JP2005123199A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2005123199A5
JP2005123199A5 JP2004318911A JP2004318911A JP2005123199A5 JP 2005123199 A5 JP2005123199 A5 JP 2005123199A5 JP 2004318911 A JP2004318911 A JP 2004318911A JP 2004318911 A JP2004318911 A JP 2004318911A JP 2005123199 A5 JP2005123199 A5 JP 2005123199A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
frequency power
electrode
power source
outputs
plasma
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2004318911A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2005123199A (ja
JP4026181B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2004318911A priority Critical patent/JP4026181B2/ja
Priority claimed from JP2004318911A external-priority patent/JP4026181B2/ja
Publication of JP2005123199A publication Critical patent/JP2005123199A/ja
Publication of JP2005123199A5 publication Critical patent/JP2005123199A5/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP4026181B2 publication Critical patent/JP4026181B2/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2004318911A 2004-11-02 2004-11-02 高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法 Expired - Fee Related JP4026181B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004318911A JP4026181B2 (ja) 2004-11-02 2004-11-02 高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2004318911A JP4026181B2 (ja) 2004-11-02 2004-11-02 高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2005123199A JP2005123199A (ja) 2005-05-12
JP2005123199A5 true JP2005123199A5 (fr) 2007-08-09
JP4026181B2 JP4026181B2 (ja) 2007-12-26

Family

ID=34617029

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2004318911A Expired - Fee Related JP4026181B2 (ja) 2004-11-02 2004-11-02 高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4026181B2 (fr)

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
TWI429098B (zh) * 2008-06-06 2014-03-01 Ulvac Inc 薄膜太陽能電池製造裝置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
WO2010024128A1 (fr) Procédé de traitement de surface par plasma et appareil de traitement de surface par plasma
JP2008047938A (ja) 高周波プラズマcvd装置と高周波プラズマcvd法及び半導体薄膜製造法。
CN107432076A (zh) 微波等离子体处理装置
JP2006332704A (ja) プラズマ表面処理方法及びプラズマ表面処理装置
JP5506826B2 (ja) 大面積プラズマ処理装置
KR100898165B1 (ko) 플라즈마 발생장치 및 방법
JP2005123203A5 (fr)
Nishimiya et al. Large area VHF plasma production by a balanced power feeding method
JP2005123199A5 (fr)
CN104409309B (zh) 大面积等离子体处理装置与均匀等离子体生成方法
KR100994502B1 (ko) 플라즈마 처리장치 및 방법
JP2007103970A (ja) 電極への電力供給方法、該電力供給方法を用いたプラズマ表面処理方法及びプラズマ表面処理装置
JP4022670B2 (ja) 超高周波プラズマ発生用電極と、該電極により構成されたプラズマ表面処理装置及びプラズマ表面処理方法
JP2006228933A (ja) 高周波プラズマ発生装置と、該高周波プラズマ発生装置により構成された表面処理装置及び表面処理方法
JP4264962B2 (ja) 高周波プラズマ発生装置と、該高周波プラズマ発生装置により構成された表面処理装置及び表面処理方法
JP2000260598A (ja) プラズマ発生装置
JP2006332709A (ja) 電極への電力供給方法、該電力供給方法を用いたプラズマ表面処理方法及びプラズマ表面処理装置
JP4207131B2 (ja) 高周波プラズマ発生装置及び表面処理方法
JP2000323297A (ja) Vhfプラズマ生成用電極装置
TWI588893B (zh) 高頻電漿裝置
JP2004193462A (ja) プラズマ処理方法
JP3575013B1 (ja) 高周波電力供給用同軸ケーブルと、該同軸ケーブルにより構成されるプラズマ表面処理装置およびプラズマ表面処理方法
JP4120831B2 (ja) 高周波電力供給装置、該高周波電力供給装置により構成されたプラズマ表面処理装置及びプラズマ表面処理方法
TW201246368A (en) Method for plasma-treating a substrate in a plasma device
Mashima et al. Uniformity of VHF plasma produced with ladder shaped electrode