JP2005134473A - 貼合せ基板の切断方法、液晶装置の製造方法、液晶装置、電子機器 - Google Patents
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Abstract
【課題】 貼合せ基板を面内で個々の単位毎に分離切断する際に、精度良く、高効率で切断することができる貼合せ基板の切断方法を提供する。
【解決手段】 本発明の貼合せ基板の切断方法は、第1基板1上に切断単位毎のパターン形状を備えた接着剤層3を形成する工程と、該接着剤層3のパターン毎に、複数の第2基板2を貼り合わせる貼合せ工程と、該貼り合わせた基板のうち前記接着剤層3の非形成領域3aにおいて、該貼合せ基板を面内で切断する切断工程と、を含むことを特徴とする。
【選択図】 図1
【解決手段】 本発明の貼合せ基板の切断方法は、第1基板1上に切断単位毎のパターン形状を備えた接着剤層3を形成する工程と、該接着剤層3のパターン毎に、複数の第2基板2を貼り合わせる貼合せ工程と、該貼り合わせた基板のうち前記接着剤層3の非形成領域3aにおいて、該貼合せ基板を面内で切断する切断工程と、を含むことを特徴とする。
【選択図】 図1
Description
本発明は、貼合せ基板の切断方法、液晶装置の製造方法、液晶装置、電子機器に関するものである。
従来、液晶装置は直視型の表示装置として用いられる他、投射型のプロジェクタにも光変調装置として用いられている。このような液晶装置においては、開口率を上げることを目的として、各画素に対応するマイクロレンズを具備させ、光を開口部に集光することで光利用効率を上げる技術が提案されている。具体的には、液晶層を挟持する基板に対し、接着剤を介してマイクロレンズを備えたマイクロレンズ基板を貼り合わせ、各画素に対して集光を行っている。
一方、液晶装置の製造工程では、複数の液晶パネルを大型のガラス基板上に配列し、該大型基板で一括して各パネルのTFT基板と対向基板を重ね合わせた後、個々の液晶パネルの大きさに切断する多面取りが採用されている。このようなガラス基板の切断には、ダイヤモンドカッター等でガラス表面にクラックを入れ、このクラックに衝撃等を与え、クラックを切断方向に成長させることにより切断する方法(スクライブ・ブレイク法)がある。特に、特許文献1には、基板に接着剤を介してマイクロレンズ基板が貼り合わされた液晶装置において、スクライブ・ブレイク法により個々の液晶装置に切断する技術が開示されている。
特開2001−147423号公報
しかしながら、基板に接着剤を介してマイクロレンズ基板が貼り合わされてなる液晶装置において、スクライブ・ブレイク法により大型基板から個々の液晶装置を分離切断するときに、クラックをマイクロレンズ基板に入れても、クラックの成長が接着剤層で止まり、該クラックが基板まで成長しない場合がある。したがって、衝撃を与えても基板を切断できないか、若しくは切断できたとしても切断精度が低下する不具合が生じる場合がある。
本発明は、このような事情に鑑みてなされたもので、基板同士を接着剤層を介して貼り合わせた構成を含む貼合せ基板において、該基板を面内で所定単位毎に分離切断する際に、精度良く、高効率で切断することができる貼合せ基板の切断方法を提供することを目的としている。また、本発明は、この切断方法を用いた液晶装置の製造方法を提供することを目的としている。さらに、本発明はこの製造方法により得られた液晶装置、さらにはこの液晶装置を含む電子機器を提供することを目的としている。
上記目的を達成するために、本発明の貼合せ基板の切断方法は、第1基板上に切断単位毎のパターン形状を備えた接着剤層を形成する工程と、該接着剤層のパターン毎に、複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ工程と、該貼り合わせた基板のうち前記接着剤層の非形成領域において、該貼合せ基板を面内で切断する切断工程と、を含むことを特徴とする。
このような貼合せ基板の切断方法によると、接着剤層が切断単位毎のパターン形状を備えて構成され、さらにそのパターンに応じて第2基板を貼り合わせるものとしているため、切断工程時において切断位置に接着剤層及び第2基板が存在しないこととなり、該貼合せ基板を確実に切断でき、しかもその切断精度は非常に高いものとなる。つまり、切断予定位置に自身の非形成領域を備える形にて接着剤層を形成し、さらにその接着剤層のパターン上に第2基板を形成するとともに、この接着剤層及び第2基板の非形成領域において貼合せ基板を面内で切断することで、切断をより確実且つ高精度に行うことができるようになるのである。
また、上記目的を達成するために、本発明の貼合せ基板の切断方法は、その異なる態様として、第1基板上の全面に接着剤層を形成する工程と、該接着剤層上に、切断単位のパターンに応じて複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ工程と、該貼り合わせた基板のうち、前記第2基板の非形成領域において前記接着剤層を除去する工程と、該接着剤層を除去した後に、前記第2基板の非形成領域において、該貼合せ基板を面内で切断する切断工程と、を含むことを特徴とする。
このような貼合せ基板の切断方法によると、第2基板の非形成領域において貼合せ基板を切断するものとしており、その切断前に切断位置の接着剤層を除去するため、切断工程時において切断位置に接着剤層及び第2基板が存在しないこととなり、該貼合せ基板を確実に切断でき、しかもその切断精度は非常に高いものとなる。つまり、切断予定位置に自身の非形成領域を備える形にて第2基板を形成し、さらにその第2基板の非形成領域に位置する接着剤層を除去するとともに、この第2基板及び接着剤層の非形成領域(除去領域)において貼合せ基板を面内で切断することで、切断をより確実且つ高精度に行うことができるようになるのである。なお、接着剤層の除去工程には、例えば硫酸等による酸洗浄を好適に用いることができる。
本発明の切断方法において、前記貼合せ工程の後であって前記切断工程の前に、前記貼り合わせた第2基板を所望の厚さに研磨する研磨工程を含むものとすることができる。この場合、得られる貼合せ基板の厚さ調整を簡便且つ確実に行うことができるようになり、例えば上記第1基板を、マイクロレンズを含むマイクロレンズ基板として構成し、所定の集光を目的とする場合には、その集光の焦点位置を第2基板の厚さに応じて適宜設定可能となる。なお、本発明の切断方法の対象となる貼合せ基板としては、例えば第2基板を第1基板に対する防塵用等のカバーガラスとして用いた貼合せ基板にも適用可能である。
次に、上記目的を達成するために、本発明の液晶装置の製造方法は、第1基板及び第2基板を貼り合わせてなる貼合せ基板と、第3基板との間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、第1基板上に切断単位毎のパターン形状を備えた接着剤層を形成する工程と、該接着剤層のパターン毎に、複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ基板作成工程と、該貼合せ基板の第2基板と第3基板とを対向させ、各基板をシール材を介して貼り合わせる貼合せパネル作成工程と、作成された貼合せパネルのうち前記接着剤層の非形成領域において、該貼合せパネルを面内で切断する切断工程と、を含むことを特徴とする。
このような液晶装置の製造方法によると、パネル切断位置に貼合せ基板の接着剤層及び第2基板が存在しないため、該パネルを確実に切断でき、しかもその切断精度は非常に高いものとなる。つまり、貼合せ基板側において切断予定位置には接着剤層を形成しないものとし、この接着剤層のパターンに応じて第2基板を形成するとともに、該接着剤層及び第2基板の存在しない領域においてパネルを面内で切断することで、該切断をより確実且つ高精度に行うことができるようになるのである。なお、パネルを切断した後は、個々のパネルに対して、例えばシール材に形成した液晶注入口から真空下において液晶を注入する工程等を採用することで液晶装置を得ることができる。一方、第2基板と第3基板とを貼り合わせる前に、予めシール材内に液晶を滴下しておけば、上記液晶注入工程は不要となる。
また、上記目的を達成するために、本発明の液晶装置の製造方法は、その異なる態様として、第1基板及び第2基板を貼り合わせてなる貼合せ基板と、第3基板との間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、第1基板上の全面に接着剤層を形成する工程と、該接着剤層上に、切断単位のパターンに応じて複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ基板作成工程と、該貼合せ基板のうち、前記第2基板の非形成領域において前記接着剤層を除去する工程と、該接着剤層を除去した後に、前記貼合せ基板の第2基板と第3基板とを対向させ、各基板をシール材を介して貼り合わせる貼合せパネル作成工程と、作成された貼合せパネルのうち前記第2基板の非形成領域において、該貼合せパネルを面内で切断する切断工程と、を含むことを特徴とする。
このような液晶装置の製造方法によると、第2基板の非形成領域においてパネルを切断するものとしており、その切断前(特に第3基板との貼り合わせ前)に切断位置の接着剤層を除去するため、切断工程時において切断位置に接着剤層及び第2基板が存在しないこととなり、該パネルを確実に切断でき、しかもその切断精度は非常に高いものとなる。つまり、切断予定位置に自身の非形成領域を備える形にて第2基板を形成し、さらにその第2基板の非形成領域に位置する接着剤層を除去するとともに、この第2基板及び接着剤層の非形成領域(除去領域)においてパネルを面内で切断することで、切断をより確実且つ高精度に行うことができるようになるのである。なお、パネルを切断した後は、個々のパネルに対して、例えばシール材に形成した液晶注入口から真空下において液晶を注入する工程等を採用することで液晶装置を得ることができる。一方、第2基板と第3基板とを貼り合わせる前に、予めシール材内に液晶を滴下しておけば、上記液晶注入工程は不要となる。また、接着剤層の除去工程には、例えば硫酸等による酸洗浄を好適に用いることができる。
本発明の液晶装置の製造方法において、前記貼合せ基板作成工程後、前記貼合せパネル作成工程の前に、前記貼り合わせた第2基板を所望の厚さに研磨する研磨工程を含むものとすることができる。この場合、得られる貼合せ基板の厚さ調整を簡便且つ確実に行うことができるようになり、例えば上記第1基板を、マイクロレンズを含むマイクロレンズ基板として構成し、当該液晶装置の画素に対する集光を目的とする場合には、その集光の焦点位置を第2基板の厚さに応じて適宜設定可能となる。
本発明の液晶装置の製造方法において、前記第3基板をスイッチング素子及び外部接続端子を含む素子基板とした場合、前記切断工程において前記外部接続端子の非形成領域を切断位置とすることができる。この場合、外部端子を切断してしまう等の不具合を回避することができる。
次に、本発明の電子機器は、上記液晶装置を表示部として備えることを特徴とする。このような電子機器は、その表示部において光利用効率が高く、高画質で大画面化を実現することが可能となる。さらに、上記液晶装置を投射型の表示装置において光変調装置として適用した場合も、高画質、高精細な表示が可能な投射型表示装置を提供することが可能となる。
以下、本発明に係る実施の形態について図面を参照しつつ説明する。なお、各図においては、各層や各部材を図面上で認識可能な程度の大きさとするため、各層や各部材毎に縮尺を異ならせてある。
(貼合せ基板の切断方法)
まず、本発明の貼合せ基板の切断方法について、その一実施の形態を図1を参照しつつ説明する。図1は、貼合せ基板の切断工程を示す断面模式図である。はじめに、図1(a)に示すように、貼合せ基板を製造するためのベース基板1を用意する。ベース基板1は、凹レンズ13を有したマイクロレンズ基板であって、ガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなる。
まず、本発明の貼合せ基板の切断方法について、その一実施の形態を図1を参照しつつ説明する。図1は、貼合せ基板の切断工程を示す断面模式図である。はじめに、図1(a)に示すように、貼合せ基板を製造するためのベース基板1を用意する。ベース基板1は、凹レンズ13を有したマイクロレンズ基板であって、ガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなる。
次に、図1(b)に示すように、ベース基板1の表面(貼合せ面)であって、切断予定位置以外の領域に接着剤3を塗布する。つまり、切断予定位置に自身の非形成領域3aを備えたパターンの接着剤層3をベース基板1上に形成する。
そして、図1(c)に示すように、ベース基板1の接着剤層3上に、該接着剤層3のパターンに応じてカバー基板2を貼り合わせ、貼合せ基板10を得る。その結果、貼合せ基板10においては、接着剤層3の非形成領域3a上に、カバー基板2の非形成領域2aが具備されることとなる。なお、カバー基板2はガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなるものである。
このような貼合せ基板10を切断するに際し、本実施の形態では、接着剤層3及びカバー基板2の非形成領域3a,2aにおいて切断を行うものとしている。つまり、図1(c)に示すように、切断面xが各非形成領域3a,2aに位置するように貼合せ基板10の面内切断を行い、それにより図1(d)に示すように、大型の貼合せ基板10から複数のマイクロレンズ基板10aを多数製造することができるようになる。
以上のような切断方法によると、切断位置に接着剤3及びカバー基板2が存在しないため、該貼合せ基板10を面内で確実に切断でき、しかもその切断精度が非常に高いものとなる。つまり、接着剤層を介して貼り合わせた基板を単に切断する場合には、貼り合わせた2枚の基板と接着剤層とを切断する必要があり、切断が困難になる若しくは切断精度が低下する等の不具合が生じ易かったが、本実施の形態の方法では第1基板のみの単層を切断する手法を採用しているため、そのような不具合を回避することができるようになったのである。そして、このような切断方法により得られたマイクロレンズ基板10aは、大型の貼合せ基板10を切断して得る、いわゆる多面取りにより製造されるものであるため、非常に生産性の高いものとなる。
なお、例えば切断を行う前に、貼合せ対象であるカバー基板2を研磨し、該カバー基板2の厚さを適宜調整することで、得られるマイクロレンズ基板10aについて、該基板10aによる集光時の焦点を適宜変更することが可能となる。そして、このようなマイクロレンズ基板10aは、例えば光源からの光を光照射体の被照射面に集光するための集光手段として、該光源と光照射体との間に配設して使用することができる。
また、図1(a)において、凹レンズ13を形成する際に、切断予定位置には凹レンズ13を形成しないものとすることもできる。この場合、図1(c)に示す貼合せ基板10において、ベース基板1の切断面xには凹レンズ13が形成されない構成となり、一層切断精度を高めることが可能となるとともに、図1(d)に示すマイクロレンズ基板10aにおいて、ベース基板1の切断位置付近、つまりベース基板1上のカバー基板2が覆われていない領域に凹レンズ13が形成されない構成を実現できる。
次に、貼合せ基板の切断方法について、その変形例を図2を参照しつつ説明する。図2は、貼合せ基板の切断工程を示す断面模式図である。はじめに、図2(a)に示すように、貼合せ基板を製造するためのベース基板1を用意する。ベース基板1は、凹レンズ13を有したマイクロレンズ基板であって、ガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなるものである。なお、ベース基板1の貼合せ面(凹レンズ13が形成された面)の全面には接着剤3が塗布されている。
そして、図2(b)に示すように、ベース基板1の接着剤層3上に所定パターンのカバー基板2を貼り合わせる。つまり、ベース基板1の接着剤層3上に、切断予定位置に自身の非形成領域2aを備えたパターンのカバー基板2を貼り合わせ、貼合せ基板10を得るものとしている。なお、カバー基板2はガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなるものである。
次に、図2(c)に示すように、カバー基板2の非形成領域2aに位置する接着剤層3を除去して、該接着剤層3の非形成領域3aを設ける。この除去工程は、例えばカバー基板2をマスクとした接着剤層3に対する酸洗浄(例えば硫酸等による)により選択的に行うことができる。このような除去工程の結果、図2(c)に示す貼合せ基板10においては、接着剤層3の非形成領域3aとカバー基板2の非形成領域2aとが上下(基板貼合せ方向)に連通して具備されることとなる。
このような貼合せ基板10を切断するに際し、本実施の形態では、接着剤層3及びカバー基板2の非形成領域3a,2aにおいて切断を行うものとしている。つまり、図2(c)に示すように、切断面xが各非形成領域3a,2aに位置するように貼合せ基板10の面内切断を行い、それにより、図2(d)に示すように大型の貼合せ基板10から複数のマイクロレンズ基板10aを多数製造することができるようになる。
以上のような切断方法によると、切断位置に接着剤3及びカバー基板2が存在しないため、該貼合せ基板10を面内で確実に切断でき、しかもその切断精度が非常に高いものとなる。つまり、接着剤層を介して貼り合わせた基板を単に切断する場合には、貼り合わせた2枚の基板と接着剤層とを切断する必要があり、切断が困難になる若しくは切断精度が低下する等の不具合が生じ易かったが、本実施の形態の方法では第1基板のみの単層を切断するものとしているため、そのような不具合を回避することができるようになったのである。そして、このような切断方法により得られたマイクロレンズ基板10aは、大型の貼合せ基板10を切断して得る、いわゆる多面取りにより製造されるものであるため、非常に生産性の高いものとなる。
なお、例えば切断を行う前に、貼合せ対象であるカバー基板2を研磨し、該カバー基板2の厚さを適宜調整することで、得られるマイクロレンズ基板10aについて、該基板10aによる集光時の焦点を適宜変更することが可能となる。そして、このようなマイクロレンズ基板10aは、例えば光源からの光を光照射体の被照射面に集光するための集光手段として、該光源と光照射体との間に配設して使用することができる。
また、図2(a)において、凹レンズ13を形成する際に、切断予定位置には凹レンズ13を形成しないものとすることもできる。この場合、図2(c)に示す貼合せ基板10において、ベース基板1の切断面xには凹レンズ13が形成されない構成となり、一層切断精度を高めることが可能となるとともに、図2(d)に示すマイクロレンズ基板10aにおいて、ベース基板1の切断位置付近、つまりベース基板1上のカバー基板2が覆われていない領域に凹レンズ13が形成されない構成を実現できる。
(液晶装置の製造方法)
次に、本発明の液晶装置の製造方法について、その一実施の形態を図3を参照しつつ説明する。図3は、液晶装置の製造工程を示す断面模式図である。本実施の形態は、複数のパネルを含む大型基板から多数のパネルを得る、いわゆる多面取りを採用した液晶装置の製造方法である。
次に、本発明の液晶装置の製造方法について、その一実施の形態を図3を参照しつつ説明する。図3は、液晶装置の製造工程を示す断面模式図である。本実施の形態は、複数のパネルを含む大型基板から多数のパネルを得る、いわゆる多面取りを採用した液晶装置の製造方法である。
はじめに、図3(a)に示すように、液晶装置の一方の基板(特にバックライト側の基板)を製造するためにマイクロレンズ基板101を用意する。マイクロレンズ基板101は、凹レンズ113を有し、ガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなるものである。
次に、図3(b)に示すように、マイクロレンズ基板101の表面(貼合せ面)であって、切断予定位置以外の領域に接着剤103を塗布する。つまり、切断予定位置に自身の非形成領域103aを備えたパターンの接着剤層103を形成する。
そして、図3(c)に示すように、マイクロレンズ基板101の接着剤層103上に、該接着剤層103のパターンに応じてカバー基板102を貼り合わせ、貼合せ基板100を得る。その結果、貼合せ基板100においては、接着剤層103の非形成領域103a上に、カバー基板102の非形成領域102aが具備されることとなる。なお、カバー基板102はガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなるものである。また、本実施の形態において、カバー基板102の表層(マイクロレンズ基板101との貼合せ面とは異なる側)には、図示しない共通電極及び配向膜をマイクロレンズ基板101との貼り合わせ前、若しくは貼り合わせ後に形成するものとしている。
次に、図3(d)に示すように、ガラス又はプラスチック等の透光性基板上に図示しないTFT(薄膜トランジスタ)或いはTFD等のスイッチング素子、画素電極、配向膜等を備えてなる素子基板120を用意し、貼合せ基板100と素子基板120とをシール材4を介して貼り合わせる。ここで、シール材4は、各パネル毎に枠状に構成され、内部に液晶を封止する機能を具備するものである。また、素子基板120には、各パネル毎に配設される外部接続端子114が具備されている。
このように貼合せ基板100と素子基板120とを貼り合わせてなる貼合せパネル200は、複数のパネルを有して構成され、個々のパネルに切断することで多数の液晶装置を得ることができるものである。そこで、得られた貼合せパネル200を切断するに際し、本実施の形態では、接着剤層103及びカバー基板102の非形成領域103a,102aにおいて切断を行うものとしている。つまり、図3(d)に示すように、切断面xが接着剤層103及びカバー基板102の非形成領域103a,102aに位置するように貼合せパネル200の面内切断を行い、それにより大型の貼合せパネル200から複数の液晶装置を得るものとしている。また、特に各パネルの外部接続端子114が位置しない領域を、詳しくは外部接続端子114とそれに接続された配線(図示略)を回避する領域を切断面xとして切断を行うものとしている。
以上のような切断方法によると、大型の貼合せパネル200を切断する際に、切断位置に接着剤103及びカバー基板102が存在しないため、該貼合せパネル200を面内で確実に切断でき、しかもその切断精度が非常に高いものとなる。そして、このような切断方法により得られた個々の液晶装置は、大型の貼合せパネル200を切断して得る、いわゆる多面取りにより製造されるものであるため、非常に生産性の高いものとなる。また、液晶を挟持する一対の基板のうちのバックライト側の基板である貼合せ基板100には、マイクロレンズ基板101が備えられているため、例えばカバー基板102の厚さを適宜調整することで、バックライトからの光を液晶装置の各画素に集光することが可能となり、当該液晶装置の光利用効率を高めることが可能となる。
なお、例えば貼合せ基板100を作成した後に、貼合せ対象であるカバー基板102を研磨し、該カバー基板102の厚さを適宜調整することで、マイクロレンズ基板100により集光を行う際の焦点を適宜変更することが可能となる。また、図3(a)において、凹レンズ113を形成する際に、切断予定位置には凹レンズ113を形成しないものとすることもできる。この場合、図3(c)に示す貼合せ基板100において、ベース基板101の切断面xには凹レンズ113が形成されない構成となり、一層切断精度を高めることが可能となるとともに、図3(d)に示す貼合せパネル200において、ベース基板101の切断位置付近、つまりベース基板101上のカバー基板102が覆われていない領域に凹レンズ113が形成されない構成を実現できる。
次に、液晶装置の製造方法について、その変形例を図4を参照しつつ説明する。図4は、液晶装置の製造工程を示す断面模式図である。本実施の形態も、上記同様、複数のパネルを含む大型基板から多数のパネルを得る、いわゆる多面取りを採用した液晶装置の製造方法である。
はじめに、図4(a)に示すように、液晶装置の一方の基板(特にバックライト側の基板)を製造するためにマイクロレンズ基板101を用意する。マイクロレンズ基板101は、凹レンズ113を有し、ガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなるものである。なお、マイクロレンズ基板101の貼合せ面(凹レンズ113が形成された面)の全面には接着剤103が塗布されている。
そして、図4(b)に示すように、マイクロレンズ基板101の接着剤層103上に所定パターンのカバー基板102を貼り合わせる。つまり、マイクロレンズ基板101の接着剤層103上に、切断予定位置に自身の非形成領域102aを備えたパターンのカバー基板102を貼り合わせ、貼合せ基板100を得るものとしている。なお、カバー基板102はガラス又はプラスチック等の透光性基板より構成されてなるものである。
次に、図4(c)に示すように、カバー基板102の非形成領域102aに位置する接着剤層103を除去して、該接着剤層103の非形成領域103aを設ける。この除去工程は、例えばカバー基板102をマスクとした接着剤層103に対する酸洗浄(例えば硫酸等による)により選択的に行うことができる。このような除去工程の結果、図4(c)に示す貼合せ基板100においては、接着剤層103の非形成領域103aとカバー基板102の非形成領域102aとが上下に連通して具備されることとなる。なお、本実施の形態においては、接着剤層103の上記除去工程後、カバー基板102の表層(マイクロレンズ基板101との貼合せ面とは異なる側)に図示しない共通電極及び配向膜を形成するものとしている。
次に、図4(d)に示すように、ガラス又はプラスチック等の透光性基板上に図示しないTFT(薄膜トランジスタ)或いはTFD等のスイッチング素子、画素電極、配向膜等を備えてなる素子基板120を用意し、貼合せ基板100と素子基板120とをシール材4を介して貼り合わせる。ここで、シール材4は、各パネル毎に枠状に構成され、内部に液晶を封止する機能を具備するものである。また、素子基板120には、各パネル毎に配設される外部接続端子114が具備されている。
このように貼合せ基板100と素子基板120とを貼り合わせてなる貼合せパネル200は、複数のパネルを有して構成され、個々のパネルに切断することで多数の液晶装置を得ることができるものである。そこで、得られた貼合せパネル200を切断するに際し、本実施の形態では、接着剤層103及びカバー基板102の非形成領域103a,102aにおいて切断を行うものとしている。つまり、図4(d)に示すように、切断面xが接着剤層103及びカバー基板102の非形成領域103a,102aに位置するように貼合せパネル200の面内切断を行い、それにより大型の貼合せパネル200から複数の液晶装置を得るものとしている。また、特に各パネルの外部接続端子114が位置しない領域を、詳しくは外部接続端子114とそれに接続された配線(図示略)を回避する領域を切断面xとして切断を行うものとしている。
以上のような切断方法によると、大型の貼合せパネル200を切断する際に、切断位置に接着剤103及びカバー基板102が存在しないため、該貼合せパネル200を面内で確実に切断でき、しかもその切断精度が非常に高いものとなる。そして、このような切断方法により得られた個々の液晶装置は、大型の貼合せパネル200を切断して得る、いわゆる多面取りにより製造されるものであるため、非常に生産性の高いものとなる。また、液晶を挟持する一対の基板のうちのバックライト側の基板である貼合せ基板100には、マイクロレンズ基板101が備えられているため、例えばカバー基板102の厚さを適宜調整することで、バックライトからの光を液晶装置の各画素に集光することが可能となり、当該液晶装置の光利用効率を高めることが可能となる。
なお、例えば貼合せ基板100を作成した後に、貼合せ対象であるカバー基板102を研磨し、該カバー基板102の厚さを適宜調整することで、マイクロレンズ基板100により集光する際の焦点を適宜変更することが可能となる。また、図4(a)において、凹レンズ113を形成する際に、切断予定位置には凹レンズ113を形成しないものとすることもできる。この場合、図4(c)に示す貼合せ基板100において、ベース基板101の切断面xには凹レンズ113が形成されない構成となり、一層切断精度を高めることが可能となるとともに、図4(d)に示す貼合せパネル200において、ベース基板101の切断位置付近、つまりベース基板101上のカバー基板102が覆われていない領域に凹レンズ113が形成されない構成を実現できる。
(電子機器)
次に、上記実施形態の製造方法により得られた液晶装置を備える電子機器の具体例について説明する。図5は携帯電話の一例を示した斜視図である。図5において、符号500は携帯電話本体を示し、符号501は上記実施形態の製造方法により得られた液晶装置を備えた液晶表示部を示している。このように、図5に示す電子機器は、上記方法により得られた液晶装置を備えたものであるので、非常に安価に製造され、しかも光利用効率が高い明るい表示が可能な電子機器となる。
次に、上記実施形態の製造方法により得られた液晶装置を備える電子機器の具体例について説明する。図5は携帯電話の一例を示した斜視図である。図5において、符号500は携帯電話本体を示し、符号501は上記実施形態の製造方法により得られた液晶装置を備えた液晶表示部を示している。このように、図5に示す電子機器は、上記方法により得られた液晶装置を備えたものであるので、非常に安価に製造され、しかも光利用効率が高い明るい表示が可能な電子機器となる。
次に、上記実施形態の製造方法により得られた液晶装置を備えた投射型表示装置の具体例について説明する。図6は、上記方法により得られた液晶装置を液晶ライトバルブ(光変調手段)として用いた投射型表示装置の要部を示す概略構成図である。図6において、符号810は光源、813、814はダイクロイックミラー、815、816、817は反射ミラー、818は入射レンズ、819はリレーレンズ、820は出射レンズ、822、823、824は液晶ライトバルブ、825はクロスダイクロイックプリズム、826は投射レンズを示す。
光源810はメタルハライド等のランプ811とランプの光を反射するリフレクタ812とからなる。青色光、緑色光反射のダイクロイックミラー813は、光源810からの光束のうちの赤色光を透過させるとともに、青色光と緑色光とを反射する。透過した赤色光は反射ミラー817で反射されて、上記方法により得られた液晶装置を備えた赤色光用液晶ライトバルブ822に入射される。一方、ダイクロイックミラー813で反射された色光のうち緑色光は緑色光反射のダイクロイックミラー814によって反射され、上記方法により得られた液晶装置を備えた緑色光用液晶ライトバルブ823に入射される。なお、青色光は第2のダイクロイックミラー814も透過する。青色光に対しては、光路長が緑色光、赤色光と異なるのを補償するために、入射レンズ818、リレーレンズ819、出射レンズ820を含むリレーレンズ系からなる導光手段821が設けられ、これを介して青色光が上記方法により得られた液晶装置を備えた青色光用液晶ライトバルブ824に入射される。また、各色光用液晶ライトバルブ822,823,824の入射側および出射側には偏光板832a,832b,833a,833b,834a,834bがそれぞれ設けられている。
各液晶ライトバルブにより変調された3つの色光はクロスダイクロイックプリズム825に入射する。このプリズムは4つの直角プリズムが貼り合わされ、その内面に赤光を反射する誘電体多層膜と青光を反射する誘電体多層膜とが十字状に形成されている。これらの誘電体多層膜によって3つの色光が合成されて、カラー画像を表す光が形成される。合成された光は、投射光学系である投射レンズ826によってスクリーン827上に投射され、画像が拡大されて表示される。
上記構成の投射型表示装置は、上記実施の形態の製造方法により得られた液晶装置を光変調装置として備えたものであるので、光利用効率が高く、高精細・高画質の表示が可能な投射型表示装置となっている。
1…ベース基板(第1基板)、2…カバー基板(第2基板)、3…接着剤(接着剤層)、4…シール材
Claims (11)
- 第1基板上に切断単位毎のパターン形状を備えた接着剤層を形成する工程と、
該接着剤層のパターン毎に、複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ工程と、
該貼り合わせた基板のうち前記接着剤層の非形成領域において、該貼合せ基板を面内で切断する切断工程と、
を含むことを特徴とする貼合せ基板の切断方法。 - 第1基板上の全面に接着剤層を形成する工程と、
該接着剤層上に、切断単位のパターンに応じて複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ工程と、
該貼り合わせた基板のうち、前記第2基板の非形成領域において前記接着剤層を除去する工程と、
該接着剤層を除去した後に、前記第2基板の非形成領域において、該貼合せ基板を面内で切断する切断工程と、
を含むことを特徴とする貼合せ基板の切断方法。 - 前記貼合せ工程後、前記切断工程の前に、前記貼り合わせた第2基板を所望の厚さに研磨する研磨工程を含むことを特徴とする請求項1又は2に記載の貼合せ基板の切断方法。
- 前記第1基板が、マイクロレンズを含むマイクロレンズ基板であることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の貼合せ基板の切断方法。
- 第1基板及び第2基板を貼り合わせてなる貼合せ基板と、第3基板との間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、
第1基板上に切断単位毎のパターン形状を備えた接着剤層を形成する工程と、
該接着剤層のパターン毎に、複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ基板作成工程と、
該貼合せ基板の第2基板と第3基板とを対向させ、各基板をシール材を介して貼り合わせる貼合せパネル作成工程と、
作成された貼合せパネルのうち前記接着剤層の非形成領域において、該貼合せパネルを面内で切断する切断工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 第1基板及び第2基板を貼り合わせてなる貼合せ基板と、第3基板との間に液晶層を挟持してなる液晶装置の製造方法であって、
第1基板上の全面に接着剤層を形成する工程と、
該接着剤層上に、切断単位のパターンに応じて複数の第2基板を貼り合わせる貼合せ基板作成工程と、
該貼合せ基板のうち、前記第2基板の非形成領域において前記接着剤層を除去する工程と、
該接着剤層を除去した後に、前記貼合せ基板の第2基板と第3基板とを対向させ、各基板をシール材を介して貼り合わせる貼合せパネル作成工程と、
作成された貼合せパネルのうち前記第2基板の非形成領域において、該貼合せパネルを面内で切断する切断工程と、
を含むことを特徴とする液晶装置の製造方法。 - 前記貼合せ基板作成工程後、前記貼合せパネル作成工程の前に、前記貼り合わせた第2基板を所望の厚さに研磨する研磨工程を含むことを特徴とする請求項5又は6に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記第1基板がマイクロレンズを含むマイクロレンズ基板であることを特徴とする請求項5ないし7のいずれか1項に記載の液晶装置の製造方法。
- 前記第3基板がスイッチング素子を含む素子基板であって、該素子基板は外部接続端子を具備してなり、前記切断工程において前記外部接続端子の非形成領域を切断位置としたことを特徴とする請求項5ないし8のいずれか1項に記載の液晶装置の製造方法。
- 請求項5ないし9のいずれか1項に記載の製造方法により得られたことを特徴とする液晶装置。
- 請求項10に記載の液晶装置を備えたことを特徴とする電子機器。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2003367672A JP2005134473A (ja) | 2003-10-28 | 2003-10-28 | 貼合せ基板の切断方法、液晶装置の製造方法、液晶装置、電子機器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2003367672A JP2005134473A (ja) | 2003-10-28 | 2003-10-28 | 貼合せ基板の切断方法、液晶装置の製造方法、液晶装置、電子機器 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
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JP2005134473A true JP2005134473A (ja) | 2005-05-26 |
Family
ID=34645612
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2003367672A Withdrawn JP2005134473A (ja) | 2003-10-28 | 2003-10-28 | 貼合せ基板の切断方法、液晶装置の製造方法、液晶装置、電子機器 |
Country Status (1)
Country | Link |
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JP (1) | JP2005134473A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US8269417B2 (en) | 2007-09-06 | 2012-09-18 | Samsung Mobile Display Co., Ltd. | Light emitting display and method of manufacturing the same |
-
2003
- 2003-10-28 JP JP2003367672A patent/JP2005134473A/ja not_active Withdrawn
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