JP2005126758A5 - - Google Patents
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基板に印加する電力密度（ＷＤ１）とターゲットに印加する電力密度（ＷＤ２）との比（ＷＤ１／ＷＤ２）を０．２以上とすることで、より低い抵抗を実現できる。
透明導電膜はたとえば、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＺｎＯの内の少なくとも１種を含んだ膜である。
真空室内に配置された基板とターゲットとの間に設けられたシャッタを閉じた状態で前記真空室内を５×１０ -４ Ｐａ以下まで真空引きした後、前記真空室内にＡｒガスを一定の流量で供給しながら、前記基板を載置する基板電極に負電位を印加しつつ、前記基板に対向して設けられたＩＴＯターゲットに電力を印加することで、前記真空室内にプラズマを発生させ、前記基板の表面に透明導電膜を形成する方法であって、前記基板の中心線平均粗さ（Ｒａ）は１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、前記基板に印加する電力密度（ＷＤ１）と前記ターゲットに印加する電力密度（ＷＤ２）との比（ＷＤ１／ＷＤ２）が０．２以上０．４以下である透明導電膜の製造方法は好ましい。
透明導電膜はたとえば、Ｉｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＺｎＯの内の少なくとも１種を含んだ膜である。
真空室内に配置された基板とターゲットとの間に設けられたシャッタを閉じた状態で前記真空室内を５×１０ -４ Ｐａ以下まで真空引きした後、前記真空室内にＡｒガスを一定の流量で供給しながら、前記基板を載置する基板電極に負電位を印加しつつ、前記基板に対向して設けられたＩＴＯターゲットに電力を印加することで、前記真空室内にプラズマを発生させ、前記基板の表面に透明導電膜を形成する方法であって、前記基板の中心線平均粗さ（Ｒａ）は１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、前記基板に印加する電力密度（ＷＤ１）と前記ターゲットに印加する電力密度（ＷＤ２）との比（ＷＤ１／ＷＤ２）が０．２以上０．４以下である透明導電膜の製造方法は好ましい。
Claims (7)
- 中心線平均粗さ（Ｒａ）が１０ｎｍ以上の基板の表面に透明導電膜をスパッタ製膜する方法であって、前記基板の表面を負電位に印加しながらスパッタ製膜する透明導電膜の製造方法。
- 透明導電膜が、太陽電池の透明電極層となる膜である請求項１記載の透明導電膜の製造方法。
- 基板が、Ｃｕ、Ｉｎ、Ｇａ、Ｓｅの内の少なくとも２種を含んだ化合物薄膜を具備した請求項１記載の透明導電膜の製造方法。
- 基板に印加する電力密度（ＷＤ１）とターゲットに印加する電力密度（ＷＤ２）との比（ＷＤ１／ＷＤ２）が０．１以上である請求項１記載の透明導電膜の製造方法。
- 基板に印加する電力密度（ＷＤ１）とターゲットに印加する電力密度（ＷＤ２）との比（ＷＤ１／ＷＤ２）が０．２以上である請求項１記載の透明導電膜の製造方法。
- 透明導電膜がＩｎ２Ｏ３、ＳｎＯ２、ＺｎＯの内の少なくとも１種を含んだ膜である請求項１または請求項２のいずれかに記載の透明導電膜の製造方法。
- 真空室内に配置された基板とターゲットとの間に設けられたシャッタを閉じた状態で前記真空室内を５×１０ -４ Ｐａ以下まで真空引きした後、前記真空室内にＡｒガスを一定の流量で供給しながら、前記基板を載置する基板電極に負電位を印加しつつ、前記基板に対向して設けられたＩＴＯターゲットに電力を印加することで、前記真空室内にプラズマを発生させ、前記基板の表面に透明導電膜を形成する方法であって、前記基板の中心線平均粗さ（Ｒａ）は１０ｎｍ以上７０ｎｍ以下であり、前記基板に印加する電力密度（ＷＤ１）と前記ターゲットに印加する電力密度（ＷＤ２）との比（ＷＤ１／ＷＤ２）が０．２以上０．４以下であることを特徴とする透明導電膜の製造方法。
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| JP2003362628A JP4229803B2 (ja) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | 透明導電膜の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
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| JP2003362628A JP4229803B2 (ja) | 2003-10-23 | 2003-10-23 | 透明導電膜の製造方法 |
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| JP2005126758A JP2005126758A (ja) | 2005-05-19 |
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| JP4229803B2 JP4229803B2 (ja) | 2009-02-25 |
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| JP5530618B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2014-06-25 | 出光興産株式会社 | 光起電力素子、および、その製造方法 |
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| JP5465860B2 (ja) * | 2008-10-20 | 2014-04-09 | 出光興産株式会社 | 光起電力素子、および、その製造方法 |
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| CN102394210B (zh) * | 2011-11-24 | 2013-12-11 | 深圳市创益科技发展有限公司 | 用于制备薄膜太阳能电池透明导电膜的设备及方法 |
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