JP2005123203A5 - - Google Patents
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Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2004330137A JP4022670B2 (ja) | 2004-11-15 | 2004-11-15 | 超高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置及びプラズマ表面処理方法 |
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JP2004330137A JP4022670B2 (ja) | 2004-11-15 | 2004-11-15 | 超高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置及びプラズマ表面処理方法 |
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JP2005123203A JP2005123203A (ja) | 2005-05-12 |
JP2005123203A5 true JP2005123203A5 (fr) | 2007-08-16 |
JP4022670B2 JP4022670B2 (ja) | 2007-12-19 |
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Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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Country | Link |
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JP (1) | JP4022670B2 (fr) |
Families Citing this family (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4707403B2 (ja) * | 2005-02-02 | 2011-06-22 | 株式会社アルバック | パルス分割供給によるプラズマ処理方法及び装置並びにプラズマcvd方法 |
JP2008047938A (ja) | 2007-10-17 | 2008-02-28 | Masayoshi Murata | 高周波プラズマcvd装置と高周波プラズマcvd法及び半導体薄膜製造法。 |
JP4547711B2 (ja) * | 2008-10-10 | 2010-09-22 | 村田 正義 | 高周波プラズマcvd装置及び高周波プラズマcvd法 |
WO2012035842A1 (fr) * | 2010-09-15 | 2012-03-22 | 三菱電機株式会社 | Dispositif d'alimentation en courant haute fréquence, dispositif de traitement de plasma, et procédé de production de film mince |
JP5484375B2 (ja) * | 2011-02-17 | 2014-05-07 | 三菱電機株式会社 | プラズマ成膜装置及びプラズマ成膜方法 |
JP6666599B2 (ja) * | 2018-03-28 | 2020-03-18 | Sppテクノロジーズ株式会社 | 基板処理装置 |
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