aにおいては、信号のやりとりを光通信で行うために、接続端子5を受発光素子9(受光素子及び発光素子)で形成している。その他の構成は既述のものと同様である。そして、図7(a)に示すように、受発光素子9は雌形コネクタ8の凹部6に設けることができるので、従来のようにプリント配線板の最外層にLED等の受発光素子9を搭載する必要がない。また、上記のように受発光素子9を雌形コネクタ8の凹部6に設けるのに伴って、受発光素子9の光を効率よく集光するためのレンズ38等も、例えば透明樹脂で受発光素子9を封止することにより、雌形コネクタ8の凹部6に設けることができるので、従来のようにLEDの光を効率よく集光するために反射鏡やレンズ、蛍光体等もプリント配線板の外層に装着する必要がない。よって、その他の部品が実装される面積を確保することができ、光通信による大容量の信号のやりとりを行うことができるものである。   FIG. 7 shows another example of the electric component built-in circuit board A according to the present invention. In this electric component built-in circuit board A, in order to exchange signals by optical communication, the connection terminals 5 are formed by light receiving and emitting elements 9 (light receiving elements and light emitting elements). Other configurations are the same as those described above. 7A, the light emitting / receiving element 9 can be provided in the recess 6 of the female connector 8, so that the light receiving / emitting element 9 such as an LED is provided on the outermost layer of the printed wiring board as in the prior art. There is no need to install. Further, as the light receiving / emitting element 9 is provided in the recess 6 of the female connector 8 as described above, the lens 38 for efficiently condensing the light of the light receiving / emitting element 9 is also made of, for example, a transparent resin. Since the element 9 is sealed, it can be provided in the concave portion 6 of the female connector 8, so that a reflector, a lens, a phosphor, etc. are also used to efficiently collect the LED light as in the conventional case. There is no need to attach to the outer layer of the. Therefore, an area where other components are mounted can be ensured, and large-capacity signals can be exchanged by optical communication.

ここで、外部との間において光通信により情報を出し入れするにあたっては、図7(b)(c)に示すような光ファイバー保持体39を雌形コネクタ8に接続することによって行うことができる。雌形コネクタ8と光ファイバー保持体39との接続は、凹部6の開口縁に内側に向けて設けた突出片40と、光ファイバー保持体39に設けた受け片41とを係合させることにより行うことができる。そして、このように雌形コネクタ8と光ファイバー保持体39とを接続すると、光ファイバー保持体39に設けた複数の光ファイバー42のそれぞれの端部が、凹部6に設けた各受発光素子9に対向する。これにより、情報の供給元・保存元となる外部機器(図示省略)から送信された光信号を光ファイバー42を通して受発光素子9が受信することができ、逆に受発光素子9から送信された光信号を光ファイバー42を通して上記外部機器が受信することができるものである。情報の供給・保存が終了すれば、上記突出片40と受け片41との係合を解除することにより、雌形コネクタ8から光ファイバー保持体39を取り外すことができる。   Here, when information is exchanged with the outside by optical communication, it can be performed by connecting an optical fiber holder 39 as shown in FIGS. 7B and 7C to the female connector 8. The connection between the female connector 8 and the optical fiber holder 39 is performed by engaging a protruding piece 40 provided inward at the opening edge of the recess 6 and a receiving piece 41 provided on the optical fiber holder 39. Can do. When the female connector 8 and the optical fiber holder 39 are connected in this way, the respective end portions of the plurality of optical fibers 42 provided in the optical fiber holder 39 are opposed to the light receiving and emitting elements 9 provided in the recess 6. . Thereby, the light emitting / receiving element 9 can receive the optical signal transmitted from the external device (not shown) as the information supply source / storage source through the optical fiber 42, and conversely, the light transmitted from the light receiving / emitting element 9. The external device can receive the signal through the optical fiber 42. When the supply and storage of information is completed, the optical fiber holder 39 can be removed from the female connector 8 by releasing the engagement between the protruding piece 40 and the receiving piece 41.

本発明の実施の形態の一例を示すものであり、(a)〜(g)は断面図である。An example of embodiment of this invention is shown and (a)-(g) is sectional drawing. 本発明の実施の形態の他例を示すものであり、(a)〜(c)は断面図である。The other example of embodiment of this invention is shown, (a)-(c) is sectional drawing. 本発明の実施の形態の他例を示すものであり、(a)(b)は断面図である。The other example of embodiment of this invention is shown, (a) (b) is sectional drawing. 本発明の実施の形態の他例を示すものであり、(a)〜(d)は断面図である。The other example of embodiment of this invention is shown, (a)-(d) is sectional drawing. 本発明の実施の形態の他例を示すものであり、(a)〜(d)は断面図である。The other example of embodiment of this invention is shown, (a)-(d) is sectional drawing. 本発明の実施の形態の他例を示すものであり、(a)〜(c)は概略断面図である。The other example of embodiment of this invention is shown, (a)-(c) is a schematic sectional drawing. 本発明の実施の形態の他例を示すものであり、(a)(b)は一部拡大した断面図であり、(c)は(b)の斜視図である。The other example of embodiment of this invention is shown, (a) (b) is sectional drawing which expanded partially, (c) is a perspective view of (b).

符号の説明Explanation of symbols

A 電気部品内蔵回路板
1 樹脂層
2 絶縁基板
3 導体回路
4 電気部品
5 接続端子
6 凹部
7 内面
8 雌形コネクタ
9 受発光素子
10 回路保護用絶縁層
11 電磁遮蔽用金属層
12 シリコン放熱樹脂シート
13 転写用基材
14 転写面
15 雌形コネクタ形成用部品
46 中空部
47 キャップ
DESCRIPTION OF SYMBOLS A Circuit board with a built-in electrical component 1 Resin layer 2 Insulating substrate 3 Conductor circuit 4 Electrical component 5 Connection terminal 6 Recess 7 Inner surface 8 Female connector 9 Light emitting / receiving element 10 Circuit protection insulating layer 11 Electromagnetic shielding metal layer 12 Silicon heat radiation resin sheet 13 Transfer Substrate 14 Transfer Surface 15 Female Connector Forming Part 46 Hollow Part 47 Cap

Claims (6)

単一の樹脂層で又は複数の樹脂層を積層して絶縁基板が形成され、少なくとも1つ以上の樹脂層の片面又は両面に導体回路が形成され、導体回路と電気的に接続された電気部品が少なくとも1つ以上の樹脂層に埋設され、絶縁基板の側面に凹部が形成されていると共に、導体回路と電気的に接続された接続端子が凹部の内面に設けられて雌形コネクタが形成されて成ることを特徴とする電気部品内蔵回路板。   An electrical component in which an insulating substrate is formed by a single resin layer or by laminating a plurality of resin layers, a conductor circuit is formed on one side or both sides of at least one resin layer, and is electrically connected to the conductor circuit Embedded in at least one resin layer, a recess is formed on the side surface of the insulating substrate, and a connection terminal electrically connected to the conductor circuit is provided on the inner surface of the recess to form a female connector. A circuit board with built-in electrical components, characterized by comprising: 接続端子が受発光素子で形成されて成ることを特徴とする請求項1に記載の電気部品内蔵回路板。   2. The circuit board with a built-in electrical component according to claim 1, wherein the connection terminal is formed of a light emitting / receiving element. 回路保護用絶縁層及び電磁遮蔽用金属層から選ばれるものが絶縁基板の表面に形成されて成ることを特徴とする請求項1又は2に記載の電気部品内蔵回路板。   The circuit board with a built-in electric component according to claim 1 or 2, wherein one selected from an insulating layer for circuit protection and a metal layer for electromagnetic shielding is formed on the surface of an insulating substrate. シリコン放熱樹脂シートが電気部品に接触して配設されて成ることを特徴とする請求項1乃至3のいずれかに記載の電気部品内蔵回路板。   4. The electric component built-in circuit board according to claim 1, wherein the silicon heat radiation resin sheet is disposed in contact with the electric component. 転写用基材の転写面に導体回路を設け、電気部品及び中空部を有する雌形コネクタ形成用部品をそれぞれ導体回路と電気的に接続して転写用基材の転写面に配設し、次に、上記転写用基材の転写面をBステージの樹脂層の表面に対向させて樹脂層と転写用基材を積層し、導体回路、電気部品及び雌形コネクタ形成用部品を樹脂層に埋入させ、次に、樹脂層から転写用基材のみを剥離することにより、樹脂層の表面において導体回路を露出させて形成し、樹脂層に電気部品及び雌形コネクタ形成用部品を埋設させた後、雌形コネクタ形成用部品の中空部を通るように樹脂層を厚み方向に切断することにより、樹脂層の側面において雌形コネクタ形成用部品の凹部を開口させることを特徴とする電気部品内蔵回路板の製造方法。   A conductor circuit is provided on the transfer surface of the transfer substrate, and an electrical component and a female connector forming part having a hollow portion are electrically connected to the conductor circuit and disposed on the transfer surface of the transfer substrate. In addition, the resin layer and the transfer substrate are laminated with the transfer surface of the transfer substrate facing the surface of the B-stage resin layer, and the conductor circuit, electrical component and female connector forming component are embedded in the resin layer. Next, by peeling only the transfer substrate from the resin layer, the conductive circuit was exposed on the surface of the resin layer, and the electrical component and the female connector forming component were embedded in the resin layer. After that, the resin layer is cut in the thickness direction so as to pass through the hollow portion of the female connector forming component, thereby opening the concave portion of the female connector forming component on the side surface of the resin layer. Circuit board manufacturing method. 雌形コネクタ形成用部品として、取り外し可能なキャップを設けて中空部が形成されているものを用いることを特徴とする請求項5に記載の電気部品内蔵回路板の製造方法。   6. The method of manufacturing a circuit board with built-in electrical parts according to claim 5, wherein the female connector forming part is provided with a removable cap provided with a hollow part.
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