JP2005121778A - 欠陥検出感度検査用マスク及び欠陥検出感度検査方法 - Google Patents
欠陥検出感度検査用マスク及び欠陥検出感度検査方法 Download PDFInfo
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Abstract
【解決手段】 基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを元にパターンが形成された欠陥パターン領域とを備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う。この際、パターン欠陥検出感度検査用マスクの基本パターン領域に形成された基本パターンから取得した基本検査画像と、欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像とを、比較して欠陥を検出する。そして、その検出結果から、パターン欠陥検査装置の欠陥検出感度を検査する。
【選択図】 図2
Description
「Die to Die」は、例えば、同一のパターン領域が、1枚のマスク上に繰り返し配列してある場合などに用いられる検査で、2以上のパターン領域のパターン同士を比較して、その違いを欠陥検出手段によって検出する技術である。
一方、「Die to Database」は、あるパターン領域のパターンを検出手段で検出し、その検出画像と、そのパターン領域の元の設計データとを比較して欠陥を検出する方法である。
基本パターンの設計データを元にパターンが形成された基本パターン領域と、
前記基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを基にパターンが形成された欠陥パターン領域と、
を備えるものである。
基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、
前記基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを基にパターンが形成された欠陥パターン領域と、
を備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う際に、
前記パターン欠陥検出感度検査用マスクの前記基本パターン領域に形成された前記基本パターンから取得した基本検査画像と、
前記欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像と、
を、比較して欠陥を検出し、その検出結果から、パターン欠陥検査装置の欠陥検出感度を検査するものである。
図1は、この発明の実施の形態における欠陥検査用マスク100を説明するための模式図である。
図1に示すように、欠陥検査用マスク100は、基本パターン領域110と、欠陥パターン領域120とを含んで構成されている。
検査装置200においては、欠陥検査の対象となるマスクの検査画像を取得する検査画像取得部210と、そのマスクのパターン設計データから参照画像を生成する参照画像作成部220と、検査画像と、参照画像とを比較して欠陥を検出する、比較検査部230とが設けられている。
一方、参照画像作成部220は、基本パターン設計データ42、欠陥パターン設計データ44とを読み込み、参照画像を作成するデータ準備システム46を含んで構成されている。
また、比較検査部230は、比較検査システム50及びデータ収集システム52を含んで構成されている。
この実施の形態において、欠陥感度を検査する場合には、検査画像取得部210において、マスクステージ28に、欠陥検査用マスク100を載置する(ステップS2)。その後、光源20から、検査光を照射して、欠陥検査用マスク100の、基本パターン領域110、及び、欠陥領域120に対応する基本検査画像、欠陥検査画像を、それぞれ、バッファメモリ38に取り込む。バッファメモリ38には、基本検査画像と、欠陥検査画像とが登録される(ステップS4)。
最終的に、参照画像側の欠陥検出の感度と、検査画像側の欠陥検出の感度とから、欠陥検査装置200の欠陥検出感度を評価することができる(ステップS18)。
110 基本パターン領域
120 欠陥パターン領域
2 マスク基板
4 遮光部
10 ライン
12 パッド
14 ピンホール
16 ピンドット
200 欠陥検査装置
210 検査画像取得部
220 参照画像作成部
230 比較検査部
20 光源
22 ミラー
24 ハーフミラー
26 対物レンズ
28 マスクステージ
30 コンタクトレンズ
32 ミラー
34 イメージセンサ
36 イメージセンサ
38 バッファメモリ
42 基本パターン設計データ
44 欠陥パターン設計データ
46 データ準備システム
50 比較検査システム
52 データ収集システム
Claims (3)
- 基本パターンの設計データを元にパターンが形成された基本パターン領域と、
前記基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを基にパターンが形成された欠陥パターン領域と、
を備えることを特徴とする欠陥検出感度検査用マスク。 - 基本パターンの設計データを基づきパターンが形成された基本パターン領域と、
前記基本パターンに、所定の欠陥を加えた欠陥パターンの設計データを基にパターンが形成された欠陥パターン領域と、
を備える欠陥検出感度検査用マスクを用いて、マスク欠陥検出感度の検査を行う際に、
前記パターン欠陥検出感度検査用マスクの前記基本パターン領域に形成された前記基本パターンから取得した基本検査画像と、
前記欠陥パターンの設計データを基に画像処理により生成した欠陥参照画像と、
を、比較して欠陥を検出し、その検出結果から、パターン欠陥検査装置の欠陥検出感度を検査することを特徴とする欠陥検出感度検査方法。 - 前記欠陥検出感度検査方法は、更に、
前記パターン欠陥検出感度検査用マスクの前記欠陥パターン領域に形成された欠陥パターンから取得した欠陥検査画像と、
前記基本パターンの設計データを基に画像処理により生成した基本参照画像と、
を比較した結果を踏まえて、パターン欠陥検査装置の検出感度を検査する事を特徴とする請求項2に記載の欠陥検出感度検査方法。
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