JP2005134713A - 光学フィルム及びその製造方法、並びに偏光板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

【課題】 本発明の目的は、反射防止フィルムを構成する金属酸化物層を塗設する際に、塗布むらが生じにくく、反射光の色むらが著しく低減された反射防止フィルムを提供すること、また、偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板に加工する際に表面に微細な凹凸を生じにくく、反射防止層表面の平滑性に優れており、これを用いた時に、視認性に優れる表示装置を提供すること、また、該光学フィルムを安定に製造する方法を提供することである。
【解決手段】 セルロース誘導体と、反応性金属化合物の重縮合物、可塑剤及び微粒子とを含有する光学フィルムであって、該フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域で、粒径が０．１〜３μｍの微粒子が該フィルムに垂直な断面に１〜１００個／１００μｍ²存在することを特徴とする光学フィルム。
【選択図】 なし

Description

本発明は光学フィルム、光学フィルムの製造方法、偏光板及び表示装置に関し、より詳しくは広幅フィルムであっても、塗布むら、保管中の変形がない光学フィルムであり、かつ色むらのない優れた平滑性を有する偏光板、表示装置及び該光学フィルムの製造方法に関する。

近年、薄型軽量ノートパソコンや薄型で大画面のＴＶの開発が進み、それに伴って、液晶表示装置等の表示装置で用いられる偏光板の保護フィルムもますます薄膜化、大型化、高性能化への要求が強くなってきている。また、視認性向上のために反射防止層を設けたり、また表面を凹凸にして反射光を散乱させる防眩層を付与した、コンピュータ、ワープロ等の液晶画像表示装置（液晶ディスプレイ等）が多く使用されるようになってきた。

反射防止層は用途に応じて様々な種類や性能の改良がなされ、これらの機能を有する種々の前面板を液晶ディスプレイの偏光子等に貼り合わせることで、ディスプレイに視認性向上のために反射防止機能を付与する方法が用いられている。（例えば、特許文献１参照。）これら前面板として用いる光学用フィルムには、塗布、蒸着法またはスパッタ法等で形成した反射防止層が設けられることが多い。

反射防止フィルムを構成する金属酸化物層を塗設する場合に、塗布むらが生じ易くその改善が求められていた。特に基材フィルムの幅が１．４ｍ以上の広幅になると極端に塗布むらが生じ易くなり、その改善が求められていた。また、幅１．４ｍ以上のフィルムはロール状態での保管中に変形が生じ易く、偏光板として加工する際に、皺が入りやすく、面品質が劣化することがあった。
特開２００２−１８２００５号公報

従って、本発明の光学フィルムは、反射防止フィルムを構成する金属酸化物層を塗設する際に、塗布むらが生じにくく、反射光の色むらが著しく低減された反射防止フィルムを提供することを目的としている。また、偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板に加工する際に表面に微細な凹凸を生じにくく、反射防止層表面の平滑性に優れており、これを用いた時に、視認性に優れる表示装置を提供することを目的としている。また、該光学フィルムを安定に製造する方法を提供することを目的としている。

本発明の上記目的は以下の構成により達成される。
（請求項１）
セルロース誘導体と、反応性金属化合物の重縮合物、可塑剤及び微粒子とを含有する光学フィルムであって、該フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域で、粒径が０．１〜３μｍの微粒子が該フィルムに垂直な断面に１〜１００個／１００μｍ²存在することを特徴とする光学フィルム。
（請求項２）
フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域に含有される微粒子の平均粒径が０．１〜３μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
（請求項３）
フィルムを５００℃に過熱燃焼させた後の残渣に含まれる金属酸化物の質量をＡ、燃焼前のフィルムの質量をＢとしたときにＡ／Ｂ×１００が０．５〜５質量％であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
（請求項４）
前記反応性金属化合物が、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒまたはＡｌのアルコキシドであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（請求項５）
前記セルロース誘導体が、総アシル基置換度２．６〜２．９、数平均分子量（Ｍｎ）８００００〜２０００００、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値が１．４〜３．０であるセルロースエステルであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（請求項６）
トリアジン系化合物を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（請求項７）
可塑剤が非リン酸エステル系可塑剤であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（請求項８）
前記光学フィルムに少なくとも１層の金属酸化物層が塗設されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
（請求項９）
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。
（請求項１０）
請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを用いて構成されていることを特徴とする表示装置。
（請求項１１）
セルロース誘導体と、反応性金属化合物の重縮合物、可塑剤及び微粒子とを含有する光学フィルムの製造方法であって、主にセルロース誘導体と有機溶媒と可塑剤及び反応性金属化合物の重縮合物とを含有するセルロース誘導体溶液を調製し、これに主に微粒子分散液を添加混合して調製されたセルロース誘導体溶液を支持体上に流延し、剥離可能となるまで乾燥させ、支持体から剥離後に溶媒を含んだ状態で少なくとも幅方向に延伸し、更に乾燥させて巻き取ることを特徴とする、フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域で、前記微粒子が前記フィルムに垂直な断面に、粒径が０．１〜３μｍの微粒子を１〜１００個／１００μｍ²有する光学フィルムの製造方法。
（請求項１２）
前記フィルムが幅１．４ｍ〜４ｍのセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項１１に記載の光学フィルムの製造方法。

本発明により、反射防止フィルムを構成する金属酸化物層を塗設する際に、塗布むらが生じにくく、反射光の色むらが著しく低減された反射防止フィルムを提供することが出来る。また、偏光板保護フィルムとして用いる場合、偏光板に加工する際に表面に微細な凹凸を生じにくく、反射防止層表面の平滑性に優れており、これを用いた時に、視認性に優れる表示装置を提供することが出来る。また、該光学フィルムを安定に製造する方法を提供することが出来る。

以下本発明を実施するための最良の形態について詳細に説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

本発明は、セルロース誘導体と、反応性金属化合物の重縮合物、可塑剤及び微粒子とを含有する光学フィルムであって、該フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域で、粒径が０．１〜３μｍの微粒子が前記フィルムに垂直な断面に１〜１００個／１００μｍ²存在することを特徴としている。

本発明者らは、上記課題に対し鋭意検討を重ねた結果、基材であるセルロース誘導体とも、セルロース誘導体に含まれる可塑剤等の添加剤に対しても、水素結合によって相互作用することが可能な金属酸化物をナノスケールでセルロース誘導体中に分散・混合する、有機−無機ハイブリッドと呼ばれる手法により製造され、かつ可塑剤及び微粒子を含むセルロースエステルフィルムにより上記課題が達成されることを見出し、本発明を完成させるに至った。

即ち、本発明の光学フィルムは、ロール状態での保管中に変形が生じにくく、反射防止フィルムとした時に反射光の色ムラが少なく、幅１．４ｍ以上の広幅フィルムを用いても、偏光板への加工においても皺などの故障が入りにくい。また、この反射防止フィルムを用いた表示装置は、長時間の鑑賞であっても目が疲れにくいという効果が認められた。

以下、本発明を詳細に説明する。

〈有機−無機ハイブリッド〉
有機−無機ハイブリッド（または有機−無機ポリマーコンポジットまたはゾル・ゲル法などと呼ばれる手法が用いられるが、本発明では有機−無機ハイブリッドと呼称する）とは、有機ポリマーと無機化合物を組み合わせて、双方の特性を持った材料を合成する考え方であるが、有機ポリマーと無機化合物は相溶性に乏しいため、単純に両者を混合するだけでは有用な材料を得ることが難しい。近年になって、無機物を金属アルコキシドのような液体状態から合成する手法が開発されるに至り、溶液プロセスによって可視光の波長以下（〜約７５０ｎｍ以下）のナノスケールで有機物と無機物を混合することが可能となり、光学的にも透明で有用な材料が得られるようになってきている。

本発明においても、鋭意検討した結果、有機ポリマーであるセルロース誘導体と無機化合物である金属酸化物をある一定の条件下で混合することにより、セルロース誘導体の透明性や光学特性を保ったまま、平面性を向上させることが判明し、上記課題を達成する基材フィルムを得ることが出来た。

〈有機ポリマー〉
本発明においては、液晶表示用フィルムとして好ましい有機材料として、低複屈折・波長分散特性が正であるセルロース誘導体が、有機−無機ハイブリッドフィルムの有機ポリマーとして用いられる。

ここで高分子化合物の波長分散特性が正であるとは、波長６００ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（６００）を波長４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（４５０）で除した値が１より大きいことをいう。波長６００ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（６００）及び波長４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（４５０）は、該高分子化合物を可溶な溶媒（例えば、アセトン、酢酸メチル、テトラヒドロフラン、１，３−ジオキソラン、塩化メチレン及びこれらの混合溶媒）に溶解し、ガラス板上にフィルム厚みが１００μｍになるように流延し乾燥させたフィルムを作製し、波長６００ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（６００）と波長４５０ｎｍにおける面内リターデーション値Ｒ（４５０）を測定することによって求めることが出来る。

波長分散特性が正である基板フィルムにおいては、可視光の全波長領域で偏光の補償が可能であり、複屈折を利用した表示方法を採用している液晶パネルにおいては色ずれを防ぐことが出来、また、有機ＥＬ表示素子においては良好なコントラストを得ることが出来る。

本発明に用いられるセルロース誘導体としては、メチルセルロース、エチルセルロース、ヒドロキシエチルセルロース、ヒドロキシプロピルセルロース、シアノエチルセルロースなどのセルロースエーテル類と、トリアセチルセルロース（ＴＡＣ）、ジアセチルセルロース（ＤＡＣ）、セルロースアセテートプロピオネート（ＣＡＰ）、セルロースアセテートブチレート（ＣＡＢ）、セルロースアセテートフタレート、セルロースアセテートトリメリテート、硝酸セルロース等のセルロースエステル類が挙げられるが、好ましくはセルロースエステル類である。或いは、特開２００２−１７９７０１号公報の段落番号［００１０］〜［００２７］記載の芳香族カルボン酸エステルが用いられ、特に特開２００２−１７９７９号公報の段落番号［００２８］〜［００３６］のセルロースアシレートが好ましく用いられる。

本発明に用いられるセルロース誘導体の原料のセルロースとしては、特に限定はないが、綿花リンター、木材パルプ、ケナフなどを挙げることが出来る。また、これらから得られたセルロース誘導体は、それぞれを単独或いは任意の割合で混合使用することが出来るが、綿花リンターを５０質量％以上使用することが好ましい。

セルロースエステルフィルムの分子量が大きいと弾性率が大きくなるが、分子量を上げすぎるとセルロースエステルの溶解液の粘度が高くなりすぎるため生産性が低下する。セルロースエステルの分子量は数平均分子量（Ｍｎ）で８００００〜２０００００のものが好ましく、１０００００〜２０００００のものが更に好ましい。本発明で用いられるセルロースエステルはＭｗ／Ｍｎ比が１．４〜３．０が好ましく、更に好ましくは１．４〜２．３である。

セルロースエステルの平均分子量及び分子量分布は、高速液体クロマトグラフィーを用い測定出来るので、これを用いて数平均分子量（Ｍｎ）、質量平均分子量（Ｍｗ）を算出し、その比を計算することが出来る。

測定条件は以下の通りである。

溶媒： メチレンクロライド
カラム： Ｓｈｏｄｅｘ Ｋ８０６，Ｋ８０５，Ｋ８０３Ｇ（昭和電工（株）製を３本接続して使用した）
カラム温度：２５℃
試料濃度： ０．１質量％
検出器： ＲＩ Ｍｏｄｅｌ ５０４（ＧＬサイエンス社製）
ポンプ： Ｌ６０００（日立製作所（株）製）
流量： １．０ｍｌ／ｍｉｎ
校正曲線： 標準ポリスチレンＳＴＫ ｓｔａｎｄａｒｄ ポリスチレン（東ソー（株）製）Ｍｗ＝１，０００，０００〜５００迄の１３サンプルによる校正曲線を使用した。１３サンプルは、ほぼ等間隔に用いることが好ましい。

セルロースエステルの総アシル基置換度は２．３〜２．９が用いられ、２．６〜２．９が好ましく用いられる。総アシル基置換度はＡＳＴＭ−Ｄ８１７−９６に準じて測定することが出来る。

〈加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物の重縮合物〉
次に本発明の有機−無機ハイブリッドフィルムを構成する無機化合物である金属化合物について説明する。

本発明において金属とは、「周期表の化学」岩波書店 斎藤一夫著 ｐ．７１記載の金属すなわち半金属性原子を含む金属である。

本発明に用いられる加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物としては、例えば金属アルコキシド、金属ジケトネート、金属アルキルアセトアセテート、金属イソシアネート、反応性の金属ハロゲン化物が挙げられ、好ましくは金属種がケイ素、ジルコニウム、チタン及びアルミニウムから選ばれるものであって、特に好ましくはケイ素である。

このような加水分解重縮合可能な反応性金属化合物は、中心金属をＭ、その原子数をｑ、加水分解されない置換基をＡ、その置換基数をｐ、加水分解可能な置換基をＢ、その置換基数をｒとすると、理想的には下記の式（１）のように反応が完結し、金属酸化物が得られる。

式（１） Ａ_pＭ_qＢ_r → Ａ_pＭ_qＯ_r/2
この金属酸化物の含有量は、有機−無機ハイブリッド材料を燃焼させた後、灰中の金属酸化物の含有量として求めることが出来る。

本発明では金属酸化物の含有量は、有機−無機ハイブリッドフィルムを５００℃に加熱燃焼させた後の残渣に含まれる金属酸化物の質量をＡ、燃焼前のフィルムの質量をＢとした時にＡ／Ｂ×１００の式で表す。金属酸化物の質量は、セイコー電子工業（株）製ＳＰＳ−４０００を用いてＩＣＰ−ＡＥＳ分析法（誘導結合プラズマ発行分光分析）により測定することが出来る。この際灰中に金属酸化物以外の成分（例えばリン等）が含まれている場合は公知の方法で灰中の金属酸化物量を測定することが出来る。

有機−無機ハイブリッド材料の無機物の含有量としては、有機−無機ハイブリッドフィルムの全質量に対して、０．１〜４０質量％が好ましい。より好ましくは、０．５〜２０質量％であり、更に好ましくは０．５〜５質量％である。無機物の添加量が０．１質量％より少ないと有機−無機ハイブリッドフィルムの物性改良効果が認められなくなり、４０質量％を越えると有機−無機ハイブリッドフィルムが脆くなってしまうためである。

本発明の有機−無機ハイブリッドフィルム中の重縮合物の平均粒子径の測定は透過型電子顕微鏡観察、Ｘ線小角散乱測定により得ることが出来る。好ましいのはＸ線小角散乱測定により求める方法である。Ｘ線小角散乱法の詳細については例えばＸ線回折ハンドブック第３版（理学電機株式会社２０００年発行）を参照することが出来る。よく知られているように試料中に電子密度の異なる領域が存在すると入射Ｘ線方向に散漫な散乱が観測される。この散乱は散乱角０〜５°程度の範囲に観測されるため、これらの散乱は小角散乱と呼ばれる。この散乱曲線に対し、Ｇｕｉｎｉｅｒプロット或いはＦａｎｋｕｃｈｅｎ法を用いて重縮合物の平均粒子径を測定する。

本発明における有機−無機ハイブリッドフィルム中の重縮合物の好ましい平均粒子径は１〜２００ｎｍである。より好ましくは１〜１００ｎｍ更に好ましくは１〜５０ｎｍで、１〜２０ｎｍが最も好ましい。本発明の重縮合物は従来の金属酸化物微粒子をセルロースエステル溶液中に分散して添加する方法に比べて凝集体を形成しにくく、小粒径の状態を安定に得られる点で優れている。

加水分解重縮合可能な反応性金属化合物としては、式（１）で示されているＡ_pＭ_qＢ_rにおいて、ｐ＝０であるような、全てが加水分解可能な置換基で置換されていることが好ましいが、基材フィルムの透湿度を低減する観点から、加水分解されない置換基によって該金属１原子当たり１つまたは２つ、或いは３つ置換されている化合物が含まれていても良い。このような加水分解されない置換基を有する金属化合物の添加量としては、添加される金属化合物の５０モル％以下が好ましい。また、上記添加量の範囲で２種以上の異なる種類の金属アルコキシドを併用しても良い。

このような加水分解されない置換基としては、置換または無置換のアルキル基、または置換または無置換のアリール基が好ましく該アルキル基またはアリール基の置換基としては、アルキル基（例えばメチル基、エチル基等）、シクロアルキル基（例えばシクロペンチル基、シクロヘキシル基等）、アラルキル基（例えばベンジル基、２−フェネチル基等）、アリール基（例えばフェニル基、ナフチル基等）、複素環基（たとえばフラン、チオフェン、ピリジン等）、アルコキシ基（例えばメトキシ基、エトキシ基等）、アリールオキシ基（例えばフェノキシ基等）、アシル基、ハロゲン原子、シアノ基、アミノ基、アルキルチオ基、グリシジル基、ビニル基、フッ素原子含有アルキル基またはフッ素原子含有アリール基等が挙げられる。

本発明に用いられる重縮合が可能な反応性金属化合物としては、ケイ素化合物として、例えば、テトラメトキシシラン、テトラエトキシシラン、テトライソプロポキシシラン、テトラ−ｎ−ブトキシシラン、テトラ−ｔ−ブトキシシラン、テトラキス（メトキシエトキシ）シラン、テトラキス（メトキシプロポキシ）シラン、テトラクロロシラン、テトライソシアナートシラン等が挙げられる。

また加水分解されない置換基を有するケイ素化合物として、ジメチルジメトキシシラン、ジメチルジエトキシシラン、ジメチルジイソプロポキシシラン、ジメチルジブトキシシラン、ジエチルジメトキシシラン、ジエチルジエトキシシラン、ジエチルジイソプロポキシシラン、ジエチルジブトキシシラン、ジフェニルジメトキシシラン、ジフェニルジエトキシシラン、ジフェニルジイソプロポキシシラン、ジフェニルジブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルメチルジメトキシシラン、ジクロロジメチルシラン、ジクロロジエチルシラン、メチルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、メチルトリイソプロポキシシラン、メチルトリブトキシシラン、エチルトリメトキシシラン、エチルトリエトキシシラン、エチルトリイソプロポキシシラン、エチルトリブトキシシラン、フェニルトリメトキシシラン、フェニルトリエトキシシラン、フェニルトリイソプロポキシシラン、フェニルトリブトキシシラン、ビニルトリメトキシシラン、ビニルトリエトキシシラン、ビニルトリイソプロポキシシラン、ビニルトリブトキシシラン、３−グリシドキシプロピルトリメトキシシラン、３−アミノプロピルトリエトキシシラン、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルトリメトキシシラン、３−クロロプロピルトリメトキシシラン、３−メルカプトプロピルトリメトキシシラン、（３−アクリロキシプロピル）トリメトキシシラン、アセトキシトリエトキシシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリメトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリメトキシシラン、メチルトリクロロシラン、エチルトリクロロシラン、フェニルトリクロロシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリエトキシシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリメトキシシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリエトキシシラン、（３，３，３−トリフルオロプロピル）トリクロロシラン、ペンタフルオロフェニルプロピルトリクロロシラン、（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラヒドロデシル）トリクロロシラン、メチルトリイソシアナートシラン、フェニルトリイソシアナートシラン、ビニルトリイソシアナートシラン、等が挙げられる。

また、これらの化合物が部分的に縮合した、多摩化学製シリケート４０、シリケート４５、シリケート４８、Ｍシリケート５１のような、数量体のケイ素化合物でもよい。

またチタン化合物としては、チタンメトキシド、チタンエトキシド、チタンイソプロポキシド、チタン−ｎ−ブトキシド、テトラクロロチタン、チタンジイソプロポキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンジイソプロポキシド（ビス−２，４−エチルアセトアセテート）、チタンジ−ｎ−ブトキシド（ビス−２，４−ペンタンジオネート）、チタンアセチルアセトネート、チタンラクテート、チタントリエタノールアミネート、ブチルチタネートダイマー等が挙げられる。

またジルコニウム化合物としては、ジルコニウム−ｎ−プロポキシド、ジルコニウム−ｎ−ブトキシド、ジルコニウムトリ−ｎ−ブトキシドアセチルアセトネート、ジルコニウムジ−ｎ−ブトキシドビスアセチルアセトネート、ジルコニウムアセチルアセトネート、ジルコニウムアセテート、等が挙げられる。

またアルミニウム化合物としては、アルミニウムエトキシド、アルミニウムイソプロポキシド、アルミニウム−ｎ−ブトキシド、アルミニウム−ｓ−ブトキシド、アルミニウム−ジ−ｓ−ブトキシドエチルアセチルアセトナート、アルミニウム−ｔ−ブトキシド、アルマトラン、アルミニウムフェノキシド、アルミニウムアセチルアセトナート、アルミニウムエチルアセチルアセトナート等が挙げられる。

またその他の金属からなる化合物としては、例えば、バリウムイソプロポキシド、カルシウムエトキシド、銅エトキシド、マグネシウムエトキシド、マンガンメトキシド、ストロンチウムイソプロポキシド、錫エトキシド、亜鉛メトキシエトキシド、トリメトキシボラン、トリエトキシボラン、アンチモンエトキシド、ヒ素トリエトキシド、ビスマスｔ−ペントキシド、クロムイソプロポキシド、エルビウムメトキシエトキシド、ガリウムエトキシド、インジウムメトキシエトキシド、鉄エトキシド、ランタンイソプロポキシド、ネオジウムメトキシエトキシド、プラセオジムメトキシエトキシド、サマリウムイソプロポキシド、バナジウムトリイソブトキシドオキシド、イットリウムイソプロポキシド、テトラメトキシゲルマン、テトラエトキシゲルマン、テトライソプロポキシゲルマン、テトラ−ｎ−ブトキシゲルマン、セリウム−ｔ−ブトキシド、ハフニウムエトキシド、ハフニウム−ｎ−ブトキシド、テルルエトキシド、モリブデンエトキシド、ニオブエトキシド、ニオブ−ｎ−ブトキシド、タンタルメトキシド、タンタルエトキシド、タンタル−ｎ−ブトキシド、タングステン（Ｖ）エトキシド、タングステン（VI）エトキシド、タングステン（VI）フェノキシド等が挙げられる。

また、本発明に用いられる重縮合が可能な反応性金属化合物としては、分子種内に２つの金属原子を持つダブル金属アルコキシドと呼ばれる化合物でも良い。このようなダブル金属アルコキシドとしては、例えば、ゲレスト社製のアルミニウム銅アルコキシド、アルミニウムチタンアルコキシド、アルミニウムイットリウムアルコキシド、アルミニウムジルコニウムアルコキシド、バリウムチタンアルコキシド、バリウムイットリウムアルコキシド、バリウムジルコニウムアルコキシド、インジウム錫アルコキシド、リチウムニッケルアルコキシド、リチウムニオブアルコキシド、リチウムタンタルアルコキシド、マグネシウムアルミニウムアルコキシド、マグネシウムチタンアルコキシド、マグネシウムジルコニウムアルコキシド、ストロンチウムチタンアルコキシド、ストロンチウムジルコニウムアルコキシド等が挙げられるが、少なくとも、ケイ素、アルミニウム、チタニウム、ジルコニウムのいずれかの金属が含まれているものが好ましい。

〈加水分解触媒〉
本発明の有機−無機ハイブリッドフィルムにおいて、無機化合物である加水分解重縮合可能な反応性金属化合物は、必要に応じて水と触媒を加えて加水分解を起こさせて縮合反応を促進してよい。

しかしフィルムのヘイズ、平面性、製膜速度、溶剤リサイクルなどの生産性の観点から、水分はドープ中に０．０１％以上２．０％以下の範囲内とすることが好ましい。また、疎水的な加水分解重縮合可能な反応性金属化合物に水を添加する場合には、加水分解重縮合可能な反応性金属化合物と水が混和し易いように、メタノール、エタノール、アセトニトリルのような親水性の有機溶媒も添加されていることが好ましい。また、セルロース誘導体とドープに加水分解重縮合可能な反応性金属化合物を混合する際に、ドープからセルロース誘導体が析出しないよう、該セルロース誘導体の良溶媒も添加されていることが好ましい。

反応性金属化合物の加水分解を促進させる触媒としては、塩酸、硫酸、硝酸等の無機酸、酢酸、トリフロロ酢酸、レブリン酸、クエン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸等の有機酸等が用いられる。酸を添加しゾル・ゲル反応が進行した後に塩基を加え中和しても良い。塩基を加え中和する場合、乾燥工程前でのアルカリ金属の含有量が５０００ｐｐｍ未満である事が好ましい（ここでアルカリ金属とは、イオン状態のものを含む）。また、ルイス酸、例えばゲルマニウム、チタン、アルミニウム、アンチモン、錫などの金属の酢酸塩、その他の有機酸塩、ハロゲン化物、燐酸塩などを併用してもよい。

また触媒として、このような酸類の代りに、アンモニア、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノールアミン、ジエチルアミン、トリエチルアミンなど、ＤＢＵ（ジアザビシクロウンデセン−１）、ＤＢＮ（ジアザビシクロノネン）などのビシクロ環系アミン、アンモニア、ホスフィン、アルカリ金属アルコキシド、水酸化アンモニウム、水酸化テトラメチルアンモニウム、水酸化ベンジルトリメチルアンモニウム等の塩基を用いることが出来る。

このような、酸またはアルカリ触媒の添加量としては特に制限はされないが、重縮合可能な反応性金属化合物の量に対して１．０〜２０％が好ましい。また、酸及び塩基の処理を複数回行っても良い。必要な加水分解を行った後、触媒を中和してもよいし揮発性の触媒は減圧で除去してもよいし、分液水洗等により除去しても良い。

尚、金属化合物の加水分解重縮合は、流延前の溶液状態で反応を完結させても良いし、フィルム状に流延してから反応を完結させても良いが、流延前に反応を完結させるのが良い。用途によって反応は完全に終了しなくても良いが、出来れば完結していた方うが良い。加水分解重縮合の反応状態はＮＭＲにて確認することが出来る。反応性金属化合物としてシリコンアルコキシドを用いる場合は、シリコンアルコキシド或いはオルガノアルコキシシランを加水分解すると、ＯＲ基がＯＨに置換し、更に他のＳｉ−ＯＨ或いはＳｉ−ＯＲと縮合する反応が起こるが、２９−Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルには、それぞれに対応するピークが現れる。具体的には、シリコンアルコキシド（Ｓｉ（ＯＲ）₄）は４つのＯＲ基を持ち、アルコキシ基が加水分解していない場合はＱ０と呼ばれるピークを有する。四つの内一つが縮合した時にはＱ１、二つが縮合した時にはＱ２のピークが現れる。

図１にＳｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄（テトラエトキシシラン：ＴＥＯＳ）及び、加水分解後の２９−Ｓｉ−ＮＭＲスペクトルを示す。縦軸はシグナルの相対速度を、横軸は周波数を表している。周波数の間隔は用いた磁場の強さによって変わるので、試料と基準のＴＭＳとの共鳴周波数の差を装置発信器の周波数に対するｐｐｍで示した値を横軸の単位として用いるのが一般的であり、この図もそれに準じている。Ｓｉ（ＯＣ₂Ｈ₅）₄のＳｉによるピークＱ０が見られるのに対し、加水分解後はピークＱ０が消失し、Ｑ１、Ｑ２に帰属される様々なピークが現れた。これにより反応状態の確認を行うことが好ましい。

〈溶媒〉
本発明のセルロース誘導体及び加水分解重縮合可能な反応性金属化合物は溶媒に溶解させてドープを形成し、これを基材上に流延しフィルムを形成させる。この際に押し出し或いは流延後に溶媒を蒸発させる必要性があるため、揮発性の溶媒が好ましい。更に、反応性金属化合物や触媒等と反応せず、かつ流延用基材を溶解しないものである。また、２種以上の溶媒を混合して用いても良い。また、セルロースエステルと加水分解重縮合可能な反応性金属化合物を各々別の溶媒に溶解し後に混合しても良い。

ここで、上記セルロース誘導体に対して良好な溶解性を有する有機溶媒を良溶媒といい、また溶解に主たる効果を示し、その中で大量に使用する有機溶媒を主（有機）溶媒または主たる（有機）溶媒という。

良溶媒の例としてはアセトン、メチルエチルケトン、シクロペンタノン、シクロヘキサノンなどのケトン類、テトラヒドロフラン（ＴＨＦ）、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキソラン、１，２−ジメトキシエタンなどのエーテル類、ぎ酸メチル、ぎ酸エチル、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸アミル、γ−ブチロラクトン等のエステル類の他、メチルセロソルブ、ジメチルイミダゾリノン、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、アセトニトリル、ジメチルスルフォキシド、スルホラン、ニトロエタン、塩化メチレン、アセト酢酸メチルなどが挙げられるが、１，３−ジオキソラン、ＴＨＦ、メチルエチルケトン、アセトン、酢酸メチル及び塩化メチレンが好ましい。

ドープには、上記有機溶媒の他に、１〜４０質量％の炭素原子数１〜４のアルコールを含有させることが好ましい。これらは、ドープを金属支持体に流延した後、溶媒が蒸発し始めてアルコールの比率が多くなることでウェブ（支持体上にセルロース誘導体のドープを流延した以降のドープ膜の呼び方をウェブとする）をゲル化させ、ウェブを丈夫にし金属支持体から剥離することを容易にするゲル化溶媒として用いられたり、これらの割合が少ない時は非塩素系有機溶媒のセルロース誘導体の溶解を促進したりする役割もあり、反応性金属化合物のゲル化、析出、粘度上昇を抑える役割もある。

炭素原子数１〜４のアルコールとしては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｉｓｏ−プロパノール、ｎ−ブタノール、ｓｅｃ−ブタノール、ｔｅｒｔ−ブタノール、プロピレングリコールモノメチルエーテルを挙げることが出来る。これらのうち、ドープの安定性に優れ、沸点も比較的低く、乾燥性も良く、かつ毒性がないこと等からエタノールが好ましい。これらの有機溶媒は、単独ではセルロース誘導体に対して溶解性を有しておらず、貧溶媒という。

このような条件を満たし好ましい高分子化合物であるセルロース誘導体を高濃度に溶解する溶剤として最も好ましい溶剤は塩化メチレン：エチルアルコールの比が９５：５〜８０：２０の混合溶剤である。或いは、酢酸メチル：エチルアルコール６０：４０〜９５：５の混合溶媒も好ましく用いられる。

〈添加剤〉
本発明における有機−無機ハイブリッドフィルムには、フィルムに加工性・柔軟性・防湿性を付与する可塑剤、フィルムに滑り性を付与する微粒子（マット剤）を必須成分とし、その他紫外線吸収機能を付与する紫外線吸収剤、フィルムの劣化を防止する酸化防止剤、フィルムのリターデーションを調整するリターデーション調整剤等を含有させても良い。

〈可塑剤〉
用いられる可塑剤しては特に限定はないが、フィルムにヘイズを発生させたりフィルムからブリードアウト或いは揮発しないように、セルロース誘導体や加水分解重縮合が可能な反応性金属化合物の重縮合物と水素結合などによって相互作用可能である官能基を有していることが好ましい。

このような官能基としては、水酸基、エーテル基、カルボニル基、エステル基、カルボン酸残基、アミノ基、イミノ基、アミド基、イミド基、シアノ基、ニトロ基、スルホニル基、スルホン酸残基、ホスホニル基、ホスホン酸残基等が挙げられるが、好ましくはカルボニル基、エステル基、ホスホニル基である。

このような可塑剤の例として、リン酸エステル系可塑剤、フタル酸エステル系可塑剤、トリメリット酸エステル系可塑剤、ピロメリット酸系可塑剤、多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、クエン酸エステル系可塑剤、脂肪酸エステル系可塑剤、カルボン酸エステル系可塑剤、ポリエステル系可塑剤などを好ましく用いることが出来るが、特に好ましくは多価アルコールエステル系可塑剤、グリコレート系可塑剤、多価カルボン酸エステル系可塑剤等の非リン酸エステル系可塑剤である。

多価アルコールエステルは２価以上の脂肪族多価アルコールとモノカルボン酸のエステルよりなり、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有することが好ましい。

本発明に用いられる多価アルコールは次の一般式（１）で表される。

一般式（１） Ｒ₁−（ＯＨ）_n
（ただし、Ｒ₁はｎ価の有機基、ｎは２以上の正の整数を表す）
好ましい多価アルコールの例としては、例えば以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれらに限定されるものではない。アドニトール、アラビトール、エチレングリコール、ジエチレングリコール、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、１，２−プロパンジオール、１，３−プロパンジオール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、１，２−ブタンジオール、１，３−ブタンジオール、１，４−ブタンジオール、ジブチレングリコール、１，２，４−ブタントリオール、１，５−ペンタンジオール、１，６−ヘキサンジオール、ヘキサントリオール、ガラクチトール、マンニトール、３−メチルペンタン−１，３，５−トリオール、ピナコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、トリメチロールエタン、キシリトール等を挙げることが出来る。特に、トリエチレングリコール、テトラエチレングリコール、ジプロピレングリコール、トリプロピレングリコール、ソルビトール、トリメチロールプロパン、キシリトールが好ましい。

本発明の多価アルコールエステルに用いられるモノカルボン酸としては、特に制限はなく、公知の脂肪族モノカルボン酸、脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸等を用いることが出来る。脂環族モノカルボン酸、芳香族モノカルボン酸を用いると透湿性、保留性を向上させる点で好ましい。

好ましいモノカルボン酸の例としては以下のようなものを挙げることが出来るが、本発明はこれに限定されるものではない。

脂肪族モノカルボン酸としては、炭素数１〜３２の直鎖または側鎖を有する脂肪酸を好ましく用いることが出来る。炭素数は１〜２０であることが更に好ましく、１〜１０であることが特に好ましい。酢酸を含有させるとセルロース誘導体との相溶性が増すため好ましく、酢酸と他のモノカルボン酸を混合して用いることも好ましい。

好ましい脂肪族モノカルボン酸としては、酢酸、プロピオン酸、酪酸、吉草酸、カプロン酸、エナント酸、カプリル酸、ペラルゴン酸、カプリン酸、２−エチル−ヘキサンカルボン酸、ウンデシル酸、ラウリン酸、トリデシル酸、ミリスチン酸、ペンタデシル酸、パルミチン酸、ヘプタデシル酸、ステアリン酸、ノナデカン酸、アラキン酸、ベヘン酸、リグノセリン酸、セロチン酸、ヘプタコサン酸、モンタン酸、メリシン酸、ラクセル酸等の飽和脂肪酸、ウンデシレン酸、オレイン酸、ソルビン酸、リノール酸、リノレン酸、アラキドン酸等の不飽和脂肪酸等を挙げることが出来る。

好ましい脂環族モノカルボン酸の例としては、シクロペンタンカルボン酸、シクロヘキサンカルボン酸、シクロオクタンカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来る。

好ましい芳香族モノカルボン酸の例としては、安息香酸、トルイル酸等の安息香酸のベンゼン環にアルキル基を導入したもの、ビフェニルカルボン酸、ナフタリンカルボン酸、テトラリンカルボン酸等のベンゼン環を２個以上有する芳香族モノカルボン酸、またはそれらの誘導体を挙げることが出来るが、特に安息香酸が好ましい。

多価アルコールエステルの分子量は特に制限はないが、３００〜１５００であることが好ましく、３５０〜７５０であることが更に好ましい。分子量が大きい方が揮発し難くなるため好ましく、透湿性、セルロース誘導体との相溶性の点では小さい方が好ましい。

多価アルコールエステルに用いられるカルボン酸は１種類でもよいし、２種以上の混合であってもよい。また、多価アルコール中のＯＨ基は、全てエステル化してもよいし、一部をＯＨ基のままで残してもよい。

以下に、多価アルコールエステルの具体的化合物を示す。

グリコレート系可塑剤は特に限定されないが、分子内に芳香環またはシクロアルキル環を有するグリコレート系可塑剤を好ましく用いることが出来る。好ましいグリコレート系可塑剤としては、例えばブチルフタリルブチルグリコレート、エチルフタリルエチルグリコレート、メチルフタリルエチルグリコレート等を用いることが出来る。

リン酸エステル系可塑剤では、トリフェニルホスフェート、トリクレジルホスフェート、クレジルジフェニルホスフェート、オクチルジフェニルホスフェート、ジフェニルビフェニルホスフェート、トリオクチルホスフェート、トリブチルホスフェート等、フタル酸エステル系可塑剤では、ジエチルフタレート、ジメトキシエチルフタレート、ジメチルフタレート、ジオクチルフタレート、ジブチルフタレート、ジ−２−エチルヘキシルフタレート、ジシクロヘキシルフタレート等を用いることが出来るが、本発明ではリン酸エステル系可塑剤を実質的に含有しないことが好ましい。「実質的に含有しない」とはリン酸エステル系可塑剤の含有量が１質量％未満、好ましくは０．１質量％であり、特に好ましいのは添加していないことである。

これらの可塑剤は単独或いは２種以上混合して用いることが出来る。可塑剤の使用量は、セルロース誘導体に対して１質量％未満ではフィルムの透湿度を低減させる効果が少ないため好ましくなく、２０質量％を越えるとフィルムから可塑剤がブリードアウトし、フィルムの物性が劣化するため、１〜２０質量％が好ましい。６〜１６質量％が更に好ましく、特に好ましくは８〜１３質量％である。

〈マット剤〉
本発明におけるセルロース誘導体には、滑り性を付与するためにマット剤等の微粒子を添加する。微粒子としては、無機化合物の微粒子または有機化合物の微粒子が挙げられる。

無機化合物の例としては、二酸化ケイ素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化錫等の微粒子が挙げられる。この中では、ケイ素原子を含有する化合物であることが好ましく、特に二酸化ケイ素微粒子が好ましい。二酸化ケイ素微粒子としては、例えばアエロジル（株）製のＡＥＲＯＳＩＬ ２００、２００Ｖ、３００、Ｒ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ２０２、Ｒ８１２，Ｒ８０５、ＯＸ５０、ＴＴ６００などが挙げられる。

有機化合物の例としては、アクリル樹脂、シリコーン樹脂、フッ素化合物樹脂、ウレタン樹脂等が挙げられる。

本発明において、微粒子の１次粒径は、特に限定されないが、最終的にフィルム中での平均粒径は０．１〜３．０μｍである必要がある。好ましくは、０．１〜０．３μｍである。

微粒子の平均粒経は、セルロースエステルフィルムを電子顕微鏡や光学顕微鏡で観察した際に、フィルムの観察場所における、粒子の長軸方向の長さの平均値を指す。フィルム中で観察される粒子であれば、一次粒子であっても、一次粒子が凝集した二次粒子であってもよいが通常観察される多くは二次粒子である。

測定方法の一例としては、一つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面写真を撮影し、各断面写真について、表面から１０μｍまでの場所での長軸長さが、０．１〜３μｍの範囲にある１００μｍ²中の粒子個数をカウントする。この時カウントした粒子の長軸長さの平均値を求め、１０箇所の平均値を平均した値を平均粒径とする。

微粒子の場合は、１次粒径、溶媒に分散した後の粒径、フィルムに添加されたの粒径が変化する場合が多く、重要なのは最終的にフィルム中で微粒子がセルロースエステルと複合し凝集して形成される粒径をコントロールすることである。上記粒径が、３μｍを超えた場合は、ヘイズの劣化等が見られたり、異物として巻状態での故障を発生する原因にもなる。また、０．１μｍ以下の場合は、本発明の改善効果が見られず、特に、セルロースエステルフィルムが２０〜６５μｍの場合は顕著である。

本発明において、微粒子の真比重が０．８〜４．０である必要がある。好ましくは０．８〜３．０、更に好ましくは０．８５〜２．５である。ここでいう真比重とは、物質を構成している元素から理論的に計算される体積に対する質量の割合という意味である。真比重が０．８以下の時は、微粒子の分散液の状態で、微粒子の浮力が大きく分離が発生し、フィルム中の微粒子の分布にムラが出来てしまい、４．０以上の時は、微粒子の分散液の状態で微粒子の沈降が発生し、フィルム中に微粒子が添加されない部分が発生してしまうため本発明の範囲であることが必要である。

本発明において、セルロースエステルフィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域において、粒径が０．１〜３．０μｍの範囲の微粒子が、セルロースエステルフィルムに垂直な断面で、１〜１００個／１００μｍ²存在している。特に粒径が０．１〜０．３μｍの微粒子が１〜１００個／１００μｍ²存在していることが好ましい。好ましくは、１〜３０個／１００μｍ²であり、更に好ましくは１〜２５個／１００μｍ²である。１個以下の場合は、フィルム表面粗さが平滑に成りすぎて摩擦係数の上昇によりブロッキングを発生する。また１００個以上の場合は、フィルム表面の摩擦係数が下がりすぎて、巻き取り時に巻きズレが発生したり、フィルムの透明度が低くヘイズが高くなるため液晶表示装置用フィルムとしての価値を持たないため本発明の範囲が必須である。

セルロースエステルフィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域における、微粒子の個数は、たとえば以下の様に測定出来る。一つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面の写真を撮影し、各断面写真について、表面から１０μｍまでの場所での１００μｍ²中の個数を測定する。そして、１０箇所の平均値を出す。この際、５箇所はフィルムの横方向の断面そち、５箇所はフィルムの縦方向の断面として平均とする。

本発明において、上記微粒子はセルロースエステルに対して、０．０４〜０．３質量％添加して使用される。好ましくは、０．０５〜０．２質量％、更に好ましくは０．０５〜０．１５質量％である。０．０４以下では、フィルム表面粗さが平滑に成りすぎて摩擦係数の上昇によりブロッキングを発生する。０．３以上ではフィルム表面の摩擦係数が下がりすぎて、巻き取り時に巻きズレが発生したり、フィルムの透明度が低くヘイズが高くなるため液晶表示装置用フィルムとしての価値を持たないため本発明の範囲が必須である。

本発明においては、微粒子と溶剤を混合した組成物を高圧分散装置で処理することが好ましい。本発明で用いる高圧分散装置は、微粒子と溶媒を混合した組成物を、細管中に高速通過させることで、高剪断や高圧状態など特殊な条件を作りだす装置である。高圧分散装置で処理することにより、例えば、管径１〜２０００μｍの細管中で装置内部の最大圧力条件が９８０Ｎ／ｃｍ²以上であることが好ましい。

更に好ましくは１９６０Ｎ／ｃｍ²以上である。またその際、最高到達速度が１００ｍ／ｓｅｃ以上に達するもの、伝熱速度が１００ｋｃａｌ／ｈｒ以上に達するものが好ましい。

上記のような高圧分散装置にはＭｉｃｒｏｆｌｕｉｄｉｃｓＣｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ社製超高圧ホモジナイザー（商品名マイクロフルイダイザー）或いはナノマイザー社製ナノマイザーがあり、他にもマントンゴーリン型高圧分散装置、例えばイズミフードマシナリ製ホモゲナイザー等が挙げられる。

本発明において、微粒子は、低級アルコール類を２５〜１００質量％含有する溶剤中で分散した後、セルロースエステルを溶剤に溶解したドープと混合し、該混合液を支持体上に流延し、乾燥して製膜することを特徴とするセルロースエステルフィルムを得る。低級アルコールの含有比率としては、好ましくは、５０〜１００質量％、更に好ましくは、７５〜１００質量％である。低級アルコール類としては、好ましくはメチルアルコール、エチルアルコール、プロピルアルコール、イソプロピルアルコール、ブチルアルコール等が挙げられる。

低級アルコール以外の溶媒としては特に限定されないが、セルロースエステルの製膜時に用いられる溶剤を用いることが好ましい。

本発明において、微粒子は溶媒中で１〜３０質量％の濃度で分散される。これ以上の濃度で分散すると、粘度が急激に上昇し好ましくない。分散液中の微粒子の濃度としては、好ましく、５〜２５質量％、更に好ましくは、１０〜２０質量％である。

〈紫外線吸収剤〉
紫外線吸収機能は、液晶の劣化防止の観点から、偏光板保護フィルム、位相差フィルム、光学補償フィルムなどの各種光学フィルムに付与されていることが好ましい。このような紫外線吸収機能は、紫外線を吸収する材料をセルロース誘導体中に含ませても良く、セルロース誘導体からなるフィルム上に紫外線吸収機能のある層を設けてもよい。

このような紫外線吸収機能のある紫外線吸収剤としては、波長３７０ｎｍ以下の紫外線の吸収能に優れ、波長４００ｎｍ以上の可視光の吸収が少ないものが好ましく用いられる。好ましく用いられる紫外線吸収剤の具体例としては、例えばトリアジン系化合物、オキシベンゾフェノン系化合物、ベンゾトリアゾール系化合物、サリチル酸エステル系化合物、ベンゾフェノン系化合物、シアノアクリレート系化合物、ニッケル錯塩系化合物などが挙げられるが、これらに限定されない。また、特開平６−１４８４３０号公報に記載の高分子紫外線吸収剤も好ましく用いられる。

本発明に有用な紫外線吸収剤の具体例として、２−（２′−ヒドロキシ−５′−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′，５′−ジ−ｔｅｒｔ−ブチル−フェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２′−ヒドロキシ−３′−（３″，４″，５″，６″−テトラヒドロフタルイミドメチル）−５′−メチル−フェニル）ベンゾトリアゾール、２，２−メチレンビス（４−（１，１，３，３−テトラメチルブチル）−６−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェノール）、２−（２′−ヒドロキシ−３′−ｔｅｒｔ−ブチル−５′−メチルフェニル）−５−クロロベンゾトリアゾール、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）−６−（直鎖及び側鎖ドデシル）−４−メチル−フェノール（チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１７１）、２−オクチル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートと２−エチルヘキシル−３−〔３−ｔｅｒｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−５−（５−クロロ−２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２−イル）フェニル〕プロピオネートの混合物（チヌビン（ＴＩＮＵＶＩＮ）１０９）、２−（２Ｈ−ベンゾトリアゾール−２イル）−４，６−ビス（１−メチル−１−フェニルエチル）フェノール（チヌビン２３４）、２−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−２−ヒドロキシフェニル）−５−クロロ−ベンゾトリアゾール（チヌビン３２６）等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。また、上記のチヌビン１０９、チヌビン１７１、チヌビン３２６等チヌビンはいずれもチバ・スペシャルティ・ケミカルズ社製の市販品で、好ましく使用出来る。

ベンゾフェノン系化合物の具体例として、２，４−ジヒドロキシベンゾフェノン、２，２′−ジヒドロキシ−４−メトキシベンゾフェノン、２−ヒドロキシ−４−メトキシ−５−スルホベンゾフェノン、ビス（２−メトキシ−４−ヒドロキシ−５−ベンゾイルフェニルメタン）等を挙げることが出来るが、これらに限定されない。

また、本発明の光学フィルムの紫外線吸収剤として、１，３，５−トリアジン環を有する化合物を好ましく用いることが出来る。

１，３，５−トリアジン環を有する化合物は、中でも、下記一般式（Ｉ）で表される化合物が好ましい。

一般式（Ｉ）において、Ｘ¹は、単結合、−ＮＲ₄−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ²は単結合、−ＮＲ₅−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｘ³は単結合、−ＮＲ₆−、−Ｏ−または−Ｓ−であり；Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³はアルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基であり；そして、Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。一般式（Ｉ）で表される化合物は、メラミン化合物であることが特に好ましい。

メラミン化合物では、一般式（Ｉ）において、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³が、それぞれ、−ＮＲ₄−、−ＮＲ₅−及び−ＮＲ₆−であるか、或いは、Ｘ¹、Ｘ²及びＸ³が単結合であり、かつ、Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³が窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基である。−Ｘ¹−Ｒ¹、−Ｘ²−Ｒ²及び−Ｘ³−Ｒ³は、同一の置換基であることが好ましい。Ｒ¹、Ｒ²及びＲ³は、アリール基であることが特に好ましい。Ｒ₄、Ｒ₅及びＲ₆は、水素原子であることが特に好ましい。

上記アルキル基は、環状アルキル基よりも鎖状アルキル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルキル基よりも、直鎖状アルキル基の方が好ましい。

アルキル基の炭素原子数は、１〜３０であることが好ましく、１〜２０であることがより好ましく、１〜１０であることが更に好ましく、１〜８であることが更にまた好ましく、１〜６であることが最も好ましい。アルキル基は置換基を有していてもよい。

置換基の具体例としては、例えばハロゲン原子、アルコキシ基（例えばメトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基）及びアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ）等が挙げられる。上記アルケニル基は、環状アルケニル基よりも鎖状アルケニル基である方が好ましい。分岐を有する鎖状アルケニル基よりも、直鎖状アルケニル基の方が好ましい。アルケニル基の炭素原子数は、２〜３０であることが好ましく、２〜２０であることがより好ましく、２〜１０であることが更に好ましく、２〜８であることが更にまた好ましく、２〜６であることが最も好ましい。アルケニル基は、置換基を有していてもよい。

置換基の具体例としては、ハロゲン原子、アルコキシ基（例えば、メトキシ、エトキシ、エポキシエチルオキシ等の各基）またはアシルオキシ基（例えば、アクリロイルオキシ、メタクリロイルオキシ等の各基）が挙げられる。

上記アリール基は、フェニル基またはナフチル基であることが好ましく、フェニル基であることが特に好ましい。アリール基は置換基を有していてもよい。

置換基の具体例としては、例えば、ハロゲン原子、ヒドロキシル、シアノ、ニトロ、カルボキシル、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アルコキシ基、アルケニルオキシ基、アリールオキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルケニルオキシカルボニル基、アリールオキシカルボニル基、スルファモイル、アルキル置換スルファモイル基、アルケニル置換スルファモイル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、カルバモイル、アルキル置換カルモイル基、アルケニル置換カルバモイル基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基、アルケニルチオ基、アリールチオ基及びアシル基が含まれる。上記アルキル基は、前述したアルキル基と同義である。

アルコキシ基、アシルオキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルキル置換カルバモイル基、アミド基、アルキルチオ基とアシル基のアルキル部分も、前述したアルキル基と同義である。

上記アルケニル基は、前述したアルケニル基と同義である。

アルケニルオキシ基、アシルオキシ基、アルケニルオキシカルボニル基、アルケニル置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アルケニル置換カルバモイル基、アミド基、アルケニルチオ基及びアシル基のアルケニル部分も、前述したアルケニル基と同義である。

上記アリール基の具体例としては、例えば、フェニル、α−ナフチル、β−ナフチル、４−メトキシフェニル、３，４−ジエトキシフェニル、４−オクチルオキシフェニルまたは４−ドデシルオキシフェニル等の各基が挙げられる。

アリールオキシ基、アシルオキシ基、アリールオキシカルボニル基、アリール置換スルファモイル基、スルホンアミド基、アリール置換カルバモイル基、アミド基、アリールチオ基及びアシル基の部分の例は、上記アリール基と同義である。

Ｘ¹、Ｘ²またはＸ³が−ＮＲ−、−Ｏ−または−Ｓ−である場合の複素環基は、芳香族性を有することが好ましい。

芳香族性を有する複素環基中の複素環としては、一般に不飽和複素環であり、好ましくは最多の二重結合を有する複素環である。複素環は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることが更に好ましく、６員環であることが最も好ましい。

複素環中のヘテロ原子は、Ｎ、ＳまたはＯ等の各原子であることが好ましく、Ｎ原子であることが特に好ましい。

芳香族性を有する複素環としては、ピリジン環（複素環基としては、例えば、２−ピリジルまたは４−ピリジル等の各基）が特に好ましい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の例は、上記アリール部分の置換基の例と同様である。

Ｘ¹、Ｘ²またはＸ³が単結合である場合の複素環基は、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基であることが好ましい。窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基は、５員環、６員環または７員環であることが好ましく、５員環または６員環であることが更に好ましく、５員環であることが最も好ましい。複素環基は、複数の窒素原子を有していてもよい。

また、複素環基中のヘテロ原子は、窒素原子以外のヘテロ原子（例えば、Ｏ原子、Ｓ原子）を有していてもよい。複素環基は、置換基を有していてもよい。複素環基の置換基の具体例は、上記アリール部分の置換基の具体例と同義である。

以下に、窒素原子に遊離原子価を持つ複素環基の具体例を示す。

１，３，５−トリアジン環を有する化合物の分子量は、３００〜２０００であることが好ましい。該化合物の沸点は、２６０℃以上であることが好ましい。沸点は、市販の測定装置（例えば、ＴＧ／ＤＴＡ１００、セイコー電子工業（株）製）を用いて測定出来る。

以下に、１，３，５−トリアジン環を有する化合物の具体例を示す。

尚、以下に示す複数のＲは同一の基を表す。

（１）ブチル
（２）２−メトキシ−２−エトキシエチル
（３）５−ウンデセニル
（４）フェニル
（５）４−エトキシカルボニルフェニル
（６）４−ブトキシフェニル
（７）ｐ−ビフェニリル
（８）４−ピリジル
（９）２−ナフチル
（１０）２−メチルフェニル
（１１）３，４−ジメトキシフェニル
（１２）２−フリル

（１４）フェニル
（１５）３−エトキシカルボニルフェニル
（１６）３−ブトキシフェニル
（１７）ｍ−ビフェニリル
（１８）３−フェニルチオフェニル
（１９）３−クロロフェニル
（２０）３−ベンゾイルフェニル
（２１）３−アセトキシフェニル
（２２）３−ベンゾイルオキシフェニル
（２３）３−フェノキシカルボニルフェニル
（２４）３−メトキシフェニル
（２５）３−アニリノフェニル
（２６）３−イソブチリルアミノフェニル
（２７）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２８）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（２９）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（３０）３−メチルフェニル
（３１）３−フェノキシフェニル
（３２）３−ヒドロキシフェニル
（３３）４−エトキシカルボニルフェニル
（３４）４−ブトキシフェニル
（３５）ｐ−ビフェニリル
（３６）４−フェニルチオフェニル
（３７）４−クロロフェニル
（３８）４−ベンゾイルフェニル
（３９）４−アセトキシフェニル
（４０）４−ベンゾイルオキシフェニル
（４１）４−フェノキシカルボニルフェニル
（４２）４−メトキシフェニル
（４３）４−アニリノフェニル
（４４）４−イソブチリルアミノフェニル
（４５）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（４６）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（４７）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（４８）４−メチルフェニル
（４９）４−フェノキシフェニル
（５０）４−ヒドロキシフェニル
（５１）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（５２）３，４−ジブトキシフェニル
（５３）３，４−ジフェニルフェニル
（５４）３，４−ジフェニルチオフェニル
（５５）３，４−ジクロロフェニル
（５６）３，４−ジベンゾイルフェニル
（５７）３，４−ジアセトキシフェニル
（５８）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（５９）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（６０）３，４−ジメトキシフェニル
（６１）３，４−ジアニリノフェニル
（６２）３，４−ジメチルフェニル
（６３）３，４−ジフェノキシフェニル
（６４）３，４−ジヒドロキシフェニル
（６５）２−ナフチル
（６６）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（６７）３，４，５−トリブトキシフェニル
（６８）３，４，５−トリフェニルフェニル
（６９）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（７０）３，４，５−トリクロロフェニル
（７１）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（７２）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（７３）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（７４）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（７５）３，４，５−トリメトキシフェニル
（７６）３，４，５−トリアニリノフェニル
（７７）３，４，５−トリメチルフェニル
（７８）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（７９）３，４，５−トリヒドロキシフェニル

（８０）フェニル
（８１）３−エトキシカルボニルフェニル
（８２）３−ブトキシフェニル
（８３）ｍ−ビフェニリル
（８４）３−フェニルチオフェニル
（８５）３−クロロフェニル
（８６）３−ベンゾイルフェニル
（８７）３−アセトキシフェニル
（８８）３−ベンゾイルオキシフェニル
（８９）３−フェノキシカルボニルフェニル
（９０）３−メトキシフェニル
（９１）３−アニリノフェニル
（９２）３−イソブチリルアミノフェニル
（９３）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（９４）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（９５）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（９６）３−メチルフェニル
（９７）３−フェノキシフェニル
（９８）３−ヒドロキシフェニル
（９９）４−エトキシカルボニルフェニル
（１００）４−ブトキシフェニル
（１０１）ｐ−ビフェニリル
（１０２）４−フェニルチオフェニル
（１０３）４−クロロフェニル
（１０４）４−ベンゾイルフェニル
（１０５）４−アセトキシフェニル
（１０６）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１０７）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１０８）４−メトキシフェニル
（１０９）４−アニリノフェニル
（１１０）４−イソブチリルアミノフェニル
（１１１）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１１２）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１１３）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１１４）４−メチルフェニル
（１１５）４−フェノキシフェニル
（１１６）４−ヒドロキシフェニル
（１１７）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（１１８）３，４−ジブトキシフェニル
（１１９）３，４−ジフェニルフェニル
（１２０）３，４−ジフェニルチオフェニル
（１２１）３，４−ジクロロフェニル
（１２２）３，４−ジベンゾイルフェニル
（１２３）３，４−ジアセトキシフェニル
（１２４）３，４−ジベンゾイルオキシフェニル
（１２５）３，４−ジフェノキシカルボニルフェニル
（１２６）３，４−ジメトキシフェニル
（１２７）３，４−ジアニリノフェニル
（１２８）３，４−ジメチルフェニル
（１２９）３，４−ジフェノキシフェニル
（１３０）３，４−ジヒドロキシフェニル
（１３１）２−ナフチル
（１３２）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（１３３）３，４，５−トリブトキシフェニル
（１３４）３，４，５−トリフェニルフェニル
（１３５）３，４，５−トリフェニルチオフェニル
（１３６）３，４，５−トリクロロフェニル
（１３７）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（１３８）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（１３９）３，４，５−トリベンゾイルオキシフェニル
（１４０）３，４，５−トリフェノキシカルボニルフェニル
（１４１）３，４，５−トリメトキシフェニル
（１４２）３，４，５−トリアニリノフェニル
（１４３）３，４，５−トリメチルフェニル
（１４４）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（１４５）３，４，５−トリヒドロキシフェニル

（１４６）フェニル
（１４７）４−エトキシカルボニルフェニル
（１４８）４−ブトキシフェニル
（１４９）ｐ−ビフェニリル
（１５０）４−フェニルチオフェニル
（１５１）４−クロロフェニル
（１５２）４−ベンゾイルフェニル
（１５３）４−アセトキシフェニル
（１５４）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１５５）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１５６）４−メトキシフェニル
（１５７）４−アニリノフェニル
（１５８）４−イソブチリルアミノフェニル
（１５９）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１６０）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１６１）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１６２）４−メチルフェニル
（１６３）４−フェノキシフェニル
（１６４）４−ヒドロキシフェニル

（１６５）フェニル
（１６６）４−エトキシカルボニルフェニル
（１６７）４−ブトキシフェニル
（１６８）ｐ−ビフェニリル
（１６９）４−フェニルチオフェニル
（１７０）４−クロロフェニル
（１７１）４−ベンゾイルフェニル
（１７２）４−アセトキシフェニル
（１７３）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１７４）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１７５）４−メトキシフェニル
（１７６）４−アニリノフェニル
（１７７）４−イソブチリルアミノフェニル
（１７８）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１７９）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１８０）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（１８１）４−メチルフェニル
（１８２）４−フェノキシフェニル
（１８３）４−ヒドロキシフェニル

（１８４）フェニル
（１８５）４−エトキシカルボニルフェニル
（１８６）４−ブトキシフェニル
（１８７）ｐ−ビフェニリル
（１８８）４−フェニルチオフェニル
（１８９）４−クロロフェニル
（１９０）４−ベンゾイルフェニル
（１９１）４−アセトキシフェニル
（１９２）４−ベンゾイルオキシフェニル
（１９３）４−フェノキシカルボニルフェニル
（１９４）４−メトキシフェニル
（１９５）４−アニリノフェニル
（１９６）４−イソブチリルアミノフェニル
（１９７）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（１９８）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（１９９）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２００）４−メチルフェニル
（２０１）４−フェノキシフェニル
（２０２）４−ヒドロキシフェニル

（２０３）フェニル
（２０４）４−エトキシカルボニルフェニル
（２０５）４−ブトキシフェニル
（２０６）ｐ−ビフェニリル
（２０７）４−フェニルチオフェニル
（２０８）４−クロロフェニル
（２０９）４−ベンゾイルフェニル
（２１０）４−アセトキシフェニル
（２１１）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２１２）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２１３）４−メトキシフェニル
（２１４）４−アニリノフェニル
（２１５）４−イソブチリルアミノフェニル
（２１６）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２１７）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（２１８）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２１９）４−メチルフェニル
（２２０）４−フェノキシフェニル
（２２１）４−ヒドロキシフェニル

（２２２）フェニル
（２２３）４−ブチルフェニル
（２２４）４−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２２５）４−（５−ノネニル）フェニル
（２２６）ｐ−ビフェニリル
（２２７）４−エトキシカルボニルフェニル
（２２８）４−ブトキシフェニル
（２２９）４−メチルフェニル
（２３０）４−クロロフェニル
（２３１）４−フェニルチオフェニル
（２３２）４−ベンゾイルフェニル
（２３３）４−アセトキシフェニル
（２３４）４−ベンゾイルオキシフェニル
（２３５）４−フェノキシカルボニルフェニル
（２３６）４−メトキシフェニル
（２３７）４−アニリノフェニル
（２３８）４−イソブチリルアミノフェニル
（２３９）４−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２４０）４−（３−エチルウレイド）フェニル
（２４１）４−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２４２）４−フェノキシフェニル
（２４３）４−ヒドロキシフェニル
（２４４）３−ブチルフェニル
（２４５）３−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２４６）３−（５−ノネニル）フェニル
（２４７）ｍ−ビフェニリル
（２４８）３−エトキシカルボニルフェニル
（２４９）３−ブトキシフェニル
（２５０）３−メチルフェニル
（２５１）３−クロロフェニル
（２５２）３−フェニルチオフェニル
（２５３）３−ベンゾイルフェニル
（２５４）３−アセトキシフェニル
（２５５）３−ベンゾイルオキシフェニル
（２５６）３−フェノキシカルボニルフェニル
（２５７）３−メトキシフェニル
（２５８）３−アニリノフェニル
（２５９）３−イソブチリルアミノフェニル
（２６０）３−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２６１）３−（３−エチルウレイド）フェニル
（２６２）３−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２６３）３−フェノキシフェニル
（２６４）３−ヒドロキシフェニル
（２６５）２−ブチルフェニル
（２６６）２−（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２６７）２−（５−ノネニル）フェニル
（２６８）ｏ−ビフェニリル
（２６９）２−エトキシカルボニルフェニル
（２７０）２−ブトキシフェニル
（２７１）２−メチルフェニル
（２７２）２−クロロフェニル
（２７３）２−フェニルチオフェニル
（２７４）２−ベンゾイルフェニル
（２７５）２−アセトキシフェニル
（２７６）２−ベンゾイルオキシフェニル
（２７７）２−フェノキシカルボニルフェニル
（２７８）２−メトキシフェニル
（２７９）２−アニリノフェニル
（２８０）２−イソブチリルアミノフェニル
（２８１）２−フェノキシカルボニルアミノフェニル
（２８２）２−（３−エチルウレイド）フェニル
（２８３）２−（３，３−ジエチルウレイド）フェニル
（２８４）２−フェノキシフェニル
（２８５）２−ヒドロキシフェニル
（２８６）３，４−ジブチルフェニル
（２８７）３，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（２８８）３，４−ジフェニルフェニル
（２８９）３，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（２９０）３，４−ジドデシルオキシフェニル
（２９１）３，４−ジメチルフェニル
（２９２）３，４−ジクロロフェニル
（２９３）３，４−ジベンゾイルフェニル
（２９４）３，４−ジアセトキシフェニル
（２９５）３，４−ジメトキシフェニル
（２９６）３，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（２９７）３，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（２９８）３，４−ジフェノキシフェニル
（２９９）３，４−ジヒドロキシフェニル
（３００）３，５−ジブチルフェニル
（３０１）３，５−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３０２）３，５−ジフェニルフェニル
（３０３）３，５−ジエトキシカルボニルフェニル
（３０４）３，５−ジドデシルオキシフェニル
（３０５）３，５−ジメチルフェニル
（３０６）３，５−ジクロロフェニル
（３０７）３，５−ジベンゾイルフェニル
（３０８）３，５−ジアセトキシフェニル
（３０９）３，５−ジメトキシフェニル
（３１０）３，５−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３１１）３，５−ジイソブチリルアミノフェニル
（３１２）３，５−ジフェノキシフェニル
（３１３）３，５−ジヒドロキシフェニル
（３１４）２，４−ジブチルフェニル
（３１５）２，４−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３１６）２，４−ジフェニルフェニル
（３１７）２，４−ジエトキシカルボニルフェニル
（３１８）２，４−ジドデシルオキシフェニル
（３１９）２，４−ジメチルフェニル
（３２０）２，４−ジクロロフェニル
（３２１）２，４−ジベンゾイルフェニル
（３２２）２，４−ジアセトキシフェニル
（３２３）２，４−ジメトキシフェニル
（３２４）２，４−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３２５）２，４−ジイソブチリルアミノフェニル
（３２６）２，４−ジフェノキシフェニル
（３２７）２，４−ジヒドロキシフェニル
（３２８）２，３−ジブチルフェニル
（３２９）２，３−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３３０）２，３−ジフェニルフェニル
（３３１）２，３−ジエトキシカルボニルフェニル
（３３２）２，３−ジドデシルオキシフェニル
（３３３）２，３−ジメチルフ ェニル
（３３４）２，３−ジクロロフェニル
（３３５）２，３−ジベンゾイルフェニル
（３３６）２，３−ジアセトキシフェニル
（３３７）２，３−ジメトキシフェニル
（３３８）２，３−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３３９）２，３−ジイソブチリルアミノフェニル
（３４０）２，３−ジフェノキシフェニル
（３４１）２，３−ジヒドロキシフェニル
（３４２）２，６−ジブチルフェニル
（３４３）２，６−ジ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３４４）２，６−ジフェニルフェニル
（３４５）２，６−ジエトキシカルボニルフェニル
（３４６）２，６−ジドデシルオキシフェニル
（３４７）２，６−ジメチルフェニル
（３４８）２，６−ジクロロフェニル
（３４９）２，６−ジベンゾイルフェニル
（３５０）２，６−ジアセトキシフェニル
（３５１）２，６−ジメトキシフェニル
（３５２）２，６−ジ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３５３）２，６−ジイソブチリルアミノフェニル
（３５４）２，６−ジフェノキシフェニル
（３５５）２，６−ジヒドロキシフェニル
（３５６）３，４，５−トリブチルフェニル
（３５７）３，４，５−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３５８）３，４，５−トリフェニルフェニル
（３５９）３，４，５−トリエトキシカルボニルフェニル
（３６０）３，４，５−トリドデシルオキシフェニル
（３６１）３，４，５−トリメチルフェニル
（３６２）３，４，５−トリクロロフェニル
（３６３）３，４，５−トリベンゾイルフェニル
（３６４）３，４，５−トリアセトキシフェニル
（３６５）３，４，５−トリメトキシフェニル
（３６６）３，４，５−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３６７）３，４，５−トリイソブチリルアミノフェニル
（３６８）３，４，５−トリフェノキシフェニル
（３６９）３，４，５−トリヒドロキシフェニル
（３７０）２，４，６−トリブチルフェニル
（３７１）２，４，６−トリ（２−メトキシ−２−エトキシエチル）フェニル
（３７２）２，４，６−トリフェニルフェニル
（３７３）２，４，６−トリエトキシカルボニルフェニル
（３７４）２，４，６−トリドデシルオキシフェニル
（３７５）２，４，６−トリメチルフェニル
（３７６）２，４，６−トリクロロフェニル
（３７７）２，４，６−トリベンゾイルフェニル
（３７８）２，４，６−トリアセトキシフェニル
（３７９）２，４，６−トリメトキシフェニル
（３８０）２，４，６−トリ−Ｎ−メチルアミノフェニル
（３８１）２，４，６−トリイソブチリルアミノフェニル
（３８２）２，４，６−トリフェノキシフェニル
（３８３）２，４，６−トリヒドロキシフェニル
（３８４）ペンタフルオロフェニル
（３８５）ペンタクロロフェニル
（３８６）ペンタメトキシフェニル
（３８７）６−Ｎ−メチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３８８）５−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３８９）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３９０）５−エトキシ−７−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３９１）３−メトキシ−２−ナフチル
（３９２）１−エトキシ−２−ナフチル
（３９３）６−Ｎ−フェニルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３９４）５−メトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３９５）１−（４−メチルフェニル）−２−ナフチル
（３９６）６，８−ジ−Ｎ−メチルスルファモイル−２−ナフチル
（３９７）６−Ｎ−２−アセトキシエチルスルファモイル−８−メトキシ−２−ナフチル
（３９８）５−アセトキシ−７−Ｎ−フェニルスルファモイル−２−ナフチル
（３９９）３−ベンゾイルオキシ−２−ナフチル
（４００）５−アセチルアミノ−１−ナフチル
（４０１）２−メトキシ−１−ナフチル
（４０２）４−フェノキシ−１−ナフチル
（４０３）５−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（４０４）３−Ｎ−メチルカルバモイル−４−ヒドロキシ−１−ナフチル
（４０５）５−メトキシ−６−Ｎ−エチルスルファモイル−１−ナフチル
（４０６）７−テトラデシルオキシ−１−ナフチル
（４０７）４−（４−メチルフェノキシ）−１−ナフチル
（４０８）６−Ｎ−メチルスルファモイル−１−ナフチル
（４０９）３−Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイル−４−メトキシ−１−ナフチル
（４１０）５−メトキシ−６−Ｎ−ベンジルスルファモイル−１−ナフチル
（４１１）３，６−ジ−Ｎ−フェニルスルファモイル−１−ナフチル
（４１２）メチル
（４１３）エチル
（４１４）ブチル
（４１５）オクチル
（４１６）ドデシル
（４１７）２−ブトキシ−２−エトキシエチル
（４１８）ベンジル
（４１９）４−メトキシベンジル

（４２４）メチル
（４２５）フェニル
（４２６）ブチル

（４３０）メチル
（４３１）エチル
（４３２）ブチル
（４３３）オクチル
（４３４）ドデシル
（４３５）２−ブトキシ２−エトキシエチル
（４３６）ベンジル
（４３７）４−メトキシベンジル

本発明においては、１，３，５−トリアジン環を有する化合物として、メラミンポリマーを用いてもよい。メラミンポリマーは、下記一般式（II）で示すメラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応により合成することが好ましい。

上記合成反応スキームにおいて、Ｒ¹¹、Ｒ¹²、Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵及びＲ¹⁶は、水素原子、アルキル基、アルケニル基、アリール基または複素環基である。

上記アルキル基、アルケニル基、アリール基及び複素環基及びこれらの置換基は前記一般式（Ｉ）で説明した各基、それらの置換基と同義である。

メラミン化合物とカルボニル化合物との重合反応は、通常のメラミン樹脂（例えば、メラミンホルムアルデヒド樹脂等）の合成方法と同様である。また、市販のメラミンポリマー（メラミン樹脂）を用いてもよい。

メラミンポリマーの分子量は、２千〜４０万であることが好ましい。メラミンポリマーの繰り返し単位の具体例を以下に示す。

ＭＰ−１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−２０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−２１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−２２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−２３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−２４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−２５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ_2O−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−２６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−２７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−２８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−２９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−３０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−３１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−３２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−３３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−３４：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ₁₆：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−３５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−３６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−３７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−３８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−３９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ４Ｈ９；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−４０：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−４１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−４２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−４３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−４４：Ｒ¹³：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−４５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−４６：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−４７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−４８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−４９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−５０：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂

ＭＰ−５１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−５２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−５３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−５４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−５５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−５６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−５７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−５８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−５９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−６０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−６１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−６２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−６３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−６４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−６５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−６６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−６７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−６８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−６９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−７０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−７１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−７２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−７３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−７４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−７５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−７６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−７７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−７８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−７９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−８０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−８１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−８２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−８３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−８４：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−８５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−８６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−８７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−８８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−８９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−９０：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−９１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−９２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−９３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−９４：Ｒ¹³：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−９５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−９６：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−９７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−９８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−９９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−１００：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂

ＭＰ−１０１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１０２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１０３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１０４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１０５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１０６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−１０７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１０８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１０９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１１０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１１１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１１２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１１３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１１４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１１５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１１６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１１７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１１８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１１９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１２０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１２１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１２２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１２３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１２４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１２５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１２６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１２７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１２８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１２９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１３０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１３１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１３２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１３３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１３４：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１３５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１３６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１３７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１３８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１３９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１４０：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１４１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１４２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１４３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１４４：Ｒ¹³：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１４５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１４６：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−１４７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１４８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１４９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−１５０：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂

ＭＰ−１５１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１５２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１５３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１５４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１５５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１５６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−１５７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１５８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１５９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１６０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１６１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１６２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１６３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１６４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１６５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１６６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１６７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１６８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１６９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１７０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｉ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１７１：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１７２：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１７３：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１７４：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１７５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１７６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１７７：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１７８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１７９：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１８０：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８４：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１８５：Ｒ¹³、Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ_2O−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８６：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴、Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１８８：Ｒ¹³、Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ
ＭＰ−１８９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１９０：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１９１：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１９２：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１９３：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉
ＭＰ−１９４：Ｒ¹³：ＣＨ₂Ｏ−ｎ−Ｃ₄Ｈ₉；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１９５：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１９６：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−１９７：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＯＣＨ₃
ＭＰ−１９８：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
ＭＰ−１９９：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃
ＭＰ−２００：Ｒ¹³：ＣＨ₂ＮＨＣＯ（ＣＨ₂）₇ＣＨ＝ＣＨ（ＣＨ₂）₇ＣＨ₃；Ｒ¹⁴：ＣＨ₂ＯＣＨ₃；Ｒ¹⁵：ＣＨ₂ＯＨ；Ｒ¹⁶：ＣＨ₂ＮＨＣＯＣＨ＝ＣＨ₂
本発明においては、上記繰り返し単位を二種類以上組み合わせたコポリマーを用いてもよい。二種類以上のホモポリマーまたはコポリマーを併用してもよい。

また、二種類以上の１，３，５−トリアジン環を有する化合物を併用してもよい。二種類以上の円盤状化合物（例えば、１，３，５−トリアジン環を有する化合物とポルフィリン骨格を有する化合物）を併用してもよい。

また、本発明の有機−無機ハイブリッドフィルムに用いることの出来る紫外線吸収剤は、特開平６−１４８４３０号及び特開２００２−４７３５７号記載の高分子紫外線吸収剤（または紫外線吸収性ポリマー）を好ましく用いることが出来る。特開平６−１４８４３０号の一般式（１）、或いは一般式（２）、或いは特開２００２−４７３５７号の一般式（３）（６）（７）記載の高分子紫外線吸収剤が特に好ましく用いられる。

これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で０．１〜５．０％が好ましく、０．５〜１．５％が更に好ましい。

〈酸化防止剤〉
酸化防止剤は劣化防止剤ともいわれる。高湿高温の状態に液晶画像表示装置などがおかれた場合には、有機−無機ハイブリッドフィルムの劣化が起こる場合がある。酸化防止剤は、例えば、有機−無機ハイブリッドフィルム中の残留溶媒量のハロゲンやリン酸系可塑剤のリン酸等により有機−無機ハイブリッドフィルムが分解するのを遅らせたり、防いだりする役割を有するので、前記有機−無機ハイブリッドフィルム中に含有させるのが好ましい。

このような酸化防止剤としては、ヒンダードフェノール系の化合物が好ましく用いられ、例えば、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、１，６−ヘキサンジオール−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、２，４−ビス−（ｎ−オクチルチオ）−６−（４−ヒドロキシ−３，５−ジ−ｔ−ブチルアニリノ）−１，３，５−トリアジン、２，２−チオ−ジエチレンビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、オクタデシル−３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート、Ｎ，Ｎ′−ヘキサメチレンビス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシ−ヒドロシンナマミド）、１，３，５−トリメチル−２，４，６−トリス（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）ベンゼン、トリス−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシベンジル）−イソシアヌレイト等を挙げることが出来る。特に、２，６−ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ペンタエリスリチル−テトラキス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕、トリエチレングリコール−ビス〔３−（３−ｔ−ブチル−５−メチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオネート〕が好ましい。また、例えば、Ｎ，Ｎ′−ビス〔３−（３，５−ジ−ｔ−ブチル−４−ヒドロキシフェニル）プロピオニル〕ヒドラジン等のヒドラジン系の金属不活性剤やトリス（２，４−ジ−ｔ−ブチルフェニル）フォスファイト等のリン系加工安定剤を併用してもよい。

これらの化合物の添加量は、セルロース誘導体に対して質量割合で１ｐｐｍ〜１．０％が好ましく、１０〜１０００ｐｐｍが更に好ましい。

〈製膜〉
以下、本発明に係わる有機−無機ハイブリッドフィルムの好ましい製膜方法について述べる。有機−無機ハイブリッドフィルムは溶液流延製膜方法により作製出来る。

１）溶解工程
はじめにセルロース誘導体を含むドープの作製法から解説する。

セルロース誘導体（フレーク状の）に対する良溶媒を主とする有機溶媒に、溶解釜中で該セルロース誘導体、ポリマーや添加剤を攪拌しながら溶解しドープを形成する工程、或いはセルロース誘導体溶液にポリマー溶液や添加剤溶液を混合してドープを形成する工程である。

セルロース誘導体の溶解には、常圧で行う方法、主溶媒の沸点以下で行う方法、主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法、特開平９−９５５４４号公報、特開平９−９５５５７号公報、または特開平９−９５５３８号公報に記載の如き冷却溶解法で行う方法、特開平１１−２１３７９号公報に記載の如き高圧で行う方法等種々の溶解方法を用いることが出来るが、特に主溶媒の沸点以上で加圧して行う方法が好ましい。またこの際、セルロース誘導体と共に返材を加えてもよい。

ドープ中のセルロース誘導体の濃度は１０〜３５質量％が好ましい。溶解中または後のドープに添加剤を加えて溶解及び分散した後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。

次に重縮合可能な反応性金属化合物を含むドープの作製法を解説する。重縮合可能な反応性金属化合物は、前記セルロース誘導体のドープに添加する際に、セルロース誘導体が析出しないようにセルロース誘導体のドープの主溶剤によって１０質量％〜５０質量％に希釈されていることが好ましい。また同様の観点から、この主溶剤にセルロース誘導体が希薄に（１０質量％以下）溶解されていても構わない。

また、重縮合可能な反応性金属化合物に触媒・水などを添加する際には、重縮合可能な反応性金属化合物と混和し易くなるように、メタノール、エタノール、メチルセロソルブのようなアルコール系の溶媒を、全溶媒量に対して５０％以下の割合で添加しても良い。

また、可塑剤や紫外線吸収剤のような添加剤の全量または一部を、こちらのドープに添加することが好ましく、更に前述の高圧分散装置により微粒子と溶媒を混合した組成物を別釜にて調製し、上記ドープにインライン混合することが好ましい。全ての材料が溶解、分散後、濾材で濾過し、脱泡して送液ポンプで次工程に送る。

次に、前記のセルロース誘導体と重縮合可能な反応性金属化合物を含むドープの混合について解説する。

別々の釜にて調製された、セルロース誘導体のドープと、重縮合可能な反応性金属化合物のドープは、それぞれ濾過後に混合されることが好ましい。混合の順番には特に制限はないが、セルロース誘導体のドープをゆっくりと攪拌しながら、反応性金属化合物のドープを少量ずつ混合することが好ましい。２つのドープの混合終了後、再び濾材で濾過し脱泡して送液ポンプで次工程に送り最終ドープとする。

２）流延工程
ドープを送液ポンプ（例えば、加圧型定量ギヤポンプ）を通して加圧ダイに送液し、無限に移送する無端の金属ベルト、例えばステンレスベルト、或いは回転する金属ドラム等の金属支持体上の流延位置に、加圧ダイスリットからドープを流延する工程である。

ダイの口金部分のスリット形状を調整出来、膜厚を均一にし易い加圧ダイが好ましい。加圧ダイには、コートハンガーダイやＴダイ等があり、いずれも好ましく用いられる。金属支持体の表面は鏡面となっている。製膜速度を上げるために加圧ダイを金属支持体上に２基以上設け、ドープ量を分割して重層してもよい。或いは複数のドープを同時に流延する共流延法によって積層構造の有機−無機ハイブリッドフィルムを得ることが好ましい。

３）溶媒蒸発工程
ウェブを金属支持体上で加熱し、金属支持体からウェブが剥離可能になるまで溶媒を蒸発させる工程である。

溶媒を蒸発させるには、ウェブ側から風を吹かせる方法及び／または金属支持体の裏面から液体により伝熱させる方法、輻射熱により表裏から伝熱する方法等があるが、裏面液体伝熱の方法が乾燥効率がよく好ましい。またそれらを組み合わせる方法も好ましい。裏面液体伝熱の場合は、ドープ使用有機溶媒の主溶媒または最も低い沸点を有する有機溶媒の沸点以下で加熱するのが好ましい。

４）剥離工程
金属支持体上で溶媒が蒸発したウェブを、剥離位置で剥離する工程である。剥離されたウェブは次工程に送られる。尚、剥離する時点でのウェブの残留溶媒量（下記式）があまり大き過ぎると剥離し難かったり、逆に金属支持体上で充分に乾燥させ過ぎてから剥離すると、途中でウェブの一部が剥がれたりする。

ここで、製膜速度を上げる方法（残留溶媒量が出来るだけ多いうちに剥離することで製膜速度を上げることが出来る）としてゲル流延法（ゲルキャスティング）がある。例えば、ドープ中にセルロース誘導体に対する貧溶媒を加えて、ドープ流延後、ゲル化する方法、金属支持体の温度を低めてゲル化する方法等がある。金属支持体上でゲル化させ剥離時の膜の強度を上げておくことによって、剥離を早め製膜速度を上げることが出来るのである。

金属支持体上でのウェブの乾燥が条件の強弱、金属支持体の長さ等により５〜１５０質量％の範囲で剥離することが好ましいが、残留溶媒量がより多い時点で剥離する場合、ウェブが柔らか過ぎると剥離時平面性を損なったり、剥離張力によるツレや縦スジが発生し易いため、経済速度と品質との兼ね合いで剥離時の残留溶媒量が決められる。本発明においては、該金属支持体上の剥離位置における温度を−５０〜４０℃とするのが好ましく、１０〜４０℃がより好ましく、１５〜３０℃とするのが最も好ましい。

また、該剥離位置におけるウェブの残留溶媒量を１０〜１５０質量％とすることが好ましく、更に１０〜１２０質量％とすることが好ましい。

残留溶媒量は下記の式で表すことが出来る。

残留溶媒量（質量％）＝｛（Ｍ−Ｎ）／Ｎ｝×１００
ここで、Ｍはウェブの任意時点での質量、Ｎは質量Ｍのものを１１０℃で３時間乾燥させた時の質量である。

５）乾燥及び延伸工程
剥離後、ウェブを乾燥装置内に複数配置したロールに交互に通して搬送する乾燥装置、及び／またはクリップ若しくはピンでウェブの両端を把持して搬送するテンター装置を用いて、ウェブを乾燥する。

本発明においては、幅手方向に対して１．０〜２．０倍延伸することが好ましく、テンター装置を用いて延伸することが好ましい。更に好ましくは縦及び横方向に２軸延伸されたものである。延伸倍率は目的の光学特性（Ｒｏ、Ｒｔ）に応じて設定される。また、位相差フィルムを製造する場合、長尺方向に一軸延伸することも出来る。本発明の有機−無機ハイブリッドフィルムはＲｏ０〜１０００ｎｍ、Ｒｔ０〜５００ｎｍのフィルムを得ることが出来る。

金属重縮合物をセルロース誘導体に添加することによって、延伸されたフィルムの膜厚あたりのＲｏ、Ｒｔを大きく出来、これにより、位相差フィルムとして、高温若しくは高温高湿条件下でもＲｏ、Ｒｔの変動の少ない耐久性に優れ、より薄いフィルムを提供することが出来る。

乾燥の手段はウェブの両面に熱風を吹かせるのが一般的であるが、風の代りにマイクロウエーブを当てて加熱する手段もある。あまり急激な乾燥は出来上がりのフィルムの平面性を損ね易い。全体を通して、通常乾燥温度は４０〜２５０℃の範囲で行われる。使用する溶媒によって、乾燥温度、乾燥風量及び乾燥時間が異なり、使用溶媒の種類、組み合わせに応じて乾燥条件を適宜選べばよい。

フィルムの厚さは特に限定されないが、例えば、１０μｍ〜１ｍｍ程度のもの等任意の厚さのフィルムを作製することが出来る。好ましくは乾燥、延伸等の処理が終わった後の膜厚で１０〜５００μｍが好ましく、特に３０〜１２０μｍが好ましい。

本発明の光学フィルムは、幅１〜４ｍのものが好ましく用いられる。

本発明の構成により、平面性にも優れた光学フィルムが得られるため、広幅のセルロースエステルフィルムで著しい効果が認められる。特に幅１．４〜４ｍのものが好ましく用いられ、特に好ましくは１．４〜２ｍである。４ｍを超えると搬送が困難となる。

〈活性線硬化樹脂層〉
本発明の光学フィルムは活性線硬化樹脂層を塗設することが好ましい。

活性線硬化樹脂層とは紫外線や電子線のような活性線照射により架橋反応等を経て硬化する樹脂を主たる成分とする層をいう。活性線硬化樹脂としては、エチレン性不飽和二重結合を有するモノマーを含む成分が好ましく用いられ、紫外線や電子線のような活性線を照射することによって硬化させて樹脂層が形成される。活性線硬化樹脂としては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的なものとして挙げられるが、紫外線照射によって硬化する樹脂が好ましい。

紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外線硬化型ウレタンアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等が好ましく用いられる。

紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタクリレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸基を有するアクリレート系のモノマーを反応させることによって容易に得ることが出来る。例えば、特開昭５９−１５１１１０号に記載のものを用いることが出来る。

例えば、ユニディック１７−８０６（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく用いられる。

紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系樹脂としては、一般にポリエステルポリオールに２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキシアクリレート系のモノマーを反応させると容易に形成されるものを挙げることが出来、特開昭５９−１５１１１２号に記載のものを用いることが出来る。

紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂の具体例としては、エポキシアクリレートをオリゴマーとし、これに反応性希釈剤、光反応開始剤を添加し、反応させて生成するものを挙げることが出来、特開平１−１０５７３８号に記載のものを用いることが出来る。

紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹脂の具体例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。

これら紫外線硬化性樹脂の光反応開始剤としては、具体的には、ベンゾイン及びその誘導体、アセトフェノン、ベンゾフェノン、ヒドロキシベンゾフェノン、ミヒラーズケトン、α−アミロキシムエステル、チオキサントン等及びこれらの誘導体を挙げることが出来る。光増感剤と共に使用してもよい。上記光反応開始剤も光増感剤として使用出来る。また、エポキシアクリレート系の光反応開始剤の使用の際、ｎ−ブチルアミン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等の増感剤を用いることが出来る。紫外線硬化樹脂組成物に用いられる光反応開始剤また光増感剤は該組成物１００質量部に対して０．１〜１５質量部であり、好ましくは１〜１０質量部である。

樹脂モノマーとしては、例えば、不飽和二重結合が一つのモノマーとして、メチルアクリレート、エチルアクリレート、ブチルアクリレート、ベンジルアクリレート、シクロヘキシルアクリレート、酢酸ビニル、スチレン等の一般的なモノマーを挙げることが出来る。また不飽和二重結合を二つ以上持つモノマーとして、エチレングリコールジアクリレート、プロピレングリコールジアクリレート、ジビニルベンゼン、１，４−シクロヘキサンジアクリレート、１，４−シクロヘキシルジメチルアジアクリレート、前出のトリメチロールプロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリルエステル等を挙げることが出来る。

本発明において使用し得る紫外線硬化樹脂の市販品としては、アデカオプトマーＫＲ・ＢＹシリーズ：ＫＲ−４００、ＫＲ−４１０、ＫＲ−５５０、ＫＲ−５６６、ＫＲ−５６７、ＢＹ−３２０Ｂ（旭電化（株）製）；コーエイハードＡ−１０１−ＫＫ、Ａ−１０１−ＷＳ、Ｃ−３０２、Ｃ−４０１−Ｎ、Ｃ−５０１、Ｍ−１０１、Ｍ−１０２、Ｔ−１０２、Ｄ−１０２、ＮＳ−１０１、ＦＴ−１０２Ｑ８、ＭＡＧ−１−Ｐ２０、ＡＧ−１０６、Ｍ−１０１−Ｃ（広栄化学（株）製）；セイカビームＰＨＣ２２１０（Ｓ）、ＰＨＣ Ｘ−９（Ｋ−３）、ＰＨＣ２２１３、ＤＰ−１０、ＤＰ−２０、ＤＰ−３０、Ｐ１０００、Ｐ１１００、Ｐ１２００、Ｐ１３００、Ｐ１４００、Ｐ１５００、Ｐ１６００、ＳＣＲ９００（大日精化工業（株）製）；ＫＲＭ７０３３、ＫＲＭ７０３９、ＫＲＭ７１３０、ＫＲＭ７１３１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０１、ＵＶＥＣＲＹＬ２９２０２（ダイセル・ユーシービー（株）製）；ＲＣ−５０１５、ＲＣ−５０１６、ＲＣ−５０２０、ＲＣ−５０３１、ＲＣ−５１００、ＲＣ−５１０２、ＲＣ−５１２０、ＲＣ−５１２２、ＲＣ−５１５２、ＲＣ−５１７１、ＲＣ−５１８０、ＲＣ−５１８１（大日本インキ化学工業（株）製）；オーレックスＮｏ．３４０クリヤ（中国塗料（株）製）；サンラッドＨ−６０１、ＲＣ−７５０、ＲＣ−７００、ＲＣ−６００、ＲＣ−５００、ＲＣ−６１１、ＲＣ−６１２（三洋化成工業（株）製）；ＳＰ−１５０９、ＳＰ−１５０７（昭和高分子（株）製）；ＲＣＣ−１５Ｃ（グレース・ジャパン（株）製）、アロニックスＭ−６１００、Ｍ−８０３０、Ｍ−８０６０（東亞合成（株）製）等を適宜選択して利用出来る。

また、具体的化合物例としては、トリメチロールプロパントリアクリレート、ジトリメチロールプロパンテトラアクリレート、ペンタエリスリトールトリアクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げることが出来る。

こうして得た硬化樹脂層には滑り性、防眩性を持たせるため、また屈折率を調整するために無機化合物或いは有機化合物の微粒子が含まれる。

無機微粒子としては、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化スズ、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。特に、酸化珪素、酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、酸化マグネシウムなどが好ましく用いられる。

また有機粒子としては、ポリメタアクリル酸メチルアクリレート樹脂粉末、アクリルスチレン系樹脂粉末、ポリメチルメタクリレート樹脂粉末、シリコン系樹脂粉末、ポリスチレン系樹脂粉末、ポリカーボネート樹脂粉末、ベンゾグアナミン系樹脂粉末、メラミン系樹脂粉末、ポリオレフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、或いはポリ弗化エチレン系樹脂粉末等紫外線硬化性樹脂組成物に加えることが出来る。特に好ましくは、架橋ポリスチレン粒子（例えば、綜研化学製ＳＸ−１３０Ｈ、ＳＸ−２００Ｈ、ＳＸ−３５０Ｈ）、ポリメチルメタクリレート系粒子（例えば、綜研化学製ＭＸ１５０、ＭＸ３００）が挙げられる。

これらの微粒子粉末の平均粒径としては、０．００５〜５μｍが好ましく、０．０１〜４μｍであることが特に好ましい。また、平均粒径の異なる２種の粒子を含有させることが好ましく、特に好ましくは平均粒径１μｍ未満の無機微粒子と平均粒径１〜５μｍの有機微粒子とを含有することである。

紫外線硬化樹脂組成物と微粒子の割合は、樹脂組成物１００質量部に対して、０．１〜４０質量部となるように配合することが望ましい。

紫外線硬化樹脂層は、ＪＩＳ Ｂ ０６０１で規定される中心線平均粗さ（Ｒａ）が、１〜５０ｎｍのクリアハードコート層であるか、若しくはＲａが０．１〜１μｍ程度の防眩層であることが好ましい。中心線平均粗さ（Ｒａ）は光干渉式の表面粗さ測定器で測定することが好ましく、例えばＷＹＫＯ社製ＲＳＴ／ＰＬＵＳを用いて測定することが出来る。

これらの層はグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター、インクジェット法等公知の方法で塗設することが出来る。

紫外線硬化性樹脂を光硬化反応により硬化させ、硬化皮膜層を形成するための光源としては、紫外線を発生する光源であれば制限なく使用出来る。例えば、低圧水銀灯、中圧水銀灯、高圧水銀灯、超高圧水銀灯、カーボンアーク灯、メタルハライドランプ、キセノンランプ等を用いることが出来る。照射条件はそれぞれのランプによって異なるが、活性線の照射量は好ましくは、５〜２００ｍＪ／ｃｍ²であり、特に好ましくは２０〜１５０ｍＪ／ｃｍ²である。

また、活性線を照射する際には、フィルムの搬送方向に張力を付与しながら行うことが好ましく、更に好ましくは幅方向にも張力を付与しながら行うことである。付与する張力は３０〜３００Ｎ／ｍが好ましい。張力を付与する方法は特に限定されず、バックロール上で搬送方向に張力を付与してもよく、テンターにて幅方向、若しくは２軸方向に張力を付与してもよい。これによって更に平面性優れたフィルムを得ることが出来る。

紫外線硬化樹脂層組成物塗布液の有機溶媒としては、例えば、炭化水素類（トルエン、キシレン、）、アルコール類（メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、シクロヘキサノール）、ケトン類（アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン）、エステル類（酢酸メチル、酢酸エチル、乳酸メチル）、グリコールエーテル類、その他の有機溶媒の中でもから適宜選択し、或いはこれらを混合し利用出来る。プロピレングリコールモノアルキルエーテル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）またはプロピレングリコールモノアルキルエーテル酢酸エステル（アルキル基の炭素原子数として１〜４）等を５質量％以上、より好ましくは５〜８０質量％以上含有する上記有機溶媒を用いるのが好ましい。

また、紫外線硬化樹脂層組成物塗布液には、特にシリコン化合物を添加することが好ましい。例えば、ポリエーテル変性シリコーンオイルなどが好ましく添加される。ポリエーテル変性シリコーンオイルの数平均分子量は、例えば、１，０００〜１００，０００、好ましくは、２，０００〜５０，０００が適当であり、数平均分子量が１，０００未満では、塗膜の乾燥性が低下し、逆に、数平均分子量が１００，０００を越えると、塗膜表面にブリードアウトしにくくなる傾向にある。

シリコン化合物の市販品としては、ＤＫＱ８−７７９（ダウコーニング社製商品名）、ＳＦ３７７１、ＳＦ８４１０、ＳＦ８４１１、ＳＦ８４１９、ＳＦ８４２１、ＳＦ８４２８、ＳＨ２００、ＳＨ５１０、ＳＨ１１０７、ＳＨ３７４９、ＳＨ３７７１、ＢＸ１６−０３４、ＳＨ３７４６、ＳＨ３７４９、ＳＨ８４００、ＳＨ３７７１Ｍ、ＳＨ３７７２Ｍ、ＳＨ３７７３Ｍ、ＳＨ３７７５Ｍ、ＢＹ−１６−８３７、ＢＹ−１６−８３９、ＢＹ−１６−８６９、ＢＹ−１６−８７０、ＢＹ−１６−００４、ＢＹ−１６−８９１、ＢＹ−１６−８７２、ＢＹ−１６−８７４、ＢＹ２２−００８Ｍ、ＢＹ２２−０１２Ｍ、ＦＳ−１２６５（以上、東レ・ダウコーニングシリコーン社製商品名）、ＫＦ−１０１、ＫＦ−１００Ｔ、ＫＦ３５１、ＫＦ３５２、ＫＦ３５３、ＫＦ３５４、ＫＦ３５５、ＫＦ６１５、ＫＦ６１８、ＫＦ９４５、ＫＦ６００４、シリコーンＸ−２２−９４５、Ｘ２２−１６０ＡＳ（以上、信越化学工業社製商品名）、ＸＦ３９４０、ＸＦ３９４９（以上、東芝シリコーン社製商品名）、ディスパロンＬＳ−００９（楠本化成社製）、グラノール４１０（共栄社油脂化学工業（株）製）、ＴＳＦ４４４０、ＴＳＦ４４４１、ＴＳＦ４４４５、ＴＳＦ４４４６、ＴＳＦ４４５２、ＴＳＦ４４６０（ＧＥ東芝シリコーン製）、ＢＹＫ−３０６、ＢＹＫ−３３０、ＢＹＫ−３０７、ＢＹＫ−３４１、ＢＹＫ−３４４、ＢＹＫ−３６１（ビックケミ−ジャパン社製）日本ユニカー（株）製のＬシリーズ（例えばＬ７００１、Ｌ−７００６、Ｌ−７６０４、Ｌ−９０００）、Ｙシリーズ、ＦＺシリーズ（ＦＺ−２２０３、ＦＺ−２２０６、ＦＺ−２２０７）等が挙げられ、好ましく用いられる。

これらの成分は基材や下層への塗布性を高める。積層体最表面層に添加した場合には、塗膜の撥水、撥油性、防汚性を高めるばかりでなく、表面の耐擦り傷性にも効果を発揮する。これらの成分は、塗布液中の固形分成分に対し、０．０１〜３質量％の範囲で添加することが好ましい。

紫外線硬化性樹脂組成物塗布液の塗布方法としては、前述のものを用いることが出来る。塗布量はウェット膜厚として０．１〜３０μｍが適当で、好ましくは、０．５〜１５μｍである。また、ドライ膜厚としては平均膜厚０．１〜１５μｍ、好ましくは１〜５μｍである。

紫外線硬化性樹脂組成物は塗布乾燥中または後に、紫外線を照射するのがよく、前記の５〜１００ｍＪ／ｃｍ²という活性線の照射量を得るための照射時間としては、０．１秒〜１分程度がよく、紫外線硬化性樹脂の硬化効率または作業効率の観点から０．１〜１０秒がより好ましい。

また、これら活性線照射部の照度は５０〜１５０ｍＷ／ｍ²であることが好ましい。

〈バックコート層〉
本発明の光学フィルムの紫外線硬化樹脂層を設けた側と反対側の面にはバックコート層を設けることが好ましい。バックコート層は、塗布やＣＶＤなどによって、紫外線硬化樹脂層やその他の層を設けることで生じるカールを矯正するために設けられる。即ち、バックコート層を設けた面を内側にして丸まろうとする性質を持たせることにより、カールの度合いをバランスさせることが出来る。尚、バックコート層は好ましくはブロッキング防止層を兼ねて塗設され、その場合、バックコート層塗布組成物には、ブロッキング防止機能を持たせるために微粒子が添加されることが好ましい。

バックコート層に添加される微粒子としては無機化合物の例として、二酸化珪素、二酸化チタン、酸化アルミニウム、酸化ジルコニウム、炭酸カルシウム、炭酸カルシウム、タルク、クレイ、焼成カオリン、焼成ケイ酸カルシウム、酸化錫、酸化インジウム、酸化亜鉛、ＩＴＯ、水和ケイ酸カルシウム、ケイ酸アルミニウム、ケイ酸マグネシウム及びリン酸カルシウムを挙げることが出来る。微粒子は珪素を含むものがヘイズが低くなる点で好ましく、特に二酸化珪素が好ましい。

これらの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７２、Ｒ９７２Ｖ、Ｒ９７４、Ｒ８１２、２００、２００Ｖ、３００、Ｒ２０２、ＯＸ５０、ＴＴ６００（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。酸化ジルコニウムの微粒子は、例えば、アエロジルＲ９７６及びＲ８１１（以上日本アエロジル（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。ポリマーの例として、シリコーン樹脂、フッ素樹脂及びアクリル樹脂を挙げることが出来る。シリコーン樹脂が好ましく、特に三次元の網状構造を有するものが好ましく、例えば、トスパール１０３、同１０５、同１０８、同１２０、同１４５、同３１２０及び同２４０（以上東芝シリコーン（株）製）の商品名で市販されており、使用することが出来る。

これらの中でもでアエロジル２００Ｖ、アエロジルＲ９７２Ｖがヘイズを低く保ちながら、ブロッキング防止効果が大きいため特に好ましく用いられる。本発明で用いられる光学フィルムは、紫外線硬化樹脂層の裏面側の動摩擦係数が０．９以下、特に０．１〜０．９であることが好ましい。

バックコート層に含まれる微粒子は、バインダーに対して０．１〜５０質量％好ましくは０．１〜１０質量％であることが好ましい。バックコート層を設けた場合のヘイズの増加は１％以下であることが好ましく０．５％以下であることが好ましく、特に０．０〜０．１％であることが好ましい。

バックコート層は、具体的にはセルロースエステルフィルムを溶解させる溶媒または膨潤させる溶媒を含む組成物を塗布することによって行われる。用いる溶媒としては、溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合物の他更に溶解させない溶媒を含む場合もあり、これらを透明樹脂フィルムのカール度合いや樹脂の種類によって適宜の割合で混合した組成物及び塗布量を用いて行う。

カール防止機能を強めたい場合は、用いる溶媒組成を溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒の混合比率を大きくし、溶解させない溶媒の比率を小さくするのが効果的である。この混合比率は好ましくは（溶解させる溶媒及び／または膨潤させる溶媒）：（溶解させない溶媒）＝１０：０〜１：９で用いられる。このような混合組成物に含まれる、透明樹脂フィルムを溶解または膨潤させる溶媒としては、例えば、ジオキサン、アセトン、メチルエチルケトン、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、酢酸メチル、酢酸エチル、トリクロロエチレン、メチレンクロライド、エチレンクロライド、テトラクロロエタン、トリクロロエタン、クロロホルムなどがある。溶解させない溶媒としては、例えば、メタノール、エタノール、ｎ−プロピルアルコール、ｉ−プロピルアルコール、ｎ−ブタノール、或いは炭化水素類（トルエン、キシレン、シクロヘキサノール）などがある。

これらの塗布組成物をグラビアコーター、ディップコーター、リバースコーター、ワイヤーバーコーター、ダイコーター等を用いて透明樹脂フィルムの表面にウェット膜厚１〜１００μｍで塗布するのが好ましいが、特に５〜３０μｍであることが好ましい。バックコート層のバインダーとして用いられる樹脂としては、例えば塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル樹脂、酢酸ビニル樹脂、酢酸ビニルとビニルアルコールの共重合体、部分加水分解した塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデン共重合体、塩化ビニル−アクリロニトリル共重合体、エチレン−ビニルアルコール共重合体、塩素化ポリ塩化ビニル、エチレン−塩化ビニル共重合体、エチレン−酢酸ビニル共重合体等のビニル系重合体或いは共重合体、ニトロセルロース、セルロースアセテートプロピオネート（好ましくはアセチル基置換度１．８〜２．３、プロピオニル基置換度０．１〜１．０）、ジアセチルセルロース、セルロースアセテートブチレート樹脂等のセルロース誘導体、マレイン酸及び／またはアクリル酸の共重合体、アクリル酸エステル共重合体、アクリロニトリル−スチレン共重合体、塩素化ポリエチレン、アクリロニトリル−塩素化ポリエチレン−スチレン共重合体、メチルメタクリレート−ブタジエン−スチレン共重合体、アクリル樹脂、ポリビニルアセタール樹脂、ポリビニルブチラール樹脂、ポリエステルポリウレタン樹脂、ポリエーテルポリウレタン樹脂、ポリカーボネートポリウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、ポリエーテル樹脂、ポリアミド樹脂、アミノ樹脂、スチレン−ブタジエン樹脂、ブタジエン−アクリロニトリル樹脂等のゴム系樹脂、シリコーン系樹脂、フッ素系樹脂等を挙げることが出来るが、これらに限定されるものではない。例えば、アクリル樹脂としては、アクリペットＭＤ、ＶＨ、ＭＦ、Ｖ（三菱レーヨン（株）製）、ハイパールＭ−４００３、Ｍ−４００５、Ｍ−４００６、Ｍ−４２０２、Ｍ−５０００、Ｍ−５００１、Ｍ−４５０１（根上工業株式会社製）、ダイヤナールＢＲ−５０、ＢＲ−５２、ＢＲ−５３、ＢＲ−６０、ＢＲ−６４、ＢＲ−７３、ＢＲ−７５、ＢＲ−７７、ＢＲ−７９、ＢＲ−８０、ＢＲ−８２、ＢＲ−８３、ＢＲ−８５、ＢＲ−８７、ＢＲ−８８、ＢＲ−９０、ＢＲ−９３、ＢＲ−９５、ＢＲ−１００、ＢＲ−１０１、ＢＲ−１０２、ＢＲ−１０５、ＢＲ−１０６、ＢＲ−１０７、ＢＲ−１０８、ＢＲ−１１２、ＢＲ−１１３、ＢＲ−１１５、ＢＲ−１１６、ＢＲ−１１７、ＢＲ−１１８等（三菱レーヨン（株）製）のアクリル及びメタクリル系モノマーを原料として製造した各種ホモポリマー並びにコポリマーなどが市販されており、この中から好ましいモノを適宜選択することも出来る。

特に好ましくはジアセチルセルロース、セルロースアセテートプロピオネートのようなセルロース系樹脂層である。

バックコート層を塗設する順番はセルロースエステルフィルムの、バックコート層とは反対側の層（紫外線硬化樹脂層或いはその他の例えば帯電防止層等の層）を塗設する前でも後でも構わないが、バックコート層がブロッキング防止層を兼ねる場合は先に塗設することが望ましい。或いは２回以上に分けてバックコート層を塗布することも出来る。

本発明の光学フィルムは、塗布或いは、プラズマＣＶＤ法、大気圧プラズマ処理法によって金属化合物層等の薄膜を均一に形成するのに適しており、これらは種々の機能層として有用である。

大気圧プラズマ処理法としては、例えば特開平１１−１８１５７３号、特開２０００−２６６３２、同２００２−１１０３９７等に記載の高周波パルス電圧を印加する大気圧プラズマ放電処理方法を用いることが出来る。或いは特開２００１−３３７２０１記載の大気圧プラズマ放電処理方法により導電層を設けることが出来る。或いは特開２００２−２２８８０３、特願２００２−３６９６７９、特願２００２−３１７８８３、特願２００３−５０８２３記載の方法で反射防止層を設けることが出来る。或いは特願２００３−５０８２３記載の方法で防汚層を設けることが出来る。或いは特開２００３−９３９６３、特願２００２−４９７２４記載の方法で反射防止層を塗設することが出来る。

本発明の光学フィルム上には、特に大部分が窒素ガスの雰囲気下で金属化合物（例えばＳｉＯ_x、ＳｉＯ_xＮ_y、ＴｉＯ_xＮ_y、ＳｉＯ_xＣ_z（ｘ＝１〜２、ｙ＝０．１〜１、ｚ＝０．１〜２）等の金属酸化物、金属窒化物、金属酸窒化物、金属炭化物）中でも金属酸化物等の薄膜を形成することが好ましい。ガス中に含まれる窒素ガスは６０〜９９．９体積％であり、好ましくは７５〜９９．９体積％であり、更に好ましくは９０〜９９．９体積％である。窒素ガス以外には、アルゴンやヘリウム等の希ガスを含有させてもよく、薄膜を形成するための金属化合物のガスが含有され、更に酸素、水素等の反応を促進させるためのガス（添加ガスまたは補助ガスともいう）等が含有される。これらによって金属化合物を含有する低屈折率層、高屈折率層、中屈折率層、透明導電層、帯電防止層、防汚層などを形成することが出来る。

次いで、これら紫外線硬化樹脂層上に形成する反射防止層について説明する。

（反射防止層）
本発明では反射防止層を設ける方法は特に限定されず、塗布、スパッタ、蒸着、ＣＶＤ（Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｖａｐｏｒ Ｄｅｐｏｓｉｔｉｏｎ）法、またはこれらを組み合わせて形成することが出来る。本発明では、特に塗布によって反射防止層を設けることが好ましい。

反射防止層を塗布により形成する方法としては、溶剤に溶解したバインダー樹脂中に金属酸化物の粉末を分散し、塗布乾燥する方法、架橋構造を有するポリマーをバインダー樹脂として用いる方法、エチレン性不飽和モノマーと光重合開始剤を含有させ、活性線を照射することにより層を形成する方法等の方法を挙げることが出来る。

本発明においては、紫外線硬化樹脂層を付与した光学フィルムの上に反射防止層を設けることが出来る。光学フィルムの最上層に低屈折率層を形成し、その間に高屈折率層の金属酸化物層を形成したり、更に光学フィルムと高屈折率層との間に更に中屈折率層（金属酸化物の含有量或いは樹脂バインダーとの比率、金属の種類を変更して屈折率を調整した金属酸化物層）を設けることは、反射率の低減のために、好ましい。高屈折率層の屈折率は、１．５５〜２．３０であることが好ましく、１．５７〜２．２０であることが更に好ましい。中屈折率層の屈折率は、基材であるセルロースエステルフィルムの屈折率（約１．５）と高屈折率層の屈折率との中間の値となるように調整する。中屈折率層の屈折率は、１．５５〜１．８０であることが好ましい。各層の厚さは、５ｎｍ〜０．５μｍであることが好ましく、１０ｎｍ〜０．３μｍであることが更に好ましく、３０ｎｍ〜０．２μｍであることが最も好ましい。金属酸化物層のヘイズは、５％以下であることが好ましく、３％以下であることが更に好ましく、１％以下であることが最も好ましい。金属酸化物層の強度は、１ｋｇ荷重の鉛筆硬度で３Ｈ以上であることが好ましく、４Ｈ以上であることが最も好ましい。金属酸化物層を塗布により形成する場合は、無機微粒子とバインダーポリマーとを含むことが好ましい。

中屈折率層或いは高屈折率層などの金属酸化物層に用いる無機微粒子は、屈折率が１．８０〜２．８０であることが好ましく、１．９０〜２．８０であることが更に好ましい。無機微粒子の一次粒子の重量平均径は、１〜１５０ｎｍであることが好ましく、１〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１〜８０ｎｍであることが最も好ましい。層中での無機微粒子の重量平均径は、１〜２００ｎｍであることが好ましく、５〜１５０ｎｍであることがより好ましく、１０〜１００ｎｍであることが更に好ましく、１０〜８０ｎｍであることが最も好ましい。無機微粒子の平均粒径は、２０〜３０ｎｍ以上であれば光散乱法により、２０〜３０ｎｍ以下であれば電子顕微鏡写真により測定される。無機微粒子の比表面積は、ＢＥＴ法で測定された値として、１０〜４００ｍ²／ｇであることが好ましく、２０〜２００ｍ²／ｇであることが更に好ましく、３０〜１５０ｍ²／ｇであることが最も好ましい。

無機微粒子は、金属の酸化物から形成された粒子である。金属の酸化物または硫化物の例として、二酸化チタン（例、ルチル、ルチル／アナターゼの混晶、アナターゼ、アモルファス構造）、酸化錫、酸化インジウム、ＩＴＯ、酸化亜鉛、酸化ジルコニウム等が挙げられる。中でも、二酸化チタン、酸化錫及び酸化インジウムが特に好ましい。無機微粒子は、これらの金属の酸化物を主成分とし、更に他の元素を含むことが出来る。主成分とは、粒子を構成する成分の中で最も含有量（質量％）が多い成分を意味する。他の元素の例としては、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｃｕ、Ｆｅ、Ｍｎ、Ｐｂ、Ｃｄ、Ａｓ、Ｃｒ、Ｈｇ、Ｚｎ、Ａｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｐ及びＳが挙げられる。

無機微粒子は表面処理されていてもよい。表面処理は、無機化合物または有機化合物を用いて実施することが出来る。表面処理に用いる無機化合物の例としては、アルミナ、シリカ、酸化ジルコニウム及び酸化鉄が挙げられる。中でもアルミナ及びシリカが好ましい。表面処理に用いる有機化合物の例としては、ポリオール、アルカノールアミン、ステアリン酸、シランカップリング剤及びチタネートカップリング剤が挙げられる。中でも、シランカップリング剤が最も好ましい。二種類以上の表面処理を組み合わせて処理されていても構わない。

無機微粒子の形状は、米粒状、球形状、立方体状、層状、紡錘形状或いは不定形状であることが好ましい。二種類以上の無機微粒子を金属酸化物層に併用してもよい。

金属酸化物層中の無機微粒子の割合は、５〜９０体積％であることが好ましく、より好ましくは１０〜６５体積％であり、更に好ましくは２０〜５５体積％である。

無機微粒子は、媒体に分散した分散体の状態で、金属酸化物層を形成するための塗布液に供される。無機微粒子の分散媒体としては、沸点が６０〜１７０℃の液体を用いることが好ましい。分散溶媒の具体例としては、水、アルコール（例、メタノール、エタノール、イソプロパノール、ブタノール、ベンジルアルコール）、ケトン（例、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン）、エステル（例、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブチル、蟻酸メチル、蟻酸エチル、蟻酸プロピル、蟻酸ブチル）、脂肪族炭化水素（例、ヘキサン、シクロヘキサン）、芳香族炭化水素（例、ベンゼン、トルエン、キシレン）、アミド（例、ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ｎ−メチルピロリドン）、エーテル（例、ジエチルエーテル、ジオキサン、テトラハイドロフラン）、エーテルアルコール（例、１−メトキシ−２−プロパノール）が挙げられる。中でも、トルエン、キシレン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン及びブタノールが特に好ましい。

無機微粒子は、分散機を用いて媒体中に分散することが出来る。分散機の例としては、サンドグラインダーミル（例、ピン付きビーズミル）、高速インペラーミル、ペッブルミル、ローラーミル、アトライター及びコロイドミルが挙げられる。サンドグラインダーミル及び高速インペラーミルが特に好ましい。また、予備分散処理を実施してもよい。予備分散処理に用いる分散機の例としては、ボールミル、三本ロールミル、ニーダー及びエクストルーダーが挙げられる。

金属酸化物層は、架橋構造を有するポリマー（以下、「架橋ポリマー」ともいう）をバインダーポリマーとして用いることが好ましい。架橋ポリマーの例として、ポリオレフィン等の飽和炭化水素鎖を有するポリマー（以下「ポリオレフィン」と総称する）、ポリエーテル、ポリウレア、ポリウレタン、ポリエステル、ポリアミン、ポリアミド及びメラミン樹脂等の架橋物が挙げられる。中でも、ポリオレフィン、ポリエーテル及びポリウレタンの架橋物が好ましく、ポリオレフィン及びポリエーテルの架橋物が更に好ましく、ポリオレフィンの架橋物が最も好ましい。また、架橋ポリマーが、アニオン性基を有することは、更に好ましい。アニオン性基は、無機微粒子の分散状態を維持する機能を有し、架橋構造は、ポリマーに皮膜形成能を付与して皮膜を強化する機能を有する。上記アニオン性基は、ポリマー鎖に直接結合していてもよいし、連結基を介してポリマー鎖に結合していてもよいが、連結基を介して側鎖として主鎖に結合していることが好ましい。

本発明の反射防止層に用いられる低屈折率層の屈折率は１．４６以下が好ましく、特に１．３〜１．４５であることが望ましい、塗布組成物として珪素アルコキシドを用いてゾルゲル法によって低屈折率層を形成することが出来る。或いは、フッ素樹脂を用いて低屈折率層とすることが出来る。特に、熱硬化性または電離放射線硬化型の含フッ素樹脂の硬化物から該硬化物と珪素の酸化物超微粒子から構成されることが好ましい。

該硬化物の動摩擦係数は、０．０２〜０．２であることが好ましく、純水接触角は９０〜１３０°であることが好ましい。該硬化性の含フッ素樹脂としては、パーフルオロアルキル基含有シラン化合物（例えば（ヘプタデカフルオロ−１，１，２，２−テトラデシル）トリエトキシシラン）や、含フッ素共重合体（架橋性基を有するモノマーと含フッ素モノマーを構成単位とする）が挙げられる。含フッ素モノマー単位の具体例としては、例えばヘキサフルオロエチレン、ヘキサフルオロプロピレン、テトラフルオロエチレン、フルオロオレフィン類（例えばビニリデンフルオライドパーフルオロ−２，２−ジメチル−１，３−ジオキソール、フルオロエチレン等）、（メタ）アクリル酸のフッ素化アルキルエステル誘導体（例えばビスコート６ＦＭ（大阪有機化学製）やＭ−２０２０（ダイキン製）等）、フッ素化ビニルエーテル類等である。架橋性基を有するモノマーとしてはグリシジルメタクリレートのように分子内に予め架橋性官能基を有する（メタ）アクリレートモノマーの他、カルボキシル基やアミノ基、ヒドロキシル基、スルホン酸基等を有する（メタ）アクリレートモノマー（例えば（メタ）アクリル酸、メチロール（メタ）アクリレート、ヒドロキシアルキル（メタ）アクリレート、アリルアクリレート等）が挙げられる。これらは共重合の後から、架橋構造を導入出来ることが特開平１０−２５３８８号公報及び特開平１０−１４７７３９号公報に記載されている。

また、上記含フッ素モノマーを構成単位とするポリマーだけでなく、フッ素原子を含有しないモノマーとの共重合体を用いることが出来る。併用可能なモノマー単位には特に限定はなく、例えばアクリル酸エステル類（アクリル酸メチル、アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸２−エチルヘキシル）、メタクリル酸エステル類（メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸ブチル、エチレングリコールジメタクリレート等）、スチレン誘導体（スチレン、ジビニルベンゼン、α−メチルスチレン、ビニルトルエン等）、アクリルアミド類（Ｎ−ｔｅｒｔブチルアクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド等）、メタクリルアミド類、アクリロニトリル誘導体等、オレフィン類（エチレン、プロピレン、イソプレン、塩化ビニリデン、塩化ビニル等）、ビニルエーテル類（メチルビニルエーテル等）、ビニルエステル類（酢酸ビニル、プロピオン酸ビニル、桂皮酸ビニル等）を挙げることが出来る。

低屈折率層の形成に用いる含フッ素樹脂には、耐傷性を改善するために酸化珪素微粒子を添加して用いるのが好ましい。添加量は、屈折率と耐傷性との兼ね合いで調整される。酸化珪素微粒子は、市販の有機溶剤に分散されたシリカゾルをそのまま塗布組成物に添加することが出来、或いは市販の各種シリカ紛体を有機溶剤に分散して使用することも出来る。

本発明の光学フィルムの低屈折率層形成用の塗布組成物は、主に低沸点の溶媒を含むことが好ましい。具体的には、沸点が１００℃以下の溶媒が全溶媒の５０質量％以上であることが好ましい。これによって、例えば防眩層のように凹凸を有する基材表面に塗布した場合でも、速やかに乾燥させることが出来、塗布液の流動による微細な膜厚むらが低減され、反射率の増加が抑制される。また、沸点が１００℃以上の溶媒が含まれていると乾燥むらや白濁むらが抑制されるため好ましく、沸点が１００℃以上の溶媒が０．１〜５０質量％含有していることが好ましい。

低屈折率層用の塗布組成物に用いられる低沸点の溶媒としては、アセトン、メチルエチルケトン等のケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル等のエステル類、メチルセロソルブ等のエーテルアルコール類、メタノール、エタノール、イソプロパノール等のアルコール類等の中から、塗布組成物中に含まれる固形分の溶解性の高いものが好ましく用いられる。沸点が１００℃を越える塗布溶媒としては、シクロヘキサノン、シクロペンタノン、メチル−イソブチルケトン等のケトン類、ジアセトンアルコール、プロピレングリコールモノメチルエーテル等のエーテルアルコール類、１−ブタノール、２−ブタノール等のアルコール類等が用いられる。

反射防止膜の各層は、ディップコート法、エアーナイフコート法、カーテンコート法、ローラーコート法、ワイヤーバーコート法、グラビアコート法、マイクログラビアコート法やエクストルージョンコート法により、塗布により形成することが出来る。

また、低屈折率層を塗布する前に、密着性や塗布性を改善するために、コロナ放電処理、プラズマ放電処理、アルカリ鹸化処理等を行うことが好ましい。

〈偏光板〉
本発明の偏光板について述べる。

偏光板は一般的な方法で作製することが出来る。本発明の光学フィルムの裏面側をアルカリ鹸化処理し、処理した光学フィルムを、ヨウ素溶液中に浸漬延伸して作製した偏光膜の少なくとも一方の面に、完全鹸化型ポリビニルアルコール水溶液を用いて貼り合わせることが好ましい。もう一方の面にも該光学フィルムを用いても、別の偏光板保護フィルムを用いてもよい。もう一方の面側に用いられる偏光板保護フィルムとしては、ＫＣ８ＵＸ２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ、ＫＣ５ＵＸ、ＫＣ４ＵＹ、ＫＣ８ＵＹ、ＫＣ１２ＵＲ、ＫＣ８ＵＣＲ−３（コニカミノルタオプト（株）製）等の市販のセルロースエステルフィルムが好ましく用いられる。本発明の光学フィルムに対して、もう一方の面に用いられる偏光板保護フィルムは面内リターデーションＲｏが５９０ｎｍで、２０〜７０ｎｍ、Ｒｔが１００〜４００ｎｍの位相差を有していることが好ましい。これらは例えば、特開２００２−７１９５７、特願２００２−１５５３９５記載の方法で作製することが出来る。或いは更にディスコチック液晶などの液晶化合物を配向させて形成した光学異方層を有している光学補償フィルムを兼ねる偏光板保護フィルムを用いることが好ましい。例えば、特開２００３−９８３４８記載の方法で光学異方性層を形成することが出来る。本発明の光学フィルムと組み合わせて使用することによって、平面性に優れ、安定した視野角拡大効果を有する偏光板を得ることが出来る。

偏光板の主たる構成要素である偏光膜とは、一定方向の偏波面の光だけを通す素子であり、現在知られている代表的な偏光膜は、ポリビニルアルコール系偏光フィルムで、これはポリビニルアルコール系フィルムにヨウ素を染色させたものと二色性染料を染色させたものがある。偏光膜は、ポリビニルアルコール水溶液を製膜し、これを一軸延伸させて染色するか、染色した後一軸延伸してから、好ましくはホウ素化合物で耐久性処理を行ったものが用いられている。該偏光膜の面上に、本発明の光学フィルムの片面を貼り合わせて偏光板を形成する。好ましくは完全鹸化ポリビニルアルコール等を主成分とする水系の接着剤によって貼り合わせる。

従来の光学フィルムを使用した偏光板は平面性に劣り、反射像を見ると細かい波打ち状のむらが認められ、鉛筆硬度も２Ｈ程度しか得られず、６０℃、９０％ＲＨの条件での耐久性試験により、波打ち状のむらが増大したが、これに対して本発明の光学フィルムを用いた偏光板は、平面性に優れ、鉛筆硬度も優れていた。また、６０℃、９０％ＲＨの条件での耐久性試験によっても波打ち状のむらが増加することはなかった。

〈表示装置〉
本発明の偏光板を表示装置に組み込むことによって、種々の視認性に優れた本発明の表示装置を作製することが出来る。本発明の光学フィルムは反射型、透過型、半透過型ＬＣＤ或いはＴＮ型、ＳＴＮ型、ＯＣＢ型、ＨＡＮ型、ＶＡ型、ＩＰＳ型等の各種駆動方式のＬＣＤで好ましく用いられる。また、本発明の光学フィルムに反射防止層を形成した反射防止フィルムは反射防止層の反射光の色むらが著しく少なく、また、平面性に優れ、プラズマディスプレイ、フィールドエミッションディスプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレイ、電子ペーパー等の各種表示装置にも好ましく用いられる。特に画面が３０型以上の大画面の表示装置では、色むらや波打ちむらが少なく、長時間の鑑賞でも目が疲れないという効果があった。

以下、本発明について実施例を挙げて説明するが、本発明はこれらに限定されるものではない。

《光学フィルムの作製》
《セルロースエステルフィルム１の作製》
用いるセルロースエステル、可塑剤、紫外線吸収剤、微粒子及び溶剤について表１に示す。

〈微粒子分散液１〉
微粒子（Ｄ） １１質量部
エタノール ８９質量部
以上をディゾルバーで５０分間攪拌混合した後、マントンゴーリンで分散を行った。

〈微粒子添加液１〉
メチレンクロライドを入れた溶解タンクにセルロースエステルＡを添加し、加熱して完全に溶解させた後、これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過した。濾過後のセルロースエステル溶液を充分に攪拌しながら、ここに微粒子分散液１をゆっくりと添加した。更に、二次粒子の粒径が所定の大きさとなるようにアトライターにて分散を行った。これを日本精線（株）製のファインメットＮＦで濾過し、微粒子添加液１を調製した。

溶剤Ａ （メチレンクロライド） ９９質量部
セルロースエステルＡ ４質量部
微粒子分散液１ １１質量部
下記組成の主ドープ液１を調製した。まず加圧溶解タンクに溶剤Ａと溶剤Ｂを添加した。溶剤Ａの一部（約４０質量部）は予め分けておき、加水分解重縮合物溶液を添加する際に加水分解重縮合物溶液と混合して添加した。溶剤の入った加圧溶解タンクにセルロースエステルＡを攪拌しながら投入した。これを加熱し、攪拌しながら、完全に溶解し、更に可塑剤及び紫外線吸収剤を添加、溶解させた。更に、充分に攪拌しながら、加水分解重縮合物溶液と溶剤の混合液をゆっくりと添加した。これを安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎｏ．２４４を使用して濾過し、主ドープ液１を調製した。

主ドープ液１００質量部と微粒子添加液５質量部となるように加えて、インラインミキサー（東レ静止型管内混合機 Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で十分に混合し、次いでベルト流延装置を用い、幅２ｍのステンレスバンド支持体に均一に流延した。ステンレスバンド支持体上で、残留溶媒量が１１０％になるまで溶媒を蒸発させ、ステンレスバンド支持体から剥離した。剥離の際に張力をかけて縦延伸倍率が１．１倍となるように延伸し、次いで、テンターでウェブ両端部を把持し、幅手方向の延伸倍率が１．１倍となるように延伸した。延伸後、その幅を維持したまま数秒間保持し、幅方向の張力を緩和させた後幅保持を解放し、更に１２５℃に設定された第３乾燥ゾーンで３０分間搬送させて乾燥を行い、幅１．５ｍ、かつ端部に幅１ｃｍ、高さ８μｍのナーリングを有する膜厚７０μｍのセルロースエステルフィルム１を作製した。

〈主ドープ液１の組成〉
溶剤Ａ（メチレンクロライド） ４３３質量部
溶剤Ｂ（エタノール） ４０質量部
セルロースエステルＡ １００質量部
可塑剤（Ａ） ９質量部
可塑剤（Ｂ） ２質量部
紫外線吸収剤（Ａ） １質量部
加水分解重縮合物溶液Ａ ８質量部
〈加水分解重縮合物溶液Ａ〉
下記の材料を室温で混合し、２時間攪拌して加水分解重縮合物溶液Ａを調製した。

メチレンクロライド ９質量部
テトラメトキシシラン ９質量部
アルミニウム−ジｓ−ブトキシドエチルアセチルアセトナート ２質量部
〈加水分解重縮合物溶液Ｂ〉
下記の材料を室温で混合し、３時間攪拌して加水分解重縮合物溶液Ｂを調製した。

水 １質量部
エタノール ９質量部
テトラメトキシシラン ９質量部
酢酸 ０．３質量部
〈加水分解重縮合物溶液Ｃ〉
下記の材料を室温で混合し、２時間攪拌して加水分解重縮合物溶液Ｃを調製した。

酢酸メチル ９質量部
テトラメトキシシラン ９質量部
アルミニウム−ジｓ−ブトキシドエチルアセチルアセトナート ２質量部
同様にして下記表記載のドープ組成、微粒子添加液組成、微粒子分散液組成、製造条件に変更した以外は同様にしてセルロースエステルフィルム２〜２５を作製した。

《バックコート層の塗設》
上記で作製したセルロースエステルフィルム１〜２５それぞれのＡ面（流延製膜の際にステンレスバンド支持体に接していた側（Ｂ面）の反対側の面）に、下記バックコート層組成物をウェット膜厚１４μｍとなるように押し出しコーターで塗布し、８５℃にて乾燥し巻き取り、バックコート層を設けた。

バックコート層の表面の高さ０．１μｍ以上の突起数は４８０個／１００μｍ²であった。

〈バックコート層組成物〉
アセトン ３０質量部
酢酸エチル ４５質量部
イソプロピルアルコール １０質量部
ジアセチルセルロース ０．６質量部
超微粒子シリカ２％アセトン分散液
（日本アエロジル（株）製アエロジル２００Ｖ） ０．２質量部
《反射防止フィルムの作製》
バックコート層を設けたフィルム１〜２５の表面（ステンレスバンド支持体に接していた側（Ｂ面））上に、下記のハードコート層用塗布液を孔径０．４μｍのポリプロピレン製フィルターで濾過してハードコート用塗布液を調製し、これをマイクログラビアコーターを用いて塗布し、９０℃で乾燥後、紫外線ランプを用い照射部の照度が１５０ｍＷ／ｃｍ²で照射量を１５０ｍＪ／ｃｍ²として塗布層を硬化させ、厚さ３μｍの屈折率１．６１のハードコート層を形成した。

〈ハードコート層用塗布液〉
ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート １００質量部
光反応開始剤 ５質量部
（イルガキュア１８４（チバスペシャリティケミカルズ（株）製））
酢酸エチル １２０質量部
プロピレングリコールモノメチルエーテル １２０質量部
シリコン化合物 ０．１質量部
（ＢＹＫ−３０７（ビックケミージャパン社製））
上記ハードコート層塗布液に平均粒径１０μｍの酸化ジルコニウム微粒子分散物を添加して屈折率１．６１となるように調整した。

ハードコート層上に、更に下記の低屈折率層用塗布液をマイクログラビアコーターを用いて膜厚０．１μｍで塗布し、反射防止フィルム１〜２５を作製した。

〈低屈折率用塗布液〉
含フッ素系共重合体（ポリジメチルシロキサンユニットを有するフルオロオレフィン／ビニルエーテル共重合体）を含む塗料（固形分３％）（ＪＳＲ（株）製、ＪＮ−７２１５） ３０質量部
コロイダルシリカ分散液（平均一次粒径５０ｎｍ、固形分１５％、イソプロピルアルコール分散液） １．５質量部
１−メトキシ−２−プロパノール ６質量部
〈コロイダルシリカ分散液〉
平均粒径１５ｎｍのシリカ微粒子のメタノール分散液（メタノールシリカゾル、日産化学（株）製２００質量部）にシランカップリング剤（ＫＢＭ−５０３）信越シリコーン（
株）製５質量部及び０．１Ｎ硝酸３質量部を加え６時間攪拌した後、２日間放置した。

《偏光板の作製》
厚さ、１２０μｍのポリビニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ化カリウム５ｇ、水１００ｇからなる水溶液に６０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．５ｇ、水１００ｇからなる６８℃の水溶液に浸漬した。これを水洗、乾燥し偏光膜を得た。

次いで、下記工程１〜５に従って偏光膜と前記反射防止フィルム、裏面側のセルロースエステルフィルムを貼り合わせて偏光板を作製した。裏面側の偏光板保護フィルムには位相差（５９０ｎｍで測定して、面内リターデーションＲｏ＝４５ｎｍ、厚み方向のリターデーションＲｔ＝１３０ｎｍ、幅方向に遅相軸を有し、遅相軸のズレが±１度以内）を有するセルロースエステルフィルムを用いてそれぞれ偏光板とした。

工程１：６０℃の２モル／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に９０秒間浸漬し、次いで水洗し乾燥して、偏光子と貼合する側を鹸化したセルロースエステルフィルムを得た。

一方、反射防止フィルムの反射防止層側の面は剥離性のポリエチレンフィルムを貼り付けてアルカリから保護しながら上記鹸化処理を行った。

工程２：前記偏光膜を固形分２質量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒浸漬した。

工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の接着剤を軽く拭き除き、これを工程１で処理したセルロースエステルフィルムの上にのせて、更に反射防止層が外側になるように積層し、配置した。

工程４：工程３で積層した反射防止フィルムと偏光膜とセルロースエステルフィルム試料を圧力２０〜３０Ｎ／ｃｍ²、搬送スピードは約２ｍ／分で貼合した。

工程５：８０℃の乾燥機中に工程４で作製した偏光膜とセルロースエステルフィルムと反射防止フィルムとを貼り合わせた試料を２分間乾燥し、偏光板を作製した。反射防止フィルム１〜２５をそれぞれ用いて、偏光板１〜２５を作製した。

《液晶表示装置の作製》
視野角測定を行う液晶パネルを以下のようにして作製し、液晶表示装置としての特性を評価した。

富士通製１５型ディスプレイＶＬ−１５０ＳＤの予め貼合されていた両面の偏光板を剥がして、上記作製した偏光板１〜２５をそれぞれ液晶セルのガラス面に貼合した。

その際、その偏光板の貼合の向きは、光学補償フィルム（位相差フィルム）の面が、液晶セル側となるように、かつ、予め貼合されていた偏光板と同一の方向に吸収軸が向くように行い、液晶表示装置１〜２５を各々作製した。

以上の様にして得られた反射防止フィルム１〜２５、偏光板１〜２５、液晶表示装置１〜２５を用いて下記の評価を行った。

《評価項目、評価方法》
〈微粒子の平均粒径、個数測定〉
平均粒径の測定：一つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面写真を撮影し、各断面写真について、表面から１０μｍまでの場所での長軸長さが、０．１〜３μｍの範囲にある１００μｍ²中の粒子個数をカウントする。この時カウントした粒子の長軸長さの平均値を求め、１０箇所の平均値を平均した値を平均粒径とする。

微粒子個数の測定：一つのフィルムにつき、ランダムに１０箇所の垂直断面写真を撮影し、各断面写真について、表面から１０μｍまでの場所での長軸長さが０．１〜３μｍの範囲にある１００μｍ²中の粒子個数をカウントする。１０箇所の粒子個数を平均し、粒子個数とする。

〈偏光板収率〉
偏光板製造過程での故障、トラブルを３段階で評価した。本発明の偏光板では偏光板製造過程での故障、トラブルが少なく、歩留まりに優れていた。

◎：偏光板の製造過程で皺や折れ曲がりや傷の発生が全くない
○：偏光板の製造過程で皺や折れ曲がりや傷の発生がほとんどない
△：偏光板の製造過程で、皺や折れ曲がりや傷の発生がある
×：偏光板の製造過程で皺や折れ曲がりや傷の発生が多い
《偏光板の平滑性；目視評価》
幅９０ｃｍ、長さ１００ｃｍの大きさに各試料を切り出し、４０Ｗ蛍光灯（松下電器製ＦＬＲ４０Ｓ−ＥＸ−Ｄ／Ｍ）を５本並べて試料台に４５°の角度から照らせるように高さ１．５ｍの高さに固定し、試料台の上に各フィルム試料を置き、フィルム裏面側に反射して見える凹凸を目で見て、次のように判定した。この方法によって「つれ」及び「しわ」の判定が出来る。

◎：蛍光灯が５本とも真っすぐに見えた
○：蛍光灯が少し曲がって見えるところがある
△：蛍光灯が全体的に少し曲がって見える
×：蛍光灯が大きくうねって見える
〈反射色むらの評価〉
各液晶表示装置について、画面を黒表示として、表面の反射防止フィルムの反射むらを目視で評価した。

◎：反射光の色むらは分からず、黒がしまって見える
○：わずかに反射光の色むらが認識される
△：反射光の色むらが認識されるが実用上問題ないレベル
×：反射光の色むらがかなり気になる。

《視認性の評価》
上記作製した各液晶表示装置について、６０℃、９０％ＲＨの条件で１００時間放置した後、２３℃、５５％ＲＨに戻した。その結果、表示装置の表面を観察すると本発明の反射防止フィルムを用いたものは、平面性に優れていたのに対し、比較の表示装置は細かい波打ち状のむらが認められ、長時間見ていると目が疲れ易かった。

◎：表面に波打ち状のむらは全く認められない
○：表面にわずかに波打ち状のむらが認められる
△：表面に細かい波打ち状のむらがやや認められる
×：表面に細かい波打ち状のむらが認められる
上記評価結果を下表に示す。

本発明に係る反応性金属化合物の重縮合物を含有し、更にセルロースエステルフィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域で、粒径が０．１〜３μｍの微粒子をフィルムに垂直な断面に１〜１００個／１００μｍ²存在させた本発明の構成例は、比較例に対し反射光の色ムラ、偏光板の加工故障耐性に優れ、平滑性、視認性にも優れていることが分かった。

シリカアルコキシドの加水分解前後の２９Ｓｉ−ＮＭＲスペクトル

Claims (12)

1. セルロース誘導体と、反応性金属化合物の重縮合物、可塑剤及び微粒子とを含有する光学フィルムであって、該フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域で、粒径が０．１〜３μｍの微粒子が該フィルムに垂直な断面に１〜１００個／１００μｍ²存在することを特徴とする光学フィルム。
2. フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域に含有される微粒子の平均粒径が０．１〜３μｍであることを特徴とする請求項１に記載の光学フィルム。
3. フィルムを５００℃に過熱燃焼させた後の残渣に含まれる金属酸化物の質量をＡ、燃焼前のフィルムの質量をＢとしたときにＡ／Ｂ×１００が０．５〜５質量％であることを特徴とする請求項１または２に記載の光学フィルム。
4. 前記反応性金属化合物が、Ｓｉ、Ｔｉ、ＺｒまたはＡｌのアルコキシドであることを特徴とする請求項１〜３のいずれか１項に記載の光学フィルム。
5. 前記セルロース誘導体が、総アシル基置換度２．６〜２．９、数平均分子量（Ｍｎ）８００００〜２０００００、重量平均分子量（Ｍｗ）／数平均分子量（Ｍｎ）の値が１．４〜３．０であるセルロースエステルであることを特徴とする請求項１〜４のいずれか１項に記載の光学フィルム。
6. トリアジン系化合物を含有することを特徴とする請求項１〜５のいずれか１項に記載の光学フィルム。
7. 可塑剤が非リン酸エステル系可塑剤であることを特徴とする請求項１〜６のいずれか１項に記載の光学フィルム。
8. 前記光学フィルムに少なくとも１層の金属酸化物層が塗設されていることを特徴とする請求項１〜７のいずれか１項に記載の光学フィルム。
9. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを偏光板保護フィルムとして少なくとも一方の面に用いたことを特徴とする偏光板。
10. 請求項１〜８のいずれか１項に記載の光学フィルムを用いて構成されていることを特徴とする表示装置。
11. セルロース誘導体と、反応性金属化合物の重縮合物、可塑剤及び微粒子とを含有する光学フィルムの製造方法であって、主にセルロース誘導体と有機溶媒と可塑剤及び反応性金属化合物の重縮合物とを含有するセルロース誘導体溶液を調製し、これに主に微粒子分散液を添加混合して調製されたセルロース誘導体溶液を支持体上に流延し、剥離可能となるまで乾燥させ、支持体から剥離後に溶媒を含んだ状態で少なくとも幅方向に延伸し、更に乾燥させて巻き取ることを特徴とする、フィルムの表面から深さ１０μｍまでの領域で、前記微粒子が前記フィルムに垂直な断面に、粒径が０．１〜３μｍの微粒子を１〜１００個／１００μｍ²有する光学フィルムの製造方法。
12. 前記フィルムが幅１．４ｍ〜４ｍのセルロースエステルフィルムであることを特徴とする請求項１１に記載の光学フィルムの製造方法。

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